JPS6012432B2 - Bright galvanizing bath - Google Patents

Bright galvanizing bath

Info

Publication number
JPS6012432B2
JPS6012432B2 JP49012874A JP1287474A JPS6012432B2 JP S6012432 B2 JPS6012432 B2 JP S6012432B2 JP 49012874 A JP49012874 A JP 49012874A JP 1287474 A JP1287474 A JP 1287474A JP S6012432 B2 JPS6012432 B2 JP S6012432B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
amine
galvanizing
zinc
cyanide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP49012874A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS49106928A (en
Inventor
バリ ケスラ リチヤ−ド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shipley Co Inc
Original Assignee
LeaRonal Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LeaRonal Inc filed Critical LeaRonal Inc
Publication of JPS49106928A publication Critical patent/JPS49106928A/ja
Publication of JPS6012432B2 publication Critical patent/JPS6012432B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/22Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属に光沢亜鉛めつきをする方法およびその亜
鉛めつき格に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of brightly galvanizing metal and its galvanizing grade.

現在、亜鉛めつきの大部分は、可溶性亜鉛化合物および
シアン化ナトリウムを含有するアルカリ性溶液で行って
いる。
Currently, most galvanizing is carried out with alkaline solutions containing soluble zinc compounds and sodium cyanide.

しかし、このシアン化ナトリウム溶液は、半光沢の亜鉛
めつきを生ずるので、各種の光沢剤をめつき格に添加し
て光沢亜鉛めつきを得ている。この光沢剤は周知のもの
であり、例えば、アルデヒド、ケトン、チオ尿素、有機
酸塩、その他各種の薬剤を用いる。このシアン化物含有
めつき格は、シアン化物が有毒であるから、廃液処理が
困難であり、特に昨今は廃棄物処理が社会問題として提
起されているので、このことは重要な問題点となってい
る。
However, this sodium cyanide solution produces semi-bright galvanizing, so various brighteners are added to the plating grade to obtain bright galvanizing. This brightening agent is well known and includes, for example, aldehydes, ketones, thioureas, organic acid salts, and various other agents. This cyanide-containing rating is because cyanide is toxic, making it difficult to treat wastewater, and this has become an important issue, especially as waste treatment has been raised as a social issue recently. There is.

シアン化物舎有めつき浴は廃液処理上の問題があるので
、このうな欠点のないシアン化物を含有しないめつき格
を開発するために、幾多の研究が重ねられて来た。シア
ン化物を全く含まないか、あるし、は殆んど含まない亜
鉛めつき格はすでに存在しているが、これらのめつき俗
の大部分は、亜硫酸ナトリウムおよび過剰の水酸化ナト
リウムの溶液である。
Since cyanide-containing baths have problems in waste disposal, much research has been carried out to develop cyanide-free baths that do not have these drawbacks. Galvanized grades that contain little or no cyanide already exist, but most of these galvanized grades are made with solutions of sodium sulfite and excess sodium hydroxide. be.

光沢剤などの添加剤を使用せずに、柵の高い亜鉛酸アル
カリ俗を用いて亜鉛めつきを行った場合には、光沢が無
く、海綿状で外観不良なめつきを生成する。この欠点を
除去するために、グリコール酸塩を添加してめつきの平
滑性を向上させることを試みしが、工業的に採用できる
ような光沢亜鉛めつき俗は得られなかった。また、米国
特許第3317412号‘こ記載されているように、ア
ルカノールアミンを、単独でまたはアルデヒドと共に、
高pHの亜鉛酸塩めつき浴添加することが提案されてい
る。しかし、この種のめつき浴は安定性が無く、実用可
能な光沢あるめつきを生成せず、また現在用いられてい
るシアン化物めつき格と比較して〜光沢亜鉛めつきを生
成する範囲が狭いなどの欠点がある。更に、ドイツ国特
許第1253003号には、エチレンジアミン、ジエチ
レントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチ
レンベンタミンなどのァルキレンアミンを、単独または
アルデヒドと共に、高pHの亜鉛酸塩めつき浴に添加す
ることが示されている。このめつき格は、光沢顔鉛めつ
きを生成し、前記のめつき格よにも比較的安定性がある
が、光沢亜鉛めつきを生成する範囲が狭く、均一電着性
(つきまわり性)が不良である。これらの原因から、上
記のようなめつき俗は未だ工業的に採用されるに至って
いない。実際上の経験からすれば、現在の需要に応ずる
光沢を与えるためには、いわゆるシアン化物不含めつき
浴にも少量のシアン化ナトリウムを添加する必要がある
When galvanizing is carried out using a high-strength zincate alkali without using additives such as brighteners, a dull, spongy, and poor-appearing lick is produced. In order to eliminate this drawback, attempts were made to improve the smoothness of the plating by adding glycolate, but it was not possible to obtain a bright zinc plating that could be used industrially. Also, alkanolamines, alone or together with aldehydes, as described in U.S. Pat. No. 3,317,412,
It has been proposed to add a high pH zincate plating bath. However, this type of plating bath is not stable, does not produce a practically lustrous plating, and does not produce a ~bright zinc plating compared to the cyanide plating grades currently in use. There are disadvantages such as narrow space. Furthermore, German Patent No. 1253003 discloses the addition of alkylene amines such as ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenebentamine, alone or together with aldehydes, to high pH zincate plating baths. There is. This plating grade produces glossy zinc plating and is relatively stable compared to the above-mentioned plating grades, but the range in which bright zinc plating is produced is narrow and uniform electrodeposition (throwing property) ) is defective. For these reasons, the above-mentioned plating methods have not yet been adopted industrially. Practical experience shows that it is necessary to add small amounts of sodium cyanide even to so-called cyanide-free coating baths in order to provide a gloss that meets current demands.

ェピクロルヒドリンとアミンとの反応生成物が、シアン
化亜鉛めつき俗に有効であることは既に発表されている
It has been previously published that the reaction product of epichlorohydrin and an amine is effective in zinc cyanide plating.

例えば、ワインターズ(Winにrs)の米国特許第2
791554号には、ェピクロルヒドリンとアンモニア
又は第1アミンとの反応生成物をめ、通常のシアン化亜
鉛めつき格に、75〜90夕/そ(10〜1かz/ga
l〉添加することが記載されている。
For example, U.S. Patent No. 2 of Winters (Win rs)
No. 791554 contains a reaction product of epichlorohydrin and ammonia or a primary amine and is applied to a conventional zinc cyanide plating grade for 75 to 90 t/so (10 to 1 z/ga).
It is described that 1> is added.

この場合、ェピクロルヒドリンー第1ァミン反応生成物
をシアン化亜鉛に使用しているが、この反応生成物をシ
アン化物を含有しないめつき格に添加した場合には、均
一電着性、電流密度および光沢などの点で、現在の基準
に合致するものは得られない。バーンソン(Bumso
n)の米国特許第3227638号は、環状アミン、即
ちェピクロルヒドリンとへキサメチレンテトラミンとの
反応生成物をシアン化物含有めつき格に添加した例を示
している。
In this case, an epichlorohydrin-primary amine reaction product is used for zinc cyanide, but when this reaction product is added to a plating grade that does not contain cyanide, uniform electrodeposition and None can be obtained that meet current standards in terms of current density, gloss, etc. Bumso
U.S. Pat. No. 3,227,638 (n) gives an example of the addition of a reaction product of a cyclic amine, namely epichlorohydrin, and hexamethylenetetramine to a cyanide-containing plate.

しかし、通常のシアン化亜鉛俗に用いているこの反応生
成物を、低シアン化物めつき格(約15夕/夕)や無シ
アン化物めつき格に添加した場合には、浴液の安定性が
不良になり、実用不可能である。更に、良好な光沢を生
じさせるために、低シアン化物めつき格に大量の第二光
沢剤を添加している。本願と同一の出願人による米国特
許鰯第268920号(1972王7月3日出願)には
、電解によりめつきをすることができる可溶性亜鉛化合
物、およびアミンとェピハロヒドリンとの水溶‘性反応
生成物を含有し、実質的にシアン化物を含有しないアル
カリ性亜鉛めつき格について記載した。
However, when this reaction product, which is commonly used in ordinary zinc cyanide, is added to a low cyanide grade (approximately 15 evenings/night) or a cyanide-free grade, the stability of the bath solution may be affected. becomes defective and is not practical. Additionally, large amounts of secondary brighteners are added to the low cyanide plating grades to produce good gloss. U.S. Patent No. 268,920 (filed July 3, 1972) by the same assignee as the present application describes a soluble zinc compound that can be plated electrolytically and a water-soluble reaction product of an amine and epihalohydrin. An alkaline galvanized grade containing substantially no cyanide was described.

前記の水溶性反応生成物は第3ァミン基および第4アミ
ン基を反覆単位とし、その分子量は約250以上である
。米国特許豚第2斑92び戦こ記載した浴液に、前記の
米国特許第2791554号に記載されている、第3ア
ミンや第4アミン基を含まないェピクロルヒドリン反応
生成物を添加しても、良好な結果を得ることはできない
。前記の米国特許願第26892び号に記載した頭鉛め
つき俗は光沢ある亜鉛めつきを生成することが、電流密
度の範囲に限度がある。
The water-soluble reaction product has repeating units of tertiary amine groups and quaternary amine groups, and has a molecular weight of about 250 or more. To the bath described in US Pat. However, you cannot get good results. The head lead plating method described in the above-mentioned US Pat.

電流密度の範囲が広いことは、勿論非常に望ましいこと
であり、特に高電流密度を要するラック式めつき操作に
は望ましい。前記の米国特許出願に記載しためつき浴を
用いた場合には、11A/dで(10瓜sf)以上の電
流密度では光沢あるめつきを生成することができない。
A wide range of current densities is, of course, highly desirable, especially for rack plating operations requiring high current densities. When using the plating bath described in the above-mentioned US patent application, it is not possible to produce a bright plating at current densities above 11 A/d (10 melon sf).

電流密度を高くした場合には、析出物は例えば無光沢ま
たは暗い灰色になる。一方、本発明のめつき格を用いた
場合には、電流密度が27A/d〆(25世sf)以下
の範囲で光沢あるめつきを生成することができる。即ち
、本発明は、通常のシアン化物含有亜鉛めつき格と同等
またはそれ以上の均一電着性および光沢を与え、かつ実
質的にシアン化物を含有しない亜鉛めつき浴を示すもの
ある。
At high current densities, the deposit becomes matte or dark gray, for example. On the other hand, when the plating of the present invention is used, glossy plating can be produced at a current density of 27 A/d〆 (25th SF) or less. That is, the present invention provides a galvanizing bath that provides uniform electrodeposition and gloss comparable to or superior to conventional cyanide-containing galvanizing grades, and that is substantially cyanide-free.

本発明のめつき格は、少なくとも1種類の電解めつきさ
れ得る可溶性亜鉛化合物と、少なくとも1種類のアミン
含有置換基を有するピリジン化合物の適当量とを含むも
のである。本発明のめつき俗に用いる可溶性亜鉛塩は、
ァルカリ性溶媒に可溶性で、かつ霞鱗めつきされ得るも
のであれば、いかなる亜鉛化合物でもよい。
The plating structure of the present invention includes at least one electroplatable soluble zinc compound and a suitable amount of a pyridine compound having at least one amine-containing substituent. The soluble zinc salt commonly used in plating of the present invention is
Any zinc compound may be used as long as it is soluble in an alkaline solvent and can be hazy-plated.

このような亜鉛化合物はよく知られており、例えば、硫
酸亜鉛、酢酸亜鉛および酸化亜鉛などがある。当業者ら
に周知のように、他のアルカ川こ可溶な亜鉛化合物を用
いることもできる。通常の亜鉛めつき浴のように、裕中
の亜鉛の量は種々に変更することができる。
Such zinc compounds are well known and include, for example, zinc sulfate, zinc acetate and zinc oxide. Other alkaline soluble zinc compounds can also be used, as is well known to those skilled in the art. As with conventional galvanizing baths, the amount of zinc in the bath can be varied.

しかし、本発明のめつき裕中の亜鉛濃度は約7〜30夕
/夕(1〜4oz/gal)の範囲が望ましい。めつき
格に亜鉛を供給するためには、通常の可溶性亜鉛陽極を
用いても良く、また不落I性陽極を用いた場合には、適
宜のアルカリ可溶性亜鉛化合物をめつき格に添加しても
よい。
However, the zinc concentration in the plating bath of the present invention is preferably in the range of about 7 to 30 oz/gal. In order to supply zinc to the plating grid, a normal soluble zinc anode may be used, or if a non-falling anode is used, an appropriate alkali-soluble zinc compound may be added to the plating grid. Good too.

めつき浴をアルカリ性にするためには、所望量の亜鉛化
合物を溶解するものであれば、いかなるアルカリ性物質
を用いることもできる。
To make the plating bath alkaline, any alkaline substance that dissolves the desired amount of zinc compound can be used.

例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどをアル
カリ性を与えるために用いることができる。この場合、
水酸化ナトリウムは亜鉛酸アルカリに対する溶解度が高
いので、水酸化ナトリウムの方が好適である。水酸化ナ
トリウムなどのアルカリ化合物の軍は、亜鉛酸ナトリウ
ムを生成するに必要な量よりも過剰にした方が良い。
For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. can be used to provide alkalinity. in this case,
Since sodium hydroxide has a high solubility in alkali zincate, sodium hydroxide is more suitable. The amount of alkaline compounds such as sodium hydroxide should be in excess of the amount needed to produce sodium zincate.

この過剰の、即ち遊離の水酸化ナトリウムの量は、特に
限度はなく、全ての亜鉛を液中に溶存させ、亜鉛の沈澱
を生じない程度であればよい。本発明のめつき浴のpH
値は、周知のように最良結果を得るために変えることが
できる。
There is no particular limit to the amount of excess, ie, free, sodium hydroxide, as long as all the zinc is dissolved in the solution and no zinc precipitation occurs. pH of plating bath of the present invention
The values can be varied as is well known to obtain the best results.

しかし、電解液のPHは1沙〆上に保持する方が良い。
本発明のめつき格に用いるピリジン化合物は、少なくと
も1つのアミン含有置換基を持っている。本発明の露気
めつき格に用いることのできるピリジン化合物の例とし
ては、次の一般式に示すような化合物がある。
However, it is better to keep the pH of the electrolyte above 1 s.
The pyridine compounds used in the metallurgy of the present invention have at least one amine-containing substituent. Examples of pyridine compounds that can be used in the dew gas rating of the present invention include compounds shown in the following general formula.

式中、各R,,R2,R3,R4およびR5は水素原子
、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケ.ニル基
、水酸基、カルボキシル基、アミン残基、低級アルキロ
ール基、低級アルキルカルボキシル基、低級アルキルア
ミン残基;または水酸基、カルボキシル基、アミン残基
、低級ァルキロール基、低級アルキルカルボキシル基ま
たは低級アルキルアミン残基とアルキルスルトン、アル
キルラクトンまたはェポキシドとの反応により生ずる基
であり、Zは無しか、または0−、または前記式(1)
の基R,,R2,R3,R4およびR5の内少なくとも
1つがアミン窒素原子を含むような化合物(1)と4級
化剤との反応により4級アミン化合物を生成する基であ
る。
In the formula, each R,, R2, R3, R4 and R5 is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkyl group, a lower alkyl group. Nyl group, hydroxyl group, carboxyl group, amine residue, lower alkylol group, lower alkylcarboxyl group, lower alkylamine residue; or hydroxyl group, carboxyl group, amine residue, lower alkylol group, lower alkylcarboxyl group, or lower alkylamine A group formed by the reaction of a residue with an alkyl sultone, an alkyl lactone, or an epoxide, and Z is absent or 0-, or the above formula (1)
This is a group that produces a quaternary amine compound by reacting the compound (1) in which at least one of the groups R, , R2, R3, R4 and R5 contains an amine nitrogen atom with a quaternizing agent.

本発の亀気めつき格に用いるピリジン化合物は、少なく
とも1個のアミン置換基を有するピリジン誘導体が好ま
しく、その代表的な化合物として、2ーアミノピリジン
、3−アミノピリジン、4−アミノピリジン、2,3ー
ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリジン、2,5
ージアミノピリジン、3,4ージアミノピリジンおよび
3,5−ジアミノピリジン等を挙げることができる。
The pyridine compound used in the Kamekimetsukaku of the present invention is preferably a pyridine derivative having at least one amine substituent, and representative examples thereof include 2-aminopyridine, 3-aminopyridine, 4-aminopyridine, 2, 3-diaminopyridine, 2,4-diaminopyridine, 2,5
-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine and 3,5-diaminopyridine.

本発明において、ピリジンと反応させて好結果を得るこ
とのできるアルキルスルトンはプロパンスルトンである
In the present invention, the alkyl sultone that can be reacted with pyridine with good results is propane sultone.

また、他のアルキルスルトンも用いることができる。化
合物(1)と反応させることができるアルキルラクトン
としては8ープロピオラクトンがあるが、他のラクトン
も同様に使用することができる。ピリジン(1)と反応
させることができるェポキシドとしては、エチレンオキ
シド、プロピレンオキシド、エピクロルピドリン、アリ
ルグリシジルエーテル、2,3−ヱポキシプタン、ジー
(1,2ージメチル−1,2ーエポキシプロピル)エー
テルおよびQ,8−エポキシプロピオン酸などがある。
Other alkyl sultones can also be used. An example of the alkyl lactone that can be reacted with compound (1) is 8-propiolactone, but other lactones can be used as well. Epoxides that can be reacted with pyridine (1) include ethylene oxide, propylene oxide, epichloropidrine, allyl glycidyl ether, 2,3-epoxyptane, di(1,2-dimethyl-1,2-epoxypropyl) ether and Examples include Q,8-epoxypropionic acid.

ピリジン(1)は塩化ペンジル、塩化メチル、硫酸ジメ
チル塩化アリルなどの周知の4級化剤によって4級化す
ることができる。
Pyridine (1) can be quaternized using well-known quaternizing agents such as pendyl chloride, methyl chloride, dimethyl sulfate and allyl chloride.

前記の一般式(1)として、アミノピリジン、例えば2
ーアミノピリジン、3ーアミノピリジン、3ーアミノピ
リジンなどを用いると好結果を得ることができる。
As the general formula (1), aminopyridine, for example 2
Good results can be obtained by using -aminopyridine, 3-aminopyridine, 3-aminopyridine, and the like.

現在のところ、式(1)で示されるアミノピリジン、特
に2−および3−アミノピリジンとェピクロルヒドリン
との反応生成物を用いた場合に更に良好な結果を得るこ
とができる。また、ウィンターズ(Winte俺)の米
国特許第2791554号およびノーベル(NoGI)
の米国特許願第26892び号もこ記載されているよう
に、各々式(1)で示すピリジン、およびこれらのエピ
ハロヒドリン反応生成物を、分子量約250以上のアン
モニアまたはアミノェピハロヒドリン反応生成物と使用
すると最も良好な結果を得ることができる。このような
特定の組合わせによれば、電流密度が27A/dの(2
5蛇sf)以下の範囲で非常に光沢の良い亜鉛めつきを
生成することができる。ピリジンおよびピリジンのェピ
クロルヒドリン反応生成物を用いた場合には、前記の米
国特許出願の明細書中に記載した、光沢亜鉛めつきを生
成する電流密度の範囲を拡大することができるが、ピリ
ジンおよびアミンェピハロヒドリン反応生成物、アルキ
レンアミン、またはアルカノールアミンなどを共用した
場合の電流密度の範囲には及ばない。当業者らに既に明
らかなように、本発明のピリジン化合物、またはこれら
のェピハロヒドリン反応生成物の量は広範囲に変更する
ことができる。
At present, even better results can be obtained when using aminopyridines of the formula (1), especially reaction products of 2- and 3-aminopyridines and epichlorohydrin. Also, U.S. Patent No. 2791554 of Winters (Winte Ore) and Nobel (NoGI)
As described in U.S. Patent Application No. 26,892, each of the pyridines of formula (1) and their epihalohydrin reaction products are combined with ammonia or aminoepihalohydrin reaction products having a molecular weight of about 250 or more. Best results can be obtained when used with According to this particular combination, the current density is 27 A/d (2
It is possible to produce very high-gloss galvanizing within the range of 5 sf). When using pyridine and the epichlorohydrin reaction product of pyridine, the range of current densities that produce bright galvanizing described in the specification of the aforementioned U.S. patent application can be expanded. , pyridine and aminepihalohydrin reaction products, alkylene amines, alkanolamines, etc., are not in the same range of current densities. As already apparent to those skilled in the art, the amount of the pyridine compounds of the invention, or their epihalohydrin reaction products, can vary within a wide range.

通常、亜鉛めつきの光沢を保持しつつ、電流密度を増加
する効果は、わずかに0.01夕/そのピリジン化合物
およびこれらの反応生成物を添加することによって認め
ることができる。log/そ以上を用いることもできる
が、通常約0.1〜1夕/その濃度が有用である。一般
的に、濃度が1夕/れこなるまでは、電流密度全範囲に
おいて光沢亜鉛めつきを生成することができるが、ピリ
ジン化合物を更に多量に添加しも特にそれ以上の利点は
生じない。明らかなように、ピリジン化合物の使用量は
、使用したこれらの化合物の種類のみによるものではな
く、光沢亜鉛めつきを生成するために必要な電流密度の
範囲にもよるものである。従って、電流密度を非常に高
くする必要がない場合にはピリジン化合物の量を少なく
することができる。アミノピリジンーェピハロヒドリン
反応生成物は、単にアミノピリジンをェピクロルヒドリ
ンと共に加熱するだけで生成することができる。
Usually, the effect of increasing the current density while retaining the galvanizing gloss can be seen by adding as little as 0.01 μl of the pyridine compounds and their reaction products. Usually about 0.1 to 1 log/log concentration is useful, although higher concentrations can be used. In general, bright galvanizing can be produced over the entire range of current densities up to a concentration of 1 night/day, but the addition of higher amounts of pyridine compound does not provide any particular additional benefit. As can be seen, the amount of pyridine compounds used depends not only on the type of these compounds used, but also on the range of current density required to produce bright galvanizing. Therefore, if the current density does not need to be very high, the amount of pyridine compound can be reduced. The aminopyridine-epihalohydrin reaction product can be produced by simply heating aminopyridine with epichlorohydrin.

後記の実施例中で用いる特定の3ーアミノピリジン(式
1)は、28モルの2−アミノピリジンを19〆(5ガ
ロン)の水に溶解し、49.1モルのェピクロルヒドリ
ンを徐々に添加して温度が急に上昇することを防ぐこと
により調製した。この反応では、温度が90oo以上に
ならないようにすることが望ましい。この反応生成物は
、次に約75〜8000で約45分間保持した後冷却す
る。。最終生成物は約26.5そ(7ガロン)の容量に
なる。後記の実施例中で使用した27%溶液とは、この
反応生成物を希釈して固形分を27%に調整したもので
ある。他のェポキシド、アルキルスルトンおよびその同
族体、異性体などのェピクロルヒドリン以外の原料も、
ピリジンと反応させて可溶性生成物を生ずる場合には使
用することができる。
The particular 3-aminopyridine (Formula 1) used in the examples below was prepared by dissolving 28 moles of 2-aminopyridine in 19 liters (5 gallons) of water and gradually adding 49.1 moles of epichlorohydrin. The temperature was prepared by adding the following ingredients to prevent the temperature from rising suddenly. In this reaction, it is desirable that the temperature does not exceed 90 oo. The reaction product is then held at about 75-8000 for about 45 minutes and then cooled. . The final product has a volume of approximately 7 gallons. The 27% solution used in the examples described later was obtained by diluting this reaction product to adjust the solid content to 27%. Raw materials other than epichlorohydrin such as other epoxides, alkyl sultones and their homologs and isomers,
It can be used when reacted with pyridine to produce a soluble product.

また原料の使用量も変えることができるが、反応生成物
の正確な組成は不明である。本発明において、シアン化
物を実質的に含まない電解液から光沢亜鉛めつきを生成
するために用いる高分子電解質、即ちァミノーェピハロ
ヒドリン反応生成物はアンモニアまたはアルキレンアミ
ンとヱピハロヒドリンとの水溶性軍縮合正成物である。
The amounts of raw materials used can also be varied, but the exact composition of the reaction products is unknown. In the present invention, the polyelectrolyte used to produce bright zinc plating from a substantially cyanide-free electrolyte, i.e., the aminoepyhalohydrin reaction product, is an aqueous solution of ammonia or an alkyleneamine and an epihalohydrin. It is a product of sexual military condensation.

この重縮合生成物は、アミン基を反覆単位とし約250
以上の分子量の重合体である。。水溶性ェピハロヒドリ
ンーアルキレンアミン軍縮合物は、ェピハロヒドリンに
直鎖または分枝アルキルアミンまたはアンモニアを直接
反応させることせによって調製することができる。アル
キレンアミン重縮合物に関して、「アミン」または「ア
ルキルアミン」という場合は、アンモニアも包含する。
This polycondensation product has approximately 250 amine groups as repeating units.
It is a polymer with a molecular weight of . Water-soluble epihalohydrin-alkylene amine military condensates can be prepared by directly reacting epihalohydrin with a linear or branched alkylamine or ammonia. With respect to alkylene amine polycondensates, reference to "amine" or "alkyl amine" also includes ammonia.

本発明において用いるヱピハロヒドリンーァルキレンア
ミン重縮合物は、第1アミン、第2アミン、第3アミン
、第4アミンなどのアミン基を反覆単位とする。
The epihalohydrin-alkylene amine polycondensate used in the present invention has amine groups such as primary amine, secondary amine, tertiary amine, and quaternary amine as repeating units.

主として第1ァミン基および第2アミン基を反覆単位と
するェピハロヒドリンーアルキレンアミン車縮合物は、
ゥィンターズ(Winにてs)の米国特許第27915
54号に記載されているように、ェピクロルヒドリンと
第1アミンまたはアンモニアとを反応させることにより
調製することができる。
The epihalohydrin-alkylene amine car condensate mainly has primary amine groups and secondary amine groups as repeating units,
U.S. Patent No. 27915 to Winters (Win s)
No. 54, it can be prepared by reacting epichlorohydrin with a primary amine or ammonia.

アンモニアーェピクロルヒドリン反応生成物は、ウィン
ターズ(Wintersの前記特許明細書の第2欄、第
6群庁以下に記載してあるような方法で調製することが
でき、またエチレンジアミンーェピハロヒドリン反応生
成物は、同特許明細書、第3欄、第49〜53行‘こ記
載されているアンモニアの量に相当する量のエチレンジ
アミンを用いることによって同様に調製することができ
る。ェピハロヒドリンと反応させるには低級アルキルア
ミンが有利である。
The ammonia-epichlorohydrin reaction product can be prepared by methods such as those described in Winters, column 2, Group 6 et seq. Halohydrin reaction products can be similarly prepared by using an amount of ethylenediamine corresponding to the amount of ammonia stated in that patent, column 3, lines 49-53. Epihalohydrin Lower alkyl amines are advantageous for the reaction.

これらのアミンの例としては、エチレンジアミン、トリ
メチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノ
ブロピルアミン、ジヱチルアミノプ。ピルアミン、N,
N′−ジメチルアミンエチルアミン、N,N′−ジメチ
ルーN′ーメチルプロピレンジアミンなどがある。例え
ば、これらのアミンのメチル、エチル、およびプロピル
基などは互に変更することができる。前記のように第1
アミン、第2アミンまたは第3アミンを反覆単位とする
重縮合物は、シアン化物を実質的に含有しない亜鉛めつ
き格に対して有効であるが、第4アミンを含有する重縮
合物は特に有効である。
Examples of these amines are ethylenediamine, trimethylamine, triethanolamine, dimethylaminopropylamine, diethylaminop. Pyramine, N,
Examples include N'-dimethylamine ethylamine and N,N'-dimethyl-N'-methylpropylene diamine. For example, the methyl, ethyl, and propyl groups of these amines can be interchanged. As mentioned above, the first
Polycondensates containing repeating units of amines, secondary amines, or tertiary amines are effective for galvanized grades that are substantially free of cyanide, but polycondensates containing quaternary amines are particularly effective. It is valid.

アミンは、周知の塩化メチル、硫酸メチル、塩化アリル
、塩化ペンジル、塩化ブデン、塩化へキシル、および塩
化プロパギルなどの4級化剤を用いて、周知の方法で4
級化することができる。
Amines can be prepared by quaternizing agents in a well-known manner using well-known quaternizing agents such as methyl chloride, methyl sulfate, allyl chloride, penzyl chloride, butene chloride, hexyl chloride, and propargyl chloride.
It can be graded.

もし、生成する重合体が既に反覆単位として第3アミン
または第4アミンを含有している場合には、ェピハ。ヒ
ドリンとの反応の後にアミンを、後記の工程川こよって
4級化することが有利である。しかし、このことは必ず
しも必要ではない。本発明の、第3アミンまたは第4ア
ミンを反覆単位とする軍縮合物は、最初にェピハロヒド
リンと第1アミンまたはモノアミンとを反応させて、次
に後記の工程0の4級化反応を行って重合物を構成する
反覆単位を第3アミンまたは第4ァミンにすることがで
きる。このようにして、前記のウインターズ(Winに
rs)の特許に記載されている生成物を、後記の工程ロ
ーこよって、塩化メチルを作用させて第3ァミンおよび
第4アミンに変えることができる。本発明においてアミ
ンと反応させるェビハロヒドリンは、周知の、のみでは
なく、各種の飽和、不飽和同族体、異性体の内、アルキ
ルアミンと反応して水落I性生成物を生成するようなも
のであればいずれでもよい。
If the resulting polymer already contains a tertiary or quaternary amine as a repeating unit, epiha. It is advantageous to quaternize the amine after the reaction with the hydrin in the following step. However, this is not necessarily necessary. The military condensate of the present invention having a repeating unit of tertiary amine or quaternary amine can be prepared by first reacting epihalohydrin with a primary amine or monoamine, and then carrying out the quaternization reaction in step 0 described below. The repeating units constituting the polymer can be tertiary or quaternary amines. In this way, the products described in the aforementioned Winters patent can be converted into tertiary and quaternary amines by the action of methyl chloride in the steps described below. In the present invention, the shrimp halohydrin to be reacted with the amine is not only well-known, but also includes various saturated and unsaturated homologues and isomers, which react with alkylamines to produce water-reducing products. Either is fine.

この水溶性重合体は、周知の方法でェピクロルヒドリン
を重合し、この重合物とアルキルアミンとを反応させて
調製することもできる。重合体を構成する反覆単位とし
て第3アミンおよび第4アミンが存在することが望まし
い場合には使用したアミンの種類、その他の反応条件な
どにより、生成物を、例えば下記の工程0と同様な方法
により、4級化すればよい。工程 1 612夕の水を入れた三口丸底フラスコに、102夕の
ジメチルアミノプロピルアミンを入れる。
This water-soluble polymer can also be prepared by polymerizing epichlorohydrin by a well-known method and reacting this polymer with an alkylamine. If it is desired that a tertiary amine and a quaternary amine be present as repeating units constituting the polymer, the product may be prepared, for example, by a method similar to Step 0 below, depending on the type of amine used and other reaction conditions. Therefore, it is sufficient to make it quaternary. Step 1 Pour 102 ml of dimethylaminopropylamine into a three-neck round bottom flask containing 612 ml of water.

フラスコをウオーターバスに入れ、縄梓機、温度計、お
よびキ全付漏斗を取付ける。溶液を2500まで冷却し
後、161夕のヱピクロルヒドリンを、徐々に1時間か
けて添加する。ェピクロルヒドリンとジメチルアミノプ
ロピルアミンとのモル比は1.75:1であ。ェピク。
ルヒドリンを全部水溶液に添加し後、30分間反応を継
続し、その後硫酸で反応生成物の風を約6に調節する。
工程 0 工程1で用いたフラスコと同様な丸底フラスコを用い、
水820の上に452夕のジメチルアミノプロピルアミ
ンを溶解し、この溶液と368夕のヱピクロルヒドリン
を反応させる(ェピクロルヒドリンとジメチルアミノフ
Place the flask in a water bath and attach the rope strainer, thermometer, and funnel. After cooling the solution to 2,500 ℃, 161 ml of epichlorohydrin is gradually added over 1 hour. The molar ratio of epichlorohydrin to dimethylaminopropylamine was 1.75:1. Epic.
After all the ruhydrin was added to the aqueous solution, the reaction was continued for 30 minutes, and then the wind strength of the reaction product was adjusted to about 6 with sulfuric acid.
Step 0 Using a round bottom flask similar to the flask used in Step 1,
Dissolve 452 ml of dimethylaminopropylamine on 820 ml of water and react this solution with 368 ml of epichlorohydrin (epichlorohydrin and dimethylaminopropylamine).

ロピルアミンとのモル比は0.9:1である)。反応終
了後、反応生成物を110夕の水酸化ナトリウムと共に
オートクレープ中に入れ、蝿拝しながら5000に加熱
する2.8〜3.5k9/嫌に加圧した300夕の塩化
メチルをオートクレープ中に吹込んだ後、オートクレー
プを冷却し、内容物を取出す。生成物を固形分50%、
およびpH6に調整する。本発明において用いる高分子
電解質の量は、その種類および亜鉛めつきの光沢度によ
って相違する。
The molar ratio with lopylamine is 0.9:1). After the reaction is complete, the reaction product is placed in an autoclave with 110℃ of sodium hydroxide, and heated to 5,000℃ while stirring.Methyl chloride is pressurized to 2.8-3.5k9/300℃ in an autoclave. After blowing, the autoclave is cooled and the contents are removed. The product has a solid content of 50%,
and adjust to pH 6. The amount of polyelectrolyte used in the present invention varies depending on its type and the brightness of the galvanizing.

亜鉛酸ナトリウムおよび遊離の水酸化ナトリウムを含有
する溶液を用いた場合には、めつきは光沢が全くない灰
色である。これに少量の高分子電解質を添加すると、め
つきは半光沢になり、更に高分子電解質を添加すると光
沢が増加して、最良の光沢を有するめつきを形成するこ
とができる。また、勿論、これ以上に高分子電解質を添
加することもできる。一般的に、亜鉛酸ナトリウムおよ
び遊離の水酸化ナトリウムを含有するめつき格に、0.
1夕/そのェピクロルヒドリンージメチルアミノプロピ
ルァミン縮合生成物を添加するとせ、光沢のない灰色の
亜鉛めつきが半光沢のめつきになる。また、この高分子
電解質の量を増加すると、めつきの光沢は更に良好にな
る。前記の高分子電解質の場合では1夕/その濃度で最
良の結果を得ることができた。また例えばバニリン、ヒ
ドロキンベンズアルデヒド、アニスアルデヒド、アルデ
ヒドの重亜硫酸塩付加物などのアルデヒド光沢剤のよう
な通常の光沢剤を添加して光沢を更に改良することも可
能である。
When using a solution containing sodium zincate and free sodium hydroxide, the plating is gray with no shine. When a small amount of polyelectrolyte is added to this, the plating becomes semi-gloss, and when further polyelectrolyte is added, the gloss increases, and a plating with the best gloss can be formed. Of course, more polymer electrolytes can be added. Generally, a platter containing sodium zincate and free sodium hydroxide is added to a 0.000.
After one night/adding the epichlorohydrin-dimethylaminopropylamine condensation product, the matte gray zinc plating becomes a semi-gloss plating. Furthermore, when the amount of this polymer electrolyte is increased, the gloss of the plating becomes even better. In the case of the above-mentioned polyelectrolytes, the best results were obtained at one night/concentration. It is also possible to further improve the gloss by adding conventional brighteners, such as aldehyde brighteners, such as vanillin, hydroquine benzaldehyde, anisaldehyde, bisulfite adducts of aldehydes.

この2次光沢剤は光沢を更に増加させたい場合に、任意
に添加すればよい。従って、この2次光沢剤の量は広範
囲に変えることができる。例えば、アニスアルデヒドは
、0.1夕/その小量から、1夕/そまたはそれ以上の
量まで、高分子電解質と併用することができる。また、
シアン化物を使用したい場合には、本発明のめつき浴に
少量のシアン化物、例えばシアン化ナトリウムを添加す
ることもできる。
This secondary brightener may be optionally added if it is desired to further increase the gloss. Therefore, the amount of this secondary brightener can vary within a wide range. For example, anisaldehyde can be used in combination with polyelectrolytes in amounts ranging from as little as 0.1/day to as much as 1/day or more. Also,
If it is desired to use cyanide, small amounts of cyanide, such as sodium cyanide, can also be added to the plating baths of the invention.

しかし、シアン化物を15夕/そ(沙z/gal)以上
添加しても特にそれ以上に結果が良好になるわけではな
い。また、本発明においては、シアン化物を添加するこ
とは、光沢めつきを形成するための必須要件ではない。
本発明のめつき浴は、通常のめつき俗と同様な電流で処
理することができる。
However, adding more than 15 g/gal of cyanide does not particularly improve the results. Furthermore, in the present invention, adding cyanide is not an essential requirement for forming glossy plating.
The plating bath of the present invention can be treated with the same current as in ordinary plating.

例えば、ハルセル試験法で、27A/dわ(25仇sf
)以下の電流密度で行うことができる。しかし、この内
約2.7〜5.4A/dの(25〜5拍sf)の範囲が
好適であり「2.7A/dめが通常最適である。本発明
のめつき浴により、種々の物品にめつきを施すことがで
きる。
For example, according to the Hull cell test method, 27 A/d (25 sf)
) can be carried out at a current density of: However, within this range, a range of about 2.7 to 5.4 A/d (25 to 5 beats sf) is suitable, and 2.7 A/d is usually optimal. It is possible to apply plating to the following articles.

亜鉛めつきは陰極において生成し、大部分の亜鉛めつき
は、めつき浴中に陰極として鋼製品を浸債することによ
り行われる。比較例 1以下の組成を有する亜鉛めつき
俗を調製した。
Galvanizing occurs at the cathode, and most galvanizing is performed by immersing the steel product as the cathode in a plating bath. Comparative Example 1 A galvanized sheet having the following composition was prepared.

金属亜鉛 12夕/夕(1.敗z/gal)苛
性ソーダ 120夕/そ(1敗z/gal)縮合
反応生成物(ェピクロルヒドリンとジメチルアミノプロ
ピルアミンとを工程01こより反応させた生成物、分子
量4000〜5000)1‐6cC/夕(6CC/ga
l)アニスアルテ′ヒドビザールフアイト 0.01夕/そ(0.04夕/gal) 短時間溶液を電解した後、ハルセル試験機でめつき試験
を行った。
Metallic zinc 12 min/gal (1. loss z/gal) Caustic soda 120 t/s (1 loss z/gal) Condensation reaction product (formed by reacting epichlorohydrin and dimethylaminopropylamine from step 01) substance, molecular weight 4000-5000) 1-6 cC/ga (6 CC/ga
l) Anisuarte'hydrobizalphite 0.01 t/gal (0.04 t/gal) After electrolyzing the solution for a short time, a plating test was conducted using a Hull cell tester.

室温で損梓せずに、電流軸で2分間、鋼板にめつきを施
した。めつきは0.1〜9.7A/dで(1〜9舷sf
)の範囲でかなり光沢があった。しかし、この電流密度
の範囲以上では、光沢のない灰色で、付着力が無かった
。また、7.5〜9.7A/dで(70〜9瓜sf)の
範囲では、鋼板の光沢は充分ではなかった。実施例 1
比較例1で用いためつき格に、0.4タノクの3−アミ
ノピリジンを添加した。
The steel plate was plated for 2 minutes using a current axis without damage at room temperature. Plating is 0.1 to 9.7 A/d (1 to 9 sf
) was quite glossy. However, above this current density range, the color was matte gray and there was no adhesion. Further, in the range of 7.5 to 9.7 A/d (70 to 9 melon sf), the luster of the steel plate was not sufficient. Example 1
0.4 ton of 3-aminopyridine was added to the temperature gauge used in Comparative Example 1.

ハルセル試験機で、鋼板に弘で2分間めつきをめ施した
。めつきは全面にわたり光沢を有し、均一で、付着不良
や灰色の個所は無かった。本実施例で使用した添加剤は
灰色部分の生成を防止して電流密度の範囲を拡大し、ま
たし、高電流密度用光沢剤としての性質を示した。実施
例 2 比較例1で用いためつき格に、1.5夕/その3−ピコ
リルアミンを添加した。
The steel plate was plated using a Hiroshi tester for 2 minutes using a Hull cell tester. The plating was glossy and uniform over the entire surface, with no adhesion defects or gray spots. The additive used in this example prevented the formation of gray areas and expanded the current density range, and also exhibited properties as a brightener for high current densities. Example 2 To the test solution used in Comparative Example 1, 1.5 minutes/3-picolylamine was added.

鋼板全面にわたり、灰色の光沢のない部分や、付着性の
悪い部分は生じなかったが、どの電流密度においても、
3−アミノピリジンを用いた場合よりも光沢が不良であ
った。実施例 3 比較例1で用いためつき浴に、0.8夕/その2−アミ
ノピリジンを添加し、同様な処理を行った。
There were no gray, dull areas or areas with poor adhesion over the entire surface of the steel plate, but at any current density,
The gloss was poorer than when 3-aminopyridine was used. Example 3 0.8/day of 2-aminopyridine was added to the soaking bath used in Comparative Example 1, and the same treatment was performed.

この場合、実施例1と同様に良好な結果を得ることがで
きた。実施例 4 比較例1で用いためつき格に、0.50cc/夕(約2
7%溶液)の2ーアミノピリジンとェピクロルヒドリン
との反応生成物を添加し、実施例1と同様に、鋼板にめ
つきを施した。
In this case, similar to Example 1, good results could be obtained. Example 4 0.50 cc/night (approximately 2
A reaction product of 2-aminopyridine and epichlorohydrin (7% solution) was added, and the steel plate was plated in the same manner as in Example 1.

鋼板上には、灰色や付着不良の箇所がないめつきが生成
し、このめつきは実施例1で得たものよりも光沢があっ
た。比較例 2以下の組成を有する303夕(80ga
l)のめつき格を調製した。
A plating was formed on the steel plate with no gray or adhesion defects, and this plating was glossier than that obtained in Example 1. Comparative example: 303 yen (80 ga
1) A rating scale was prepared.

亜鉛 18夕/夕(2.4oz/gal
)苛性ソーダ 180夕/そ(24oz/gal
)縮合反応生成物(ェピクロルヒドリンとジメチルアミ
ノプロピルアミンとを工程0‘こより反応させた生成物
、分子量4000〜5000)3‐2cC/夕(12C
C/gal)バニリン 0.026夕/夕(0.
1夕/gal)上記のめつき浴中で、鋭利な緑部を有す
る深い箱に、約6.2A/dわ(6仇sf)の電流密度
でめつきを施した。
Zinc 18 pm/evening (2.4 oz/gal
) Caustic soda 180 oz/gal (24 oz/gal
) Condensation reaction product (product obtained by reacting epichlorohydrin and dimethylaminopropylamine from step 0', molecular weight 4000-5000) 3-2 cC/night (12C
C/gal) Vanillin 0.026 t/t (0.
A deep box with sharp green areas was plated in the above plating bath at a current density of about 6.2 A/dW (6 SF).

めつきした結果、外側緑部に灰色部分を生じた。実施例
5比較例2で用いためつき格に、0.6夕/夕(27
%溶液)の2ーアミノピリジンとェピクロルヒドリンと
の反応生成物を添加しし。
As a result of plating, a gray area appeared on the outer green area. Example 5 In the case used in Comparative Example 2, 0.6 evening/evening (27
% solution) of the reaction product of 2-aminopyridine and epichlorohydrin.

比較例2で用いた部品に、6.虫/d〆(6のsf)で
再度めつきを施したところ、灰色部分は生じなかった。
実施例 6 2−アミノピリジン1モルとエチレンオキシド1.3モ
ルとを前記の方法で反応させた反応生成物を0.5夕/
夕(27%溶液)探り、比較例1で調製しためつさき格
に添加した。
6. The parts used in Comparative Example 2. When the plate was plated again with Mushi/d〆 (sf of 6), no gray areas appeared.
Example 6 A reaction product obtained by reacting 1 mole of 2-aminopyridine with 1.3 moles of ethylene oxide by the above method was added for 0.5 min/day.
A 27% solution was added to the tsusaki kaku prepared in Comparative Example 1.

ハルセル試験機を用い、弘で2分間鋼板にめつきを施し
ところ、27A/dめ(25山sf)以上の範囲まで、
光沢あるめつきを生成した。実施例 7 以下の組成を有する亜鉛めつき格を調製した。
When plating a steel plate for 2 minutes using a Hull cell tester, it reached a range of 27 A/d or more (25 peaks SF).
Produced a glossy finish. Example 7 A galvanized grate having the following composition was prepared.

金属亜鉛 11.2夕/そ(1.$z/gal
)苛性ソーダ 112夕/そ(1母z/gal
)ェピクロルヒドリンーエチレンジアミン反応生成物(
ウィンターズの米国特許第2791554号に準じて調
製) 4cc/夕(15cc/gal)上言己の溶
液を用いて、ハルセル試験機を用い、2Aで5分間試片
にめつきを施した。めつきは、uA/d〆(1瓜sf)
以下の範囲では鈍い白色であり、1.1〜4.泌/dれ
(10〜4のsf)では半光沢であった。4.3A/d
〆(4仇sf)以上では無光沢で付着性がなかった。
Metallic zinc 11.2 evenings/so (1. $z/gal
) Caustic soda 112 evenings/so (1 mother z/gal
) epichlorohydrin-ethylenediamine reaction product (
Using the aforementioned solution (prepared according to U.S. Pat. No. 2,791,554 to Winters) at 4 cc/gal (15 cc/gal), the specimens were plated at 2A for 5 minutes using a Hull cell tester. Metsuki is uA/d〆 (1 melon sf)
It is dull white in the following range, 1.1 to 4. The color was semi-gloss at 10-4 sf. 4.3A/d
When the coating was over 400 sf, it was matte and had no adhesion.

上記の溶液に0.60の【/その反応生成物の27%溶
液を添加したところ、生成しためつきは10.船/dめ
(10瓜sf)以下の範囲で光沢があった。
When a 27% solution of the reaction product of 0.60 [/] was added to the above solution, the resulting lump was 10. There was luster within the range of ship/d (10 melons SF) or less.

実施例 812夕/夕(1.的z/gal)の金属亜鉛
、120タノ〆(1敗z/鞍1)の苛性ソーダ、20c
c/そのテトラエチレンベンタミンを含有するめつき格
を用いてめつき試験を行ったところ海綿状の無光沢めつ
きを生じた。このめつき格に1.2cc/その2−アミ
ノピリジンおよびェピクロルヒドリンの反応生成物の2
7%溶液を添加したところ、電流密度5.4A/dめ(
5蛇sf)以下の範囲で半光沢のめつきを生成した。
Example 812 evening/evening (1. z/gal) of metallic zinc, 120 tano (1 loss/saddle) of caustic soda, 20c
c/ When a plating test was conducted using the plating grade containing tetraethylenebentamine, spongy matte plating was produced. 1.2cc/2 of the reaction product of 2-aminopyridine and epichlorohydrin
When a 7% solution was added, the current density was 5.4 A/d (
A semi-gloss finish was produced in the following range (5 sf).

実施例 9 下記のような組成を有するめつき格を調製した。Example 9 A plate having the following composition was prepared.

金属亜鉛 10.5夕/夕(1.4oz/g
al)苛性ソーダ 1502/そ(2瓜z/g
al)ェピクロルヒドリンーアミン反応生成物(ノーベ
ルの米国特許藤第26892ぴ号に準ずる)3‐2CC
/そ(12CC/gal)アニスアルデヒドビサルフア
イト 0.16夕/夕(0.6ノ/gal) 2ーピコリルアミンと4級化用塩化メチルとの反応生成
物 0.08夕/そ(0.3夕/gal)上記のめ
つき浴を用いて、ハルセル試験機でめつき試験を行った
ところ、27A/dで(25瓜sf)以下の電流密度の
範囲で光沢あるめつきを生成した。
Metallic zinc 10.5 oz/t (1.4 oz/g
al) Caustic soda 1502/so (2 melons/g
al) Epichlorohydrin-amine reaction product (according to Nobel U.S. Pat. No. 26,892) 3-2CC
Anisaldehyde bisulfite 0.16 CC/gal) Reaction product of 2-picolylamine and methyl chloride for quaternization 0.08 CC/gal (Event/gal) Using the above plating bath, a plating test was conducted with a Hull cell tester, and a glossy plating was produced within a current density range of 27 A/d and (25 melon sf) or less.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 光沢亜鉛めつきが可能なアルカリ性亜鉛めつき浴に
おいて、(1) 上記アルカリ性水溶液はシアン化合物
を含有しないか、もしくはシアン化合物の含有量が実質
的に15g/l未満であって、(2) 亜鉛の電気めつ
きが可能な量の可溶性亜鉛化合物を含有し、(3) 亜
鉛めつき光沢剤として、ピリジン誘導体である2−アミ
ノピリジン、3−アミノピリジン、4−アミノピリジン
、2,3−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリジ
ン、2,5−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリ
ジンおよび3,5−ジアミノピリジンの群より選択され
た少なくとも一種のピリジン誘導体を含有し、さらに、
(4) 亜鉛めつき光択剤として、アミンとエピハロヒ
ドリン、またはアミンとアミノ基を反覆単位とする分子
量が200以上のポリエピハロヒドリンとを反応させて
、亜鉛めつき浴において可溶性のアミノ基を反覆単位と
する分子量が200以上の重縮合物を含有することを特
徴とする光沢亜鉛めつき浴。
1. In an alkaline galvanizing bath capable of bright galvanizing, (1) the alkaline aqueous solution does not contain cyanide compounds or has a cyanide content substantially less than 15 g/l; (2) Contains an amount of soluble zinc compound capable of electroplating zinc, and (3) as a galvanizing brightener, pyridine derivatives such as 2-aminopyridine, 3-aminopyridine, 4-aminopyridine, 2,3- Contains at least one pyridine derivative selected from the group of diaminopyridine, 2,4-diaminopyridine, 2,5-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine and 3,5-diaminopyridine, and further
(4) As a galvanizing photoselector, amine and epihalohydrin, or amine and polyepihalohydrin having a repeating unit of amino group and having a molecular weight of 200 or more are reacted to form a repeating unit of soluble amino groups in a galvanizing bath. A bright galvanizing bath characterized by containing a polycondensate having a molecular weight of 200 or more.
JP49012874A 1973-02-01 1974-02-01 Bright galvanizing bath Expired JPS6012432B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US328782A US3884774A (en) 1973-02-01 1973-02-01 Electrolytic deposition of zinc
US328782 1973-02-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS49106928A JPS49106928A (en) 1974-10-11
JPS6012432B2 true JPS6012432B2 (en) 1985-04-01

Family

ID=23282418

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP49012874A Expired JPS6012432B2 (en) 1973-02-01 1974-02-01 Bright galvanizing bath

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3884774A (en)
JP (1) JPS6012432B2 (en)
FR (1) FR2216364B1 (en)
GB (1) GB1445823A (en)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4062739A (en) * 1973-04-04 1977-12-13 W. Canning Limited Electroplating zinc or cadmium and additive composition therefor
US3972789A (en) * 1975-02-10 1976-08-03 The Richardson Company Alkaline bright zinc plating and additive composition therefore
DE2525264C2 (en) * 1975-06-04 1984-02-16 Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen Alkaline, cyanide-free zinc bath and process for the electrodeposition of zinc coatings using this bath
US4007098A (en) * 1975-09-04 1977-02-08 Columbia Chemical Corporation Baths and additives for the electrodeposition of bright zinc
CA1108087A (en) * 1976-04-16 1981-09-01 Sylvia Martin Brightening method and composition for zinc plating baths
US4076600A (en) * 1976-12-20 1978-02-28 R. O. Hull & Company, Inc. Leveling agent for acid zinc electroplating baths and method
US4170526A (en) * 1978-01-16 1979-10-09 Oxy Metal Industries Corporation Electroplating bath and process
US4166778A (en) * 1978-05-17 1979-09-04 Simeon Acimovic Cyanide-free alkaline zinc baths
US5194140A (en) * 1991-11-27 1993-03-16 Macdermid, Incorporated Electroplating composition and process
US5435898A (en) * 1994-10-25 1995-07-25 Enthone-Omi Inc. Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes
US5578187A (en) * 1995-10-19 1996-11-26 Enthone-Omi, Inc. Plating process for electroless nickel on zinc die castings
DE19840019C1 (en) * 1998-09-02 2000-03-16 Atotech Deutschland Gmbh Aqueous alkaline cyanide-free bath for the electrodeposition of zinc or zinc alloy coatings and method
US6143160A (en) * 1998-09-18 2000-11-07 Pavco, Inc. Method for improving the macro throwing power for chloride zinc electroplating baths
JP5005849B2 (en) * 2000-01-31 2012-08-22 ディップソール株式会社 Alkaline zinc and zinc alloy plating bath
EP1870495A1 (en) * 2006-06-21 2007-12-26 Atotech Deutschland Gmbh Aqueous alkaline, cyanide-free, bath for the galvanic deposition of Zinc and Zinc alloy layers
ES2788080T3 (en) 2009-09-08 2020-10-20 Atotech Deutschland Gmbh Polymers with amino terminal groups and their use as additives for zinc plating and zinc alloy baths
CN110846693B (en) * 2019-11-21 2020-11-10 武汉奥邦表面技术有限公司 High-dispersity alkaline cyanide-free zinc plating brightener and preparation method and application thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4843784A (en) * 1971-10-06 1973-06-23

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US733028A (en) * 1902-04-17 1903-07-07 Emanuel Goldberg Electrolytically coating iron with zinc.
US2451426A (en) * 1943-11-25 1948-10-12 Du Pont Bright zinc plating
NL280407A (en) * 1961-07-06
US3318787A (en) * 1964-02-07 1967-05-09 Udylite Corp Electrodeposition of zinc
US3411996A (en) * 1965-12-02 1968-11-19 Du Pont Process for brightening zinc and cadmium electroplate using an inner salt of a quaternized pyridine carboxylic acid and compositions containing the same
US3620938A (en) * 1968-12-11 1971-11-16 Stauffer Chemical Co Method for obtaining a bright zinc coating by electrodeposition and the bath used therefor
US3655534A (en) * 1970-02-24 1972-04-11 Enthone Alkaline bright zinc electroplating
FR2167228A1 (en) * 1972-01-11 1973-08-24 Micsunescu Francine Nitrogen-contg heterocyclic cpds - brighteners for zinc deposits from galvanic bath

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4843784A (en) * 1971-10-06 1973-06-23

Also Published As

Publication number Publication date
US3884774A (en) 1975-05-20
FR2216364A1 (en) 1974-08-30
JPS49106928A (en) 1974-10-11
GB1445823A (en) 1976-08-11
FR2216364B1 (en) 1977-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6012432B2 (en) Bright galvanizing bath
US4134802A (en) Electrolyte and method for electrodepositing bright metal deposits
CA1078323A (en) Acid copper plating baths
US4384930A (en) Electroplating baths, additives therefor and methods for the electrodeposition of metals
US4169772A (en) Acid zinc plating baths, compositions useful therein, and methods for electrodepositing bright zinc deposits
US5417840A (en) Alkaline zinc-nickel alloy plating baths
JPS6056084A (en) Zinc and zinc alloy electrodeposition bath and process
EP1201789B9 (en) Plating bath and method for electroplating tin-zinc alloys
US4229268A (en) Acid zinc plating baths and methods for electrodepositing bright zinc deposits
CA1050472A (en) Zinc electrodeposition process and bath for use therein
JP2002538299A (en) Zinc and zinc alloy electroplating additive and electroplating method
EP1315849B1 (en) Zinc and zinc alloy electroplating methods
US3972789A (en) Alkaline bright zinc plating and additive composition therefore
US3824158A (en) Composition of baths for electrodeposition of bright zinc
TW412603B (en) Acidic tinplating bath
US4030987A (en) Zinc plating method
EP1576208B1 (en) Brightener for zinc-nickel plating bath
US4081336A (en) Alkaline bright zinc plating and additive therefor
US6387229B1 (en) Alloy plating
CA1075695A (en) Alkaline zinc electroplating baths and additive compositions therefor
JP5005849B2 (en) Alkaline zinc and zinc alloy plating bath
US4046648A (en) Polyamine additives in alkaline zinc electroplating
JP4447099B2 (en) Alkaline zinc and zinc alloy plating bath
JP4447100B2 (en) Alkaline zinc and zinc alloy plating bath
US4411744A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating