JPS60113370U - 化学気相蒸着装置 - Google Patents

化学気相蒸着装置

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JPS60113370U
JPS60113370U JP119984U JP119984U JPS60113370U JP S60113370 U JPS60113370 U JP S60113370U JP 119984 U JP119984 U JP 119984U JP 119984 U JP119984 U JP 119984U JP S60113370 U JPS60113370 U JP S60113370U
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JP
Japan
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support
hole
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chemical vapor
support tube
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JP119984U
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JPS6324121Y2 (ja
Inventor
梅森 道弘
Original Assignee
日立化成工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来の化学気相蒸着装置の縦断面図、第2図は
本考案の一実施例になる化学気相蒸着装置の要部縦断面
図、第3図はホルダーの一部切欠断面図、第4図は上部
支持管の正面図である。 −符号の説明、1・・・原料
ガス、2・・・排ガス、3・・・基材、4φ・・チャン
バーベース、5…チヤンバー、4・・・バッキング、7
・・・ワークコイル、8,9.10・・・ワークコイル
カバー、11・・・ノズルホルダー、12・・・ノズル
、13・・・チャック、14・・・支持管、15・・・
ホルダー、15a・・・つば部、15b・・・下側接続
部、16・・・支持体、17・・・孔部、17a・・・
上部孔、17b・・・下部孔、18・・・上部支持管、
18a・・・上部孔、18b・・・上部円筒面、18c
・・・中間円錐面、18d・・・下部円筒面、18e・
・・下部孔、18f・・・スリット、19・・・ホルダ
ー、19a・・・上部円筒面、19b・・・つば部上面
、19c・・・つば部門筒面、19d・・・つば部下面
、19e・・・下部円筒面、19f・・・周溝部、19
g・・・周溝部、19h・・・下部接続孔、20・・・
支持体、20a・・・下面、21・・・孔部、21a・
・・上部孔、21b・・・下部孔、21c・・・上面、
22・・・下部支持管。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 化学気相反応を行うための反応室と、該反応室に原料ガ
    スを供給するガス供給管と、上記反応室内に水平に配置
    する円板状の黒鉛製の支持体および該支持体の下方に設
    けた加熱部材を具備し、かつ上記ガス供給管を上記加熱
    部材と上記支持体の中央の礼物に取付けられ黒鉛製のホ
    ルダーおよび該ホルダーを支持する支持管を貫通して立
    設してなる化学気相蒸着装置において、上部孔と該上部
    孔と同心そかつこれより内径の大きい下部孔とからなる
    支持体の中央の孔部に、外周に上記支持体の下面よりも
    上方となる下面を有するつば部を形成した円筒状のホル
    ダーを、上記っは部の上面と上記下部孔の上面との互い
    に接触する面のいずれかにおよび上記つば部の上方とな
    る円筒部の外周面と上記上部孔の内周面との互いに接触
    する面のいずれかに周溝部を設けて接触面積を減少させ
    て取付けるとともに、上記ホルダーの下部に軸方向の複
    数のスリットを設けた黒鉛製の中空円筒状の上部支持管
    を接続し、さらに該上部支持管の下部に、電気絶縁性中
    空円筒状の下部支持管を接続してなる化学気相蒸着装置
JP119984U 1984-01-09 1984-01-09 化学気相蒸着装置 Granted JPS60113370U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014067983A (ja) * 2012-09-27 2014-04-17 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014067983A (ja) * 2012-09-27 2014-04-17 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置
US9750087B2 (en) 2012-09-27 2017-08-29 Tokyo Electron Limited Heat treatment apparatus

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JPS6324121Y2 (ja) 1988-07-01

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