JPS6010632B2 - Drive device for thin film EL display device - Google Patents

Drive device for thin film EL display device

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JPS6010632B2
JPS6010632B2 JP1363077A JP1363077A JPS6010632B2 JP S6010632 B2 JPS6010632 B2 JP S6010632B2 JP 1363077 A JP1363077 A JP 1363077A JP 1363077 A JP1363077 A JP 1363077A JP S6010632 B2 JPS6010632 B2 JP S6010632B2
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JP
Japan
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voltage
display device
thin film
line
circuit
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JP1363077A
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Japanese (ja)
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吉晴 金谷
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Sharp Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は二重絶縁型薄膜EL表示装置の駆動装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a drive device for a double insulation type thin film EL display device.

本発明はマトリックス電極を有する二重絶縁型薄膜EL
表示装置で文字、記号或いは膜様等を表示する場合、上
記マトリックス電極に表示電圧を印加する回路をNチャ
ンネルM○、又はNPNトランジスタ等一種類のスイッ
チング素子で構成することができる回路を提供するもの
である。
The present invention is a double insulated thin film EL device having matrix electrodes.
To provide a circuit in which a circuit for applying a display voltage to the matrix electrode can be configured with one type of switching element such as an N-channel M○ or an NPN transistor when displaying characters, symbols, film shapes, etc. on a display device. It is something.

そして本発明は薄膜EL表示装置の駆動回路を集積回路
によって構成することを可能にするものである。また本
発明は少ないスイッチング素子数で横成することができ
る薄膜BL表示装置の駆動回路を提供するものである。
更に本発明はフィールドリフレッシュ方式の駆動装置を
提供するものである。
The present invention makes it possible to configure a drive circuit for a thin film EL display device using an integrated circuit. Further, the present invention provides a drive circuit for a thin film BL display device that can be constructed with a small number of switching elements.
Further, the present invention provides a field refresh type driving device.

次に本発明の駆動装置を説明する前に二重絶縁型薄膜E
L表示装置について説明する。
Next, before explaining the drive device of the present invention, we will explain the double insulation type thin film E.
The L display device will be explained.

第1図に示すようにガラス基板1の上に1山03よりな
る帯状の透明電極2を平行に設け、この上に例えばY2
03,Si3N4等の誘電物質層3、Mh等の活性剤を
ドープしたれSよりなるEL層4、上記と同じくY20
3,Si3N4等の誘電物質層5を蒸着法、スパッタリ
ング法のような薄膜技術を用いて500〜10000A
の厚さで順次積層して3層構造にし、その上に上記透明
電極2と直交する方向にA〆等からなる帯状の背面電極
6を平行に設ける。
As shown in FIG. 1, a band-shaped transparent electrode 2 consisting of one peak 03 is provided in parallel on a glass substrate 1, and on this, for example, Y2
03, dielectric material layer 3 such as Si3N4, EL layer 4 made of S doped with an activator such as Mh, Y20 as above
3. A dielectric material layer 5 such as Si3N4 is formed using a thin film technique such as evaporation or sputtering.
A three-layer structure is obtained by sequentially laminating them to a thickness of , and a strip-shaped back electrode 6 made of A-line or the like is provided in parallel thereon in a direction perpendicular to the transparent electrode 2.

この構成の二重絶縁型薄膜EL表示装置において、第1
の電極群2のうちの一つと第2の電極群6のうちの一つ
に適当な交流電圧を印加すると、両電極が交差して挟ま
れた微少面積部分のEL層4が発光する。この微少面積
部分が文字、記号、膿様を表示する場合の一絵素に相当
する。従ってこの一絵※を1個ずつ選択走査して、又は
選択された絵素全部を同時に駆動して文字、記号等を表
示する。この薄膜EL表示装置は高輝度発光し寿命が長
く、安定である。又はヒステリシス型のメモリーを持っ
たものを製造することが可能である等の点で従来の分散
型EL素子に比べて優れた特性を持っている。上記薄膜
EL素子は150V〜300V程度の比較的高電圧を印
加しなければ発光せず「且つ上記2つの直交する電極よ
り選択した特定の点に上記高電圧を印加するため、一方
の電極には高電圧電源回路に接続する高耐圧スイッチン
グ素子、他方の電極にはアース電位に接続する高耐圧ス
イッチング素子がそれぞれ必要である。
In the double insulation type thin film EL display device having this configuration, the first
When an appropriate AC voltage is applied to one of the electrode groups 2 and one of the second electrode groups 6, the EL layer 4 in a small area sandwiched between the two electrodes emits light. This minute area corresponds to one picture element when displaying characters, symbols, and pus-like objects. Therefore, characters, symbols, etc. are displayed by selectively scanning this picture* one by one, or by simultaneously driving all the selected picture elements. This thin film EL display device emits light with high brightness, has a long lifespan, and is stable. It also has superior characteristics compared to conventional distributed EL elements in that it is possible to manufacture devices with hysteresis type memory. The thin film EL element does not emit light unless a relatively high voltage of about 150V to 300V is applied. A high voltage switching element is required to be connected to the high voltage power supply circuit, and a high voltage switching element is required to be connected to the ground potential on the other electrode.

上記のように2つの高耐圧スイッチング素子は同じ電極
をアース側にして用いることができず、従って二種類の
型式のスイッチング素子が必要である。例えばNPNト
ランジスタとPNPトランジスタ、或いはNチャンネル
型MOSトランジスタとPチャンネル型MOSトランジ
スタである。そしてこれらスイッチング素子は薄膜由L
表示装置の電極数と同数だけ必要である。しかし現在高
耐圧モノリシックのPNPとNPN(又はPチャンネル
とNチャンネルMOS)トランジスタをIC化すること
は非常に困難であり研究中である。本発明は以上のよう
な点に鑑みて、比較的実現性の高い、Nチャンネル型M
OS或いはNPNトランジスタの高耐圧モノリジツクを
用い、IC化を可能にする回路である。
As mentioned above, two high voltage switching elements cannot be used with the same electrode on the ground side, and therefore two types of switching elements are required. For example, they are an NPN transistor and a PNP transistor, or an N-channel type MOS transistor and a P-channel type MOS transistor. These switching elements are made of thin film.
The same number of electrodes as the display device is required. However, it is currently extremely difficult to integrate high-voltage monolithic PNP and NPN (or P-channel and N-channel MOS) transistors, and research is currently underway. In view of the above points, the present invention provides an N-channel type M
This is a circuit that can be integrated into an IC using an OS or a high-voltage monolithic NPN transistor.

第2図は本発明の駆動装置の回路図を示し、第3図はそ
の駆動タイミングチャートを示す。
FIG. 2 shows a circuit diagram of the driving device of the present invention, and FIG. 3 shows its driving timing chart.

第2図において10は前記薄膜EL表示装置を示し、こ
の図では×方向の電極Xo〜Xmをデータ側電極、Y方
向電極Y,〜Ynを走査側電極とし、電極のみを示して
いる。1 1は共通線Aに1/2の書込み電圧(1′2
VW)を印加する駆動回路である。
In FIG. 2, reference numeral 10 indicates the thin film EL display device, and in this figure, only the electrodes are shown, with the x-direction electrodes Xo to Xm being data-side electrodes and the Y-direction electrodes Y, to Yn being scanning-side electrodes. 1 1 is 1/2 write voltage (1'2
This is a drive circuit that applies VW).

12はデータ‐側のダイオードアレイを示し「これはデ
ータ一側騒動線の分離を行うと共にNチャンネル高耐圧
トランジスターのソース、ドレィン(あるいはNPNト
ランジスタの場合ェミツター、コレクター)間の逆バイ
アスに対する保護を行う。
12 indicates a diode array on the data side, which separates the data side disturbance line and protects against reverse bias between the source and drain (or emitter and collector in the case of an NPN transistor) of an N-channel high-voltage transistor. .

13はデータ‐側のスイッチング素子回路であり、ソー
ス共通のNチャンネル高耐圧MOSトランジスタよりな
り、書込みの非選択ラインに充電された電荷を放電させ
る回路を形成する。
Reference numeral 13 denotes a switching element circuit on the data side, which is composed of an N-channel high-voltage MOS transistor with a common source, and forms a circuit for discharging charges stored in non-selected lines for writing.

14は走査側のスイッチング素子回路で、ソース共通の
NチャンネルMOSトランジスタよりなり、書込みの選
択走査ライン上の選択給素点に書込み電圧を印加する回
路を形成する。
Reference numeral 14 denotes a switching element circuit on the scanning side, which is composed of an N-channel MOS transistor with a common source, and forms a circuit for applying a write voltage to a selected supply point on a selected scan line for writing.

15は走査側駆動線分雛及び上記NチャンネルMOSト
ランジスタよりなるスイッチング素子のソース、ドレイ
ン(あるいはNPNトランジスタの場合はェミッタコレ
クタ)間の逆バイアス保護をする走査側のダイオードア
レイである。
Reference numeral 15 denotes a diode array on the scanning side for providing reverse bias protection between the scanning side drive line and the source and drain (or emitter-collector in the case of an NPN transistor) of the switching element made of the N-channel MOS transistor.

16は1フィールド走査の終了時に薄膜EL表示装置全
面にフィールドリフレツシュパルスを印加するため、駆
動線Bにフィールドリフレッシュパルスを供給する駆動
回路である。
A drive circuit 16 supplies a field refresh pulse to the drive line B in order to apply a field refresh pulse to the entire surface of the thin film EL display device at the end of one field scan.

次に上記駆動装置の動作を説明する。Next, the operation of the above drive device will be explained.

先づ第一段階として走査側のスイッチング素子回路1
4を構成する全てのNチャンネルMOSトランジスタS
S,〜SSnのゲートにハイレベル信号を供V給し、こ
れをオン状態にする。
First, as the first step, the switching element circuit 1 on the scanning side
All N-channel MOS transistors S constituting 4
A high level signal is supplied to the gates of S, -SSn to turn them on.

このときデータ一側のスイッチング素子回路14の全ト
ランジスタSD,〜SDmはオフ状態、即ちゲート入力
が全てo−レベルにされている。そして共通線Aの駆動
回路12の入力端子S,に/・ィレベル信号が供給され
スイッチングトランジスタT,,T2がオンになり、共
通線Aに1′2の書込み電圧(1/2Vw)が印放され
る。従って全データライン(X,〜Xm)より、薄膜E
L表示装置を構成する全絵素点に1/2Vwが充電され
る。即ち、薄膜EL表示装置は第1図EL層4の両側に
誘電体層3,5が形成され、その両側に電極2,6が設
けられているので薄膜EL表示装置は容量性素子と見る
ことができ、各絵素の容量成分に上記電圧が充電される
At this time, all transistors SD, -SDm of the switching element circuit 14 on the data one side are in an off state, that is, all gate inputs are set to O-level. Then, a level signal is supplied to the input terminal S, of the drive circuit 12 of the common line A, and the switching transistors T, , T2 are turned on, and a write voltage of 1'2 (1/2 Vw) is applied to the common line A. be done. Therefore, from all data lines (X, ~Xm), the thin film E
1/2 Vw is charged to all picture element points constituting the L display device. That is, in the thin film EL display device shown in FIG. 1, the dielectric layers 3 and 5 are formed on both sides of the EL layer 4, and the electrodes 2 and 6 are provided on both sides, so the thin film EL display device can be viewed as a capacitive element. The above voltage is charged to the capacitive component of each picture element.

次にデータ側スイッチング素子回路13中の書込み絵素
i,iを含むデータ側選択ラインXiに接続されたトラ
ンジスタSDjをオフ状態に持続し、非選択ラインXk
≠iのトランジスタSDk羊iの入力ゲートレベルをハ
イレベルにすることによってオンに変化させる。
Next, the transistor SDj connected to the data side selection line Xi including write picture elements i and i in the data side switching element circuit 13 is maintained in an off state, and the non-selection line Xk
Transistor SDk with ≠i is turned on by setting the input gate level of i to high level.

このときの走査側スイッチング回路14の全てのトラン
ジスタSS,〜nはオン状態を保っている。従って書込
みみ絵素i,jを含むデータラインXiはダイオードア
レイ12によってXk主iと分離されているため上記充
電電圧1/2Vwを保つが非選択のデーターラィンXk
羊iに含まれる絵素の蟹荷はトランジスタSDk主iを
介して法電されてしまう。
At this time, all transistors SS, ~n of the scanning side switching circuit 14 are kept in the on state. Therefore, since the data line Xi including the write picture elements i and j is separated from the Xk main i by the diode array 12, the charging voltage 1/2Vw is maintained, but the unselected data line Xk
The charge of the picture element contained in the sheep i is electrically charged through the transistor SDk main i.

以上の2段階でデ−夕−側選択ラインXiへの予備充電
が終了する。その後第3段階としてデータ‐側スイッチ
ング回路13の全トランジスタSD,〜SDmをオフ状
態にする。
Preliminary charging to the data side selection line Xi is completed in the above two steps. Thereafter, in the third step, all transistors SD, -SDm of the data-side switching circuit 13 are turned off.

一方走査側スイッチング回路14では書込み絵素i,i
を含む走査ラインYjに接続されたトランジスターSS
jのみをオン状態に保ち、他のトランジスターSSそ羊
jをオフにする。この状態で共通線Aに再び電圧1/2
Vwを印加すべく、入力端子S,よりハイレベル信号を
加えトランジスタT,,T2をオンにする。この電圧が
印加されると選択データーラィンXiは先に電圧1′2
Vwが予備充電されており、この電圧が第3段階で加え
られた電圧1/2Vwと蚤畳してVw迄引き上げられる
。このとき非選択データーラインXk羊iは第2段階に
て放電しているため第3段階での引上げ電圧1/2Vw
となり、さらに非選択走査ラインY〆キiは容量結合に
よって3段階での引き上げ電圧1/2Vw‘こ追従する
。結局書込み絵素i,iには書込み電圧Vwが印加され
発光をするが、選択データーラィンXiと非選択走査ラ
インYそ羊iの交点にある半選択絵素i,i、と、非選
択データーラィンXk羊iと選択走査ラインの交点にあ
る半選択絵素k,jには電圧1/2Vwが印加されるが
この電圧は薄膜EL表示装置の閥値電圧以下であり書込
み或いは消去動作をしない。さらに非選択データーラィ
ンと非選択走査ラインの交点にある非選択絵素k,のこ
ついても同様である。最後に第4段階としてデータ側の
スイッチングトランジスタSD,〜SDm及び走査側の
スイッチングトランジスタSS,〜SSnはオフされ初
めの状態に戻る。
On the other hand, in the scanning side switching circuit 14, writing picture elements i, i
A transistor SS connected to a scanning line Yj containing
Only transistor SS j is kept on, and the other transistors SS and j are turned off. In this state, the voltage 1/2 is applied to the common line A again.
In order to apply Vw, a high level signal is applied to the input terminal S to turn on the transistors T, , T2. When this voltage is applied, the selection data line Xi first becomes the voltage 1'2.
Vw is precharged, and this voltage is raised to Vw by combining with the voltage 1/2 Vw applied in the third stage. At this time, since the non-selected data line
Furthermore, the unselected scan line Y〆key i follows the raised voltage 1/2Vw' in three stages due to capacitive coupling. In the end, the writing voltage Vw is applied to the writing picture element i, i and it emits light, but the half-selected picture element i, i at the intersection of the selected data line Xi and the non-selected scanning line Y, and the non-selected data A voltage 1/2 Vw is applied to the half-selected picture elements k and j at the intersection of the line Xk i and the selected scanning line, but this voltage is below the threshold voltage of the thin film EL display device, so no writing or erasing operation is performed. . Furthermore, the same applies to the unselected picture element k located at the intersection of the unselected data line and the unselected scanning line. Finally, in the fourth step, the data-side switching transistors SD, -SDm and the scanning-side switching transistors SS, -SSn are turned off to return to the initial state.

第3図において、SDi,SDk主i,SSj,SS夕
≠j,S,,S2は入力信号波形を示し、Xi,Xk≠
i,Yi,Y〆羊iは電極の駆動波形を示し、選択給素
i,i、半選択絵素k,i、j,そ、非選択絵素k,そ
の総素印加波形を示し、絵秦印加波形はY電極側からみ
たX電極波形である。
In Fig. 3, SDi, SDk main i, SSj, SS evening≠j, S,, S2 indicate input signal waveforms, Xi, Xk≠
i, Yi, Y〆I shows the drive waveform of the electrode, selected pixel i, i, half-selected pixel k, i, j, unselected pixel k, its total pixel application waveform, and the picture The Qin applied waveform is the X electrode waveform seen from the Y electrode side.

ここで薄膜EL表示装道に加えられる電圧を等価回路を
用いて考案する。
Here, the voltage applied to the thin film EL display device will be devised using an equivalent circuit.

第4図は第3段階の動作が始められる前、即ち選択され
た走査ラインYiのトランジスタSSiがオンにされ、
他のトランジスタSSZ羊iがオフにされ、共通線Aに
電圧1/2Vwが印加される直前の等価回路を示す。
FIG. 4 shows before the third stage operation is started, that is, the transistor SSi of the selected scan line Yi is turned on;
The equivalent circuit is shown just before the other transistor SSZ i is turned off and the voltage 1/2 Vw is applied to the common line A.

この図において、各記号は次の意味を持つ。マトリック
ス素線数、データ側:m、 走査側:n、m、n》1 1絵素容量:Ce 選択走査ライン:i、書込みデーターラィンの選択数:
P走査側配線の浮遊容量:Cs データ側配線の浮遊容量:Cd 書込み絵素を含むデーターラィンに接続されている全ダ
イオード:○s(逆バイアス)書込み絵素を含まないデ
ーターラインに接続されている全ダイオード:Dn(順
バイアス)C.:非選択絵素(データ側からも走査側か
らも選択されない絵素)(k,そ)の全ての容量和、C
,=(n一1)(m一P)CeC2:半選択総秦(デー
タライン側からのみ選択された絵素)(i,そ)の容量
和C2=P(n−1)Ce C3:選択絵素(i,i)の容量和 C3=PCe C4:半選択絵素(走査ライン側からのみ選択された絵
素)(k,i)の容量和C4=(m一P)Ce C5:走査側ラインの中、書込み絵素(i,i)を含ま
ない走査側配線の浮遊容量和C5ニ(n一・)CS C6:データ側ライン中、書込み絵素(i,i)を含む
データ側配線の浮遊容量和C6=PCd 上記容量C,〜C6は次のような電位にある。
In this diagram, each symbol has the following meaning. Number of matrix element lines, data side: m, scanning side: n, m, n》1 1 pixel capacity: Ce, selected scanning line: i, number of selected write data lines:
P Stray capacitance of scanning side wiring: Cs Stray capacitance of data side wiring: Cd All diodes connected to data lines including write pixels: ○s (reverse bias) Connected to data lines that do not include write pixels All diodes: Dn (forward bias) C. : Sum of all capacitances of non-selected picture elements (picture elements not selected from either the data side or the scanning side) (k, so), C
,=(n-1)(m-P)CeC2: Half-selected sum of capacitances (picture elements selected only from the data line side) (i, so) C2=P(n-1)Ce C3: Selection Sum of capacitances of picture elements (i, i) C3 = PCe C4: Half-selected picture elements (picture elements selected only from the scanning line side) Sum of capacitances of (k, i) C4 = (m - P) Ce C5: Scanning In the side line, the sum of stray capacitances of the scanning side wiring that does not include the write picture element (i, i) C5 ni (n - ・)CS C6: In the data side line, the data side that includes the write picture element (i, i) Total stray capacitance of wiring C6=PCd The capacitances C and C6 are at the following potential.

C,,C4,C5はOV、C2,C3,C6は1′2V
wである。次の第3段階で選択された走査ラインYjの
トランジスタSSiがオン、他のトランジスタSSそ羊
iがオフ、データ側の全トランジスタSD,〜SDmが
オフにされて、共通線Aに1/2Vwが印加されたとき
、第4図のS点の電圧VsはVS=−L;X貴VW I+C, である。
C,,C4,C5 are OV,C2,C3,C6 are 1'2V
It is w. In the next third step, the transistor SSi of the selected scan line Yj is turned on, the other transistors SS i are turned off, all the transistors SD, ~SDm on the data side are turned off, and 1/2Vw is applied to the common line A. is applied, the voltage Vs at point S in FIG. 4 is VS=-L;

またD点の電圧Vdはエネルギー保存則より〆2(守)
2=享(C2十C2十C6)(Vd−VS)2…(1)
から.・・−・.(2) となる。
Also, the voltage Vd at point D is determined by the law of conservation of energy.
2=Kyou (C20C20C6) (Vd-VS)2...(1)
from.・・・-・. (2) becomes.

ここで(m−P)Ce》Cs ・・・
・・・【3’(n−1)Ce》Cd
……【41と仮定すると、C,》C5、C2》C3、C
6となり、‘1’,(2)式からvS=学、vd=VW
.・…・{51 となる。
Here (m-P)Ce》Cs...
...[3'(n-1)Ce]Cd
...[Assuming 41, C,》C5,C2》C3,C
6, '1', from equation (2), vS = science, vd = VW
.. ...{51.

このように条件【3},‘4’が満たされている限り、
選択された全ての書込み絵素C3には書込み電圧Vwが
印加され、全ての半選択絵素C2,C4には学半鰍軸カ
ギ印力。
In this way, as long as conditions [3} and '4' are satisfied,
The write voltage Vw is applied to all the selected write picture elements C3, and the half-selected picture elements C2 and C4 are applied with a half-axis key.

され・全ての非選択絵素に電圧印加されないから、選択
絵素のみに書込むことができる。以上の動作によって一
走査ラインの書込みが行われ、以後順次、次の走査ライ
ンへの書込みが行われる。
- Since voltage is not applied to all non-selected picture elements, writing can be performed only to selected picture elements. Through the above operations, one scanning line is written, and thereafter, writing to the next scanning line is performed sequentially.

この次の走査ラインの書込みの際には前に書込みをした
データラインは書込み電圧保持しているから、そのデー
タラインに充電電流は流れない。書込みがなかったデー
ターラィンにのみ予備充電の電流が流れる。そして順次
走査が終りーフィールドの書込みが終了したとき、フィ
ールドリフレツシュパルスが駆動回路16、ダイオード
アレイ15を介して加えられる。
When writing to the next scanning line, the previously written data line holds the write voltage, so no charging current flows through that data line. Preliminary charging current flows only to data lines that have not been written to. When the sequential scanning is completed and the field writing is completed, a field refresh pulse is applied via the drive circuit 16 and the diode array 15.

このとき走査側14の全トランジスタSS,〜SSnは
オフ、データ側スイッチング回路13の全トランジスタ
SD,〜SDmはオンにされる。フィールドリフレッシ
ュパルスの電圧値は上記各走査ラインごとより加えた書
込み電圧Vwと等しく、薄膜EL表示装置には逆極性に
加えている。従って薄膜EL表示装置は書込み電圧Vw
とフィールドリフレッシュパルスとで交流駆動されるこ
とになる。フイールドリフレツシュパルスが加えられる
とき、書込み電圧が加えられた総秦は分極しているため
、この分極による電界とフィールドリフレッシュパルス
とが車畳して書込みを発光させる。またこのフイールド
リフレツシュパルスのため分極の偏りをなくし、次のフ
ィールドで書込み電圧Vwが加えられたとき書込み絵素
の発光を可能にしている。ところで前記した二重絶縁型
薄膜EL表示装置は、正負対称な交流駆動を行うと、第
5図に示すような電圧一輝度特性が得られる。
At this time, all transistors SS, .about.SSn on the scanning side 14 are turned off, and all transistors SD, .about.SDm on the data side switching circuit 13 are turned on. The voltage value of the field refresh pulse is equal to the write voltage Vw applied to each scanning line, and is applied with opposite polarity to the thin film EL display device. Therefore, the thin film EL display device has a write voltage of Vw.
and field refresh pulses. When the field refresh pulse is applied, the entire field to which the write voltage is applied is polarized, so the electric field due to this polarization and the field refresh pulse combine to cause write light to be emitted. Furthermore, this field refresh pulse eliminates polarization bias, allowing the writing picture element to emit light when the writing voltage Vw is applied in the next field. By the way, when the above-mentioned double insulation type thin film EL display device is driven with positive and negative symmetrical alternating current driving, voltage-luminance characteristics as shown in FIG. 5 can be obtained.

第5図は繰返し周波数が25征Z、パルス幅が100r
secで、正及び負電圧が200Vであるような対称駆
動した場合、実線の曲線で示す特性となる。また周波数
、パルス幅は同一条件にし、一方の極性の電圧を200
Vに固定し、他方の極性の電圧を20肌以下で可変にし
て非対称交流駆動すると点線で示す特性が得られる。非
対称駆動において、一方の極性パルスを固定電圧に他方
の磁性のパルスを可変電圧にして、可変電圧を発光閥値
以下か或いは以上にすることによって、非書込み或いは
書込み発光かの選択が可能となる。
In Figure 5, the repetition frequency is 25 Z and the pulse width is 100 r.
In the case of symmetrical driving in which the positive and negative voltages are 200 V at sec, the characteristics are shown by the solid curve. Also, the frequency and pulse width should be the same, and the voltage of one polarity should be set to 200
If the polarity is fixed at V and the voltage of the other polarity is varied within 20 degrees for asymmetrical AC driving, the characteristics shown by the dotted line are obtained. In asymmetrical driving, by setting one polarity pulse to a fixed voltage and the other magnetic pulse to a variable voltage, and making the variable voltage below or above the emission threshold, it is possible to select between non-writing and writing emission. .

それ故一方の極性の固定電圧パルスをリフレッシュパル
スとし、他極性の発光閥値電圧以上のパルスを書込みパ
ルス、発光閥値以下の電圧パルスを非書込み(あるいは
フトリックス駆動における半選択)パルスとしてマトリ
ックス駆動における任意選択絵素への書込みが可能とな
る。非対称駆動における電圧一輝度特性を利用してフィ
ールド中一方向性の書込み、非書込み駆動を行ってフィ
ールド終了後反転リフレッシュパルスによって1フィー
ルドにて書込みパルスとIJフレッシュパルスによって
二度発光するため、通常の方式に比較して輝度が2倍取
れる。本方式はフィールド中順次選択書込みを行ってフ
ィールド完了後全絵素に固定電圧の反転リフレッシュパ
ルスを印加するためフィールドリフレッシュ方式と呼ん
でいる。本発明の駆動装置は以上のように構成され動作
するので、データ側スイッチング回路13、及び走査側
スイッチング回路14の各トランジスタSD,〜SDm
、SS,〜SSnは全て薄膜EL素子のX又はY電極か
らアース点へ電流を流す方向であるから、全てのトラン
ジスタはNチャンネル型MOSトランジスタをドレィン
をアースに接続して構成することができる。
Therefore, the fixed voltage pulse of one polarity is used as a refresh pulse, the pulse of the other polarity that is higher than the luminous threshold voltage is used as a writing pulse, and the voltage pulse that is lower than the luminous threshold value is used as a non-writing (or half-selection in matrix drive) pulse. It becomes possible to write to any selected picture element during driving. Utilizing the voltage-brightness characteristic of asymmetrical driving, unidirectional writing and non-writing driving is performed during the field, and after the field ends, an inverted refresh pulse causes light to be emitted twice in one field by a writing pulse and an IJ fresh pulse. The brightness can be doubled compared to the previous method. This method is called a field refresh method because selective writing is performed sequentially during the field and after the completion of the field, an inverted refresh pulse of a fixed voltage is applied to all picture elements. Since the driving device of the present invention is configured and operates as described above, each transistor SD, to SDm of the data side switching circuit 13 and the scanning side switching circuit 14
, SS, -SSn are all directions in which current flows from the X or Y electrode of the thin film EL element to the ground point, so all transistors can be constructed by N-channel MOS transistors with their drains connected to ground.

このように本発明によれば1種類の導電型式のトランジ
スタを用いて作ることができ、IC化が可能となる。ま
た本発明はフィールドリフレツシュ方式の駆動をするの
で、分極の偏りがなくなりまた1フィールド中に2回発
光するので実質的な平均輝度が2倍になる。
As described above, according to the present invention, it can be manufactured using one type of conductivity type transistor, and it can be integrated into an IC. Furthermore, since the present invention uses a field refresh method of driving, there is no bias in polarization, and since light is emitted twice in one field, the average luminance is effectively doubled.

なお上記実施例では薄膜EL表示装置は印加電圧と発光
輝度にヒステリシス特性をモリー持たないものについて
説明したが、ヒステリシス特性を持つ薄膜位L表示装置
においても駆動回路1 1からの供給電圧を維持電圧、
書込み電圧、消去電圧、中間調書込み電圧、光書込み電
圧或いは議出し電圧の1/2に変化させれば、維持駆動
モード、書込み駆動モード、消去駆動モード、中間調書
込み駆動モード、光書込み駆動モード、或し、は読出し
駆動モードすることができる。
In the above embodiments, the thin film EL display device has been described as having no hysteresis characteristic in applied voltage and luminance. However, even in a thin film EL display device having hysteresis characteristic, the supply voltage from the drive circuit 11 is changed to the maintenance voltage. ,
If you change the write voltage, erase voltage, halftone write voltage, optical write voltage, or 1/2 of the start voltage, you can select sustain drive mode, write drive mode, erase drive mode, halftone write drive mode, optical write drive mode. , or can be in read drive mode.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は二重絶縁型薄膜EL表示装置の構成図、第2図
は本発明の一実施例の駆動回路の回路図、第3図は第2
図の装置の動作を説明するタイムチャート、第4図は本
発明の装置を説明する等価回路図、第5図は電圧一輝度
特性図を示す。 1川ま薄膜EL表示装置、11は駆動回路、13はデー
タ側スイッチング回路、14は走査側スイッチング回路
。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図
FIG. 1 is a block diagram of a double-insulated thin film EL display device, FIG. 2 is a circuit diagram of a drive circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 shows an equivalent circuit diagram explaining the device of the present invention, and FIG. 5 shows a voltage-luminance characteristic diagram. 1 is a thin film EL display device, 11 is a drive circuit, 13 is a data side switching circuit, and 14 is a scanning side switching circuit. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 EL層の両面に誘電体層を設け、該両誘電体層の両
表面に互いに直交する方向にマトリツクス状に電極を形
成した薄膜EL表示装置の駆動回路において、 上記電
極の一方を走査ラインとし、他方をデータラインとして
、上記走査ラインとデータラインのそれぞれに接続され
た、上記ライン毎に選択的にオン・オフされ、オン時に
上記ラインを共通のアース点に接続し、オフ時は上記ア
ース点への接続を開放する、同じ導電型のスイツチング
素子を有し、上記ラインへの電圧供給と上記各スイツチ
ング素子のオン・オフ制御とにより、データライン側の
電位を引き上げて任意の選択されたライン交点に発光閾
値以上の書込み電圧を印加するスイツチング回路を備え
、 該スイツチング回路を共用し、順次走査が一フイー
ルド終了した後、上記走査ライン側への電源供給と上記
両スイツチング回路の各スイツチング素子のオン・オフ
制御により、全交点に上記書込み電圧とは逆極性のリフ
レツシユパルス電圧を印加する回路を構成してなること
を特徴とする薄膜EL表示装置の駆動装置。
1. In a drive circuit for a thin film EL display device in which dielectric layers are provided on both sides of an EL layer, and electrodes are formed in a matrix in directions perpendicular to each other on both surfaces of both dielectric layers, one of the electrodes is used as a scanning line. , the other is connected to the scanning line and the data line, and each of the above lines is selectively turned on and off, and when on, the above lines are connected to a common ground point, and when off, the above ground is connected to the above ground point. It has a switching element of the same conductivity type that opens the connection to the data line, and by supplying voltage to the line and controlling the on/off of each switching element, the potential on the data line side is raised and an arbitrary selected value is reached. A switching circuit is provided to apply a write voltage equal to or higher than a light emission threshold to a line intersection, and the switching circuit is shared, and after one field of sequential scanning is completed, power is supplied to the scanning line side and each switching element of both switching circuits is connected. 1. A driving device for a thin film EL display device, comprising a circuit that applies a refresh pulse voltage having a polarity opposite to the write voltage to all intersection points by on/off control of the EL display device.
JP1363077A 1976-07-30 1977-02-10 Drive device for thin film EL display device Expired JPS6010632B2 (en)

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GB40828/79A GB1590344A (en) 1976-07-30 1977-07-29 Thin-film electroluminescent matrix display apparatus
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