JPS60101619A - 濃度制御装置 - Google Patents
濃度制御装置Info
- Publication number
- JPS60101619A JPS60101619A JP20942183A JP20942183A JPS60101619A JP S60101619 A JPS60101619 A JP S60101619A JP 20942183 A JP20942183 A JP 20942183A JP 20942183 A JP20942183 A JP 20942183A JP S60101619 A JPS60101619 A JP S60101619A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- concentration
- liquid level
- detector
- water
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D21/00—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value
- G05D21/02—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value characterised by the use of electric means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は溶液の導電率を利用する濃度制御装置に関する
。
。
従来、原液と水とを混合してD「定濃度を有する溶液に
調合する場合に、この調合作菓械現場作ケこ貝の手作業
によって行なわれていた。%VC第1次産業の分野にお
ける調合作業の手作業への依存度は著しいものであった
。ところが、調合作業を作業員が行なうとなると、常に
溶液の減シ具合を監視し、所定量以下なる前に該溶液を
14合すべく補充する必要があった。しかし、この調合
作業には作業員の勘と経験を要求されるという困難を伴
ない、またこのように困難を伴なう割には、溶成の棧度
にバラツキがあるなど、溶液濃度を梢度よくコントロー
ルすることができないという欠点をゼしていた。
調合する場合に、この調合作菓械現場作ケこ貝の手作業
によって行なわれていた。%VC第1次産業の分野にお
ける調合作業の手作業への依存度は著しいものであった
。ところが、調合作業を作業員が行なうとなると、常に
溶液の減シ具合を監視し、所定量以下なる前に該溶液を
14合すべく補充する必要があった。しかし、この調合
作業には作業員の勘と経験を要求されるという困難を伴
ない、またこのように困難を伴なう割には、溶成の棧度
にバラツキがあるなど、溶液濃度を梢度よくコントロー
ルすることができないという欠点をゼしていた。
本発明は軟土の欠点を解消するためになされたもので、
溶液の調合時に溶液の導電率が変゛化すること、および
液面が上昇することにXt目してなされたもので、所定
の濃度および液面を基準として、該基準値と実際の濃度
及び液面とを比較してこれらを制御するように構成した
点に特徴を有している0 〔発明の実施例〕 以下第1図および82図に示す実施例に基づき本発明を
説明する。図中、(1)は原液(2)を貯留する原液槽
、(81は原液@ (1)の原液(2)を溶液槽+41
に給送する第1のポンプ、(6)は水(6)を貯留する
水槽、(7)は水(0)を上記溶液槽(4)に給送する
第2のポンプ、(8)は上記各種(1) 、 (51か
ら給送された原液(2)および水(6)を攪拌する攪拌
機、(9)は上記溶液の導電率を介して濃度を検出する
濃度検出器、(助は該溶液の液面を検出する液面検出器
、 (111は溶液の濃度および液面の各検出値と、予
め設定された目標値とから溶液濃度および液面をコント
ロールする演算処理i構を備えた制御装置である。
溶液の調合時に溶液の導電率が変゛化すること、および
液面が上昇することにXt目してなされたもので、所定
の濃度および液面を基準として、該基準値と実際の濃度
及び液面とを比較してこれらを制御するように構成した
点に特徴を有している0 〔発明の実施例〕 以下第1図および82図に示す実施例に基づき本発明を
説明する。図中、(1)は原液(2)を貯留する原液槽
、(81は原液@ (1)の原液(2)を溶液槽+41
に給送する第1のポンプ、(6)は水(6)を貯留する
水槽、(7)は水(0)を上記溶液槽(4)に給送する
第2のポンプ、(8)は上記各種(1) 、 (51か
ら給送された原液(2)および水(6)を攪拌する攪拌
機、(9)は上記溶液の導電率を介して濃度を検出する
濃度検出器、(助は該溶液の液面を検出する液面検出器
、 (111は溶液の濃度および液面の各検出値と、予
め設定された目標値とから溶液濃度および液面をコント
ロールする演算処理i構を備えた制御装置である。
第2図は原液(2)と水(6)との調合動作を示す原理
図である。原液(2)および水(6)が補充される前に
おける溶液4!14)内の溶液の初期製置および初期容
絃をそれぞれρ。、Voとする。該溶液に纜駄(ρ工)
の原液(2)がQよ一/ seaの割合でΔq工補充さ
れ、水(6)がQ、 v? / seaの流速でΔ知補
充され、を秒後ることを示している0 次に、上記動作の制御原理について説明すると、上記初
期状態からt秒後における上記浴液槽(4)の溶液濃度
ρ(1)および容量V (t)は次式で示されるOv
(t)= v 0+10ci工at、 + 10c4w
at ・・−■また、を秒後の溶液濃度ρ(1)の解昧
一般に次式で示される。
図である。原液(2)および水(6)が補充される前に
おける溶液4!14)内の溶液の初期製置および初期容
絃をそれぞれρ。、Voとする。該溶液に纜駄(ρ工)
の原液(2)がQよ一/ seaの割合でΔq工補充さ
れ、水(6)がQ、 v? / seaの流速でΔ知補
充され、を秒後ることを示している0 次に、上記動作の制御原理について説明すると、上記初
期状態からt秒後における上記浴液槽(4)の溶液濃度
ρ(1)および容量V (t)は次式で示されるOv
(t)= v 0+10ci工at、 + 10c4w
at ・・−■また、を秒後の溶液濃度ρ(1)の解昧
一般に次式で示される。
ρ(t) =A @ + Q ・・・■ここで上記0式
を微分すると■′ 式になる。
を微分すると■′ 式になる。
ρ′(t)v(t)+ρ(t)v′、(t)=ρ工Qx
・・・■′また、上記0式を微分すると01式が得られ
る0”(”)−QIX +Qw@ 11・■I■′式に
01式を代入すると次の0式となる。
・・・■′また、上記0式を微分すると01式が得られ
る0”(”)−QIX +Qw@ 11・■I■′式に
01式を代入すると次の0式となる。
・・・■
0式と0式とから0式のkおよび0をめるとが得られる
。然して■、■式を0式に代入してp (t)をめると
次のの式が得られる。
。然して■、■式を0式に代入してp (t)をめると
次のの式が得られる。
の式を基準にして、高濃度液をΔq工だけ上記溶液槽(
4)に加えた時、つまり1=1.におけるρ(t工)を
めると、 このときの導電率の変化分はΔp(t)=ρ(t、)−
ρ(1)となる。さらに水を19w加えたときの導電率
をp(t、)とすると ρ(t、) = p(t工)−Δρ(1)となる。また
p(t、)と上記の式の関係をみると、I4x+%’
w 中J q x 中a qwとなり、これから追加承
知゛Δqwをめると次式が得られる。
4)に加えた時、つまり1=1.におけるρ(t工)を
めると、 このときの導電率の変化分はΔp(t)=ρ(t、)−
ρ(1)となる。さらに水を19w加えたときの導電率
をp(t、)とすると ρ(t、) = p(t工)−Δρ(1)となる。また
p(t、)と上記の式の関係をみると、I4x+%’
w 中J q x 中a qwとなり、これから追加承
知゛Δqwをめると次式が得られる。
ここで、一般に13秒後の方がt□秒後より設定濃度に
近いと理解されるからρ(1,) > p(1□)とな
る〇 一方、初期条件p (0) =ρ。V (O) = V
oであることから、上記0式におけるtユニ0とし、
t2=tと仮定すると、初期条件における浴液槽(4)
に追加する水量は となる。また、原液(2)をΔqI追加した後、追加す
る水量(Δq、/ ) は、 となる。また追加する原液(2)と水(4)の秘量、つ
まシ追加可能tをTとするとΔq 、/ +Δq□=T
となり、 jfq工およびΔq、’ u次式で表現さ
れる0ここで、上記■、[相]式におけるρ。lは測定
値、p(t;)は設定濃度を示すものとする0 また、上記溶液槽(4)の&面の表面積をBd、任意の
時間(1)における液面高さをh (t) (、)とす
ると、v (t)= B x h (t) ・・・@な
る関係が成立する。fた液面高さの設定値をh(−1)
とするとv=shとなる0然して上記■、[相]式とり
式には次の関係が成立する0なお、(1十Vo)は任意
の時間(1)における液面高さと解される0よって次式
が得られる。
近いと理解されるからρ(1,) > p(1□)とな
る〇 一方、初期条件p (0) =ρ。V (O) = V
oであることから、上記0式におけるtユニ0とし、
t2=tと仮定すると、初期条件における浴液槽(4)
に追加する水量は となる。また、原液(2)をΔqI追加した後、追加す
る水量(Δq、/ ) は、 となる。また追加する原液(2)と水(4)の秘量、つ
まシ追加可能tをTとするとΔq 、/ +Δq□=T
となり、 jfq工およびΔq、’ u次式で表現さ
れる0ここで、上記■、[相]式におけるρ。lは測定
値、p(t;)は設定濃度を示すものとする0 また、上記溶液槽(4)の&面の表面積をBd、任意の
時間(1)における液面高さをh (t) (、)とす
ると、v (t)= B x h (t) ・・・@な
る関係が成立する。fた液面高さの設定値をh(−1)
とするとv=shとなる0然して上記■、[相]式とり
式には次の関係が成立する0なお、(1十Vo)は任意
の時間(1)における液面高さと解される0よって次式
が得られる。
(但し8゜、hoは初期値とする)
ここで、Δq工〉0のとき、原液(2)が給送されるこ
とになるから上記第1ボング(81はONとなり、逆に
、irqよ≦0となれば該ポンプ(8)はOFFとなり
、これと同様にΔ知′〉0に対し第2ポンプ(7)ld
olJ。
とになるから上記第1ボング(81はONとなり、逆に
、irqよ≦0となれば該ポンプ(8)はOFFとなり
、これと同様にΔ知′〉0に対し第2ポンプ(7)ld
olJ。
Δ知′≦ 0に対し該ポンプ(7)はOFFと々るよう
上記制御装置αυによって制御される。
上記制御装置αυによって制御される。
なお、本実施例装置では、溶液の礎箪率および液面高さ
による溶液のa度制御装置について説明したが、他の因
子、例えば供給液の流上による制御を行なっても同効を
葵し得られる。また原液および水の給送にポンプを用い
たが、他の手段例えば電磁パルプを組み合わせた給送設
備であってもよい。さらに、0N10FF制御に代え流
−31積算制御を行なっても同効を奏し得られる。
による溶液のa度制御装置について説明したが、他の因
子、例えば供給液の流上による制御を行なっても同効を
葵し得られる。また原液および水の給送にポンプを用い
たが、他の手段例えば電磁パルプを組み合わせた給送設
備であってもよい。さらに、0N10FF制御に代え流
−31積算制御を行なっても同効を奏し得られる。
また制御装置の他スケジュラ−などを組み合わ容赦の液
面高さを途次検出し、これらの検出値と目標設定値と比
較することによって浴液槽の浴准濃夏および液面高さを
制御することができる。
面高さを途次検出し、これらの検出値と目標設定値と比
較することによって浴液槽の浴准濃夏および液面高さを
制御することができる。
第1図は本発明の一実施例装置の構成を示す概念図、第
2図は第1図に示す装置の動作説明図でめる0 (1)・・原液槽 (2)・・原液 (8)・・第1のポンプ 14+ @・浴液槽(5)・
・水槽 (6)・−水 (7)・・第2のポンプ (9)・・濃度検出器側−拳
液面検出器 Oll・・制御装置代理人大岩増雄 第1図 第2図
2図は第1図に示す装置の動作説明図でめる0 (1)・・原液槽 (2)・・原液 (8)・・第1のポンプ 14+ @・浴液槽(5)・
・水槽 (6)・−水 (7)・・第2のポンプ (9)・・濃度検出器側−拳
液面検出器 Oll・・制御装置代理人大岩増雄 第1図 第2図
Claims (2)
- (1)第1液および第2液が個別に供給される矩形状の
溶液槽内に、上記いずれかの液濃度を検出する濃度検出
器と、上記2液からなる溶液の液面を検出する液面検出
器とを設置するとともに、これら各検出器による検出値
と、上記各検出値に対応して予め0定された目標値とを
比較し、該比較値に基づき上記6液の供給量を制御する
制御装fを配設したことを49徴とする濃度制御装置。 - (2)上記@度検出器として導電率測定器を設けたこと
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の濃度制御装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20942183A JPS60101619A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 濃度制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20942183A JPS60101619A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 濃度制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60101619A true JPS60101619A (ja) | 1985-06-05 |
Family
ID=16572589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20942183A Pending JPS60101619A (ja) | 1983-11-07 | 1983-11-07 | 濃度制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60101619A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0698728A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-12 | Nakamura Kinzoku Kogyosho:Kk | 糖度調整用連続混合装置 |
-
1983
- 1983-11-07 JP JP20942183A patent/JPS60101619A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0698728A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-12 | Nakamura Kinzoku Kogyosho:Kk | 糖度調整用連続混合装置 |
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