JPS5981161A - Selective light transmitting film - Google Patents

Selective light transmitting film

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Publication number
JPS5981161A
JPS5981161A JP57190717A JP19071782A JPS5981161A JP S5981161 A JPS5981161 A JP S5981161A JP 57190717 A JP57190717 A JP 57190717A JP 19071782 A JP19071782 A JP 19071782A JP S5981161 A JPS5981161 A JP S5981161A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
laminated
layer
thickness
conductive
Prior art date
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Pending
Application number
JP57190717A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
鈴木 将夫
新宮 公
西原 利雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5981161A publication Critical patent/JPS5981161A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は選択光透過性(ここで言う光とは可視光線は勿
論、紫外線および赤外線を含めたすべてを指す。)また
は導電性多層シート材に関する。更に詳しくは、選択光
透過性または導電性フィルムおよびそれを用いて作製さ
れた予備成層さゎえ自6−i持性ユ撓性積層構造体、関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to selectively transparent (light here refers to all visible light, including ultraviolet and infrared light) or conductive multilayer sheet materials. More particularly, the present invention relates to a selectively transparent or electrically conductive film and a pre-layerable, self-sustaining, flexible laminate structure made using the same.

熱線反射フィルムや日照調整フィルムに代表される選択
光透過性フィルムは建物の窓等に適用して冷暖房エネル
ギー節約を目的として近年精力的に研究開発が行なわれ
ている。米国特許第4i166,876号、同第4,2
26,910号および同第4,234,654号にはこ
のような選択光透過性フィルムが開示されている。
BACKGROUND ART In recent years, selective light transmitting films, such as heat ray reflective films and solar control films, have been actively researched and developed in order to save energy for heating and cooling by applying them to windows of buildings. U.S. Patent No. 4i166,876, U.S. Patent No. 4,2
No. 26,910 and No. 4,234,654 disclose such selective light transmitting films.

さらに、米国特許第3.718,535号では、可撓性
プラスチックフィルムを例えばガラスもしくはポリメチ
ルメタクリレートなどの硬い透明絶縁板の間に挟んだ積
層体として安全ガラス型(jり成をとらせることにより
、窓、航空機の天蓋。
Furthermore, in U.S. Pat. No. 3,718,535, a flexible plastic film is prepared in a safety glass mold (i.e., by forming a laminate between hard transparent insulating plates such as glass or polymethyl methacrylate). Windows, aircraft canopy.

風除はガラスなどの破砕抵抗を著しく高め得ることは公
知である旨指摘している。そして更に、片面または両面
に導電性金属薄膜を有するフィルムなik Nすること
により安全ガラス型構成体を導電性とすることによって
安全ガラス型箱取り装置とすることも提案されている。
It is pointed out that it is known that windbreaks can significantly increase the crushing resistance of glass and the like. Furthermore, it has been proposed to make a safety glass type boxing device by making the safety glass type structure electrically conductive by applying a film having a conductive metal thin film on one or both sides.

米国特許第3.7 ’18,535号、同第3.8 i
 6.201号、同第3.962,488号および同第
4.1117,661号にはこのような安全ガラス型1
゛d取り装置が開示されている。また、英国特許公告第
1,586,889号や特開昭56−32352号には
熱線反射フィルムを用いて安全ガラス型構成体にするこ
とが提案されている。
U.S. Patent No. 3.7 '18,535, U.S. Patent No. 3.8 i
No. 6.201, No. 3.962,488 and No. 4.1117,661 contain such safety glass molds 1.
A d removal device is disclosed. Further, British Patent Publication No. 1,586,889 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 56-32352 propose using a heat ray reflective film to form a safety glass type structure.

ところで、安全ガラス型構成体の中に熱線反射能2日照
調整能または導゛亀能などの機能を付与した機能性フィ
ルムを積層して機能性を有する安全ガラスm構成体を作
る除には当該フィルムの存在によって破砕抵抗が低下し
ないことが必要であり、更にはそれによって外観が損な
われないことが必要である。
By the way, there is no way to create a functional safety glass structure by laminating a functional film with functions such as heat ray reflection ability, solar control ability, or light guiding ability in a safety glass structure. It is necessary that the presence of the film does not reduce the crushing resistance, and furthermore it is necessary that the appearance is not impaired thereby.

本発明者らは、上記目的達成のため鋭意研究の結果、該
機能性フィルムのヘースフ・イルムの厚さを薄くするこ
とにより、機能性7・イルムが存在しても安全ガラス型
構成体の破砕抵抗の低下を来たさず、更には曲面合せガ
ラスに適用したときフィツト性が良くなることを見出し
たが、ベースフィルムの厚み力を小さくなるとTfE4
Jj成体の中でフィルムにシワが発生するために安全ガ
ラス型構成体の透視性が悪化し、反射像の歪みが生じ、
外観が急くなり、かくて該4′1#成体の商品価値が下
がることがわかった。そこで本発明者らは、この外観の
悪化をもたらさない機能性フィルムを得るべく種々研究
した結果、本発明に到達したのである。
As a result of intensive research to achieve the above object, the present inventors have found that by reducing the thickness of the functional film, the glass-type structure can be safely broken even in the presence of the functional film. It was found that the resistance did not decrease and the fit was improved when applied to curved laminated glass. However, when the thickness of the base film was reduced, TfE
Wrinkles occur in the film in the Jj adult, which deteriorates the transparency of the safety glass type structure and causes distortion of the reflected image.
It was found that the appearance became abrupt, thus reducing the commercial value of the 4'1# adults. Therefore, the present inventors conducted various studies in order to obtain a functional film that does not cause this deterioration in appearance, and as a result, they arrived at the present invention.

発明の要約 本発明により、下口己構成の選択光透過性または導電性
フィルム(以後、しばしば槻1jヒ化フィルムと称する
)が得られる;即ち (1)  厚さが125μmより小さい透明高分子フィ
ルムからなる支持フィルム、および (2)該支持フィルムの片面もしくは両面に担持された
選択光透過性または導電性薄膜であり、かつ、本機能化
フィルムの熱収縮率は次式を満たす: 4.4≧E≧0.00028 X (d −128)”
d<125 さらに、本発明により、2つの次元(すなわち、長さと
実質的に厚さ以上の幅)ではy決り、外表面が平らでで
こぼこのない場合は透明な、予備成形された自己支持性
可撓性fiit161構造体が得られその構成は次の如
くである: (1)  既述の選択光透過性または導電性フィルム(
すなわち機能化フィルム)、および (11)  該支持フィルム上の上記選択光透過性また
は導電性薄膜面に付着し、この付着面と反対側のブラン
ク面が外面となっている、厚さo、001 mm〜1間
の第1の眉間フィルム、そして、 (曲 該積層構造体は硬い透明層に挟んで更に積層して
安全ガラス型構造体が作れるようになっている。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a self-contained selectively transparent or conductive film (hereinafter often referred to as arsenide film) is obtained; namely: (1) a transparent polymeric film having a thickness of less than 125 μm; and (2) a selectively transparent or conductive thin film supported on one or both sides of the support film, and the thermal shrinkage rate of the functionalized film satisfies the following formula: 4.4 ≧E≧0.00028 X (d −128)”
d<125 Additionally, the present invention provides a preformed self-supporting material that is defined in two dimensions (i.e., length and width substantially greater than thickness) and is transparent when the outer surface is flat and free of irregularities. A flexible fiit161 structure is obtained and its composition is as follows: (1) The selectively transparent or conductive film described above (
(i.e., a functionalized film), and (11) a film having a thickness of o, 001, which is attached to the surface of the selectively transparent or conductive thin film on the support film, and the blank surface opposite to this attachment surface is the outer surface. The laminated structure is sandwiched between hard transparent layers and further laminated to form a safety glass type structure.

本発明の選択光透過性または導電性フィルムは熱をかけ
ると収縮する性質を持ち、予備成形された自己支持性可
撓性積層構造体を経由してであれ、あるいは各々独立の
状態であれ、安全ガラ7、型構成体の作製に用いられた
場合に良好なる破砕抵抗性とすぐれた外観とを約束する
も  ゛のである。
The selectively transparent or conductive film of the present invention has the property of shrinking upon application of heat, whether via a preformed self-supporting flexible laminate structure or individually. The safety glass 7 also promises good crush resistance and an excellent appearance when used in the production of mold structures.

本発明の1つである予備成形された自己支持性可撓性積
層構造体は、上記の各種利点を約束するとともに、安全
ガラス型構成体を作製するにおいて非常に便利な中間段
階の製品である。
The preformed self-supporting flexible laminate structure of the present invention promises the above-mentioned advantages and is a very convenient intermediate step in the production of safety glass-type constructions. .

本発明のいろいろな利点は、以下に述べる詳細な説明と
付記した図(実物の正確な縮尺ではない)によって一層
明らかとなる;なお図1は本発明の1実施例にしたがっ
て作製した選択光透過性または導電性フィルムの断面図
で、図2は本発明の1実施例にしたがって作製した予備
成形された自己支持性可碗性積Ai1構造体の断面図で
ある。
The various advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description and accompanying figures (not to scale); FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view of a preformed self-supporting potable area Ai1 structure made in accordance with one embodiment of the present invention.

図1には、選択光透過性または導電性薄膜2が支持フィ
ルムの表面に付着している状態が示しである。図1に示
した薄膜2は金属層3と誘電体層4とからなる2層型で
ある。
FIG. 1 shows a selectively transparent or electrically conductive thin film 2 attached to the surface of the support film. The thin film 2 shown in FIG. 1 is of a two-layer type consisting of a metal layer 3 and a dielectric layer 4.

選択光透過性薄膜または導電性薄膜については今までに
数多くの提案がなされている。古くは1953年にW、
H,Co1bertらがVacuum  3 。
Many proposals have been made regarding selective light transmitting thin films or conductive thin films. W in the old days in 1953,
Vacuum 3 by H. Colbert et al.

375に提案した、金属を酸化アルミニウム層で挟んだ
サンドイッチ構造のものにさかのぼることが出来、それ
以来上記サンドイッチ構造に限らず、金属層ただ一層だ
け、あるいは金属層と誘電体層を組合せた種々のタイプ
が提案されて来た。
This can be traced back to the sandwich structure in which a metal is sandwiched between aluminum oxide layers, which was proposed in 375. Since then, various structures have been developed, not only the sandwich structure described above but also a single metal layer or a combination of a metal layer and a dielectric layer. A type has been proposed.

また、インジウム・錫・酸化物に代表される金属酸化物
層はその層のみで選択光透過性薄膜ともなり得るし、ま
た導電性被膜ともなり得るものであって、かかる金属酸
化物層についても種々提案されて来た。
In addition, a metal oxide layer such as indium, tin, or oxide can be used as a thin film that transmits selective light by itself, or as a conductive film. Various proposals have been made.

これらの被膜の厚さは一般的に云って50A〜5,00
0 Aである。本発明は一般的にはかかるすべてのタイ
プの選択光透過性もしくは2#電性被膜を包含するもの
である。しかしながら、本発明者らの研究によれば以下
の如きものが望ましい;例えば:金、銀、絹、アルミニ
ウム。
The thickness of these coatings generally ranges from 50A to 5,00A.
It is 0A. The present invention generally encompasses all such types of selectively transparent or 2# conductive coatings. However, according to our research, the following are desirable; for example: gold, silver, silk, aluminum.

ニッケル、クロム、パラジウム、錫およびこれらの合金
、あるいは混合物の薄膜単独、またはこれらの金属の薄
膜の片面または両面に誘′α体層を横1テしたものが挙
げられる。かかる誘電体層としては例えば、チタン酸化
物、ビスマス酸化物、硫化亜鉛、タングステン酸化物、
インジウム酸化物、ジルコニウム酸化物、珪素酸化物等
が誉げられる。さらに上記金J、4 wIの片面または
両面KTi 、 Zr、 St 、 C等の厚さ5X〜
50Xの保護層を設けることも出来る。
Examples include a thin film of nickel, chromium, palladium, tin, alloys thereof, or mixtures thereof, or a thin film of these metals with a dielectric layer on one or both sides. Such dielectric layers include, for example, titanium oxide, bismuth oxide, zinc sulfide, tungsten oxide,
Indium oxide, zirconium oxide, silicon oxide, etc. are praised. Furthermore, one side or both sides of the above-mentioned gold J, 4 wI, thickness 5X ~ of KTi, Zr, St, C, etc.
A 50X protective layer can also be provided.

該選択光透過性または導電性フィルムが建物窓、車輌窓
等に用いられる安全ガラスに利用される場合には、本来
の窓の明るさな失うことなくしかも熱線反射能2日照鯛
整能を高度に具備せねばならないため、金、候、銅、ニ
ッケル。
When the selective light-transmitting or conductive film is used for safety glass used in building windows, vehicle windows, etc., it can be used to improve the heat ray reflection ability of the window without losing the original brightness of the window. gold, silver, copper, and nickel.

クロムの金属または合金の薄膜の片面もしくは両面に酸
化チタン、酸化ビスマス、酸化タングステン、酸化イン
ジウム、酸化ジルコニウム。
Titanium oxide, bismuth oxide, tungsten oxide, indium oxide, zirconium oxide on one or both sides of a thin film of chromium metal or alloy.

酸化珪素からなる群より選ばれた1桶または2挿以上の
混合物層を積層した系が好んで用いられる。特に、41
:輌窓に使用される安全ガラスは可視光透過率が70係
以上必要であり、かつ高度の熱砂反射能1臼照調整能の
具備に加え、高度の選択光透過性が要求されている。
A system in which one or more layers of a mixture selected from the group consisting of silicon oxide are laminated is preferably used. In particular, 41
: Safety glass used for vehicle windows must have a visible light transmittance of 70 coefficients or higher, and in addition to having a high degree of thermal sand reflection and light adjustment ability, it is also required to have a high degree of selective light transmittance.

そのためには銀、金、銅の群より選ばれた金hiまたは
それらの合金の薄膜の片面または両面に酸化チタン、酸
化タングステン、酸化インジウム、酸化ジルコニウムの
群より選ばれた1 141iまたは2個以上の混合物の
I圃を積層した系が特に好ましく選択される。
For this purpose, 1141i or more selected from the group of titanium oxide, tungsten oxide, indium oxide, and zirconium oxide are coated on one or both sides of a thin film of gold hi selected from the group of silver, gold, and copper or an alloy thereof. A system in which I-fields of a mixture of the above are laminated is particularly preferably selected.

これらのうちでも特に、上記の系の金属層の片面もしく
は両面が、チタンまたはジルコニウムの形で沈着した層
で保護された系が更に好ましく選択される。
Among these, systems in which the metal layer of the above-mentioned systems is protected on one or both sides with a layer deposited in the form of titanium or zirconium are more preferably selected.

本発明においては上記の選択光透過性または導電性被膜
は特定の性質を有する透明高分子フィルム例えばポリエ
チレンテレフタンートフイルムの如き支持フィルムに担
持されている。上記特定の性質とは、上記支持フィルム
が、機能化フィルムの形で測定された場合に、その厚さ
と熱収縮率の関係において次式を満足することをいう: 4.4≧E≧0.00028 X (d −128)!
d(125 上記効果を発現するに更に好ましい範囲は次式で表わさ
れる範囲である: 3.9≧E≧0.0O028X(d−130)’d(1
25 」二記の9件を満足する選択光透過性または導電性フィ
ルムを用いて作成された安全ガラス型構成体は以下述べ
るような驚くべき効果を発現する: (1)機能化フィルムが薄いために破砕抵抗が低下しな
℃・。
In the present invention, the selectively transparent or conductive coating described above is supported on a support film such as a transparent polymer film having specific properties, such as a polyethylene terephthanate film. The above-mentioned specific property means that the support film, when measured in the form of a functionalized film, satisfies the following formula in the relationship between its thickness and heat shrinkage rate: 4.4≧E≧0. 00028 X (d -128)!
d(125 A more preferable range for achieving the above effect is a range expressed by the following formula: 3.9≧E≧0.0O028X(d-130)'d(1
Safety glass-type structures made using selectively transparent or conductive films that satisfy the nine conditions listed in Section 2 of 25 exhibit the following surprising effects: (1) Because the functionalized film is thin. The crushing resistance decreases at ℃・.

(2)  機能化フィルムが適度の熱収縮率を持ってい
るため、層間フィルムおよび硬い透明層を組合せて安全
ガラス型構成体を作製する際に必然的に発生する微小な
シワが該構成体の製造栄件下(例えば、層間フィルムが
ポリビニルブチラールフィルムの場合、90〜150℃
、5〜20kg/d、lo分〜1時間)での機能化フィ
ルムの収縮により消失してしまう。
(2) Because the functionalized film has a moderate heat shrinkage rate, the minute wrinkles that inevitably occur when creating a safety glass-type construct by combining an interlayer film and a hard transparent layer will be avoided in the construct. Under manufacturing conditions (for example, if the interlayer film is a polyvinyl butyral film, 90 to 150°C
, 5-20 kg/d, lo minutes to 1 hour) and disappear due to shrinkage of the functionalized film.

上記の如く、本・発明の一つの大きな特徴は、選択光透
過性または導電性フィルムが熱収縮性を有することであ
るが、熱収縮が大き過ぎると安全ガラス型積層体を作っ
たときに余りにも大きく収珊してしまい、かえって選択
光透過性または導電性被膜を破壊してしまう。
As mentioned above, one of the major features of the present invention is that the selectively transparent or conductive film has heat shrinkability, but if the heat shrinkage is too large, it will be too difficult to make a safety glass type laminate. Also, the aphrodisiacs will be greatly astringent, and the selective light transmittance or conductive coating will be destroyed.

かかる選択光透過性または導電性フィルムは、例えば、
高々5チの熱収縮率を有し、かつ好ましくは機能化フィ
ルムについての前記の式を満足するものであり、2軸配
向ポリエチレンテレフタレートフイルムの如き支持フィ
ルムの上に、米国特許第3,698,946号、同第3
,962,488号、同第4,017,661号、同@
 4,166,876号。
Such selectively transparent or conductive films may include, for example,
U.S. Pat. No. 946, No. 3
, No. 962,488, No. 4,017,661, @
No. 4,166,876.

同第4,234,654号、英国特許第1,230,4
25号、同第1,364.712号、欧州特許公告(E
uropean Patent Publicatio
n ) A635906に開示された如き物理蒸着法お
よび/または混式コーティング法により金属層および/
または誘電体層を適当な組合せで形成することにより製
造することが出来る。
British Patent No. 4,234,654, British Patent No. 1,230,4
No. 25, No. 1,364.712, European Patent Publication (E
european patent publication
n) applying the metal layer and/or by physical vapor deposition and/or mixed coating methods as disclosed in A635906;
Alternatively, it can be manufactured by forming dielectric layers in an appropriate combination.

この際、支持フィルムは熱収縮性を有しているので、機
能化フィルム製造の途中または芽lI造後に支持フィル
ムが長時間高温にさらされないようKする必要がある。
At this time, since the support film has heat shrinkability, it is necessary to protect the support film from being exposed to high temperatures for a long period of time during or after production of the functionalized film.

前記した好ましいフィルム構成はこれの製造の容易性の
点からも本発明の好ましい態様である。
The preferred film configuration described above is a preferred embodiment of the present invention also from the viewpoint of ease of manufacture.

本発明によって得られる選択光透過性または導電性フィ
ルムの用途については伺ら制限はないが、その4f徴か
らいって特開昭8l−1009R8号、同81−120
548号に開示された如ぎ展張窓や前述の如き安全ガラ
ス屋構成体、特に後者の構成体に利用するのが特に適し
、ている。上記フ1ルムを用いて安全ガラス型槽成体を
作るには、上記フイルノ・1層間フィルム、および硬い
透明層をそれぞれ独立の状態で組合わせてもよいが、製
造の便宜上からあらかじめ上記フ・イルムと層間フィル
ムを重ね合わせて一体化して予備成形された自己支持性
可撓性積層構造としておくことが好ましい。そこで本発
明の第2の点すなわち予備成形された自己支持性可撓性
積層構造体につき以下説明する。
Although there are no limitations on the use of the selective light transmitting or conductive film obtained by the present invention, the 4F characteristics suggest that
It is particularly suitable for use in expansion windows such as those disclosed in '548 and safety glazier constructions such as those described above, particularly the latter construction. In order to make a safety glass type tank assembly using the above film, the above film/interlayer film and the hard transparent layer may be combined independently, but for convenience of manufacturing, the above film/film may be used in advance Preferably, the preformed self-supporting flexible laminate structure is formed by laminating and integrating the interlayer film and the interlayer film. The second aspect of the present invention, namely the preformed self-supporting flexible laminate structure, will now be described.

図2には、選択光透過性または導電性フィルム5と、j
ず01t1フィルム10.10’が支持フィルム6の選
択光透過性または導電性薄膜7 (1!lに付着してい
るのが示しである。
FIG. 2 shows a selectively transparent or conductive film 5,
The film 10.10' is shown attached to the selectively transparent or conductive thin film 7 (1!l) of the support film 6.

図2に記賊された態様は本発明の一態様でより多層化さ
れた系を示すものであるが、言うまでもなく本発明はこ
れに限だされるものではない。図2における選択光透過
性または導電性フィルム5は、前述の支持フィルム6の
上に金属層8と誘電体層9からなる選択光透過性または
導′社性薄膜7を設けたものである。そしてこの選択光
透過性または導電性フィルム5はその両面を層間フィル
ムlOと10′でサンドインチされている。そして接着
層11が層間フィルム10′と支持フィルム6との接着
性を確実にするためこの間に設けられている。
Although the embodiment shown in FIG. 2 is one embodiment of the present invention and shows a more multilayered system, it goes without saying that the present invention is not limited to this. The selectively transparent or conductive film 5 shown in FIG. 2 has a selectively transparent or conductive thin film 7 made of a metal layer 8 and a dielectric layer 9 on the support film 6 described above. The selectively transparent or conductive film 5 is sandwiched between interlayer films 10 and 10' on both sides. An adhesive layer 11 is provided between the interlayer film 10' and the support film 6 to ensure adhesion therebetween.

層間フィルムとしては、従来安全ガラスの技術分野で公
知のもの例えば米国特許第3.718,535号にある
ポリビニルブチラールの如きものを用いることが出来る
。通常その厚さは0.01sna〜l顛であり、より好
ましくは0.1鶴〜0.9ynmである。
As the interlayer film, those conventionally known in the safety glass art, such as the polyvinyl butyral film disclosed in U.S. Pat. No. 3,718,535, can be used. Usually, the thickness is 0.01 nm to 1 nm, more preferably 0.1 nm to 0.9 ynm.

このl−間フイルムは低い熱収縮率を持っているのが好
ましくしかも直交する二方向のいづれ忙おいても熱収縮
率の小さいことが好ましい。
It is preferable that this l-space film has a low heat shrinkage rate, and it is also preferable that the heat shrinkage rate is low in either of the two orthogonal directions.

そして、好ましい熱収縮率の範囲は縦方向。The preferable range of heat shrinkage is in the longitudinal direction.

横方向のいづれについてもせいぜい約xo%止まりで、
更に好ましくは高々5チ、特に好ましくは3チ以下であ
る。
In both horizontal directions, it is only about xo% at most,
More preferably, it is at most 5 inches, particularly preferably 3 inches or less.

鋒通市販されている層間フィルム例えばポリビニルブチ
ラールフィルムはかなり大きな一方向熱収縮性を有し、
しかもそれに直交する方向は熱膨張をするという不均性
を有(−て℃・るので、本発明にそのま匁用いるのは好
ましくない。
Commercially available interlayer films, such as polyvinyl butyral films, have a fairly large unidirectional heat shrinkage.
Moreover, it has non-uniformity in that it undergoes thermal expansion in the direction perpendicular to it (-°C.), so it is not preferable to use the momme as it is in the present invention.

ポリビニルブチラールフィルムを本発明に用いるときは
、予め熱処理してその特性が前記条件を満足するよう改
良しておかねばならない。
When a polyvinyl butyral film is used in the present invention, it must be heat-treated in advance to improve its properties so that it satisfies the above conditions.

更に、ポリビニルブチラールフィルムを安全ガラスの層
間フィルムとして用いる隙には、その両面は例えば模様
付きに見えるようにするためエンボス加工が必ず施され
る。ところが本発明において用いられる層間フィルム例
えばポリビニルブチラールフィルムは、これを用いて安
全ガラス型宿成体を作る場合、選択光透過性または導電
性薄膜に付着させる片面または両面が、選択光透過性ま
たは導電性フィルムと一体化する前は原則として平坦で
でこぼこのないのカー好ましい。
Furthermore, when polyvinyl butyral film is used as an interlayer film for safety glass, both sides are necessarily embossed to give it a patterned appearance, for example. However, when the interlayer film used in the present invention, such as a polyvinyl butyral film, is used to make a safety glass type host, one or both sides attached to a selectively transparent or conductive thin film are selectively transparent or conductive. In principle, it is preferable that the surface be flat and free from irregularities before being integrated with the film.

もし平坦でないと、層間フィルム面のでこげこのために
選択光透過性または導電性薄膜に悪影響をもたらし、最
終的に形成される安全ガラス型構成体の外観を損うこと
になる。
If it is not flat, the roughness of the interlayer film surface will adversely affect the selective light transmission or conductive thin film and detract from the appearance of the ultimately formed safety glass type structure.

また、平坦ででこぼこがなけItば、2つのフィルムを
高温加圧下で積層1.たときに界面にオ6ける接着性が
高まるという利点がある。
If the film is flat and has no irregularities, the two films can be laminated under high temperature and pressure. This has the advantage that the adhesion at the interface increases when

図2に示すように、本発明は、選択光透過性または導電
性フィルムを第1同間フィルムlOと第2層間フィルム
10’でサンドイッチしたものを好ましい態様として包
含するが、この場合、第2ハi間フィルム10′と支持
フィルム6との間に適当な接着層11を設けることが好
ましい。
As shown in FIG. 2, the present invention includes a preferable embodiment in which a selectively transparent or conductive film is sandwiched between a first interlayer film IO and a second interlayer film 10'. Preferably, a suitable adhesive layer 11 is provided between the high-temperature film 10' and the support film 6.

かかる接着層としては当業者周知のものを用いることが
出来るが、例えは゛テトラブチル手タネートないしテト
ラブトキシジルコネートの如き全屈アルコキサイドをコ
ーティングして加水分解することによって得られる酸化
チタンないし酸化ジルコニウムの如き金属酸化物の薄層
を用いるのが良い。接着層の厚さは通常50X〜1.0
00 X、好ましくは100X〜500Xである。
As such an adhesive layer, those well known to those skilled in the art can be used, such as metals such as titanium oxide or zirconium oxide obtained by coating and hydrolyzing a fully bent alkoxide such as tetrabutyl handanate or tetrabutoxy zirconate. It is better to use a thin layer of oxide. The thickness of the adhesive layer is usually 50X to 1.0
00X, preferably 100X to 500X.

第2層間フィルムの支持フィルム側の面は必ずしも自己
支持性可撓性積層構造体を形成する前に平坦にしておく
必要はないが、これも平坦ででこぼこを無くしておいた
方が接50性向上の点で好ましい。
The surface of the second interlayer film on the supporting film side does not necessarily need to be flat before forming the self-supporting flexible laminate structure, but it is better to have it flat and without any unevenness for better contact. It is preferable in terms of improvement.

上記の方法により、第1層間フィルムと選択光透過性ま
たは導電性薄膜間の界面!嵌着力および第2層間フィル
ムと支持フィルム間の界面接着力をいづれも著しく高め
ることが出来る。接着力は20.V/cIIL以上であ
ることが好ましく、特に好ましくは最低509/crr
Lである。
By the above method, the interface between the first interlayer film and the selectively transparent or conductive thin film! Both the fitting force and the interfacial adhesive force between the second interlayer film and the support film can be significantly increased. Adhesion strength is 20. V/cIIL or higher, particularly preferably at least 509/crr
It is L.

かくして、本発明の、予備成形された自己支持性可撓性
積層構造体の好ましい構成として、以下を挙げることが
出来る。
Thus, preferred configurations of the preformed self-supporting flexible laminate structure of the present invention include the following.

(1)  PVB/PET/l&化チタン/Ag−Cu
/n化チタ ン/PVB (2)  P V B /酸化チタン/PET/Ti/
Ag−Cu/Ti/酸化チタン/PVB (31P V Il /酸化チタン7P E T/Ag
−Au/酸化ジルコニウムと酸化珪素の混合物/PVB
(41PVB/酸化チタン/ P E T/ indi
um tin oxide /Ag / indium
 tin oxble / P V B(51P V 
B /酸化チタン/ f’ E T / Au /le
l化チタン/VB *重量として沈着 上記の、予備成形された自己支持性可撓性積層構造体は
一般的には前記の選択光透過性または導電性フィルムに
比較的低温例えば20℃〜100℃でポリビニルブチラ
ールフィルムの如き層間フィルムを圧着することにより
得られる。
(1) PVB/PET/l&titanium chloride/Ag-Cu
/Titanium nide/PVB (2) PVB /Titanium oxide/PET/Ti/
Ag-Cu/Ti/Titanium oxide/PVB (31P V Il /Titanium oxide 7P E T/Ag
-Au/Mixture of zirconium oxide and silicon oxide/PVB
(41PVB/Titanium oxide/PET/indi
um tin oxide /Ag / indium
tin oxble / PV B (51PV
B / titanium oxide / f' ET / Au /le
Titanium chloride/VB *deposited as weight The preformed self-supporting flexible laminate structure described above is generally deposited onto the selectively transparent or conductive film at a relatively low temperature e.g. 20°C to 100°C It can be obtained by pressing an interlayer film such as a polyvinyl butyral film.

また、ポリビニルブチラールフィルムの如き層間フィル
ムを押出機によって形成してこれを選択光透過性または
導電性フィルムに重ね合せ、必豐に応じて外面をエンボ
ス加工するという方法によっても得ることが出来る。
It can also be obtained by forming an interlayer film such as a polyvinyl butyral film using an extruder, overlaying it on a selectively transparent or conductive film, and embossing the outer surface if necessary.

選択光透過性薄膜の付いた支持フィルム試料上に、縦方
向とそれに直角な方向にそれぞれl。
1 in the longitudinal direction and in the perpendicular direction, respectively, onto the support film sample with the selectively transparent thin film.

a間隔で印をつける。次いで試料を加熱炉に入れ120
℃で30分間保持した後、炉より取出して室温まで放冷
し、あらかじめ付けておいた印の加熱後の間隔IJ c
mを測り次式により熱収縮率Eを求める: あらかじめ表面にシリコンオイル処理を施したポリエチ
レンテレフタレートシート上に層間フィルムを1iff
iき、この上に縦方向とそれに直角な方向にそれぞれL
l、CIn間隔で印をつける。次いでこの層間フィルム
の載ったポリエチレンテレフタレートシートを加熱炉に
入れ70℃で30分間加熱した後、炉より取出し、室温
まで放冷し、あらかじめ加熱前につけた印の加熱後の間
隔Lσを到り次式により熱収縮率を求める二幅ICFI
L、長さ10cWLの積層構゛造体片を引張試験機(A
STMD−882−67)に取付ける。該構造体の支持
フィルムの端部を固定し、層間フィルムの端部を上記支
持フィルム固定点と逆方向K 2 cm / secの
スピードで引張って支持フィルムと層間フィルムとの接
着力(J//crn)を読みとる。
Mark at intervals of a. Next, the sample was placed in a heating furnace for 120 minutes.
After keeping it at ℃ for 30 minutes, take it out from the furnace and let it cool to room temperature.
Measure m and find the heat shrinkage rate E using the following formula: 1iff an interlayer film on a polyethylene terephthalate sheet whose surface has been treated with silicone oil in advance.
i, and on top of this, L in the vertical direction and in the direction perpendicular to it, respectively.
Mark at l, CIn intervals. Next, the polyethylene terephthalate sheet with this interlayer film placed on it was placed in a heating furnace and heated at 70°C for 30 minutes, then taken out from the furnace and allowed to cool to room temperature, and the interval after heating Lσ of the mark made before heating was determined. Double-width ICFI to calculate the heat shrinkage rate using the formula
L, a piece of the laminated structure with a length of 10 cWL was tested using a tensile tester (A
STMD-882-67). The end of the support film of the structure is fixed, and the end of the interlayer film is pulled in the opposite direction from the support film fixing point at a speed of K 2 cm/sec to determine the adhesive force (J//) between the support film and the interlayer film. crn).

実施例1 2軸延伸した厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを基板とし、その上に第1 Jgとして厚
さIOAのチタン層、第21(4として120Aの銀銅
合金層、第3層として20.Aのチタン層、更に第4層
として200Aの酸化チタン層を順次積層して選択光透
過性兼導電性フィルムを作製した。
Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 100 μm was used as a substrate, and on it a titanium layer with a thickness of IOA as the first layer, a silver-copper alloy layer with a thickness of 120A as the 21st (4) layer, and a 120A silver-copper alloy layer as the third layer. A titanium layer of A and a titanium oxide layer of 200A as a fourth layer were sequentially laminated to produce a selective light transmitting and electrically conductive film.

ここで基板として使用されたポリエチレンテレフタレー
トフィルムにはあらかじめ片面に200Aの酸化チタン
層が付されており、その反対面に上記第1〜第4層を積
層した。
The polyethylene terephthalate film used here as a substrate had a 200A titanium oxide layer attached to one side in advance, and the first to fourth layers described above were laminated on the opposite side.

該酸化チタン層はテトラブチルチタネートを5:ff1
J11含む、n−へキサン2部、n−ブタノール1部か
らなる溶液をバーコーターで塗布し、70℃で5分間乾
燥して形成した。また第4層の酸化チタン層も同じ方法
で形成した。
The titanium oxide layer contains tetrabutyl titanate in a ratio of 5:ff1
A solution containing J11, consisting of 2 parts of n-hexane and 1 part of n-butanol was applied using a bar coater and dried at 70° C. for 5 minutes to form a sample. Further, the fourth titanium oxide layer was also formed by the same method.

第11弱、第3層の手タン層はチタンの金属ターゲット
をアルゴンガス圧力2.OX 10””’ Torrに
おいて基板フィルムを−10”Cの冷媒で冷却しつつD
Cマグネトロンスパッタリングによって形成した。また
第2層の銀銅合金層は銅を10重f%含む銀の金属ター
ゲットを用い、かつ基板フィルムを−IQ”(、の冷媒
で冷却しつつ5、OX 10  ’rorrにおいてD
Cマグネトロンスパッタリングによって形成した。
The 11th and 3rd layers are made of titanium metal target under argon gas pressure of 2. D while cooling the substrate film with -10"C refrigerant at OX 10""' Torr.
It was formed by C magnetron sputtering. In addition, the second silver-copper alloy layer uses a silver metal target containing 10% by weight of copper, and the substrate film is cooled with a refrigerant of -IQ'' (, D
It was formed by C magnetron sputtering.

かくして得られた積層フィルムの熱収縮率は横方向(T
D) 0.8チ、縦方向(MD) 0.8チであった。
The heat shrinkage rate of the laminated film thus obtained is in the transverse direction (T
D) 0.8 inch, longitudinal direction (MD) 0.8 inch.

次いで該積層フィルムの両面に厚さ0.38μm のポ
リビニルブチラールシートをラミネートして積層構造体
を得た。
Next, polyvinyl butyral sheets having a thickness of 0.38 μm were laminated on both sides of the laminated film to obtain a laminated structure.

ここで使用したポリビニルブチラールは熱収縮率がMD
 1.t %、 TD 2.Oclbテあり、カッ片面
が完全に平面化されており、もう一方の面がエンボス加
工されたものであった。上記積層楢造体作m1lkあた
っては該平面化された面と上記積層フィルムとをラミネ
ートせしめた。
The polyvinyl butyral used here has a heat shrinkage rate of MD
1. t%, TD 2. One side of the cup was completely flat and the other side was embossed. For the laminated wooden structure m1lk, the flattened surface and the laminated film were laminated.

このよ51Cして得られた積層構造体においてポリビニ
ルブチラールシートと積層フィルム間の接着力はa4o
m/cmであった。
In the laminated structure obtained in this way, the adhesive strength between the polyvinyl butyral sheet and the laminated film was a4o.
m/cm.

続いて上記積層構造体の両面に厚さ2μm の平板ガラ
スを更に積層して全体をゴム袋に入れた。ゴム袋は水平
に保持したま〜5分間真空に引いた後、温度90℃にお
いて30分間保持した。ゴム袋から積層構造体を挟んだ
ガラス積層物を取り出しオートクレーブに入れて温度1
20℃、圧力x4kglcrl・G で約3θ分間保持
して合せガラスを作製した。
Subsequently, flat glass having a thickness of 2 μm was further laminated on both sides of the laminated structure, and the whole was placed in a rubber bag. The rubber bag was held horizontally and evacuated for 5 minutes, and then held at a temperature of 90° C. for 30 minutes. Remove the glass laminate sandwiching the laminate structure from the rubber bag and place it in an autoclave at a temperature of 1.
A laminated glass was produced by holding at 20° C. and a pressure of 4 kglcrl·G for about 3θ minutes.

かくして得られた合せガラスは可視光透過率73%、太
陽エネルギー透過率58チであった。
The thus obtained laminated glass had a visible light transmittance of 73% and a solar energy transmittance of 58%.

また透視性が良好で反射像に凹凸ムラのない均一な合せ
窓サンプルが得られた。なお上記積層構造体の両面に曲
率半径3crIL、厚さ2IIII+のガラスを積層し
、上記と全く同じように操作して作製された曲面合せガ
ラスは同様に外観良好であ比較例1 実施例1において厚さ100μmの代りに12μm の
ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用して得られ
た選択光透過性兼導電性フィルムの熱収縮率は’pl)
 5.0 %、 MD 4.5%であった。この積層フ
ィルムを用いて実施例1と同じポリビニルブチラールシ
ートを用いかつ実施例1と同じ手順によって作製された
合せガラスは反射像の凹凸ムラは認められなかったが挟
まれたフィルムに多数の小さな亀裂が見られた。
In addition, a laminated window sample with good transparency and a uniform reflected image with no unevenness was obtained. Note that the curved laminated glass produced by laminating glass having a radius of curvature of 3crIL and a thickness of 2III+ on both sides of the above-mentioned laminated structure and operating in exactly the same manner as above had a good appearance as well. The heat shrinkage rate of a selectively transparent and conductive film obtained by using a polyethylene terephthalate film with a thickness of 12 μm instead of 100 μm is 'pl)
5.0%, MD 4.5%. A laminated glass produced using this laminated film using the same polyvinyl butyral sheet as in Example 1 and following the same procedure as in Example 1 did not show unevenness in the reflected image, but there were many small cracks in the sandwiched film. It was observed.

比較例2 実施例1において厚さ100μmの代りに25μm の
ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用して得られ
た選択光透過性兼導電性フィルムの熱収縮率はTD 2
.0 %、 MD 1.6%であった。この積層フィル
ムを用いて実施例1と全く同じ方法で作製した合せガラ
スは透視性が不良で反射像に凹凸ムラが多数発生した。
Comparative Example 2 The heat shrinkage rate of a selectively transparent and conductive film obtained by using a polyethylene terephthalate film with a thickness of 25 μm instead of 100 μm in Example 1 was TD 2
.. 0%, MD 1.6%. A laminated glass produced using this laminated film in exactly the same manner as in Example 1 had poor visibility and many irregularities occurred in the reflected image.

比較例3 実施例IVcおいて、厚さ100μmの代りに175μ
mのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用して得
られた選択光透過性兼導電性フィルムの熱収縮率はTD
o、tチ、 MD O,01チであった。この積層フィ
ルムを用いて実施例1と同じ方法忙よって作製した合せ
ガラスは可視光透過率70%、太陽エネルギー透過率5
5チであった。平板ガラスで作製された該合せガラスは
外観良好であったが、実施例1と同じ曲率半径を有する
ガラスで作製された曲面合せガラスの外観は透視性が□
不良で1反射像に歪みおよび挟まれた該フィルム表面に
多数の亀裂が見られた。
Comparative Example 3 In Example IVc, the thickness was 175 μm instead of 100 μm.
The heat shrinkage rate of the selective light transmitting and conductive film obtained using the polyethylene terephthalate film of m is TD
o, tchi, MD O, 01ch. A laminated glass produced using this laminated film in the same manner as in Example 1 had a visible light transmittance of 70% and a solar energy transmittance of 5.
It was 5chi. The laminated glass made of flat glass had a good appearance, but the appearance of the curved laminated glass made of glass with the same radius of curvature as in Example 1 had poor transparency.
Due to defects, one reflected image was distorted and many cracks were observed on the sandwiched film surface.

実施例2 2軸延伸した厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムに実施例1と同様にあらかじめ片面に、テ
トラブチルチタネートより作られた厚さ300Aの酸化
チタン層を形成させた。該ポリエチレンテレフタレート
フィルムの酸化チタン層の形成されていないもう一方の
面に、第1層として厚さ250Xの酸化チタン層、第2
層として100Aの銀層を、更に第3層として再度25
0Aの酸化チタン層を形成して選択光透過性フィルムを
得た。
Example 2 As in Example 1, a titanium oxide layer made of tetrabutyl titanate and having a thickness of 300 A was formed on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm. On the other side of the polyethylene terephthalate film on which the titanium oxide layer is not formed, a titanium oxide layer with a thickness of 250X as a first layer, and a titanium oxide layer with a thickness of 250X as a second layer.
A 100A silver layer is added as a layer, and a 25A silver layer is added as a third layer.
A titanium oxide layer of 0A was formed to obtain a selectively transparent film.

ここで、第1層と第3層の酸化チタン層は酸化チタンな
゛ターゲットとしてRFスパッタリング装置により基板
フィルムを20℃の冷fNで冷却しつつアルゴンガス圧
力2.OX 10  Torr テ形成し、また第2層
の銀層は実施例1と同じ方法で形成した。
Here, the first and third titanium oxide layers are formed by using titanium oxide as a target while cooling the substrate film with cold fN at 20° C. using an RF sputtering device at argon gas pressure of 2.0° C. The second silver layer was formed in the same manner as in Example 1.

かクシ【得られた積層フィルムの熱収縮率はTDl、8
%、 MD 2.0俤であった。
[The heat shrinkage rate of the obtained laminated film is TDl, 8
%, MD was 2.0 yen.

次いで、この積層フィルムの両面にあらかじめ1.0重
量%のチヌビン■(Tlnuvin■)32B(C1h
a−Geigg A、G、製)紫外線吸収剤を練込んだ
厚さ0.38μmのポリビニルブチラールシートを50
℃でラミネートして積層構造体を作製した。
Next, 1.0% by weight of Tlnuvin■ 32B (C1h) was applied to both sides of this laminated film in advance.
50 pieces of polyvinyl butyral sheet with a thickness of 0.38 μm kneaded with ultraviolet absorber (manufactured by a-Geig A, G)
A laminated structure was produced by laminating at ℃.

ここで使用したポリビニルブチラールの熱収縮率はMD
2.0チ、  TD 2,2%であり、かつその平坦面
を該フィルムに接合せしめ、該積層構造体の最外面はエ
ンボス加二Eされていた。
The heat shrinkage rate of polyvinyl butyral used here is MD
2.0 inches, TD 2.2%, and its flat side was bonded to the film, and the outermost surface of the laminated structure was embossed.

このようにして作製された積層構造体において、該フィ
ルムとポリビニルブチラールシート間の接着力はa e
 s 11/amであった。
In the laminated structure produced in this way, the adhesive force between the film and the polyvinyl butyral sheet is a e
It was s 11/am.

次いで、該積層構造体を厚さ2龍の平板ガラスでサンド
インチして実施例1と同じ手順で作夷された合せガラス
は可視光透過率75チ、太陽エネルギー透過率65%で
あった。また、透視性が良好で反射像に歪み、凹凸ムラ
のない良好な合せ窓が得られた。
Next, the laminated structure was sandwiched between flat glass plates having a thickness of 2 mm, and the laminated glass was prepared in the same manner as in Example 1. The laminated glass had a visible light transmittance of 75% and a solar energy transmittance of 65%. In addition, a good laminated window with good transparency and no distortion or irregularities in the reflected image was obtained.

実施例3 2QTII延伸した厚さ50μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルムを基板としてindinm tino
xide (SnO,を7.0重量%含む)を反応性ス
パッタリング法により3.50 OAの厚さに積層して
選択光透過住フィルムを得た。
Example 3 Indim tino using 2QTII stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 50 μm as a substrate
xide (containing 7.0% by weight of SnO) was laminated to a thickness of 3.50 OA by reactive sputtering to obtain a selective light transmitting film.

Indium tin oxide  層は酸素ガス、
アルゴンガス、窒素ガスおよび水素ガスからなる混合ガ
スの存在下において基板フィルムを20 ℃の冷媒で冷
却しつつ、圧力3.5 X 10”−3’l”orrで
DCスパッタリング装置によって形成した。かくして得
られた積層フィルムの熱収縮率はTD2.6俤、 MD
 2.o俤であった。
Indium tin oxide layer is oxygen gas,
The substrate film was formed by a DC sputtering apparatus at a pressure of 3.5 x 10''-3'l'' orr in the presence of a mixed gas of argon gas, nitrogen gas and hydrogen gas while being cooled with a 20° C. refrigerant. The heat shrinkage rate of the laminated film thus obtained was TD2.6, MD
2. It was o.

次いで、実施例1と同じポリビニルブチラールシートを
用いかつ実施例1と全く同じ方法によって作製された合
せガラスは可視光透過率74チ、太陽エネルギー透過率
63チであった。
Next, a laminated glass produced using the same polyvinyl butyral sheet as in Example 1 and in exactly the same manner as in Example 1 had a visible light transmittance of 74 cm and a solar energy transmittance of 63 cm.

また、透視性良好で反射像に凹凸ムラのない合せガラス
が得られた。なおポリビニルブチラールシートをサンド
イッチして得られた中間膜の接着力は”J7/cmであ
った。
Furthermore, a laminated glass with good transparency and no unevenness in the reflected image was obtained. The adhesive strength of the interlayer film obtained by sandwiching polyvinyl butyral sheets was "J7/cm."

実施例4 2軸延伸した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムを基板としてその上に第1層として厚さ10
0Xの銀・金合金層を、更に第2層として200にの酸
化ジルコ−ラム層を積層して選択光透過性兼導電性フィ
ルムを得た。
Example 4 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film with a thickness of 50 μm was used as a substrate, and a first layer with a thickness of 10 μm was placed on it.
A 0X silver/gold alloy layer was further laminated with a 200X zircolumn oxide layer as a second layer to obtain a selective light transmitting and electrically conductive film.

ここで銀・金合金層は、20重量%の金を含有するター
ゲットを用い実施例1と同じ方法でDCスパッタリング
法により形成した。また酸化ジルコニウムI−はテトラ
ブトキシジルコネートの8.0重量係を含むn−ヘキサ
ンとn−ブタノールとの混合溶液をバーコーターで塗布
した後75℃で5分間熱風乾燥機で乾燥して得た。
Here, the silver/gold alloy layer was formed by DC sputtering in the same manner as in Example 1 using a target containing 20% by weight of gold. Zirconium oxide I- was obtained by applying a mixed solution of n-hexane and n-butanol containing 8.0 weight coefficient of tetrabutoxyzirconate using a bar coater and then drying it in a hot air dryer at 75°C for 5 minutes. .

かくして得られた積層フィルムの熱収縮率はTD2.3
係、  MD 2.2優であった。
The heat shrinkage rate of the laminated film thus obtained was TD2.3.
The MD score was 2.2 points.

次いでこの積層フィルムを用いて実施例1と全く同じ手
順により積層構造体を得、更に実施例1のやり方に従っ
て合せガラスを作製した。
Next, using this laminated film, a laminated structure was obtained in exactly the same manner as in Example 1, and a laminated glass was further produced in accordance with the method of Example 1.

この合せガラスの可視光透過率は70%であり、太陽エ
ネルギー透過率は62%であった。
The visible light transmittance of this laminated glass was 70%, and the solar energy transmittance was 62%.

また該合ぜガラスの透視性は良好で反射像の凹凸は認め
られなかった。
Further, the transparency of the laminated glass was good, and no irregularities in the reflected image were observed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図1は本発明の機能化フィルムの1断面図例である。 図2は予備形成積層+iS造体の1断面図例である。 一36二 図、1 0.2 FIG. 1 is an example of a cross-sectional view of the functionalized film of the present invention. FIG. 2 is an example of a cross-sectional view of a preformed laminate + iS structure. 1362 Figure, 1 0.2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、 (11厚さが約125μmより小さい透明な高分
子フィルムよりなる支持フィルムと、 (2)  該支持フィルムの片面または両面に担持され
た選択光透過性または導電性薄膜 から構成され、かつその熱収縮率E(%)と厚さd(μ
m)とが式: %式%) (125 を満足する選択光透過性または導電性フィルム。 2 支持フィルムが厚さ約12μmから約12°5μm
 の範囲にあるポリエチレンテレフタレートフィルムで
ある、特許請求の範囲第1項記載の選択光透過性または
導電性フィルム。
[Claims] 1. (11) A support film made of a transparent polymer film having a thickness of less than about 125 μm; (2) A selectively transparent or conductive thin film supported on one or both sides of the support film. , and its thermal contraction rate E (%) and thickness d (μ
m) A selectively transparent or conductive film that satisfies the following formula: % formula %)
The selectively transparent or electrically conductive film according to claim 1, which is a polyethylene terephthalate film falling within the range of .
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