JPS5975486A - Mos static ram - Google Patents
Mos static ramInfo
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- JPS5975486A JPS5975486A JP57184561A JP18456182A JPS5975486A JP S5975486 A JPS5975486 A JP S5975486A JP 57184561 A JP57184561 A JP 57184561A JP 18456182 A JP18456182 A JP 18456182A JP S5975486 A JPS5975486 A JP S5975486A
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- timing
- write
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、MOSFET (絶縁ゲート型電界効果ト
ランジスタ)で構成されたスタテイノア′ノ型型RAM
(ランダム・′rクセス・メ′5す)に関する。。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a state-of-the-art type RAM configured with MOSFETs (insulated gate field effect transistors).
Regarding (random/access/messages). .
MOSスタティック型RAMにおいて、ワード線を選択
状態のままにしておくと、データ線の負荷から選択され
ているメモリセルを3mシてffi流が流れ続けるので
比較的消費電流が大きくなるという欠点がある。In a MOS static RAM, if the word line is left in the selected state, the ffi current continues to flow through the selected memory cell by 3 m from the data line load, resulting in a relatively large current consumption. .
本願発明者は、書込み動作がA浬に行えることに着目し
て、書込み動作の低消費電力化を図ることを考えた。The inventor of the present application focused on the fact that the write operation can be performed in A-low and considered reducing the power consumption of the write operation.
この発明の目的は、書込み動作時での低消費電力化を図
ったMOSスタティック型F型入2八を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a MOS static type F-type input 28 which achieves low power consumption during a write operation.
この発明の他の目的は、以下の説明及こ目′−4面から
明らかになるであろう。Other objects of the invention will become apparent from the following description and Section 4-4.
以下、ごの発明を実施例とともに4−?:相に説明する
。Below, the invention will be described in 4-? along with examples. : Explain to phase.
第1図には、この発明の一実施例の回路図が示されてい
る。特に制限されないが、同MのRAMは、公知のCM
O3(相補型−金属−絶様物−半導体)集積回路(IC
)技術によってI ?11+のう・リコン単結晶のよう
な半導体基板上に形成される。FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of the present invention. Although not particularly limited, the RAM of the same M can be a known CM.
O3 (complementary-metal-impossible-semiconductor) integrated circuit (IC
) By technology I? It is formed on a semiconductor substrate such as 11+ silicon single crystal.
端子Ax、 △Y、 I)in、 Dout 、 V
IE及ヒ嘗は、その外部端子とされる。なお、同[4に
おいて電源供給端子は省略されている。Terminal Ax, △Y, I)in, Dout, V
IE and hi are used as its external terminals. Note that the power supply terminal is omitted in [4].
メモリセルM Cは、その1つの具体的回1114が代
表として示されており、ケートとI″LLツインいに交
差結線された記憶MOS F E′FQ ] 、 f
、u 2と、上記MO3FIE’「Ql、Q2のドレ・
fンど電源電圧VDDとの間には、情報保持用のポリ
(多キ、−晶)シリコン層で形成された高抵抗RL、l
−?2が設けられている。そして、上記M OS FI
EゴC11,0゜2の共通接続点と相補データ線1)0
.1)(+との間に伝送ゲー1− M OS F E
′FQ 3 、 cl 、1が設iJらメ1いてる。The memory cell MC, of which one specific circuit 1114 is shown as a representative, is a memory MOS F E'FQ ], f which is cross-wired to the gate and I'LL twins.
, u 2, and the above MO3FIE'"Ql,Q2's Dre.
There is a polygon for information retention between the f and the power supply voltage VDD.
(Multiple, -crystalline) High resistance RL formed of silicon layer, l
−? 2 is provided. And the above M OS FI
Common connection point of EGO C11, 0°2 and complementary data line 1) 0
.. 1) (Transmission game 1- between + and MOS F E
'FQ 3, cl, 1 are set up iJ et al.
他のメモリセルMCも相互においご同(ηな回路構成に
されている。これらのメモリセル(j、マトリックス状
に配置されている。同じ行に配置されたメモリセルの伝
送ゲー1− 型M OS F)”、 T(J3、Ql等
のゲートは、それぞれ対応する・ノー1′線W1及びW
2に共jJIIに接続され、同じ列に配置されたメモリ
セルの入出力端子は、それぞわ5対応ず茶一対の相補デ
ータ(又はピノl−) D O,l:) 0及びDl、
1つ1に接続される。The other memory cells MC also have the same (η) circuit configuration.These memory cells (j) are arranged in a matrix.The transmission gate of the memory cells arranged in the same row is The gates such as OS F)", T(J3, Ql, etc.
The input/output terminals of the memory cells arranged in the same column are connected to JJII and JJII respectively, and the input/output terminals of the memory cells arranged in the same column are a pair of complementary data (or Pino l-) DO, l:) 0 and Dl,
Each is connected to the other.
上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力にさせ
るため、その抵抗R1は、M OS f” r: i”
Qlがオフ状態にされているときのM OS F Eソ
I゛Q2のケー 1・電圧をしきい値電圧fJ、 l−
に維持さ−IJることができる程度のA抵抗値にされる
。同(tに抵抗R2も高抵抗値にされる6バいlf!え
ると −F記抵抗R1は、M OS F rE T Q
、 Iのドレインリーク電流によっCM OS F I
E ’I” Q 2のグー1容計(図示しない)に蓄積
されている情報電荷が放電さゼられてしまうのを防ぐ程
度の電流供給能力4持つようにされる。In the memory cell MC, in order to reduce power consumption, the resistor R1 is MOS f"r: i"
When Ql is turned off, the case 1 voltage of MOSFET I゛Q2 is expressed as the threshold voltage fJ, l-
The A resistance value is set to such an extent that -IJ can be maintained at -IJ. Similarly (at t, resistor R2 is also set to a high resistance value.
, due to the drain leakage current of I
It is designed to have a current supply capacity 4 sufficient to prevent the information charge stored in the goo 1 capacity meter (not shown) of E 'I'' Q 2 from being discharged.
この実施例に従うと、RA Mが(−: M OS −
I C:技術によって製造されるにもかかわらず、1−
記のようにメモリセルM Cはnチトン、乙ルM OS
F E′1゛とポリソリコン抵抗素子とから構成され
る。According to this example, RAM is (-: M OS -
IC: Despite being manufactured by technology, 1-
As shown, the memory cell MC is n, and the memory cell is MOS.
It is composed of F E'1' and a polysilicon resistance element.
」−記ボリシリ」ン抵抗嶌子に代えζppチヤンネルM
OS F rζ′■゛を用いる場合に社べ、メモリLル
及びメモリアレイの大きさを小さくCきろ。す’11わ
ら、ポリシリコン抵抗を用い)、−場(−1,駆動M
0SFETQI又はQ2のゲート電極と−・体的に形成
できるとともに、それ自体のサイスを小型化できる。そ
して、pチャンネルM OS F? ”T−を用いたと
きのように、駆動M OS F FE i’ Q 1
、 Q 2から比較的大きな距離を持って離さなiJれ
ばならないことがないので無駄な空白部分が生じない。- ζpp channel M in place of the resistance Shimako
When using OSF rζ'■', please reduce the size of the memory and memory array. S'11 straw, using polysilicon resistor), - field (-1, driving M
It can be formed integrally with the gate electrode of OSFET QI or Q2, and its size can be reduced. And p channel M OS F? "As when using T-, the drive MOS F FE i' Q 1
, Q There is no need to separate iJ by a relatively large distance from 2, so no wasted blank space is created.
同図において、ワード線W1は、Xアl’ L−スデコ
ーダX −1) CRで形成された選択(p5 ’:!
、峻受ける駆動回路D■1によって選択される。他のり
−IIS W 2についても同梯である。In the same figure, the word line W1 is selected by the selection (p5':!
, is selected by the drive circuit D1 which receives the highest voltage. The same ladder applies to the other glue - IIS W2.
上記XアドレスデコーダX−I)CIンi、l、相互に
おいて類似のノアゲート回路Gl、(J2等に、J、り
構成される。これらのノアゲー 1・回路に1.02等
の入力には、図示しない適当な回路装置から伊給される
外部アドレス信号ΔXを受けろ×アルスバソファX−A
D Bで加工された内部相補ア1−゛レス信号が所定
の組合せにより印加される。The above X-address decoder X-I) is composed of similar NOR gate circuits Gl, (J2, etc.) in CI, I, and I, respectively.The inputs of these NOR gates 1, 1, 02, etc. are as follows: Receive the external address signal ΔX supplied from an appropriate circuit device (not shown) x Alsba Sofa X-A
Internal complementary address signals processed by DB are applied in a predetermined combination.
上記メモリアレイにおける−・対のデータ線■〕0゜D
O及びDI、DIは、それぞれデータ紳選択のための伝
送ゲー1−M03FE′rQ9.に1.1 (l及びQ
ll、Ql2から構成されたカラノ、スイ7・子回路を
介してコモンデータ線CD、CDに接続される。このコ
モン−1−夕線c:r−t、(コに3、L、読Iす出し
回路o OBの入力端トと、書込シ回路1’) I +
−(の出力端r−が接続される。」:記読V出し回+?
M DO日の出力1璃子は、データ出力端子Doul
に読ろ出し信号を送出し、寅込み回路DIBの人カ端−
ロ、!データ入力1t47Di nから供給されろ書込
めデータ信号が印加される。- Pair of data lines in the above memory array ■〕0゜D
O, DI, and DI are transmission game 1-M03FE'rQ9. for data selection, respectively. 1.1 (l and Q
It is connected to the common data lines CD and CD through a sub-circuit of Carano and SW7 consisting of ll and Ql2. This common-1-evening line c: r-t, (3, L, read I start circuit o OB input terminal G, and write circuit 1') I +
-('s output terminal r- is connected.": Recording/reading V output time +?
M DO day output 1 riko is data output terminal Doul
Sends a readout signal to the input circuit DIB input terminal -
B,! A write data signal supplied from data input 1t47Din is applied.
−1−配力9)、スイソヂ回路を構成1’ 2. M
(’) S F巳TQ9.QIO及びQl i Ql2
のケー1には、それぞれy−yドレステ、:I−タYD
CRカ;; 1sIi l!(信号がIし給される。-1- Power distribution 9), configuring the switch circuit 1' 2. M
(') SF Mi TQ9. QIO and Ql i Ql2
In Case 1, y-y dresste, :I-ta YD
CR Ka;; 1sIi l! (The signal is sent to I.
このYア1゛シ・ステコータY−1) CRは、相りに
おいて類似のノア′アー1回路Cζ3,64等により構
成されろ。これらのノアケート回路C:+、C;4の入
力には、図示しない適当な回路装置から供給される外部
アドレス信号lへVを受LJるY−アドレスバノソアY
−ΔD 11ご加工さイ1゜た内fjB相補アドレス信
すが所定の組合ピC二より印加さJ9る。This Y-A1-Stecoator Y-1) CR is composed of similar NOR-A1 circuits Cζ3, 64, etc. The inputs of these nocate circuits C: +, C;
-ΔD11 The complementary address fjB is sent within 1 degree after processing, but the predetermined combination pin C2 is applied to J9.
制御回路CONは、外部端子W巳、O8からの制御信号
を受けて、内部制御タイミング信号を形成する。The control circuit CON receives control signals from the external terminals W and O8 and forms an internal control timing signal.
この実施例では、書込み動作における消費電流を削減さ
・Uるため、次の回路が設けられる。In this embodiment, the following circuit is provided in order to reduce current consumption in write operations.
タイミング発生回路1’ −S Gは、上記外部端子W
”丘、己からの制御信号と、−4二記データ入力端子D
inからの書込みデータ信号とを受iJ、このRAM−
I Cの書込み動作モード時でのデータ(nυの変化(
遷移)タイミングを検出ずろエツジl−リガ回路と、こ
の検出出力を受けて書込み動作に必要な時間幅のタイミ
ング信号φWを形成するり′(ミンク発生回路とを含ん
でいる。そして、このタイミング発生回路T−3Gで形
成されたタイミング信号φWは、」1記Xアドレスデコ
ーダX−DCRを構成する各ノアゲート回路(Jl、0
2等の人力に共通に供給される。Timing generation circuit 1'-SG is the external terminal W
``Oka, the control signal from itself and the -42 data input terminal D
This RAM-
Data (change in nυ (
It includes an edge trigger circuit that detects the transition) timing, and a mink generation circuit that receives this detection output and forms a timing signal φW with the time width necessary for the write operation. The timing signal φW formed by the circuit T-3G is applied to each NOR gate circuit (Jl, 0
Commonly supplied to second class manpower.
次にこの実施例回路の動作を第2図の夕(″、ング図に
従って説明する。Next, the operation of this embodiment circuit will be explained with reference to the diagrams in FIG.
χドレス信号Aiが入力され、ライ1イネーブク信号W
Eとチップ選択信号C8がともにロウレベルとなった時
、このRA M−’I Cは、動作モードにされる。上
記信号WE、C3のロウしノベルによりタイミンク発生
回路’l’ −S Gが動作状態にされ、その出力タイ
ミンク出力φWをハイトノベルにする。したがって、X
アドレスデコーダX −DCRの出力は、アドレスバッ
ファX−ΔD nからのアドレス信号に無関係にロウレ
ベルになり 1・、てのワード線が非選択状態にされる
。したがって、第1図のRAMにおいて、データ線WO
〜W1等の負荷M OS F’ E T Q 5〜Q8
等からデータ線及び選択状態にされているメモLLセル
MCのオン状態になっている9動MOS F ETをi
ll シて直流電流を流すことがない。χdress signal Ai is input, and lie 1 enable signal W
When both E and chip selection signal C8 become low level, this RAM-'IC is put into the operation mode. The timing generation circuit 'l'-SG is activated by the low level of the signals WE and C3, and its output timing output φW is set to a high level. Therefore, X
The output of the address decoder X-DCR becomes low level regardless of the address signal from the address buffer X-ΔDn, and all word lines 1 and 1 are rendered unselected. Therefore, in the RAM of FIG.
~Load such as W1 M OS F' ET Q 5 ~ Q8
I
ll No direct current flows.
次に書込みデータ出力Dinが変化すると タイミング
発生回路]’−3Gがこれ分検出して、書込み動作に必
要な時間tだけロウレ・\ルになるタイミング信号φW
を形成する。この時間しだけ1記アドレス信号に従った
ワード線が選択さノ1て1つの行のメモリセルMCが選
択される。また、データ線は、すでに1つの列が選択さ
れているので、1つのメモリセルMCに対して上記書込
のデータ信号に従った情報が書込まれる。」二記時VI
Lの経過とともにタイミング信号φWがハイレベルにな
るので上記選択されたワード線が再び非選択状態にされ
る。Next, when the write data output Din changes, the timing generation circuit]'-3G detects this amount, and the timing signal φW becomes low for the time t required for the write operation.
form. During this time, the word line according to the first address signal is selected, and the memory cells MC in one row are selected. Further, since one column of data lines has already been selected, information according to the write data signal is written into one memory cell MC. ”Second Hour VI
Since the timing signal φW becomes high level with the passage of L, the selected word line is again rendered unselected.
上記状態において、再び書込みデータ信号Dinが変化
すると、上記同様に1つのメモリセルMCが選択され、
そのデータ信号Dinが書込まれる。In the above state, when the write data signal Din changes again, one memory cell MC is selected as above,
The data signal Din is written.
したがって、上記選択されたメモリセルMCの最終的な
書込みデータは、後の書込み動作により決定される。Therefore, the final write data of the selected memory cell MC is determined by a subsequent write operation.
従来のRAMにおいては、第2図のタイミング図の上記
信号WE及びC3がロウレベルとなっている時間1゛だ
けメモリセルの選択動作がなされるのに対し、この実施
例のRAMでは、−1−記時間tたけしか選択状態にさ
れないので、ワード線の負荷MO3FETからメモリセ
ルに流れる電流を大幅に小さくすることができる。1な
わち、L記ワード線の選択期間を制限することにより、
1つのワード線に接続された、言い換えれば行方向に配
置れた多数のメモリセルに関して、上記ツーi′線負荷
MO3FETから流れる電流4制限できるから低消費電
力化を図ることができる。In the conventional RAM, the memory cell selection operation is performed only during the time period 1 when the signals WE and C3 in the timing diagram of FIG. 2 are at low level, whereas in the RAM of this embodiment, Since the selected state is maintained only for the time t, the current flowing from the word line load MO3FET to the memory cell can be significantly reduced. 1. That is, by limiting the selection period of the L word line,
Regarding a large number of memory cells connected to one word line, in other words, arranged in the row direction, the current flowing from the two i' line load MO3FET can be limited by 4, thereby reducing power consumption.
なお、読み出し動作においては、ライトイア、−プル信
号WEがハイレベルであるので、J−記タイミンク発生
回路T−3Gが動作することなく、そのタイミング信号
φWをロウレベルにする。したがっζ、読み出し動作に
関し−Cは、従来の読ろ出し動作と同様であり、その説
明を省略する。In the read operation, since the write-ear and -pull signals WE are at high level, the timing signal φW is set to low level without the J-record timing generation circuit T-3G operating. Therefore, regarding the read operation ζ, -C is the same as the conventional read operation, and its explanation will be omitted.
この発明は、前記実1f!!例に限定され2【い。This invention is based on the above-mentioned actual 1f! ! Limited to two examples.
メモリセルは、pチャンネルM OSト” IE ′F
とnチャンネルM OS F E Tとを組合せで構成
された公知のスタティック型フリップフロップ回路を用
いるものであってもよい。The memory cell is a p-channel MOS
A known static flip-flop circuit configured by a combination of an n-channel MOS FET and an n-channel MOS FET may be used.
また、メモリアレイの構成及びその周辺回路kl、種々
の実施形態を採ることができるものil’ J:、己。Furthermore, the configuration of the memory array and its peripheral circuits can take various embodiments.
そし7て、書込め時に、ワー1“綿の選択期間を制御’
FJする制御方式は、・ノード綿駆動1i71 f/吉
r)\lに対しこ行うもの等種々の変形を採る・ニとが
でき?、。7. Then, when writing, set War 1 “Control cotton selection period”.
The control method for FJ is: ・Various modifications are taken such as the one that does this for the node cotton drive 1i71 f/kichi r) \l. ・Can you do 2? ,.
また、書込み動作中において、書込みデータ信号の変化
を検出して、上記書込み動作に必要なり間のパルス幅を
タイミング信号を形成する回路の具体的回路構成は、何
であっ′ζもよい。Further, the specific circuit configuration of the circuit that detects a change in the write data signal during a write operation and forms a timing signal with a pulse width necessary for the write operation may be any.
第1図は、この発明の一実施例を示す回路図、第2図は
、その動作を説明するためのタイミング信号
X −A D’B・・Xアドレスバッファ、”Y’ −
A DB・・Yアドレスバッファ、X−DCR・・Xア
ドレスデコータ、Y −D CR・・YアドレスデニZ
−ダ、MC・・メモリセル、DIB・・書込み回路、D
OB・・読み出し回路、CON・・制御回路、T−3G
・・タイミング発生回路
第 1 図
淑
−
A 91F
VDQl 1A//
θ5 θ6 θ7 θC
予DI、’/ “0 ”1
DVe/
Rρ会、タ4M(
ρ2
vv2 、、;c
if;;:r; QZ Dv2
/〆c Hc
函
ん :
、)、 l)i
−3
ρり
Drys D ” ””// 4.。
□ 8 ノD
、 第 2 図jFIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a timing signal X-A D'B...X address buffer, "Y"-
A DB...Y address buffer, X-DCR...X address decoder, Y-D CR...Y address decoder Z
-DA, MC...memory cell, DIB...write circuit, D
OB...readout circuit, CON...control circuit, T-3G
・・Timing generation circuit No. 1 Fig. A 91F
VDQl 1A// θ5 θ6 θ7 θC Pre-DI, '/ “0 ”1 DVe/ Rρ meeting, Ta 4M (ρ2 vv2,,;c if;;:r; QZ Dv2/〆c Hc box: ,), l )i −3 ρDrys D ” ””// 4.. □ 8 no D, Fig. 2 j
Claims (1)
ングを検出するエツジトリガ回路と、このエツジトリガ
回路からの検出出力を受け、書込み動作に必要な時間の
タイミング信号を形成するタイミング発注回路と、この
夕・イミング発生回路の出力タイミング信号によりワー
ド線選択期間が制御されるワード線選択回路とを含むこ
とを特徴とするMOSスタティック型RAM。 2、上記MOSスクティノク型型F? A M番J、C
MO8回路により構成されるものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のM OSスタティック型
RAM。[Claims] 1. An edge trigger circuit that detects the change timing of an input data signal during a write operation, and a timing ordering circuit that receives the detection output from this edge trigger circuit and forms a timing signal for the time required for the write operation. and a word line selection circuit whose word line selection period is controlled by the output timing signal of the evening timing generation circuit. 2. The above MOS Scutinok type F? A M number J, C
The MOS static type RAM according to claim 1, characterized in that it is constituted by an MO8 circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57184561A JPS5975486A (en) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | Mos static ram |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57184561A JPS5975486A (en) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | Mos static ram |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5975486A true JPS5975486A (en) | 1984-04-28 |
Family
ID=16155356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57184561A Pending JPS5975486A (en) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | Mos static ram |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5975486A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6124091A (en) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Nec Corp | Memory circuit |
JPS61142590A (en) * | 1984-12-14 | 1986-06-30 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory device |
JPH01241089A (en) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Toshiba Corp | Static type random access memory |
JPH01251496A (en) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Toshiba Corp | Static type random access memory |
-
1982
- 1982-10-22 JP JP57184561A patent/JPS5975486A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01251496A (en) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Toshiba Corp | Static type random access memory |
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