JPS5962338A - 粒子混入ガスの処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 に関し、特に、霧状の液体が塔内に入るにつれてガス流
内に導入される状態調節塔又は吸収塔又は反応塔に特に
適用できる装置に関する。

従来の吸収塔又は反応塔においては、塵芥を混入した高
温ガスは／１００から２　０　０　”Ｃの温度領域で塔
内に普通導入され、そして塔の入口端部において、ノズ
ルを通じてガス流内に液体が噴射され、これがガスを冷
却するのに役立ちそして該液体がガスと調節されるか又
はさもなければガスと反応する。例えば、煙道ガスを浄
化する場合、細かく分散した石灰スラリか反応塔の入口
端部でガス円に噴霧され、それ番こよりスラリの液体部
分が蒸発し、ガスが塔内４流れる゛につれて該ガスを冷
却する。塔はｓｍと３０ｍとの間の高さ、及び３ｍと／
ｌｍとの間の直径を有してよい。ガス流内のスラリの液
体部分は１００から二〇℃までの温度で導入されるので
それが蒸発する時間が経過する前では、該液体部分は自
由な蒸気として存在し、塔の入口に隣接したガス流内で
湿った粒子のようであり、この粒子が塔の壁に沈積して
塔の効率を減する固形物を形成する。状態調節基（　ｏ
ｏ．ｎｄｉｔｉｏｎｉｎｇｔｏｗｅｒｓ）においては、
温度はそれ程高くなく、従って、ガス流内の粒子状物質
を塔の壁土に苗丈らせる自由な蒸気の危険性がより太き
い。

入口ｌこ隣接した塔の壁土の粒子状物質の蓄積から生ず
る効率の損失は、塔の入口端部にあるノズルを通じた液
体の噴射に悪影響を及ぼし、従ってガス流に渡る霧状液
体の分布を害する。

さらに、もし入口端部での集結が十分であったならば、
粒子状物質は大きな固まりを形成し、この固まりは、も
し該固まりがガス流内に追いやられそして入口端部の下
流にある装置を害したなら，ば、設備を損傷するであろ
う。このような事態はかなりの時間の間設備全体を運転
停止にするであろう。固丈りが入口端部で出来上がると
、これは塔を通るガス流れの特性に影響を及ぼし、これ
が霧状の液体ｌこよるガス処理ｌこ悪影ｔｗを及ぼし得
る。

塵芥集結に対する傾向をなくすためｌこ、ガスの温度が
ガスと霧状液体との混合物の露点より上に維持されるよ
うに塔の入口端部を絶縁する試みが行なわれている。こ
の予防手段Ｉこもかかわらず、塔内のガス温度が露点に
近づくときに前述の難題と問題が生ずる。

本発明の主な目的は、塔内の塵芥のような粒子状物質を
集結させる傾向をなくすか又はこれを克服し、そして塵
芥集結が起こったならば、こうし７Ｓ：塵芥集結ｌこよ
る損傷の危険性をできるだけなく下る装置を提供するこ
とである。

本発明の別の目的は、装置の運転を高め，ｉ！！転の長
期間に渡って十分機能を果し且つ信頼でき、同時ζこ製
造、据え付け、監視、保守を行なうのｆこ経済的である
改良された装置を提供することである。

本発明の装置は、ガス流が粒子状物＠を混入している場
合に使用Ｔるのに限定されているわけではなく、清浄な
ガス生成物を処理する装置に対しても有用である。

さらに詳細には、本発明は、ガス用の通路が薄板状材料
から成る屈曲自在の円張りを備えており、該内張りは処
理装置の壁を塵芥集結から保護し、好適には、薄板状材
料上でさもなければ起こる力）も知れないどんな塵芥蓄
積をもなくする薄板状材料のたわみを可能にするため前
記内張りが壁力１ら隔置されており、薄板状材料は粒子
状物質の密Ｎを制限するプラスチック又は他の組成物か
ら成るのが好適であるガス処理装置を提供する。

本発明の前述の要約並びζこ詳細な作用は添付図面を参
照しながら後にさらに十分に説明されよう。

第７図はガス処理装置／を例示しており、該ガス処理装
置／はその上端ではガス人ログを有し下端では、例示の
実施例では，円錐状の下部延長部３より上にあるガス出
口／グを有しており、該ガス出口を通じて、処理装置７
円のカス流から分離されたどんな粒子状物質も排出され
る。ガス人口ダにおいて、噴霧ノズル５は噴霧６中の液
体を第二図に示されているようにガス流内に噴射Ｔるた
めに設けられている。ガスは線ｌＳを通じて供給される
。液体は線／６を通じて供給される。処理装置／内には
、ガス人口Ｖの端部から符号／４Ｚ及び３にある出口ま
で伸びた中空の通路コが設けられている。例示の処理装
置は、据え付けに必要なように、状態調節基、吸収塔又
は反応塔として使用されてよい。

本発明に従うと、通路コの内側は同張りりを備えている
。好適には、同張りは通路全体の回りに円周方向に伸び
１、そして通路２を形成する壁／りに隣接したガス流に
面している。同張り７は薄く、屈曲自在であり、またプ
ラスチック薄板、金属箔、又は繊維から作られてよい。

好適には、内張りの組成物はガス及び湿気を通さないプ
ラスチックであり、その結果どんな粒子状物質の密着に
も耐える比較的摩擦のない表面を与える。所望の強度を
与えるために、繊維状の材料で円張りが補強されてよい
。適当な材料はガラス繊維補強材を備えたポリテトラフ
ルオロエチレン（テフロン）フィルムである。

本発明の例示の実施例１こおいては％壁／りは中空の円
筒状通路２を与えるため円筒形状をしており、菫な円張
り７は壁の輪郭に従うようにするため中空の円筒形状で
同様に配置されている。第２図に示されているように、
内張りりは壁／７から円方に隔置されており、それらの
間１こ環状の間隙空間／２を設けている。この間隙空間
の広がりは、同張り７と壁／７との間で運動ｌこ対する
自由度がある限りかなり縮められてよく、その結果、壁
／７と内張りりとの間の空間内に流体が導入されたとき
に、同張りが半径方向又は円周方向のどちらか一方に変
位できる。

同張りは、符号コ３で略本された適当な締結具そ有Ｔる
締め付はリングココと円周フランジ２１とを通じて頂部
に固定されることにより、長さ方向の変位に対して保持
される。円張りの重量により、内張りが円筒状の壁／り
円で装着フランジ２／から吊り下げられ、そして内張り
の緊張が確保される。円張りの底端部は、例えば、該底
端部内に縫い込才れた導線７θの使用にヨリ、符号コグ
で示されたように重みが加えられてよい。導線１０は、
円筒状壁１７内で長さ方向に円張り７を引っ張ろうとす
る弾性偏位を与える。処理装置が第７図及び第λ図ｔこ
示されているような直立した通路を備えるように配置さ
れていない場合には、同張り７はその両端部に装着装置
により装着されてよい。好適には、内張りの半径方向又
は円周方向の運動のための自由度を、夫々の入口装着装
置と出口装着装置との間で可能にするため、適当なばね
逃し装置が設けられる。

ただ７片の円張りを有するのが好適であるが、処理装置
の寸法又は内張り材料の強度により内張りをただ７片で
取り付けられない場合には、内張りが円周方向又は長さ
方向のどちらか一方向に分割されてよく、その場合、別
個の分割部の縁が処理装置の入口端部に隣接した壁１７
の円周方向の広がり全体をおおうために重複するように
、各分割部が別個に支持されてよい。内張りの長さ方向
の広がりは、処理袋ｆを貫流する粒子を混入したガスの
特性に従って選定されてよい。もし粒子状物質が沈積す
る傾向が処理装置の入口端部に限られているならば、内
張りも同様に局所化されてよく、一方、粒子状物質が通
路の壁土に沈積する傾向が処理装置全体に渡っであるな
らば、内張りは処理装置全体に渡って伸びるべきである
。円張りりと壁／りとの間Ｊこ実質的に閉塞した室を与
えるよう１とするた補強材、又は中間の支持構成９素を
必要なように配設することにより該重量を減もしてもよ
い。

処理装置の運転の間ｌこ内張り材料を変位する１こめ、
流体供給口ｌ／が壁／７と円張りりとの間の間隙空間１
．２と連通している。制御流体は熱交換器のような適当
な熱制御器（温度制御器）コロと脈動器のような流量制
御器スッとで、第７図において符号２５で示されている
ように、供給されてよい。流体の脈動する流れを流体供
給口／／内に供給することにより、屈曲自在の同張りが
婿動ポンプ（ｐｅｒｉｓｔａｌ；ｉｃ　ｐｕｍｐ）とし
て作用し、それにより屈曲自在の同張りりを変位させ、
さもなければ内張りに密着されるかも知れないどんな粒
子状物質をも追い出す。流体供給口／／を通じて導入さ
れる流体の温度を制御することにより、流体が熱交換媒
体として作用し、内張りの温度を制御し、また通路コを
貫流Ｔるガスの温度を調節Ｔるのに役立つ。

脈動する流れがない場合でも、同張りの屈曲自在の性質
は、内張りの円面上の粒子状物質のどんな実質的な集結
又は固まりにも耐える。第１の例では％円張りは低摩擦
係数を有Ｔる材料から成り、それにより粒子状物質が円
張りに密着するのが難しく、また万一物質の集結があっ
た場合には、物質の重量は通路の中心に内力１つて力が
最も大きいねじりモーメントラ内張りに加えるであろう
。このねじり運動は円張りのたわみを引き起こし、これ
が同張り上の集結した粒子状物質を追い出丁のｌこ役立
つ。従って、物質の量が増加するにつれて、集結した物
質の重心が、常に増大するねじりモーメントを加えなが
ら、通路の中心に近づく。流体供給口／／を通じて流体
を導入することＩこより円張りからの物質の分離が増大
するが、集結ζこ耐える元の傾向がまさったときには流
体の噴射は間欠的にのみ行なわれてよい。

上述したように、同張りと壁との間の通路は。

もし望ましければ、熱交換媒体の流れを与え、そして間
隙空間は、流れがないときに同張り７内の流れの熱から
、壁／７を絶縁するための保温間隙としても役立つ。

本発明は液体により処理された粒子混入ガス流を有する
塔に特に関係して説明されたが、本発明は、液体による
処理はないが、屈曲自在の内張りにこれのうしろに流路
を与えるのが望ましい場合のような他のガス流に対して
も適用できる。本発明は上述の例示の実施例又は変更例
に限定されるのではなく、特許請求の範囲ｌこより限定
されたような範囲内で変更されてよい。

【図面の簡単な説明】

第７図は本発明を具体化した状態調節基又は吸収塔又は
反応塔の略図、第２図は本発明の詳細を例示した拡大破
断横断面図である。 ／・・ガス処理装置、λ・・中空通路、３・・延長部、
グ・・入口、５・・ノズル、７・・同張り、１０・・導
線、／ｌ・・流体供給口、／２・・間隙空間、／ｌ・・
出口、２１・・フランジ、２２・・締め付はリング、２
３・・締結共、２！−・・温度制御器、２７・・流量制
御器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ　粒子混入ガスを処理するため、通路を形成する堅固
   な円周壁装置を有し、該通路はこの通路を貫流させるた
   めの前記ガスを導入するための入口端部を有し、そして
   前記入口端部における。前記ガス流内に状態調節する液
   体を噴射するための装置を有している処理装置において
   、屈曲自在の内張りが前記入口端部に隣接した前記壁装
   置内に円周方向に伸びており、そして該内張りは、前記
   堅固な壁装置に隣接した前記ガス流に向かい合って装着
   され且つ該壁装置に関して自由に運動することを特徴と
   する粒子混入ガスの処理装置。 ユ　屈曲自在の内張りは薄い板状材料から成ることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の粒子混入ガスの処
   理装置。 ３　前記内張りは液体とガスとの両方を通さないプラス
   チックから成る薄い板状の屈曲自在の材料であることを
   特徴とする特許請求の範囲第７項又は第２項に記載の粒
   子混入ガスの処理装置。 °　内張りは低い摩擦係数を有し、ガラス繊イ准で補強
   された薄い板状のプラスチックから成ることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項から第３項才でのいずれか１つ
   に記載の粒子混入ガスの処理装置。 プラスチックはポリテトラフルオロエチレンであること
   を特徴とする特許請求の範囲第ダ項記載の粒子混入ガス
   の処理装置。 内張りは円周壁装置の形状に従う形状を有していること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項から第５項才でのい
   ずれか７つに記載の粒子混入ガスの処理装置。 前記壁装置及び前記内張りは中空の円筒形状から成り且
   つそれらの間に環状の間隙空間を与えるため隔置されて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粒子
   混入ガスの処理装置。 と　壁装置の内側及び内張りの間の前記間隙空間と連通
   し′た口と、流体媒体を前記口に供給して前記間隙空間
   内に流す供給装置とを備えたことを特徴とする特許請求
   の範囲第７項記載の粒子混入ガスの処理装置。 ９　流体媒体の温度を制御し且つ前記内張りと熱交換を
   行なう、前記供給装置にある温度制御装置を備えたこと
   を特徴とする特許請求の範囲第ｇ項記載の粒子混入ガス
   の処理装置。 ７θ　前記間隙空間に内力１う流体媒体の供給量を可変
   し、それにより屈曲自在の薄板状材料かり）ら成る前記
   内張りそたゎすせる、前記供給装置にある流量制御装置
   を備えたことを特徴とする特許請求の範囲第を項記載の
   粒子混入ガスの処理装置。 ｌ／　前記壁装置内に緊張して前記屈曲自在の内張りを
   維持する装着装置を備えたことを特徴とする特許請求の
   範囲第１項から第７０項才でのいずれか７つに記載の粒
   子混入ガスの処／ユ　前記壁装置は上端に入口突部を有
   する直立した通路を備え、前記装Ｎ装置は、上端で内張
   りを支持しそして内張りを緊張して維持するため同張り
   の下端にある重りを支持する装置を含んでいるこ６を特
   徴とする特許請求の範囲第１／項記載の粒子混入ガスの
   処理装置。 ／３．　　前記処理装置は状態調節基又は吸収塔又は反
   応塔であり、前記噴射装置はスラリをガス流内に噴射下
   るためのノズルを備えていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項力１ら第７２項までのいずれか／っに記載
   の粒子混入ガスの処理装置。 ／Ｘ　前記内張り材料は繊維又は箔を含むことを特徴と
   する特許請求の範囲第１項から第７３項までのいずれか
   ７つに記載の粒子混入ガスの処理装置。 ／ｊ：　　１７′３張りはその重ｉを減らすため開口し
   た溝穴を備えていることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項力）ら第１ダ項までのいずれか／っに記載の粒子混
   入ガスの処理装置。 ｌべ　前記円張りは軸方向又は長さ方向に分割されてお
   り、該分割部は別個に支持され１っ冥質的に連続した内
   張りを与えるため重複していることを特徴とする特許請
   求の範囲第７項から第１ｊ項までのいずれか１つに記載
   の粒子混入ガスの処理装置。 ／２　ガス流を処理するため、一端では前記ガス流を導
   入するための入口を有し他端では前記において、屈曲自
   在の円張りが前記壁装置に隣接した前記ガス流に向かい
   合って装着され、そして該内張りは、この内張りと前記
   壁装置との間に可変の間隙空間を与えるため前記壁装置
   力）ら遠ざ力）ｐたり該壁装置ｌこ内力１つたり自由に
   運動し、前記内張りは前記壁装置の円周方向に且つほぼ
   前記一端から前記他端に向かって長さ方向に伸びており
   、前記間隙空間と連通した口と、流体媒体を前記口に供
   給して前記間隙空間内に流Ｔ供給装置とを備えたことを
   特徴とする粒子混入ガスの処理装置。 ／ｌ　前記壁装置は中空の円筒状構造体を備えており、
   前記円張りは円筒形状であり、そして前記円筒状構造体
   に関する内張りの中径方向又は円周方向の運動を与えな
   がら内張りの長さ方向の運動を制限するため前記内張り
   を緊張して装着する装置を備えたことを特徴とする特許
   請求の範囲第７７項記載の粒子混入ガスの処理装置。 １５！　　前記流体媒体の温度を制御し、そして前記流
   体媒体を供給して通路の温度を調整Ｔる前記供給装置に
   ある熱交換器を備えたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１７項又は第１ざ項に記載の粒子混入ガスの処理装置
   。 詔　前記流体媒体の流ｔを可変し、そして前記流体媒体
   を供給して前記内張りをたわ才せる前記供給装置にある
   流量制御装ｆｉｔを備えたことを特徴とする特許請求の
   範囲第１り項、第１を項又は第７９項に記載の粒子混入
   ガスの処理装置