JPS5959244A - 気相流動層反応器 - Google Patents
気相流動層反応器Info
- Publication number
- JPS5959244A JPS5959244A JP16669082A JP16669082A JPS5959244A JP S5959244 A JPS5959244 A JP S5959244A JP 16669082 A JP16669082 A JP 16669082A JP 16669082 A JP16669082 A JP 16669082A JP S5959244 A JPS5959244 A JP S5959244A
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- JP
- Japan
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- particles
- gas
- reactor
- dispersing plate
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- Prior art date
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- Granted
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/44—Fluidisation grids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1872—Details of the fluidised bed reactor
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
従来の気相流動層反応器は、例えば、第１図に示すよう
に、反応器本体１の内部にガス分散板２を設け、このガ
ス分散板２上に流動層６を形成する構造のものである。
に、反応器本体１の内部にガス分散板２を設け、このガ
ス分散板２上に流動層６を形成する構造のものである。
しかし、このような反応器でオレフイン、などの気相重
合反応を行なうと、第１図のａ部を拡大した第２図に示
すように、生成粒子等がガス分散板２の取付は箇所直上
の反応器本体１の内壁面に全周に亘って付着して粒子塊
状物４を短期間（例えば１週間以内）に生成し、このた
め反応器力長期連続運転が不可能となってしまう。この
粒子塊状物４の生成原因としては、フローノぐターンか
推定され、開放点検によりその確認ができた。
合反応を行なうと、第１図のａ部を拡大した第２図に示
すように、生成粒子等がガス分散板２の取付は箇所直上
の反応器本体１の内壁面に全周に亘って付着して粒子塊
状物４を短期間（例えば１週間以内）に生成し、このた
め反応器力長期連続運転が不可能となってしまう。この
粒子塊状物４の生成原因としては、フローノぐターンか
推定され、開放点検によりその確認ができた。
すなわち流動層内の気泡は流動層中央部に集中する傾向
かあり＼また、生成粒子は反応器本体１の内壁面付近を
落下する。このため、カス分散板２の直上の内壁面付近
で上昇気泡と落下粒子とが衝突し、その領域で粒子が滞
留し易くなり、また、重合反応による粒子の粘着性の増
大により粒子同士が相互に結合し、さらに重合によりし
だいに大きくなり、ついに粒子塊状物４を形成してガス
分散板２のガス通過口を閉塞させていると判断される。
かあり＼また、生成粒子は反応器本体１の内壁面付近を
落下する。このため、カス分散板２の直上の内壁面付近
で上昇気泡と落下粒子とが衝突し、その領域で粒子が滞
留し易くなり、また、重合反応による粒子の粘着性の増
大により粒子同士が相互に結合し、さらに重合によりし
だいに大きくなり、ついに粒子塊状物４を形成してガス
分散板２のガス通過口を閉塞させていると判断される。
そこで、本発明は、上述の生成原因に対処するためにな
されたもので、上記のような塊状物の生成によりガス分
散板のガス通過口の閉塞をもたらすことのない気相流動
層反応器を提供することを目的とする。
されたもので、上記のような塊状物の生成によりガス分
散板のガス通過口の閉塞をもたらすことのない気相流動
層反応器を提供することを目的とする。
このため、本発明の気相流動層反応器は、内部に設けた
カス分散板上に流動層を形成するようにした気相流動層
反応器において、反応器本体の内径を、カス分散板の取
（＝Ｊり箇所に向って該ガス分散板の上方向から漸次小
さくなるようにし、しかも該カス分散板に接触して一定
の高さの垂直壁を有することを特徴とする。
カス分散板上に流動層を形成するようにした気相流動層
反応器において、反応器本体の内径を、カス分散板の取
（＝Ｊり箇所に向って該ガス分散板の上方向から漸次小
さくなるようにし、しかも該カス分散板に接触して一定
の高さの垂直壁を有することを特徴とする。
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第３図において、反応器本体１の内部にガス分散板２が
設けられており、このカス分散板２の上に流動床６が形
成される。第４図は、第３図のｂ部を拡大したもので、
反応器本体１の内径がガス分散板２の数句は箇所に向っ
てガス分散板２の上方向から漸次小さくなるようになっ
て、ガス分散板２の直上の反応器本体１の内壁面の全周
に亘って傾斜壁６を形成している。
設けられており、このカス分散板２の上に流動床６が形
成される。第４図は、第３図のｂ部を拡大したもので、
反応器本体１の内径がガス分散板２の数句は箇所に向っ
てガス分散板２の上方向から漸次小さくなるようになっ
て、ガス分散板２の直上の反応器本体１の内壁面の全周
に亘って傾斜壁６を形成している。
次に第４図に示される傾斜壁６の大きさおよび形状を示
すＷ、 、 Ｈ，、θｌの寸法を決定する基準について
述べる。
すＷ、 、 Ｈ，、θｌの寸法を決定する基準について
述べる。
（Ａ） Ｗｌ決定の基準。
Ｗｌは、ガス分散板２から発生する気泡の大きさにより
大きく左右されるものである。ノＪ゛ス分散板２から発
生する気泡の大きさに比例する。
大きく左右されるものである。ノＪ゛ス分散板２から発
生する気泡の大きさに比例する。
したかつて、Ｗｌは流動層反応器のサイズではなく、流
動層反応器に使用されるカス分散板２より発生する気泡
径のサイズにより決定されるものである。
動層反応器に使用されるカス分散板２より発生する気泡
径のサイズにより決定されるものである。
（Ｂ） Ｈ＋決定の基準；
Ｈ，もまた使用するガス分散板２により決定されるもの
である。多孔型カス分散板を使用する場合はカス流れ（
ジェットの流れ方向）は垂直方向であるためにＨ，＝
Ｏでよい。
である。多孔型カス分散板を使用する場合はカス流れ（
ジェットの流れ方向）は垂直方向であるためにＨ，＝
Ｏでよい。
（Ｃ）θ１決定の基準：
θ１は操作粒子の操作条件下における性状とガス流速に
より決定される因子である。基本的には操作条ｆ４”１
−における粒子の安息角以上であればよい。すなわち、
８８°≧（操作条件下の粒子の安、け角）くθ１〈９０
°。
より決定される因子である。基本的には操作条ｆ４”１
−における粒子の安息角以上であればよい。すなわち、
８８°≧（操作条件下の粒子の安、け角）くθ１〈９０
°。
しかし、実際に安息角を測定する条件は操作条件と大幅
に異なるために、粒子の粘着性等はかなり大幅に小さく
なるので安息角は小さ目に測定されている点に十分に留
意する必要がある。
に異なるために、粒子の粘着性等はかなり大幅に小さく
なるので安息角は小さ目に測定されている点に十分に留
意する必要がある。
またガス流速を増大させれば、それだけ粒子循環量が増
大するので、それだけ傾斜壁ての動きは良くなる方向に
進む。
大するので、それだけ傾斜壁ての動きは良くなる方向に
進む。
上述したように、本発明の気相流動層反応器は、反応器
本体１の内壁面に傾斜壁６を形成するために、本発明に
よれば、傾斜壁６がガス分散板」二の気泡と粒子の流れ
を制御し、気泡への粒子の流れ或いは′気泡の粒子取り
込みを円滑にするので、本体内壁面に接触する粒子は殆
んど落下して内壁面に付着することがないから前述した
粒子塊状物４は生成しない。
本体１の内壁面に傾斜壁６を形成するために、本発明に
よれば、傾斜壁６がガス分散板」二の気泡と粒子の流れ
を制御し、気泡への粒子の流れ或いは′気泡の粒子取り
込みを円滑にするので、本体内壁面に接触する粒子は殆
んど落下して内壁面に付着することがないから前述した
粒子塊状物４は生成しない。
したがって、本発明によれば、長期間に亘つて運転を実
施することが可能となる。
施することが可能となる。
第１図は従来の気相流動層反応器の一例を示した説明図
、第２図はそのａ部の拡大図、第３図は本発明の気相流
動１層反応器の一例の説明図、第４図はそのｂ部の拡大
図である。 １・・反応器本体、２・・カス分散板、６・・流動層、
４・・・粒子塊状物、５ ・カス溜室、６ 傾斜壁。 代理人 弁理士 小 川 信 − 弁理士 野 口 腎 照 弁理士 斎 下 和 彦
、第２図はそのａ部の拡大図、第３図は本発明の気相流
動１層反応器の一例の説明図、第４図はそのｂ部の拡大
図である。 １・・反応器本体、２・・カス分散板、６・・流動層、
４・・・粒子塊状物、５ ・カス溜室、６ 傾斜壁。 代理人 弁理士 小 川 信 − 弁理士 野 口 腎 照 弁理士 斎 下 和 彦
Claims (1)
- 流動層反応器内部にガス分散板を設置し、該ガス分散板
」二に流動層を形成するようにした気相流動層反応器に
おいて、反応器本体の内径を、ガス分散板の取付は箇所
に向って該ガス分散板の上方から漸次小さくなるように
し、しかも該ガス分散板に接触して一定の高さの垂直壁
を有している気相流動層反応器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16669082A JPS5959244A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 気相流動層反応器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16669082A JPS5959244A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 気相流動層反応器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5959244A true JPS5959244A (ja) | 1984-04-05 |
| JPH0240370B2 JPH0240370B2 (ja) | 1990-09-11 |
Family
ID=15835927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16669082A Granted JPS5959244A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 気相流動層反応器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5959244A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5213768A (en) * | 1987-06-30 | 1993-05-25 | Bp Chemicals Ltd. | Fluidized bed apparatus and process for feeding gas to a fluidized bed apparatus |
| US7323152B2 (en) | 2001-07-27 | 2008-01-29 | Johnson Matthey Plc | Catalyst or sorbent beds |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5213476A (en) * | 1975-07-23 | 1977-02-01 | Babcock Hitachi Kk | Serial multi-stage fluidized bed reaction furnace with a gas diffusing apparatus |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP16669082A patent/JPS5959244A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5213476A (en) * | 1975-07-23 | 1977-02-01 | Babcock Hitachi Kk | Serial multi-stage fluidized bed reaction furnace with a gas diffusing apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5213768A (en) * | 1987-06-30 | 1993-05-25 | Bp Chemicals Ltd. | Fluidized bed apparatus and process for feeding gas to a fluidized bed apparatus |
| US7323152B2 (en) | 2001-07-27 | 2008-01-29 | Johnson Matthey Plc | Catalyst or sorbent beds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0240370B2 (ja) | 1990-09-11 |
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