JPS5951571A - タ−ンオフ可能なサイリスタ - Google Patents
タ−ンオフ可能なサイリスタInfo
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- JPS5951571A JPS5951571A JP58150120A JP15012083A JPS5951571A JP S5951571 A JPS5951571 A JP S5951571A JP 58150120 A JP58150120 A JP 58150120A JP 15012083 A JP15012083 A JP 15012083A JP S5951571 A JPS5951571 A JP S5951571A
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- JP
- Japan
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- emitter
- turn
- cathode
- cyrisk
- anode
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/72—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices having more than two PN junctions; having more than three electrodes; having more than one electrode connected to the same conductivity region
- H03K17/73—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices having more than two PN junctions; having more than three electrodes; having more than one electrode connected to the same conductivity region for dc voltages or currents
- H03K17/732—Measures for enabling turn-off
Landscapes
- Thyristors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明のA’Mする技術分野〕
本発明は、半々L体素体がJyアノード1lI屯極に接
触されV4接する1)ベース層を備えたnエミッタと、
アノード仙11君鯉に接触されlyt接するnベース層
を備んたnエミッタとを有し、その場合両ベース層はp
n接合によって互に分離されており、エミッタの少なく
とも多数のエミッタ部分よりなり、またこのエミッタ部
分の縁部帯域に、それぞれn tp+エミッタ部分に挿
入されたp (nl半導体領域、■)(nlベース層の
部分頭載およびその間に存在するチャネル領域を包括し
、その場合チャネル帯域は半導体素体の界+M+に対し
て絶縁され、制御端子を備えたゲートで偉われているス
イッチトランジスタを備えたターンオフ用能な→)−イ
リスクに関する。
触されV4接する1)ベース層を備えたnエミッタと、
アノード仙11君鯉に接触されlyt接するnベース層
を備んたnエミッタとを有し、その場合両ベース層はp
n接合によって互に分離されており、エミッタの少なく
とも多数のエミッタ部分よりなり、またこのエミッタ部
分の縁部帯域に、それぞれn tp+エミッタ部分に挿
入されたp (nl半導体領域、■)(nlベース層の
部分頭載およびその間に存在するチャネル領域を包括し
、その場合チャネル帯域は半導体素体の界+M+に対し
て絶縁され、制御端子を備えたゲートで偉われているス
イッチトランジスタを備えたターンオフ用能な→)−イ
リスクに関する。
そのようなサイリスクの消弧のために、電・(礁を介し
て外部掃き出し電流υ叡からもたらされる負の掃き出し
インパルス′屯流が、pおよびnベースの過剰の電子・
正孔プラズマのうち正孔の減少に導くようにnベースを
働らかせることは知られている。プラズマの電子はその
ときもはや空間重荷により打消されず、サイリスクのア
ノードに回って流れていかなけれはならない。これによ
つ−CCプラズマ先ずこの゛「χ払の周囲に、それから
11エミツクの下のさらに離れた1直城中に11]]陣
t(される。
て外部掃き出し電流υ叡からもたらされる負の掃き出し
インパルス′屯流が、pおよびnベースの過剰の電子・
正孔プラズマのうち正孔の減少に導くようにnベースを
働らかせることは知られている。プラズマの電子はその
ときもはや空間重荷により打消されず、サイリスクのア
ノードに回って流れていかなけれはならない。これによ
つ−CCプラズマ先ずこの゛「χ払の周囲に、それから
11エミツクの下のさらに離れた1直城中に11]]陣
t(される。
その場合、サイリスクを:I[11じて流旧、る1’J
荷電b11はプラズマが次第に収A′X11する1祭に
先ずはとんとなくなり、それ故フラズマ中のキャリア密
1場が先ず高まり、それが所期の目標すなわちプラズマ
の(1!ンき出しをははむ欠点がある。従って、Il、
11えは1()OAの貝荷亀流の際に50AにJ、でな
るよ′)な十分大きなMき出しインパルスへ流か必2で
ある。このインパルス電流の3Xαき出しに必友な振幅
がイ;fられないならば、プラズマの収縮(J/lL行
しない才まである。そのときサイリスクは実際には低減
されない負(W]”di、流を収縮したブラスマ吉共に
7.jZかねはならず、それは状況によってはサイリス
クの破屡をもたらす結果となる。
荷電b11はプラズマが次第に収A′X11する1祭に
先ずはとんとなくなり、それ故フラズマ中のキャリア密
1場が先ず高まり、それが所期の目標すなわちプラズマ
の(1!ンき出しをははむ欠点がある。従って、Il、
11えは1()OAの貝荷亀流の際に50AにJ、でな
るよ′)な十分大きなMき出しインパルスへ流か必2で
ある。このインパルス電流の3Xαき出しに必友な振幅
がイ;fられないならば、プラズマの収縮(J/lL行
しない才まである。そのときサイリスクは実際には低減
されない負(W]”di、流を収縮したブラスマ吉共に
7.jZかねはならず、それは状況によってはサイリス
クの破屡をもたらす結果となる。
他方、西ドイツ国l酊許出fy、7+(公青第2945
324号公報から、消弧の目的のために有効的にスイッ
チングされる。制御可能なエミッタ・ベース短絡が公知
である。→ノイリスタの消弧のために接続される外部h
ttき出し電流電源はしかしこの場合備えられない。
324号公報から、消弧の目的のために有効的にスイッ
チングされる。制御可能なエミッタ・ベース短絡が公知
である。→ノイリスタの消弧のために接続される外部h
ttき出し電流電源はしかしこの場合備えられない。
本発明は正孔・電子プラズマの急速で有効な収縮を保ル
市する掃き出し電流電源か接続できるターンオフ用能な
→ノ′イリスタを提供することを目的さし一〇いる。
市する掃き出し電流電源か接続できるターンオフ用能な
→ノ′イリスタを提供することを目的さし一〇いる。
この1」的は、本発明によれはp(用半47体領域が’
+11.抑を介してカソード導体(アノー支゛導体)と
接続さ第1.ているiii極により接触されており、′
電源の止(負)極がカソード1111 (アノード側)
に配置されていることによって速成される。
+11.抑を介してカソード導体(アノー支゛導体)と
接続さ第1.ているiii極により接触されており、′
電源の止(負)極がカソード1111 (アノード側)
に配置されていることによって速成される。
本う^QJ4によってイ;)ることかできる利点は、タ
ーンオフ’rlj、流+lIXにより生ずる掃き出しイ
ンパルス電流が、→ノ″イリスタ面にわたって分布され
た多数のJ、第4所に同時に、しかもサイリスクヘース
の甲にはめ込まれたエミッタjXl(分の縁部イik賊
に集?’、?[さイ′1.たスイッチトランジスタを介
してザイリスタヘースに導かれることにある。これ1こ
よって掃き出し・rンバルスTKiが個々のエミッタ部
分の下のi(1,子・正孔プラズマの同時の収縮現象を
引き起こし、その結果ターンオフ過程の十分均一な21
1(行がサイリスクの全面にイつたって保糺されること
が達せられる。M I S を界効果トランジスタとし
て4°14成されたスイッチトランジスタは、ぞのQ合
エミッタ1タト分の縁部帯域にサイリスクのエミッタ面
積の−761(分をそれに対して共用するこさかCきる
ように集積されている。
ーンオフ’rlj、流+lIXにより生ずる掃き出しイ
ンパルス電流が、→ノ″イリスタ面にわたって分布され
た多数のJ、第4所に同時に、しかもサイリスクヘース
の甲にはめ込まれたエミッタjXl(分の縁部イik賊
に集?’、?[さイ′1.たスイッチトランジスタを介
してザイリスタヘースに導かれることにある。これ1こ
よって掃き出し・rンバルスTKiが個々のエミッタ部
分の下のi(1,子・正孔プラズマの同時の収縮現象を
引き起こし、その結果ターンオフ過程の十分均一な21
1(行がサイリスクの全面にイつたって保糺されること
が達せられる。M I S を界効果トランジスタとし
て4°14成されたスイッチトランジスタは、ぞのQ合
エミッタ1タト分の縁部帯域にサイリスクのエミッタ面
積の−761(分をそれに対して共用するこさかCきる
ように集積されている。
本発明によるサイリスクの望H1しい発展として、′「
lt源が、その1」!、極側の端子が別のij);碌と
接続されたコンデンサによって形成さイ′7.でいる。
lt源が、その1」!、極側の端子が別のij);碌と
接続されたコンデンサによって形成さイ′7.でいる。
このように構成されたサイリスクにおいて、コンチン→
ノを→ノーイリスタのオン状態においで低い山;流によ
り光1ijすることができる利点が生する。この光II
1.は、iii、源が1a物とカソード、Qf体(アノ
ード2、“−Nイ、)に挿入された抵抗のサイリスタ(
illの端子との++S1にJ?i II”PLされた
コンデンサによって形成されているサイリスクの場合に
は負(8J ’ffl流によって自動的に行われる。
ノを→ノーイリスタのオン状態においで低い山;流によ
り光1ijすることができる利点が生する。この光II
1.は、iii、源が1a物とカソード、Qf体(アノ
ード2、“−Nイ、)に挿入された抵抗のサイリスタ(
illの端子との++S1にJ?i II”PLされた
コンデンサによって形成されているサイリスクの場合に
は負(8J ’ffl流によって自動的に行われる。
以F図を引用しC本発明を詳4+1に説明する。
第1図に、四つの連続した交互に異なる4電形の層を有
する、ドーピングされた半導体材料、例えばシリコンか
らなる半導体素体を示す。このうちn形層1a、lbは
nエミッタ、p形層2はpベース、n形層3はnベース
、そしてp形ノ鍔4はnエミッタとよばれる。nエミッ
タは導電材料、例えはアルミニ1クムからなり、端子A
を壱するアノード側電極5を備えており、−−一方nエ
ミッタは端子Kを備んた導電材料、例えばアルミニウム
からなるカソード側%tMi6a 、6 bにより接触
されている。
する、ドーピングされた半導体材料、例えばシリコンか
らなる半導体素体を示す。このうちn形層1a、lbは
nエミッタ、p形層2はpベース、n形層3はnベース
、そしてp形ノ鍔4はnエミッタとよばれる。nエミッ
タは導電材料、例えはアルミニ1クムからなり、端子A
を壱するアノード側電極5を備えており、−−一方nエ
ミッタは端子Kを備んた導電材料、例えばアルミニウム
からなるカソード側%tMi6a 、6 bにより接触
されている。
部分1aおよび1bを除外すれは、第1図に示された半
導体素体は軸7に回転対称に形成された平らな円盤を有
する。1aおよび1bは、図の面に垂直に実質的に半導
体素体の全界面8にわたってそれぞれ延ひる半導体素体
にはめ込まれた二つの条状のnエミッタの部分を示す。
導体素体は軸7に回転対称に形成された平らな円盤を有
する。1aおよび1bは、図の面に垂直に実質的に半導
体素体の全界面8にわたってそれぞれ延ひる半導体素体
にはめ込まれた二つの条状のnエミッタの部分を示す。
部分1a、lbはその方で、図の面に垂直である軸7を
含む平面に対して対称である。従って1bに対称な別の
そのようなエミッタ部分は半7j4’1体素体の図示さ
れない部分に存在する。nエミッタの各部分、例えは1
aあるいは11)は、カソード側の重積の対応する部分
、例えば6aあるいは6bによって接触され、その場合
その電4ijlj部分は互に小包的に接続され、端子K
に導かれている。
含む平面に対して対称である。従って1bに対称な別の
そのようなエミッタ部分は半7j4’1体素体の図示さ
れない部分に存在する。nエミッタの各部分、例えは1
aあるいは11)は、カソード側の重積の対応する部分
、例えば6aあるいは6bによって接触され、その場合
その電4ijlj部分は互に小包的に接続され、端子K
に導かれている。
端子Aから例えば1oΩの負荷抵抗Z4−弁して、例え
は+1000 Vの電圧Uを供給する電圧源Sに達する
。このFL’4 fl’rsの第二の端子りは接地電位
にあり、Kと接続されている。
は+1000 Vの電圧Uを供給する電圧源Sに達する
。このFL’4 fl’rsの第二の端子りは接地電位
にあり、Kと接続されている。
nエミッタの部分1 a 、 11)の中で島状のp形
半導体領域9ないし11がはめ込まれており、それは界
面8まで延ひてここで1に檀12ないし14によって接
触される。この電極は電源15を介してカソード導体1
6と接続された結接点24に導かれている。半尋体韻域
9、pベース2の1年分領域17およびチャネル領域を
形成し、薄い霜1気絶縁層19によって界面8と分離さ
れたゲート20により覆われたnエミッタ部分1aの縁
部領域18がゲート20の端子Gを介して制御可能なM
I8丁(Y1界効果スイッチトランジスタTriを形成
する。
半導体領域9ないし11がはめ込まれており、それは界
面8まで延ひてここで1に檀12ないし14によって接
触される。この電極は電源15を介してカソード導体1
6と接続された結接点24に導かれている。半尋体韻域
9、pベース2の1年分領域17およびチャネル領域を
形成し、薄い霜1気絶縁層19によって界面8と分離さ
れたゲート20により覆われたnエミッタ部分1aの縁
部領域18がゲート20の端子Gを介して制御可能なM
I8丁(Y1界効果スイッチトランジスタTriを形成
する。
これは第一のスイッチ状態にpベース2を電極12吉低
抵抗で接続する。fR造9.17.18,19゜20が
エンハンスメント型の電界効果トランジスタを形成する
という前提のもとでは、それを介して低抵抗接続が通る
p形成転層21を界面8の20の下に生じさせるために
は端子()に負の制御電圧−UGを供給しなければなら
ない。Trlの第二のスイッチ状態、すなわち制御電圧
−UGを遮断した場合は、低抵抗接続が中断されている
。nエミッタの部分lb中にはめ込まれた島状のp形半
導体1】1膚域lOおよび11の使用のもとでこれに類
似したスイッチトランジスタT(l r 2およびTr
3が界面8の」−1・こ備えられ、そのゲート22おに
び23はス・高子Gと接続されている。1itr2はそ
のスイッチ状態に従ってpベース2とtlL4+13の
間の低抵抗接続を、’l’ r 3は2と′屯牛匹14
の間のそのような接続を形成する。さらにサイリスタの
図示されない部分に、軸7を含む平面に関してl1lr
1ないしIll r3に対して対称に配置σ、され、そ
れらと−諸に端子Gを介して制御されるスイッチトラン
ジスタを備える。
抵抗で接続する。fR造9.17.18,19゜20が
エンハンスメント型の電界効果トランジスタを形成する
という前提のもとでは、それを介して低抵抗接続が通る
p形成転層21を界面8の20の下に生じさせるために
は端子()に負の制御電圧−UGを供給しなければなら
ない。Trlの第二のスイッチ状態、すなわち制御電圧
−UGを遮断した場合は、低抵抗接続が中断されている
。nエミッタの部分lb中にはめ込まれた島状のp形半
導体1】1膚域lOおよび11の使用のもとでこれに類
似したスイッチトランジスタT(l r 2およびTr
3が界面8の」−1・こ備えられ、そのゲート22おに
び23はス・高子Gと接続されている。1itr2はそ
のスイッチ状態に従ってpベース2とtlL4+13の
間の低抵抗接続を、’l’ r 3は2と′屯牛匹14
の間のそのような接続を形成する。さらにサイリスタの
図示されない部分に、軸7を含む平面に関してl1lr
1ないしIll r3に対して対称に配置σ、され、そ
れらと−諸に端子Gを介して制御されるスイッチトラン
ジスタを備える。
その電極は回路結接点24で市1伶12ないし14に並
列に接続されている。
列に接続されている。
電圧Uを印加した除、サイリスクは、例えばpベース2
に接触している点弧′「1が極25の端子A1に供給さ
れる正の点弧インパルス電流によって、p ヘ−7,2
トnベース3 カ?’<T、子・正比フラスマによって
満たされているオン状態にスイッチされる。
に接触している点弧′「1が極25の端子A1に供給さ
れる正の点弧インパルス電流によって、p ヘ−7,2
トnベース3 カ?’<T、子・正比フラスマによって
満たされているオン状態にスイッチされる。
その場合は本発明に対する点弧の種類は何の役もしない
。
。
サイリスクの消弧のためには端子0に負の制御r11・
電圧−UG、例えばインパ′ルス′i、:(fI=が印
加され、それによってゲー120 、22 、23など
の下に反転チャネル、例えば21が描成され、そのチャ
ネルを介して電11傘12ないし14なととpベース2
の間の低抵抗接続が通る。それによって′屯W15から
スイッチトランジスタ+1+rlないしTr3などを介
して個々のエミッタ部分、例えば1aにそれぞれ接する
nベースの部分領域、例えば17に供給される負の掃き
出しインパルス′Vに流が引き出される。
電圧−UG、例えばインパ′ルス′i、:(fI=が印
加され、それによってゲー120 、22 、23など
の下に反転チャネル、例えば21が描成され、そのチャ
ネルを介して電11傘12ないし14なととpベース2
の間の低抵抗接続が通る。それによって′屯W15から
スイッチトランジスタ+1+rlないしTr3などを介
して個々のエミッタ部分、例えば1aにそれぞれ接する
nベースの部分領域、例えば17に供給される負の掃き
出しインパルス′Vに流が引き出される。
鞘)き出しインパルス′帆流は、nベース2およびnベ
ース3の中に存在する電子・正孔プラズマの正孔の減少
に導く。それによってもはや空間電菊によって杓ち消さ
れないプラ、ズマの成子はアノード側の化1極5まで移
動する。この通柱によって11工ミツタ部分、例えば1
aおよび1bと並んで位1i9するnベースの部分領域
、例んば17から収縮する。電源J5−はその一合、プ
ラズマを形成する自由キャリアを、例えば数マイクロ秒
の時間にサイリスクから除去する大きさのサージ電流を
供給する。
ース3の中に存在する電子・正孔プラズマの正孔の減少
に導く。それによってもはや空間電菊によって杓ち消さ
れないプラ、ズマの成子はアノード側の化1極5まで移
動する。この通柱によって11工ミツタ部分、例えば1
aおよび1bと並んで位1i9するnベースの部分領域
、例んば17から収縮する。電源J5−はその一合、プ
ラズマを形成する自由キャリアを、例えば数マイクロ秒
の時間にサイリスクから除去する大きさのサージ電流を
供給する。
第2図は電dfA 15のコンデンサ151の形での望
ましい構成をホず。そのt@、 極4則の端子は26に
おいて接続される電源−263に連結されている。これ
は、コンデンサ15’を掃き出しインパルス電流の父性
の後に円ひ記入された極性をもつ最初の電圧に充電する
役目を持つ。実際の作動の際に連続する掃き出しインパ
ルス電流d流の間に比較的長い時間が存在し、その間に
サイリスクはオン状態に作!l1J7されるから、コン
デンサ15′を電11帛26aをブトして比較的低い゛
電流で充電チーることが可能である。
ましい構成をホず。そのt@、 極4則の端子は26に
おいて接続される電源−263に連結されている。これ
は、コンデンサ15’を掃き出しインパルス電流の父性
の後に円ひ記入された極性をもつ最初の電圧に充電する
役目を持つ。実際の作動の際に連続する掃き出しインパ
ルス電流d流の間に比較的長い時間が存在し、その間に
サイリスクはオン状態に作!l1J7されるから、コン
デンサ15′を電11帛26aをブトして比較的低い゛
電流で充電チーることが可能である。
第2図で(1別の第1図に対応する回路各部は既に用い
た符号を備えている。
た符号を備えている。
蹟、3図は、第1図のサイリスクの第2図の電源26a
を他の回路部によって1dき換えられた別の構成を示す
。この場合カソードη1体にオーム性抵抗27が挿入さ
れており、そのサイリスク側の端子28はコンデンサl
5’と接続されている。〆IUJ二の端子29は整流
器30のカソードと接続され、そのアノードは電流制限
抵抗31をう1して回路結接点24に結合されている。
を他の回路部によって1dき換えられた別の構成を示す
。この場合カソードη1体にオーム性抵抗27が挿入さ
れており、そのサイリスク側の端子28はコンデンサl
5’と接続されている。〆IUJ二の端子29は整流
器30のカソードと接続され、そのアノードは電流制限
抵抗31をう1して回路結接点24に結合されている。
この回路においてオン状態で流れる負荷電流iによって
゛批抗27に「II。
゛批抗27に「II。
圧降下が生じ、それか整流器を介して図小された極性で
のコンデンサ151の充lb、にgチく。測13図の残
りの回路部は第1.第2図の同じイリ刀の回路部に相当
する。
のコンデンサ151の充lb、にgチく。測13図の残
りの回路部は第1.第2図の同じイリ刀の回路部に相当
する。
第4図に示すサイリスクは、例えば点弧、電極25に端
子Z1を弁して供給される正の点弧インパルス電流によ
ってオン状態にスイッチングされるものである。ターン
オフのためには端子G′に正の制御し電圧UGl、例え
はインパルス′nt圧が印加され、それによってゲート
45ないし47の下に反転層、例えば53が形成され、
その反転層を介して成極36ないし38とnベース3と
の間のそれぞれの低抵抗接続がコ用る。それによってコ
ンデンサ40から、Ill r l +ないしl1lr
3+を介して部分4aおよび4bのそれぞれの横に接す
るnベースの部分領域、例えば42に供給される正の掃
き出しインパルス電流が引き出される。これによって、
スイッチングトランジスタIll r 1ないしTr3
によつ讐得られる♀述の効果に類似してnベース2と1
1ベース3の中に存在する電子・正孔プラズマの収束が
生する。
子Z1を弁して供給される正の点弧インパルス電流によ
ってオン状態にスイッチングされるものである。ターン
オフのためには端子G′に正の制御し電圧UGl、例え
はインパルス′nt圧が印加され、それによってゲート
45ないし47の下に反転層、例えば53が形成され、
その反転層を介して成極36ないし38とnベース3と
の間のそれぞれの低抵抗接続がコ用る。それによってコ
ンデンサ40から、Ill r l +ないしl1lr
3+を介して部分4aおよび4bのそれぞれの横に接す
るnベースの部分領域、例えば42に供給される正の掃
き出しインパルス電流が引き出される。これによって、
スイッチングトランジスタIll r 1ないしTr3
によつ讐得られる♀述の効果に類似してnベース2と1
1ベース3の中に存在する電子・正孔プラズマの収束が
生する。
サイリスタを確実にターンオフのために40から゛与え
られる掃き出しインパルス砥流はプラズマを形成する自
由キャリアを例えば数マイクロ秒の1時間にサイリスタ
から除去するほど大きくなければならない。
られる掃き出しインパルス砥流はプラズマを形成する自
由キャリアを例えば数マイクロ秒の1時間にサイリスタ
から除去するほど大きくなければならない。
第4図に示す実施例の発展は、nエミッタも例えは第1
図による1aおよび1bのように’69− k’Zの部
分に分割され、カソード側の制御可能なスイッチトラン
ジスタTrlないし’P−r3 f;′どが既に述べた
ように備えられることにある。この場合にIll r3
ないし+1+r3などはそれらの端子G/(第r図)を
介して、LIT r 1 lないしTr3′などはそれ
らの端子G+を介して制御される。前者は負の制御電圧
−UGにより、後者は正の制御TO1圧UGIによる。
図による1aおよび1bのように’69− k’Zの部
分に分割され、カソード側の制御可能なスイッチトラン
ジスタTrlないし’P−r3 f;′どが既に述べた
ように備えられることにある。この場合にIll r3
ないし+1+r3などはそれらの端子G/(第r図)を
介して、LIT r 1 lないしTr3′などはそれ
らの端子G+を介して制御される。前者は負の制御電圧
−UGにより、後者は正の制御TO1圧UGIによる。
もちろん第417.1に示す実施例におけるコンデンサ
4()は回路結接点39を介して、それをサイリスクの
オンの位相中に図示の極性て充電する別の′岨Wと接続
することができる。この場合は整流器5145よひ電0
1L制限抵抗52ならひにアノード導線中のオーム性抵
抗48は省かれる。
4()は回路結接点39を介して、それをサイリスクの
オンの位相中に図示の極性て充電する別の′岨Wと接続
することができる。この場合は整流器5145よひ電0
1L制限抵抗52ならひにアノード導線中のオーム性抵
抗48は省かれる。
本発明の上述の実施形式の変形ではエミッタ部分1a、
lbなどがそれ目体公知のよう−に’t’ll+ 7
(第1図)に関して回転対称に形成するこ吉もてきる。
lbなどがそれ目体公知のよう−に’t’ll+ 7
(第1図)に関して回転対称に形成するこ吉もてきる。
この場合には、部分1aに対して円形の飼方境界が生じ
、一方部分1bは円環の形を有する。
、一方部分1bは円環の形を有する。
さらにnエミッタが、直線状、環状あるいはそれ自体公
知のようにサイリスクの界面8にわたって分散する多数
のエミッタ部分1a、Ibなどに分割されていることも
てきる。個々のnエミッタ部分1a、lbなどは互につ
ながり合って形成されてもよい。これは特に、つながり
合ったエミッタ部分が、多数の空所を備えたエミツタ層
を形成することと屑するべきである。この場合もM I
S ’戚界効果トランジスタがエミッタ部分の縁1t
(IIに、すなわち上記空所内に配されている。
知のようにサイリスクの界面8にわたって分散する多数
のエミッタ部分1a、Ibなどに分割されていることも
てきる。個々のnエミッタ部分1a、lbなどは互につ
ながり合って形成されてもよい。これは特に、つながり
合ったエミッタ部分が、多数の空所を備えたエミツタ層
を形成することと屑するべきである。この場合もM I
S ’戚界効果トランジスタがエミッタ部分の縁1t
(IIに、すなわち上記空所内に配されている。
第1図を引用して述べたnエミッタ部分1a。
lbなどの構成ならひにそれの上述の変形は当然第4図
に示すnエミッタ部分4a、4bなどにも適用される。
に示すnエミッタ部分4a、4bなどにも適用される。
本発明は→ノ°イリスタのエミッタの縁部帯域ζ議■S
↑II、界効果トランジスタを集4t(L、、多数設け
られた1’lll ij己エミッタ哄域内に存在する異
なる4M?形のソース、ドレイン領域の電接とAfJ記
エミッタに接続されるカソードまたはアノードとの間に
ターンオフ時の掃き出し電流の電d5iを接続するもの
でこれによってサイリスタの消弧の際にpベースおよび
nベースに溢れる電子・正孔プラズマの掃き出しニ役立
つインパルス1E流を供給する。この結果ターンオフ過
程がサイリスクの全面にわたって一様に進行し、電流集
中がないのでサイリスクの(1!u壊のおこるおそれが
ない。また掃き出しインパルス電流の電源を、サイリス
クのオン状態中に低い電流で充電されるコンデンサによ
りf41単にtlり成することができる。
↑II、界効果トランジスタを集4t(L、、多数設け
られた1’lll ij己エミッタ哄域内に存在する異
なる4M?形のソース、ドレイン領域の電接とAfJ記
エミッタに接続されるカソードまたはアノードとの間に
ターンオフ時の掃き出し電流の電d5iを接続するもの
でこれによってサイリスタの消弧の際にpベースおよび
nベースに溢れる電子・正孔プラズマの掃き出しニ役立
つインパルス1E流を供給する。この結果ターンオフ過
程がサイリスクの全面にわたって一様に進行し、電流集
中がないのでサイリスクの(1!u壊のおこるおそれが
ない。また掃き出しインパルス電流の電源を、サイリス
クのオン状態中に低い電流で充電されるコンデンサによ
りf41単にtlり成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明により構成された→〕−イリスタの一実
施例の接続を原理的に示す回路図を含んだ断面図、第2
図は第1図のサイリスクの外部% f”Aの一実施例を
示す回路図、召33図は別の実KLi例を示す回路図、
第4図は本発明により構成されたサイリスクの別の実施
例を示す回路図を含んだげr面図である。 la、lb・・・nエミッタ、2・ pベース、3・・
nベース、4,4a、4b・、pエミッタ、9,10゜
1 +、 、 32p形領域、12.36・・相極、1
5・・・11(、d!+!、l 5’、 40・・・コ
ンデンサ、16・・・カソード導体541 アノ−じ導
体、26a・・・別の′4源、27.48・・・11′
1抗、3 (1、51・・・整流器。
施例の接続を原理的に示す回路図を含んだ断面図、第2
図は第1図のサイリスクの外部% f”Aの一実施例を
示す回路図、召33図は別の実KLi例を示す回路図、
第4図は本発明により構成されたサイリスクの別の実施
例を示す回路図を含んだげr面図である。 la、lb・・・nエミッタ、2・ pベース、3・・
nベース、4,4a、4b・、pエミッタ、9,10゜
1 +、 、 32p形領域、12.36・・相極、1
5・・・11(、d!+!、l 5’、 40・・・コ
ンデンサ、16・・・カソード導体541 アノ−じ導
体、26a・・・別の′4源、27.48・・・11′
1抗、3 (1、51・・・整流器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)半zn体素体がカソード側電極に接触され隣接する
pベース層を備えたnエミッタと、アノード11(す電
極に接触され隣接するpベース層を備えたpエミッタと
を有し、その場合両ベース層はpnM合によって互に分
離されており、エミッタの少なくとも多数のエミッタ部
分よりなり、またこのエミッタ部分の縁部帯域に、それ
ぞれn (pilエミッタ部分挿入さイア、たp (n
)半導体領域、p (n)ベース層の部分領域およびそ
の間に存在するチャネル領域を包括し、その場合チャネ
ル帯域は半導体素体の界1川に対して絶縁され、制御端
子を備えたゲートで憶われているスイッチトランジスタ
を備えたものにおいて、l) (用半導体領域が電源を
介してカソード導体(アノード導体)と接続された電極
により接触され、tiiJ記′ii、’ 7Js’1.
の正(2)極がカソード(アノード1n+j>に配置さ
れたことを特徴とするターンオフ可能なサイリスク。 2)特許請求の111Σ囲第1項記載のサイリスクにお
いて、電源力り゛、その基極側の端子が別の電源と接続
されたコンデンサによって形成されたことを特徴とする
ターンオフ可能なサイリスク。 3)LPf許請求の11ia囲第1狼記戦の→ノーイリ
スタにおいて、電源が電極とカソード当・1体(アノー
ド導体)に挿入された抵抗のサイリスク側瑞子との間に
従続されたコンデン→ノ°によって形成されたことを特
徴とするターンオフ0工能なサイリスク。 4)特許請求の範囲第3項記載のサイリスクにおいて、
コンデンサと挿入された抵抗からなる直列接続回路が整
流器に並列に接続さイア、たことを特徴とするターンオ
フ可能なサイリスク。 5)特許請求の範囲第4項記載の→ノ“イリスタにおい
て、電流制限抵抗が整流器に直列に配されたことを特徴
とするターンオフ0工能なサイリスク。 6)特許請求の範囲第1項ないしa35項のいずれかに
6己載のサイリスクにおいて、n Tl)lエミッタ部
分が相互につながり合って形成されたことを特徴とする
ターンオフ可能なサイリスク。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3230760A DE3230760A1 (de) | 1982-08-18 | 1982-08-18 | Abschaltbarer thyristor |
DE3230760.8 | 1982-08-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5951571A true JPS5951571A (ja) | 1984-03-26 |
JPH0126549B2 JPH0126549B2 (ja) | 1989-05-24 |
Family
ID=6171157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58150120A Granted JPS5951571A (ja) | 1982-08-18 | 1983-08-17 | タ−ンオフ可能なサイリスタ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4884114A (ja) |
EP (1) | EP0104390B1 (ja) |
JP (1) | JPS5951571A (ja) |
DE (2) | DE3230760A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0389862A3 (de) * | 1989-03-29 | 1990-12-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Abschaltbarer Thyristor |
US5381025A (en) * | 1989-08-17 | 1995-01-10 | Ixys Corporation | Insulated gate thyristor with gate turn on and turn off |
WO1991003078A1 (en) * | 1989-08-17 | 1991-03-07 | Ixys Corporation | Insulated gate thyristor with gate turn on and turn off |
DE69233690T2 (de) * | 1991-07-02 | 2008-01-24 | Nektar Therapeutics, San Carlos | Abgabevorrichtung für nebelförmige Medikamente |
JP2944840B2 (ja) * | 1993-03-12 | 1999-09-06 | 株式会社日立製作所 | 電力用半導体装置 |
DE4403431A1 (de) * | 1994-02-04 | 1995-08-10 | Abb Management Ag | Abschaltbares Halbleiterbauelement |
US6127723A (en) * | 1998-01-30 | 2000-10-03 | Sgs-Thomson Microelectronics, S.R.L. | Integrated device in an emitter-switching configuration |
KR102223095B1 (ko) * | 2020-10-26 | 2021-03-04 | 전은혜 | 지방분해주사용 약학적 조성물 및 그의 용도 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1317754A (ja) * | 1961-03-17 | 1963-05-08 | ||
US3343104A (en) * | 1964-07-30 | 1967-09-19 | Westinghouse Electric Corp | Gate turn-off device driving a power switching semiconductor device |
DE2801722A1 (de) * | 1978-01-16 | 1979-07-19 | Siemens Ag | Schaltungsanordnung zum herabsetzen der freiwerdezeit eines thyristors |
DE2825794C2 (de) * | 1978-06-13 | 1986-03-20 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Abschaltbarer Thyristor |
JPS5545274A (en) * | 1978-09-26 | 1980-03-29 | Hitachi Ltd | Gate circuit of gate turn-off thyristor |
DE7909286U1 (de) * | 1979-03-31 | 1980-12-04 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | In einem gehaeuse angeordneter gate- ausschaltbarer thyristor, welchem zur steuerung des ausschaltstromes ein separates halbleiter-schaltelement zugeordnet ist |
DE2945324A1 (de) * | 1979-11-09 | 1981-05-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit verbessertem schaltverhalten |
DE3018542A1 (de) * | 1980-05-14 | 1981-11-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit steuerbarem emitter-kurzschluss und verfahren zu seinem betrieb |
DE3018468A1 (de) * | 1980-05-14 | 1981-11-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit steuerbaren emitterkurzschluessen und verfahren zu seinem betrieb |
-
1982
- 1982-08-18 DE DE3230760A patent/DE3230760A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-07-19 US US06/515,175 patent/US4884114A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-08-11 EP EP83107968A patent/EP0104390B1/de not_active Expired
- 1983-08-11 DE DE8383107968T patent/DE3370900D1/de not_active Expired
- 1983-08-17 JP JP58150120A patent/JPS5951571A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0126549B2 (ja) | 1989-05-24 |
EP0104390A1 (de) | 1984-04-04 |
DE3230760A1 (de) | 1984-02-23 |
US4884114A (en) | 1989-11-28 |
EP0104390B1 (de) | 1987-04-08 |
DE3370900D1 (en) | 1987-05-14 |
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