JPS59500790A - High density printed wiring board - Google Patents

High density printed wiring board

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JPS59500790A
JPS59500790A JP50166283A JP50166283A JPS59500790A JP S59500790 A JPS59500790 A JP S59500790A JP 50166283 A JP50166283 A JP 50166283A JP 50166283 A JP50166283 A JP 50166283A JP S59500790 A JPS59500790 A JP S59500790A
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conductive
cladding
wiring board
resist
hole
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JP50166283A
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レイマン・ウイリアム・ジ−
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ヒユ−ズ・エアクラフト・カンパニ−
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  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 高密度プリント配線板 発明の技術的背景 1発明の技術分野 本発明は、プリント配線板に関し、特にプリント配線板の層に導体および挿込み 通路(feed−throughvias)が高密度に設けられた配線板に関す るものである。[Detailed description of the invention] High density printed wiring board Technical background of the invention 1 Technical field of invention The present invention relates to printed wiring boards, and more particularly, the present invention relates to printed wiring boards, and more particularly, to Concerning wiring boards with high density of feed-throughvias It is something that

2背景技術の説明 従来の多層タイプのプリント配線板の層に配置可能な導体の数量は、導体用のタ ーミナルを形成する銅製の大きなieウッドよって主唱して制御されてしまう。2. Explanation of background technology The number of conductors that can be placed on a layer of a conventional multilayer printed wiring board is It is controlled by the large copper IE wood that forms the terminal.

それぞれのパッドおよびバンドのクラスタ(束)によって導体用のチャネルまた は位置が妨害を受けてしまい、この結果、接続させるために、プリント配線板の 他の密度の低い層へこれら導体を移動させる必要があった。従来からこのような ノヤッドの機能としては電気的ならびに機械的なものがある。この電気的な機能 としては、例えば、パッドにおいて層内の挿込み孔または通路への電気的接続で ちり、出来る限!llパッドを小さなものとすることができる。他方、機織的機 能によって、最悪の許容値条件にある挿込み孔を先金に包囲できると共に、プリ ント配線板製進中において、挿込み孔の中および隣接部の金属がエツチング液に よって腐食されるのを防止することができる。従って、このパッドは極めて大き く製造しなければならず、このieウッド電気的機能を満足させるのに必要な太 きさより、更に大きく、標準で20ミル(百買面インチ)ぐらいにする必要があ る。Each pad and band cluster creates a channel or The position of the printed wiring board is disturbed and as a result, the printed wiring board must be It was necessary to move these conductors to other less dense layers. Traditionally, this kind of Noyad's functions include both electrical and mechanical functions. This electrical function For example, in a pad, an electrical connection to an insertion hole or passageway in a layer can be made. Dust, as much as you can! ll pad can be made small. On the other hand, weaving machine This feature allows the insertion hole with the worst tolerance conditions to be surrounded by the pre-metal, and During the process of making a printed wiring board, the metal inside and adjacent to the insertion hole may be exposed to the etching solution. Therefore, corrosion can be prevented. Therefore, this pad is extremely large. This IE wood must be manufactured with the required thickness to satisfy the electrical function. It needs to be larger than the size, and the standard size is about 20 mils (100 square inches). Ru.

特に、エツチングされた挿込み孔または通路を形成する従来のプロセスでは、銅 で二重にメ1.キされる誘電材料から成るコアを有するブランク(blank  )から開始される。この挿込み孔を形成するために、このブランクに貫通孔を形 成し、この孔を無電解重着および電気メッキされた銅を順次電着させて導電性を 帯びさせている。次に、フォトレジスト材料を、ブランク上の表面導体、島およ び孔以外のすべての露出した金属全体に亘ってパターン状に形成する。最後に、 錫−鉛ハンダによる追加の銅をメ1..キされた孔の周りおよび孔の中に電着さ せると共に、メッキされた孔の周りの導電材料上に電着させて島領域(1and  area )を形成スる。このフォトレジストを耐エツチング材料としてのハ ンダを用いて除去し、露出したメ、ツキ部分をエツチングしてブランクの表面上 に導体を形成すると共に、これをプリント配線板層中に形成する。従って、以上 から明らかなように、閉−ノ1ンダ・メ、ツキされた・モ、ドにu3電気的接続 段ならびに孔中の銅のエツチングに耐える手段としての機能が存在する。この場 合、これらメッキされた貫通孔が多層プリント配d ’V7.の内部層中の通路 (vias )であったならば、このノ・ンダ・メッキ&′i重ね合せられる前 にボンデングを補強するために剥離されていた。また、孔の周りおよび中にハン ダ・メッキする方法の他の方法として、これら孔を、エツチングする前にフォト レジストフィルムでテント状に包囲することがある。In particular, the traditional process of forming etched insertion holes or passageways So double me 1. A blank having a core made of a dielectric material to be ). To form this insertion hole, a through hole is formed in this blank. This hole is made conductive by sequentially electrodepositing electroless and electroplated copper. It has a tinge to it. Next, apply photoresist material to the surface conductors, islands and pattern across all exposed metal except holes. lastly, Add additional copper using tin-lead solder.1. .. electrodeposited around and in the drilled holes. The island areas (1 and 1 area) is formed. This photoresist is used as an etching-resistant material. Remove the exposed edges using a sander, and then etch the exposed areas on the surface of the blank. and forming the conductor in the printed wiring board layer. Therefore, above As is clear from There is a function as a means of resisting copper etching in steps and holes. this place In this case, these plated through-holes form a multilayer printed layout d'V7. passages in the inner layer of (vias), then this non-da plating &'i before being superimposed It was peeled off to reinforce the bonding. Also, use a handle around and in the hole. An alternative to de-plating is to photo-etch these holes before etching. It may be surrounded by a resist film like a tent.

エツチング中、挿込み貫通孔の中および周りに銅が堆積されるので防止するため に用い゛られる島領域の寸法に、以下の3要素によって決定される。先ず第1の 要素としては、一方のフォトレジストパターンから他方の74ターンまでに適当 なレジストレーションを与えるために、十分な許容値が必要、となることである 。To prevent copper build-up in and around the insertion hole during etching. The size of the island area used for this purpose is determined by the following three factors: First of all As an element, suitable from one photoresist pattern to 74 turns of the other. Sufficient tolerance is required to provide accurate registration. .

この代表的な値は10ミルである。例えはV進上の許容値のために、レジストイ メージを一方又は他方ヘシフトさせるとしても、これら孔を露出した銅で包囲す る必要がある。第2の要素としては、種々の孔の位置に許容値を与える必要があ ることである。これによって中心ずれの孔を補償でき、通常この目的の為に、孔 の直径より約6〜10ミル大きな孔を形成している。A typical value for this is 10 mils. For example, due to the tolerance value on the V base, the resist Surrounding these holes with exposed copper will shift the image to one side or the other. It is necessary to The second factor is the need to provide tolerances for the various hole locations. Is Rukoto. This allows compensation for off-center holes and is usually used for this purpose. The pores are approximately 6 to 10 mils larger than the diameter of the pores.

最後の要素としては、孔内の銅がエツチングされるのを保誇するために、島を更 に拡大する必要があることである。従って、予め決められた許容値は孔の直径よ り約4〜10ミルだけ大きな値とする。この結果、これらの許容値および必要条 件を合算したものは、孔より20〜30ミルも大きな島領域を形成する必要があ る。一般に、最小の孔の直径は135ミルであるから、島領域の最小値は335 〜435ミル、即ち孔の直径の2μ〜3倍となる。The final element is to replace the island to ensure that the copper in the hole is not etched. There is a need to expand this. Therefore, the predetermined tolerance value is Increase the value by about 4 to 10 mils. As a result, these tolerances and requirements In total, these should form an island area that is 20-30 mils larger than the hole. Ru. Generally, the minimum pore diameter is 135 mils, so the minimum island area is 335 mils. ~435 mils, or 2μ to 3 times the pore diameter.

以上のような大きな島領域の結果、導体密度が制限されると共に、メッキされた 貫通孔間の間隔は工業上の基準値で約50ミル(中心間)に制限されてしまう。As a result of these large island areas, conductor density is limited and plated The spacing between through holes is limited by industry standards to about 50 mils (center to center).

従って、導体の数を増加させる場合には、更に配線板層を設け、素子終端の所定 のセットを相互接続する必要がある。しかし乍ら、層の数量は減少させ、所定の 層内での密度を増大させることが望まれている。Therefore, when increasing the number of conductors, an additional wiring board layer is provided and the device terminations are It is necessary to interconnect a set of However, the number of layers can be reduced and It is desirable to increase the density within the layers.

更に最近では、ハーメチックリードレスキャリア(hermetic 1ead less carrier )が、20〜25ミルの中心間の終端の目的の為に 、盛んに用いられてきた。More recently, hermetic leadless carriers (hermetic leadless carriers) less carrier) for termination purposes between 20 and 25 mil centers. , has been widely used.

このように減少された間隔によって、従来の技術で達成できる密度より高い密度 でプリント配線板層を実現できる。This reduced spacing allows for higher densities than can be achieved with conventional techniques. A printed wiring board layer can be realized with

発明の概要 本発明は、島領域を形成することによって上述した従来の問題点を回避でき、こ の島領域は、電気的接続としてのみ機能し、更に、島領域が終端される導体と少 なくとも同じぐらい小さいものである。例えば、横断面で見て、8ミル以下の挿 込み孔または通路がプリント配線板に形成でき、これによってこの孔(通路)を 、これが接着される導体の幅と少なくとも等しくすることができる。Summary of the invention The present invention avoids the above-mentioned conventional problems by forming island regions. The island area serves only as an electrical connection; It's at least as small. For example, when viewed in cross section, an insert of 8 mil or less A hole or passageway can be formed in the printed wiring board, thereby making the hole (passage) , which can be at least equal to the width of the conductor to be bonded.

このような挿込み孔寸たは通路を簡単に形成するために、導電性通路材料をプリ ント配線板の誘電体コアを介して開口中に設け、更に、これら挿込み孔の位置に おけるプリント配線板の対向する銅メッキされた表面付近まで延在させる。これ によって、対向する銅箔の背面を露出させる。このように開口中の露出した背面 フォイルを導電性レノスト材料で林覆すると共に、導電性クラツディングによっ て誘電体コアおよび遵短性しジスト相料の両方を完全に包囲する。これら導電性 クラ、ディングおよび導電性通路゛材料は同一物質であるが、レジスト材料はこ れとは異なる組成物とする必要がある。従って、この導電性クラ、ディングの部 分を例えばエツチング液で除去できるが、導電性レノスト材料によって開口中の 導電性通路材料がエツチングされるのを防止できる。To easily form such insertion hole dimensions or passageways, conductive passageway material can be pre-prepared. installed in the openings through the dielectric core of the component wiring board, and furthermore, at the positions of these insertion holes. the copper-plated surface of the printed wiring board. this to expose the back side of the opposing copper foil. Exposed back side during opening like this The foil is overlaid with conductive renost material and is coated with conductive cladding. completely enveloping both the dielectric core and the resistant dist phase material. These conductive Although the cladding, ding and conductive path materials are the same material, the resist material is It is necessary to use a different composition. Therefore, this conductive cladding part This can be removed with, for example, an etching solution, but the conductive Rennost material Etching of the conductive path material can be prevented.

本発明によって丘々の利益がもたらされる。例えばエツチング中のメッキされた 孔の保護を考慮する必要がないので、大きなバンドを最早必要としなくなる。Hills benefit from the invention. For example, plated during etching Large bands are no longer needed as there is no need to consider hole protection.

各々の挿込み孔または通路の寸法は、これが電気的に接続される導体の寸法より 大きくする必要性が無い(例えば、8ミルまたはそれ以下)。従って、導体チャ ネルは挿込み孔によって阻止されないので、導体密度が非常に増大するようにな る。また、挿込み通路の中心間の間隔を従来の50ミルから25ミルまたu12 .5ミルぐらいまで減少できる。この結果、あらゆるセットの素子終端を相互接 続するために必要なプリント配線層の数を、層の表面を十分利用できるので実質 的に減少できる。更にまた、単位面積当りの終端部の数を通常のものに比べてよ り多くすることができる。所定のセットの相互接続部および終端部に必要な層の 数を減らせるので、プリント配線板全体の重量を軽減できる。また、プリント配 線板の所定の厚みまたは重量に対しては、層の数量が層間の間隔を増大させるこ とにより減少できる場合には、より大きな電気的インピーダンスが得られる。The dimensions of each insertion hole or passageway should be larger than the dimensions of the conductor to which it is electrically connected. There is no need to make it large (eg, 8 mils or less). Therefore, the conductor Since the channel is not blocked by the insertion hole, the conductor density is greatly increased. Ru. In addition, the spacing between the centers of the insertion passages has been increased from the conventional 50 mils to 25 mils, and the U12 .. It can be reduced to about 5 mils. This allows any set of element terminations to be connected together. The number of printed wiring layers required to connect can be reduced. Furthermore, the number of terminations per unit area has been increased compared to normal ones. You can make more. of layers required for a given set of interconnects and terminations. Since the number can be reduced, the weight of the entire printed wiring board can be reduced. Also, print arrangement For a given thickness or weight of a wire plate, the number of layers can increase the spacing between layers. A larger electrical impedance is obtained if it can be reduced by

他の目的および効果は、以下の、実施例の説明よシ宕易に理解できる。Other objects and advantages can be easily understood from the following description of the embodiments.

図面の簡単な説明 第1図〜第12図は、誘電体材料のシートからプリント配線板層を形成するため のプロセスステップを説明するための図で、この材料には、第1図に示した単一 の導電性メッキ部分または第2a図に示したようが二重メッキ部分が形成されて いる。Brief description of the drawing Figures 1-12 illustrate the process for forming printed wiring board layers from sheets of dielectric material. This is a diagram to explain the process steps for this material. A conductive plated area or a double plated area as shown in Figure 2a is formed. There is.

第13図は、本発明によって形成された/JSさな通路を有すると共に従来の大 きな島領域を有する層を表わす図である。FIG. 13 shows a conventional large passage having a /JS small passage formed according to the present invention. FIG. 3 is a diagram showing a layer having a large island region.

第14図は、本発明によって形成した複数のプリント配線板層の横断面図であり 、例えば第13図に示した層を用いた従来のメッキされた貫通孔が組込まれてい る。FIG. 14 is a cross-sectional view of a plurality of printed wiring board layers formed according to the present invention. , incorporating conventional plated through-holes using the layers shown in Figure 13, for example. Ru.

発明の詳細な説明 多層プリント配線板に冒密度で導体層を形成するために、プロセスの開始ステッ プとしては、−面または両面上に導電性メッキ部分(クラツディング。Detailed description of the invention The starting step of the process is to form a conductive layer at a high density on a multilayer printed wiring board. As for the conductive plated part (cludding) on the negative side or both sides.

ctaddtng)を有する誘電体材料から成るシートまたはブランクを用いる ことができる。第1図はブランク(blank ) 20を示し、このブランク 20Fi、誘電材料のコア22およびこの上に導電性材料の単層メッキ層24を 有する。コア22としては、従来の誘電材料例えばエポキシガラス、ポリイミド ガラス、エポキシーケブラまだはポリイミドガラスラを採用できる。このクラツ ディング24としては、従来の1オンス銅、即ち約1.4ミル厚の銅を用いるこ とができる。公仰の化学エツチングまたはレーザ穿孔技術を駆使して、約5ミル 直径の孔または開口26を、コア22の非メッキ面28からメッキ面30ヘコア 22全体を貫通させて形成する。このメッキ面30にはクラツディング24が接 触されているっここで注意すべき点は、5ミルの直径を有する開口の寸法はあく までも例示の目的のみであり、形成された挿込み通路を、約135ミル直径の従 来の最小通路よシ少なくとも25倍小さくなるように図示するものとする。using a sheet or blank made of dielectric material with ctaddtng) be able to. FIG. 1 shows a blank 20, which 20Fi, a core 22 of dielectric material and a single plating layer 24 of conductive material thereon. have The core 22 may be made of a conventional dielectric material such as epoxy glass or polyimide. Glass, epoxy Kevlar and polyimide glass can be used. This crap Conventional one ounce copper, approximately 1.4 mil thick, may be used for the padding 24. I can do it. Approximately 5 mils using chemical etching or laser drilling technology. diameter hole or opening 26 from the non-plated surface 28 of the core 22 to the plated surface 30 of the core. It is formed by penetrating the entirety of 22. Cladding 24 is in contact with this plated surface 30. The point to note here is that the dimensions of the opening with a diameter of 5 mils are For illustrative purposes only, the insertion passageway formed may be approximately 135 mils in diameter. The minimum path shall be shown to be at least 25 times smaller than the previous minimum path.

この代りに、第2a図で示すように、二度メッキバンク20aを採用し、これの 両面に誘電体コア22および二重層クラツディング24,24aを設け、これに 開口26を形成することもできる。この開口をエツチングするか、さもなければ クラツディング24aを介してここを貫通する孔を形成し、この後で、異なった エツチング液を用い、コア22を介してレノストとして作用する孔が穿設された クラツディング24aをエツチングする。所望に応じて、レーザ穿孔器を用いて コア22に孔26を形成することもでき、この場合、銅のクラツディング24h は反射マスクとして構成される。その後、クラ1.ディング24aを除去すると 、再び第2図に示した構造となる。この時点で、孔26は約5ミルの直径(横断 面に関して)を有するようになる。クラツディング24は孔26によって露出さ れ、この上側層を印32で指示しである。Instead, a double plating bank 20a is adopted, as shown in Figure 2a, and this A dielectric core 22 and double layer claddings 24, 24a are provided on both sides, and An opening 26 may also be formed. Etch this opening or else A hole is formed through the cladding 24a, and after this, a different A hole was drilled through the core 22 using an etching solution to act as a renost. Etch the cladding 24a. If desired, with a laser perforator A hole 26 can also be formed in the core 22, in which case a copper cladding 24h is configured as a reflective mask. After that, Kula 1. When removing the ding 24a , the structure shown in FIG. 2 is again obtained. At this point, hole 26 is approximately 5 mils in diameter (cross-sectional). ). Cladding 24 is exposed by hole 26. This upper layer is indicated by mark 32.

次に、レジスト34を、第3図に示すようにクラ1.ディング24の底面側に設 けるので、その結果、このクラツディング24の露出した部分32を、例えばメ タリックレジスト36による電着によって完全に包囲する。このメタリックレジ スト36には、金、二。Next, the resist 34 is applied to the cladding 1.0 as shown in FIG. installed on the bottom side of the ding 24. As a result, the exposed portion 32 of this cladding 24 can be It is completely surrounded by electrodeposition with talic resist 36. This metallic cash register For strike 36, gold, two.

ケルおよび錫−ニッケルがあり、この厚みは約0.0001〜0.0003イン チである(第4図参照)。誘電体22およびレジスト34ば、このパンクの他の 部分がメッキされることを防止するものである。kel and tin-nickel, the thickness of which is approximately 0.0001 to 0.0003 inches. (See Figure 4). The dielectric 22 and the resist 34 are other than this puncture. This prevents the parts from being plated.

第5図に示したように、次に孔26を鍋等の導電性材料で完全に充填させること によって、コア22に挿込み孔または通路を形成する。このコア22の上側表面 を研磨して、銅を充填させた部分を孔の頂面と同一レベルで平らにする(第6図 参照)。As shown in FIG. 5, the hole 26 is then completely filled with a conductive material such as a pan. An insertion hole or passage is formed in the core 22 by this. The upper surface of this core 22 Polish the copper-filled area so that it is flush with the top of the hole (see Figure 6). reference).

続いて、導電性レノスト36に類似したメタリ。Next, metallization similar to conductive Renost 36.

クレジツト40を、第7図で示すように、コア22の表面28の銅の通路38の 頂面上に電着首たは堆積によって形成する。これら導電性レジスト材料36.’ 400 は極めて薄いものであり、即ち、−〜二イン1.000 1,000 チであるが、図面上は、かなり厚く表示しである。The credits 40 are inserted into the copper channels 38 of the surface 28 of the core 22, as shown in FIG. Formed by electrodeposition or deposition on the top surface. These conductive resist materials 36. ’ 400 is extremely thin, i.e. -~2in 1.000 1,000 However, it is displayed quite thickly on the drawing.

第8図で示すように、次のプロセスステップは、例えば銅のメタリックフォイル (箔)42を、コア22の表面28上および導電性レジスト40上に亘って順次 、無電解堆積および電気メッキによって形成する。続いて、レノスト34をクラ 5.ディング24から剥離せしめることによって第9図に示した構造となる。As shown in Figure 8, the next process step is to form a copper metallic foil, for example. (foil) 42 sequentially over the surface 28 of the core 22 and over the conductive resist 40. , formed by electroless deposition and electroplating. Next, I tried the Lenost 34. 5. By peeling it off from the padding 24, the structure shown in FIG. 9 is obtained.

これら両方のクラツディング24.42を次のステ、プでフォトレジストで被覆 する。このフォトレジストは所望の相互接続部のパターン44中に配置されてい る(第1θ図参照)。クラ、ディング24.42の材料を除去可能ではあるが、 メタリックレジスト36.40およびフォトレジスト42の材料ニ除去できない エツチング液を用いることによって%これらクラツディング24.42を選択的 に除去し、その結果物を第11図に示す。Both of these claddings 24.42 will be covered with photoresist in the next step. do. The photoresist is placed in the desired interconnect pattern 44. (See Figure 1θ). Although it is possible to remove the material of Cladding 24.42, Metallic resist 36.40 and photoresist 42 materials cannot be removed. By using an etching solution 24.42% of these claddings can be selectively removed. The resulting product is shown in FIG.

これらクラツディング24.42および導電性挿込み通路材料3B上に7オトレ ジスト44が完全に設けられている場合には、このフォトレジスト44は、導電 性レジスト材料36.40が存在しない場合の挿込み通路38の不所望なエツチ ングを回避するのに十分なものである。しかし乍ら、シスレジストレーションに よって、これら挿込み孔または通路38が不所望な材料の除去の危険にさらされ てしまう。この結果、これら通路38への良好な電気的または機械的接続が妨害 されてしまう。従って、導電性レジスト36,40によって通路38をメッキす ることによって、レジストレーションにおけるあらゆる誤差を補償することがで きる。These claddings 24, 42 and conductive insertion passageway material 3B are If the photoresist 44 is completely provided, this photoresist 44 is electrically conductive. Undesired etching of insertion passage 38 in the absence of resist material 36,40 is sufficient to avoid However, the system registration These insertion holes or passageways 38 are therefore at risk of unwanted material removal. It ends up. As a result, good electrical or mechanical connections to these passageways 38 are impeded. It will be done. Therefore, by plating the vias 38 with conductive resists 36, 40, This allows you to compensate for any errors in registration. Wear.

次に、レジスト材料44を除去して、第12図に示したような処理の終了したプ リント印刷板層が得られる。同図において、クラツディングから形成された相互 接続部を印24aおよび42aでそれぞれ表示する。これら種々の挿込み孔また は通路間での相互接続部を簡単に設けるために、相互接続部24aを42aに対 して直角に配置する。Next, the resist material 44 is removed and the processed print as shown in FIG. A lint printing board layer is obtained. In the same figure, the mutual The connections are indicated by marks 24a and 42a, respectively. These various insertion holes or interconnect 24a to 42a to facilitate interconnection between passageways. and place it at right angles.

更にまた、本発明によって製造した挿込み孔または通路および相互接続用導体と 、従来の標準化された大きな島領域とを組合せることも可能である。このような 応用例を第13図に示す。層50は誘電体コア52から成り、このコア52の一 側面上には、複数個の相互接続用導体ライン54が設けられており、これらライ ン5.46通通常行状態となっている。また他側面上には、複数個の相互接続用 導体ライン56が設け56は、本発明に従って形成された複数個の相互接続通路 38によって電気的に接続されている。更に、拡大された・ぐラド60をクラツ ディングの一方または両方をエツチングすることによって製造することもできる 。これらクラツディングから上述の導体ライン54゜56が形成されていた。こ れら拡大された島領域60用のスペースを確保するために、導体ライン54 、 56を、例えばポーション54a、56aによって図示のような直線配置から交 互に設ける。これら拡大したノ9ッド60を用いて第14図に示したように多層 プリント配線板62中に挿込み孔を形成することもできる。Furthermore, insertion holes or passageways and interconnecting conductors manufactured according to the present invention and , it is also possible to combine it with conventional standardized large island areas. like this An example of application is shown in FIG. Layer 50 consists of a dielectric core 52, one of which is A plurality of interconnection conductor lines 54 are provided on the side surface, and these lines 5.46 emails are in normal status. Also on the other side are multiple interconnections. A conductor line 56 is provided and 56 includes a plurality of interconnecting passageways formed in accordance with the present invention. It is electrically connected by 38. In addition, the enlarged GRADO 60 is included. It can also be produced by etching one or both of the . From these claddings were formed the conductor lines 54, 56 mentioned above. child In order to secure space for these expanded island areas 60, conductor lines 54, 56 from a linear arrangement as shown, for example by portions 54a, 56a. Provide each other. Using these enlarged No. 9 pads 60, a multi-layer An insertion hole can also be formed in the printed wiring board 62.

同図では、図示的に1個の挿込み孔64が描れており、この孔64は、樹脂浸透 加工材料72(例えば予め浸透された布)によって互いに接続された複数個の層 70を貫通して延在している。これら層70の各々は第13図に示した層50と 同様な形状配置とすることもできる。1だ、第14図の挿込み孔64を近状形状 のパッド60aによって拡大する。In the same figure, one insertion hole 64 is diagrammatically drawn, and this hole 64 is used for resin penetration. A plurality of layers connected to each other by a processed material 72 (e.g. a pre-impregnated cloth) It extends through 70. Each of these layers 70 is similar to layer 50 shown in FIG. A similar shape and arrangement can also be used. 1, the insertion hole 64 in Fig. 14 is approximated. The area is enlarged by the pad 60a.

以上詳述したように、本発明の一実施例についてのみ説明したが、本発明はこれ らの実施例のみに限定される種々の変更を加え得るものである。As detailed above, only one embodiment of the present invention has been described, but the present invention is not limited to this embodiment. Various modifications may be made that are limited only to these embodiments.

Fig、 1B 手続補正書 昭和59年 2月lS日 特許庁長官若杉和夫 殿 1、事件の表示 PCT/U383100625 2 発明の名称 高密度プリント配糊板 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 ヒユーズ・エアクラフト・カンノやニー5、補正命令の日付 昭和59年1月31日 補正世の翻1択又提出H(Y!f許法用法第184灸第1項)特計庁長官 若  杉 和 夫 殿 ■国際出願香号 PCT/US83/1JO625 3特許出願人 注、所 アメリカ会衆1川 カリフスールニア州 90245. 瓜ル・セグノ ド。Fig, 1B Procedural amendment February 1S, 1981 Kazuo Wakasugi, Commissioner of the Patent Office 1.Display of the incident PCT/U383100625 2 Name of the invention High density printed glue board 3. Person who makes corrections Relationship to the incident: Patent applicant Name: Hughes Aircraft Kannoya Knee 5, date of amendment order January 31, 1980 Translation of the Revised World, Choice 1, and Submission H (Y!f Permission Usage, Section 184 Moxibustion, Paragraph 1) Director General of the Special Tax Agency, Waka Kazuo Sugi ■International application name PCT/US83/1JO625 3 Patent applicant Note: Location: American Congregation 1, Caliph Surnia, 90245. Ururu Segno Do.

ノース・セフ0ルヴエダ・ブールバード 200名称 ヒユーズ・エアクラフト ・カン・ぐ二゛−国籍 アメリカ合衆国 ・1代理人 住所 東京619匹区虎ノ門]下目26875号 第17森ビル5、補正書の提 出年月日 1983年10月28日 6添(i書類の目録 (1)ネ市ifE書の写しく翻訳父)11m特許請求の範囲 1、 開口と、この開口内の導電性材料とを有するブランクかち挿込み通路をプ リント配線板中に形成するに尚り、これら開口によって前記挿込み通路およびそ れらの位置を規定する製造方法において、前記導電性材料を前記開口中にほぼ全 体に亘って設けたことを特徴とする挿込み通路製造方法。North Cebu 0 Luveda Boulevard 200 Name Hughes Aircraft ・Kan Gunji - Nationality: United States of America ・1 agent Address: Toranomon, 619-ku, Tokyo] No. 26875, No. 17 Mori Building 5, Proposal of amendment Date of release October 28, 1983 Attachment 6 (Inventory of i-documents) (1) 11m Patent Claims 1. Plug in a blank peg insertion path that has an opening and a conductive material inside the opening. When formed in the lint wiring board, these openings allow the insertion passage and its In the manufacturing method for defining these positions, the conductive material is placed almost completely in the opening. A method for manufacturing an insertion passage, characterized in that the insertion passage is provided throughout the body.

2、 前記導電性材料の露出した部分を導電性レジスト材料で包囲することによ ってこの導電性材料を前記開口中にほぼ全体に亘って設け、この導電性レジスト 材料を前記導電性拐料とは異なる組成としてこの導電性材料を除去処理から保護 するようにしたことを特徴とする請求の範囲1項記載の方法。2. By surrounding the exposed part of the conductive material with a conductive resist material. This conductive material is provided almost entirely within the opening, and the conductive resist is The material is of a different composition than the conductive material to protect it from the removal process. The method according to claim 1, characterized in that the method comprises:

3、 前記開口中の前記導電性材料を導電性クラツディングで包囲し、導電性レ ジスト材料を前記導電性材料と導電性クラツディングとの間に設け、このレジス ト材料を前記導電性材料と導電性クラツディングとの組成とは異なったものとし 、前記導電性クラツディングの部分を除去して前記挿込み通路間で相互接続部分 を規定し、これによって前記導電性レノスト材料によって前記導電性材料が除去 処理されるのを保護するようにしたことを特徴とする請求の範囲1項記載の方法 。3. Surround the conductive material in the opening with conductive cladding, and A resist material is provided between the conductive material and the conductive cladding, and the resist material is provided between the conductive material and the conductive cladding. The conductive material has a composition different from that of the conductive material and the conductive cladding. , removing portions of the conductive cladding to form interconnections between the insertion passages; , thereby causing the conductive material to be removed by the conductive Renost material. The method according to claim 1, characterized in that the method is protected from being processed. .

4 前記導電性クラツディングを、このクラツディングをエツチングすることが できるが前記導電性レジメト材料をエツチングできない溶液でエツチングするこ とを特徴とする請求の範囲2項または3項記載の方法。4. Etching the conductive cladding etching with a solution that cannot etch the conductive regimen material The method according to claim 2 or 3, characterized in that:

5、前記ブランク中の前記開口をどれの一側面上の前記導電性クラツディング捷 で延在するように形成し、前記導電性レジスト材料から成る第1コーテイングを 前記開口中およびこれによって露出した前記導電性クラツディング上に堆積させ 、前記導電性材料を前記開口中および前記導電性レジスト材料から成る前記第1 コーテイングと接触して堆積させ、前記導電性レジスト材料から成る第2コーテ イ°ングを前記ブランクの他の4111面上に露出した前記導電性材料上に堆積 させ、更に、第2の導電性クラツディングを前記ブランクの他方側面上および前 記第2導電性レジスト材料のコーティングと接触して設けるように17たことを 特徴とする請求の範囲第3項記載の方法。5. Cut the conductive cladding on one side of the opening in the blank. a first coating of the conductive resist material; deposited in the opening and on the conductive cladding exposed thereby; , the conductive material is placed in the opening and the first resist material comprises the conductive resist material. a second coating of the conductive resist material deposited in contact with the coating; depositing the conductive material on the exposed conductive material on the other 4111 side of the blank. a second electrically conductive cladding on the other side and in front of said blank. 17 in contact with the coating of the second conductive resist material; A method according to claim 3, characterized in that:

6 前記開口およびこの中の前記導電性材料の寸法を前記相互接続部分の寸法を 毬えないように形成したことを特徴とする請求の範囲3項記載の方法。6. The dimensions of the opening and the conductive material therein are the same as the dimensions of the interconnection part. 4. The method according to claim 3, wherein the method is formed so as not to be trapped.

78ミルおよびそれ以下の直径をし、中心間が最大でも125ミルの前記挿込み 通路とこれら通路間に相互接続部分とを形成する製造方法において、前記開口を 前記ブランク中に形成し、このブランク上の第1側面上に第1導電性クラツデイ ングを位置させることにより、前記開口が前記挿込み導体の直径に相当する直径 ゛を有すると共に、この挿込み導体が配置されるべき位置に対応する位置に形成 され、第ルジスト材料を前記第1クラツデイング上に設け、第1導電性レジスト 材料を前記開口および前記クラツディングと接触して設け、との第1導電性レノ スト材料には前記第1クラツデイングとは異なる材料が包含され、導電性材料を 前記開口内の前記第1導電性レジスト材料と接触して設け、更にとの導電性材料 が前記ブランクの前記第2側面とほぼ同一レベルの平面となるように延在させ、 この導電材料には前記第1導電性レジスト材料とは異なる材料が包含され、第2 導電性レジスト材料を前記ブランクの第2側面で露出した前記導電性材料上に設 け、この第2の導電性レジスト材料には前記導電性材料および前記第1クラツデ イングの材料とは異なる材料が包含され、第2導電性クラツデイングを前記第2 導電性レジスト材料と前記ブランクの第2側面に亘って設け、この第2導電性ク ラツデイングには前記第2涛電性レノスト材料とは異なる材料が包含され、前記 第ルノスト材料を前記第1クシツデイングから除去し、別個のレノスト材料を前 記相互接続部分のノeターン中の前記第1および第2クラツデイング上に設け、 前記別個のレノスト材料および前記第1.第2導電性レノスト材料によって保護 されない前記第1および第2クラツデイングの部分を除去して前記相互接続部分 を形成し、更に別個のレジスト材料を除去するようにした請求の範囲1項記載の 製造方法。Said inserts having a diameter of 78 mils and less and having a maximum center-to-center spacing of 125 mils. A method of manufacturing forming passageways and interconnections between the passageways, wherein said opening a first conductive plate formed in the blank and on a first side surface of the blank; by positioning the opening so that the opening has a diameter corresponding to the diameter of the insertion conductor. and formed at a position corresponding to the position where this insertion conductor should be placed. a first conductive resist material on the first cladding; a first conductive layer with a material in contact with the opening and the cladding; The strike material includes a material different from the first cladding, and includes a conductive material. a conductive material provided in contact with the first conductive resist material within the opening; extends so as to be on a plane substantially on the same level as the second side surface of the blank, This conductive material includes a material different from the first conductive resist material, and the second conductive resist material includes a material different from the first conductive resist material. A conductive resist material is disposed on the conductive material exposed on the second side of the blank. The second conductive resist material includes the conductive material and the first cladding material. a material different from that of the second conductive cladding, the second conductive cladding the second conductive resist material and the second side surface of the blank; The grading includes a material different from the second electrifying Renost material, and the A first lenost material is removed from said first combing and a separate lennost material is removed from said first combing. on the first and second claddings in the turn of the interconnection portion; the separate Rennost material and the first. Protected by a second conductive renost material removing portions of the first and second claddings that are not connected to the interconnection portion; according to claim 1, further comprising forming a resist material and removing a separate resist material. Production method.

8 前記第1導電性材料がその第1側面上に設けられた誘電体材料より成るコア を有するシートを選折し、レジスト材料を、前記開口のパターンを有する前記コ アの第2の側面上に設け、前記レノスト材料によって露出された前記誘電体材料 をエツチングし、更に、前記レジスト材料を除去するようにしたととを特徴とす る請求の範囲1項記載の方法。8. A core made of a dielectric material with the first conductive material provided on its first side surface. a sheet having a pattern of openings, and a resist material is applied to the sheet having a pattern of openings. the dielectric material provided on the second side surface of the substrate and exposed by the Renost material; and further, the resist material is removed. The method according to claim 1.

9 前記第1および第2クラツデイングの部分を除去するステップには、前記ブ ランク内の前記挿込み通路間で10ミルより大きな直径の拡大された導電性材料 を前記第1.第2クラツデイングから形成し、この拡大された導電性材料の周囲 に前記相互接続部分を形成し、前記挿込み導体、拡大された導電性材料および形 成された相互接続部分を有する処理されたブランクを他のシリンド配線板層と組 合せて多層プリント配線板を形成し、更に、この多層プリント配線板中にこれを 貫通すると共に、前記拡大された導電性材料と接触してメッキした貫通開口を形 成するステップが設けられたことを特徴とする請求の範囲1項記載の方法。9. The step of removing the first and second cladding portions includes the step of removing the first and second cladding portions. Enlarged conductive material of greater than 10 mil diameter between said insertion passages within the ranks. The above 1. A second cladding is formed around this expanded conductive material. forming the interconnection portion, the insert conductor, the expanded conductive material and the shape; Assemble the processed blank with the finished interconnects with other cylindrical wiring board layers. Together, a multilayer printed wiring board is formed, and this is further incorporated into this multilayer printed wiring board. forming a plated through opening extending through and in contact with the enlarged conductive material; 2. A method according to claim 1, further comprising the step of:

10 前記すべての請求の範囲に記載の製造方法によって製造したプリント配線 板。10 Printed wiring manufactured by the manufacturing method described in all the claims above Board.

国際調査報告international search report

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.8ミル寸たはそれ以下の直径を有し、中心間が最大でも125ミルである挿 込み孔または通路と、それらの間の相互接続部分とを有するプリント配線板層を 形成するに当シ、 第1の側面上に第1の導電性クラツディングを有するブランク中に孔を形成し、 この孔は前記挿込み導体の直径に相当する直径を有すると共に、これら挿込み導 体が配置されるべき位置に対応する位置を有し、前記第1クラツデイング上に第 ルジスト材料を設け、 前記孔内で前記クラツディングに接触して第1の導電性レジスト材料を設け、こ の第1導電性レノスト材料には前記第1クラ、ッデイングの材料とは異なる材料 が含有され、 前記孔内の前記第1導電性レジスト材料に接触して導電性材料を設けると共に、 これを前記ブランクの第2側面とほぼ同一平面となるように延在させ、この導電 性材料には前記第1導電性レジスト材料とは異なる材料が含有され、 前記プラ゛ンクの第2側面で露出した前記導電性材料上に第2の導電性レジスト 材料を設け、この第2導電性レジスト材料には前記導電性材料および前記第1ク ラツデイングの材料とは異なる材料が含有され、設け、前記第2導電性クラ、ッ ディングには前記第2の導電性レジスト材料とは異なる材料が含有され、前記第 1クラツデイングから前記第ルジスト材料を除去し、 前記相互接続部分の・やターン中の前記第1および第2クラツデイング上に別の レジスト材料を設け、この別のレジスト材料および前記第1および第2の導電性 レジスト材料によって保鰻されていない前記第1および第2クラツデイングの部 分を除去して前記相互接続部分を形成し、更に、 前記別のレジスト材料を除′去するようにしたことを特徴とするプリント配線板 層の製造方法。 2 前記孔形成ステップに、誘電体材料から成るコアを有するシートを前記第1 導電性クラツデイングおよびその両側面上の別の導電性クラツディングによって 利用し、前記コアの一側面上のみの前記別の導電性クラツディング中の前記位置 に小孔を形成し、この小孔による導電性クラツディングをマスクとして用いて誘 電体製の他方の側面上の前記第1導電性クラツデイングまで前記コア中の前記孔 を延在させ、更に前記小孔によるクラツディングを除去するステップを設けたこ とを特徴とする請求の範囲第1項記載の製造方法。 3、前記延在ステップには、レーザ穿孔ステップを含め、この穿孔ステップには 前記小孔によるクラツディングがレーザエネルギの反射器として作用することを 特徴とする請求の範囲第2項記載の製造方法。 4、前記延在ステップには、前記小孔によるクラツディングをレジストマスクと して使用するステップおよび、この小孔によるクラツディングによって露出され た前記コアの部分をエツチングするステップを含むことを特徴とする請求の範囲 第2項記載の製造方法。 5 前記孔の形成ステップには、誘電体材料のコアを有するシートをその第1側 面上の前記第1導電性材料で利用するステップと、前記孔の・ぐターンを有する 前記コアの第2側面上にレジスト材料を設けるステップと、このレジスト、H料 によって露出した前記誘電体材料をエツチングするステップと、更に、このレジ スト材料を除去するステップとが含才れたことを特徴とする請求の範囲第1項記 載の製造方法。 6 前記第1および第2クラ、ディングの部分を除去−するステップには、これ ら第1および第2クラツデイングをエツチング可能で、前記第1および第2導電 性レノスト材料に対してはエツチングできない溶液を用いて前記部分をエツチン グするステップが含まれたごとを特徴とする請求の範囲第1項記載の方法。 7 前記第1および第2のクラツディングおよび前記導電性材料には銅が含捷れ 、前記第1および第2導電性レジスト材料には金、二、ケルおよび錫−ニッケル の内の1つが含まれたことを特徴とする請求の範囲第6項記載の方法。 8 前記導電性材料を前記孔の中に設けた後で研層して、この材料を前記ブラン クの第2側面と同一レベルの平らな面とするステップを更に設けたことを特徴と する請求の範囲第1項記載の方法。 9 前記別個のレジスト材料を除去する前記ステ。 プの後に、処理されたブランクを他のプリント配線層と組合せて、多層プリント 配線板を形成するステ、ツブを更に設けたことを特徴とする請求の範囲第1項記 載の方法。 10 前記第1および第2クラ、7デイングの部分を除去する前記ステップには 、これら第1および第2クラツデイングから、ブランク中の挿込み通路間に10 ミルより大きな直径の拡大された導電性材料を形成するステップと、更にこの拡 大された導電性材料の周りに前記相互接続部分を配置するステップとを含んだこ とを特徴とする請求の範囲第1項記載の方法。 11、前記挿込み導体、拡大された導電性材料および配置された相互接続部分を 有する処理されたブランクを他のプリント配線板層と組合せて多層プリント配線 板を形成するステ、プと、前記拡大された導電性材料と電気的に接触すると共に これを貫通するように、前記多層プリント配線板中にメッキされた貫通孔を形成 するステップとを更に設けたことを特徴とする請求の範囲第10項記載の方法。 ]2. ブランクに開口を形成して挿込み通路の位置を規定するステップと、前 記開口の寸法およびこの中の材料を実質的に同一に維持しながら前記開口中に導 電性材料を設けるステップとを含み、プリント配線板中に挿込み通路を形成する 方法。 13前記ステツプに、前記開口を前記導電性材料で完全に充填させるステップを 含んだことを特徴とする請求の範囲第12項記載する方法。 14 前記充填ステップには、前記導電性材料の露出し74部分をこれとは異な る組成物より成る導電性レジスト材料によって被覆して、この導電性材料を除去 作業より保獲するステップを含1せたことを特徴とする請求の範囲第13項記載 の方法。 15 挿込み通路および相互接続部分を有するプリント配線板を形成するに当り 、 前記挿込み通路の位置を規定する開口中に設けた導電性材料と、この導電性材料 を包囲する導電性クラツディングと、これら導電性材料とクラ、ディングとの間 に設けた導電性レジスト材料とを有するブランクを準備するステ、プを設け、前 記レノスト材料を前記導電性材料および前記導電性クラツディングとけ異なる組 成とし、更に、前記導電性クラ、ディングの部分を除去して前記相互接続部分を 規定するステ、プを設け、この導電性レジスト材料によって前記導電性材料のす べてを除去処理から保進するようにしたことを特徴とするプリント配線板製造方 法。 16 前記除去ステップに、前記導電性クラツディングをエツチングすることが できるが前記導電性レノスト利料をエツチングできない溶液を用いてこのクラ。 ディングをエツチングするステ、プを含捷せたことを特徴とする請求の範囲第1 5項肥載の方法。 17 前記ブランクの一側面上の導電性クラツディングに前記開口を形成するス テ、プと、 この開口内およびこれによって露出した前記導電性クラ、ディング上に前記導電 性レジスト材料から成る第1被υを堆積するステップと、 この導電性材料を、前記開口中および前記導電性レジスト材料からD又る前記第 1被覆と接触して堆積させるステップと、 前記ブランクの他の側面上に露出した前記導電性材料上に前記導電性レノスト材 料から成る第2被覆を堆オフ1さぜるステ、プと、 更に、このブランクの仙の仙1面上および前記紀2導電性レジスト材料被りに接 触して第2導峨性クラッFインクを設けるステップとを前記除去ステップに含ま せたことを特徴とする請求の範囲15項記載の方法。 18 前記開口を形成すると共に、この中に前記導電性材料を形成し、その寸法 が前記相互接続部分の寸法を越えないようにするステップを更に設けたことを特 徴とする請求の範囲15項記載の方法。 19、対向する面を有し、誘電体材料から成るサポートと、これら対向面間に延 在すると共に同一平面を成る固体の挿込み通路とを貝えたプリント配線板。 20、 更に、対向面で前記挿込み通路を被覆する導電性材料を設け、この材料 は前記挿込み通路の材料とは異なるものを組成とすることを特徴とする請求の範 囲19項記載の配線板。 21 前記挿込み通路がその横断面から見て〕盲犬8ミルの直径を有することを 特徴とする請求の範囲19又は20項記載の配線板。 22 前記挿込み通路が最大25ミルの中心間間隔で設けられたことを特徴とす る請求の範囲19項記載の配線板。 23、 前記挿込み通路を相互接続する導体を更に設け、この通路の寸法を前記 導体のものより小さくしたことを特徴とする請求の範囲19項記載の配線板。 浄−;に(内容に変更なし)Inserts with a diameter of 1.8 mils or less and a maximum of 125 mils between centers. Printed wiring board layers having embedded holes or passageways and interconnections therebetween. To form, forming a hole in the blank having a first conductive cladding on a first side; This hole has a diameter corresponding to the diameter of the insertion conductors, and has a diameter corresponding to the diameter of the insertion conductors. a position corresponding to the position where the body is to be placed; Providing a lugist material, providing a first conductive resist material in contact with the cladding within the hole; The first conductive material is a material different from the first material. contains, providing a conductive material in contact with the first conductive resist material within the hole; This conductive material is extended so as to be substantially flush with the second side surface of the blank. The conductive material contains a material different from the first conductive resist material, a second conductive resist on the conductive material exposed on the second side of the plaque; a second conductive resist material, the second conductive resist material includes the conductive material and the first resist material; A material different from that of the latching material is included, and the second conductive clamp is The resist material contains a material different from the second conductive resist material, and the resist material contains a material different from the second conductive resist material. 1. removing the first lurgist material from the cladding; another cladding on the first and second claddings in the turns of the interconnection portion; providing a resist material, the another resist material and the first and second conductive materials; portions of the first and second claddings that are not protected by resist material; forming the interconnection portion; A printed wiring board characterized in that the other resist material is removed. Method of manufacturing layers. 2 In the hole forming step, the sheet having a core made of a dielectric material is by a conductive cladding and another conductive cladding on both sides of it. and the position in the other conductive cladding on only one side of the core. A small hole is formed in the hole, and the conductive cladding created by the small hole is used as a mask to conduct the induction. the hole in the core up to the first conductive cladding on the other side of the electrical body; The method further includes a step of extending the small hole and removing the cluttering caused by the small hole. The manufacturing method according to claim 1, characterized in that: 3. The extending step includes a laser drilling step, and this drilling step includes: It is believed that the cladding by the small holes acts as a reflector of the laser energy. The manufacturing method according to claim 2, characterized in that: 4. In the extending step, the cluttering due to the small holes is covered with a resist mask. The step used as a Claims further comprising the step of: etching a portion of said core The manufacturing method according to item 2. 5. In the step of forming the holes, the sheet having a core of dielectric material is utilizing the first electrically conductive material on a surface; and forming a hole in the hole. providing a resist material on a second side of the core; etching the dielectric material exposed by etching the resist material; Claim 1 further comprising the step of removing the strike material. Manufacturing method described. 6. The step of removing the first and second cladding portions includes etching the first and second claddings from the first and second conductive layers; For non-etchable materials, the area may be etched using a non-etchable solution. 2. The method of claim 1, further comprising the step of: 7. The first and second claddings and the conductive material contain copper. , the first and second conductive resist materials include gold, di-Kel, and tin-nickel. 7. The method of claim 6, further comprising one of: 8 After the conductive material is provided in the hole, the material is polished into the blank. The feature is that a step is further provided to make the surface flat on the same level as the second side surface of the block. The method according to claim 1. 9. The step of removing the separate resist material. After printing, the treated blank is combined with other printed wiring layers to produce multilayer printing. Claim 1, characterized in that a step and a tab forming a wiring board are further provided. How to put it on. 10. The step of removing the first and second cracks and the 7-day portion includes , from these first and second claddings, there are 10 forming an expanded conductive material with a diameter larger than the mill; placing the interconnect around an enlarged conductive material. The method according to claim 1, characterized in that: 11. The insert conductor, the enlarged conductive material and the disposed interconnect portion Combine processed blanks with other printed wiring board layers to create multilayer printed wiring a step forming a plate and in electrical contact with said expanded conductive material; A plated through hole is formed in the multilayer printed wiring board to penetrate this. 11. The method of claim 10, further comprising the step of: ]2. The step of forming an opening in the blank to define the position of the insertion passage, and the aperture while maintaining the dimensions of the aperture and the material therein substantially the same; providing an electrically conductive material to form an insertion passageway in the printed wiring board. Method. 13 The step further includes the step of completely filling the opening with the conductive material. 13. A method as claimed in claim 12, comprising: 14 The filling step includes filling the exposed 74 portions of the conductive material with a different coating with a conductive resist material consisting of a composition of Claim 13 characterized in that the method includes a step of retaining from work. the method of. 15 In forming a printed wiring board with insertion passages and interconnection parts , a conductive material provided in the opening defining the position of the insertion passage; and the conductive material. conductive cladding surrounding the cladding, and between these conductive materials and the cladding. A step is provided to prepare a blank having a conductive resist material provided in the front. The Rennost material is combined with the conductive material and the conductive cladding in different combinations. and further removing portions of the conductive cladding and interconnecting portions. A predetermined step is provided, and the conductive resist material covers all of the conductive material. A printed wiring board manufacturing method characterized in that all parts are removed and preserved. Law. 16 The removing step may include etching the conductive cladding. This technique can be done using a solution that cannot etch the conductive rennost material. Claim 1 characterized in that it includes a step and a step for etching the recording. Section 5 Fertilization method. 17 A step forming the opening in the conductive cladding on one side of the blank. Te, puto, The conductive material is placed within this opening and on the conductive cladding exposed thereby. depositing a first coating υ of a transparent resist material; This conductive material is placed in the opening and in the first part D extending from the conductive resist material. 1 coating in contact with and depositing; the conductive renost material on the conductive material exposed on the other side of the blank; 1 step of stirring the second coating consisting of the material, Furthermore, a layer was placed on the first side of this blank and in contact with the conductive resist material covered with the second conductive resist material. The removing step includes the step of applying a second ductile crack F ink by touching the ink. 16. The method according to claim 15, characterized in that: 18. Forming the opening, forming the conductive material therein, and adjusting its dimensions. further comprising the step of ensuring that the interconnection portion does not exceed the dimensions of the interconnection portion. 16. The method according to claim 15. 19. Supports having opposing surfaces and made of dielectric material and extending between these opposing surfaces. A printed wiring board having a solid insertion passage which is located on the same plane as the other. 20. Further, a conductive material is provided to cover the insertion passage on the opposing surface, and this material has a composition different from that of the material of the insertion passage. The wiring board described in box 19. 21 that the insertion passage has a diameter of 8 mils when viewed in cross section; The wiring board according to claim 19 or 20, characterized in that: 22. The insertion passages are provided with a maximum center-to-center spacing of 25 mils. The wiring board according to claim 19. 23. Further provide a conductor interconnecting the insertion passage, and the dimensions of this passage are as described above. 20. The wiring board according to claim 19, wherein the wiring board is smaller than that of a conductor. Clean -; (no change in content)
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