JPS594428Y2 - イオン源装置先端イオン発生部の真空封止機構 - Google Patents

イオン源装置先端イオン発生部の真空封止機構

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JPS594428Y2
JPS594428Y2 JP2922081U JP2922081U JPS594428Y2 JP S594428 Y2 JPS594428 Y2 JP S594428Y2 JP 2922081 U JP2922081 U JP 2922081U JP 2922081 U JP2922081 U JP 2922081U JP S594428 Y2 JPS594428 Y2 JP S594428Y2
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JP
Japan
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ion
ion source
tip
pipe
filament
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JP2922081U
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JPS57143560U (ja
Inventor
秀一郎 若狭
保 早川
Original Assignee
株式会社日本製鋼所
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は荷電粒子加速装置の加速領域の中心部に挿設さ
れ、この加速領域で加速されるイオンを発生するイオン
源装置に係り、特にそのイオン源装置先端イオン発生部
の真空封止機構に関する。
まず、第1図〜第3図を参照してイオン源装置を説明す
ると、1は鉄製のイオン源チューブ、2はこのチューブ
1の先端に強磁性体製の補正磁極3を介して連設した非
磁性体製イオン発生コーン部(アノード部)、4 a
、4 bはイオン源チューブ1の先端部内に設けられた
フィラメント接続端子部、5はこのフィラメント接続端
子部4 a 、4 bに接続されたフィラメント、6
a 、6 bはフィラメント5に給電するためと、フィ
ラメント接続端子部4a。
4bを冷却水により冷却するための銅製の給電兼用冷却
水パイプで、2重構造になっており例えば外側のパイプ
より内側のパイプを通して流れる冷却水によりフィラメ
ント接続端子部4 a 、4 bの端面を冷却するもの
である。
8a、8bはコーン部を冷却するための冷却水の供給と
排水を行うためのステンレス製の冷却水パイプ、9はイ
オン発生コーン部2内に水素5重水素、ヘリウム等のガ
スを供給するためのステンレス製のガス供給用パイプ、
10はイオン発生コーン部2に形成したイオン出口用ス
リット、11はイオン発生コーン部2の先端に設けたり
フレフタカソード、12はアルミナ製絶縁物である。
このようなイオン源装置は、荷電粒子加速装置例えばサ
イクロトロンの加速領域の中心部に挿入設置され、装置
内部が真空状態にされる。
そして断面積数mm2のフィラメント5に給電兼用冷却
水バイブロa、6bを通して数百アンペアの電流を通電
し、フィラメント5より熱電子を放出させコーン部2で
加速させると共に、ガス供給用パイプ9よりコーン部2
内へ数CC/minの流速で供給されたガスに、加速さ
れた熱電子を衝突させてプラズマ状態を形成し、イオン
化した粒子(イオン)例えば陽子5重陽子等のイオンを
発生させるものであり、イオン発生コーン部2内で発生
したイオンはイオン出口用スリット10より加速領域の
中心部へ引き出し加速することになる。
この場合、フィラメント接続端子部4 a 、4 bは
それぞれ給電兼用冷却水バイブロ a 、6 bにより
供給され排水される冷却水によって冷却される。
コーン部2は冷却水パイプ8 a 、8 b内の冷却水
により冷却される。
しかしながら従来のイオン源装置においては、装置内部
の全体がイオン出口用スリット10を介して加速領域と
連通し、加速領域と同じ真空領域になっており、しかも
装置内部の真空引きがイオン出口用スリット10を介し
て行われるため、真空引きに長時間を要し、その割には
装置内部の真空度はそれ程高くならず、その結果、コー
ン部2内における粒子のイオン化効率が悪いばかりでな
く、イオン源チューブ1の支持部内が低真空状態である
ためフィラメント5の給電兼用冷却水バイブロa、6b
とチューブ1の支持部との間で放電現象を生じる欠点が
ある。
本考案は上記の欠点を解消するためになされたものであ
って、イオン源チューブ先端部のみを真空封止構造とし
、フィラメント部とコーン部のみを真空状態にするよう
に改良することにより、上記の欠点を解消したものであ
る。
以下図面によって本考案の一実施例を説明する。
第1図は本考案装置の一実施例を示す要部の断面図、第
2図は第1図のII −II線断面図、第3図は第2図
のIII−III線矢視図を示す。
本考案においては、イオン源チューブ1の内周と、フィ
ラメント5の給電兼用冷却水パイプ5a。
6b、イオン発生コーン部2を冷却するための冷却水パ
イプ8a、8b及びイオン発生コーン部2内にガスを供
給するためのガス供給用パイプ9の外周との間を、真空
封止のためフィラメント接続端子部4 a 、4 bの
付近で磁器製絶縁物、例えばセラミック製絶縁物13に
より密封し、このセラミック製絶縁物13と各バイブロ
a、6 b、8 a、8 b、9との間を各パイプに
嵌装したコバールキャップ14により密封すると共に、
イオン源チューブ1の内周に形成したOリング溝15と
セラミック製絶縁9113との間にOリング16を嵌挿
せしめてなる。
なお、17はステンレス製のブロックを示す。本考案は
上記のようにイオン源チューブ1の内部を、フィラメン
ト接続端子部4 a 、4 bの付近で密封したので、
イオン出口側スリツ) 10を介して加速領域と連通し
ている部分は、密封部より先端側のフィラメント5部と
コーン部2のみとなり、このフィラメント5部とコーン
部2のみを真空状態にすればよいから、真空引きを短時
間で行うことができ、フィラメント5部とコーン部2の
真空度が従来よりも高くなり、その結果、コーン部2内
で生成したプラズマの性質も良好になり、粒子のイオン
化効率が向上するばかりでなく、イオン源チューブ1の
密封部より基端側の支持部内は大気圧状態であり、大気
の耐電圧は3KV/mmであるため、フィラメント5の
給電兼用冷却水バイブロa、6bとチューブ1の支持部
間に加わる電界200V/mmに比べて非常に大きく、
放電現象を生じるおそれもない等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案装置の一実施例を示す要部の断面図、第
2図は第1図のII −II線断面図、第3図は第2図
のIII−III線矢視図を示す。 1・・・・・・イオン源チューブ、2・・・・・・イオ
ン発生コーン部、3・・・・・・補正磁極、4 a 、
4 b・・・・・・フィラメント接続端子部、5・・・
・・・フイラメン)、6a、6b・・・・・・フィラメ
ント5の給電兼用冷却水パイプ、8 a 、8 b・・
・・・・イオン発生コーン部2を冷却するための冷却水
パイプ、9・・・・・・イオン発生コーン部2内にガス
を供給するためのガス供給用パイプ、10・・・・・・
イオン出口用スリット、13・・・・・・磁器製絶縁物
、14・・・・・・コバールキャップ、15・・・・・
・Oリング溝、16・・・・・・Oリング。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオン源チューブ内周と、フィラメントの給電兼用冷却
    水パイプ、イオン源チューブ先端に連設したイオン発生
    コーン部を冷却するための冷却水パイプ及びイオン発生
    コーン部内にガスを供給するためのガス供給用パイプの
    外周との間を、真空封止のためフィラメント接続端子部
    付近で磁器製絶縁物により密封し、この磁器製絶縁物と
    各パイプとの間を各パイプに嵌装したコバールキャップ
    により密封すると共に、イオン源チューブ内周と磁器製
    絶縁物との間にOリングを嵌挿せしめてなるイオン源装
    置先端イオン発生部の真空封止機構。
JP2922081U 1981-03-02 1981-03-02 イオン源装置先端イオン発生部の真空封止機構 Expired JPS594428Y2 (ja)

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JP2922081U JPS594428Y2 (ja) 1981-03-02 1981-03-02 イオン源装置先端イオン発生部の真空封止機構

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Publication Number Publication Date
JPS57143560U JPS57143560U (ja) 1982-09-09
JPS594428Y2 true JPS594428Y2 (ja) 1984-02-08

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