JPS5943403A - プロセス制御用のセツトポイントの作成 - Google Patents
プロセス制御用のセツトポイントの作成Info
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- JPS5943403A JPS5943403A JP58120137A JP12013783A JPS5943403A JP S5943403 A JPS5943403 A JP S5943403A JP 58120137 A JP58120137 A JP 58120137A JP 12013783 A JP12013783 A JP 12013783A JP S5943403 A JPS5943403 A JP S5943403A
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B15/00—Systems controlled by a computer
- G05B15/02—Systems controlled by a computer electric
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0006—Controlling or regulating processes
- B01J19/0033—Optimalisation processes, i.e. processes with adaptive control systems
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B13/00—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion
- G05B13/02—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric
- G05B13/0205—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric not using a model or a simulator of the controlled system
- G05B13/024—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric not using a model or a simulator of the controlled system in which a parameter or coefficient is automatically adjusted to optimise the performance
- G05B13/0245—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric not using a model or a simulator of the controlled system in which a parameter or coefficient is automatically adjusted to optimise the performance not using a perturbation signal
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00054—Controlling or regulating the heat exchange system
- B01J2219/00072—Mathematical modelling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J2219/00243—Mathematical modelling
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2400/00—Characteristics for processes of polymerization
- C08F2400/02—Control or adjustment of polymerization parameters
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T436/00—Chemistry: analytical and immunological testing
- Y10T436/12—Condition responsive control
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明（パよプロセス制御に関する。一つの視野におい
て、本発明は第２プロセスの変数の実際の値と第２）０
ロセス変数用のセットポイントとの間にもし差があれば
、その差に基づいて第１プロセスの変数のためのセット
ポイントを作成するための方法及び装置徐に関する。
て、本発明は第２プロセスの変数の実際の値と第２）０
ロセス変数用のセットポイントとの間にもし差があれば
、その差に基づいて第１プロセスの変数のためのセット
ポイントを作成するための方法及び装置徐に関する。
多くのプロセスにおいて、第１プロセス変数、例えばプ
ロセスに供給され、もしくはそれから取出される流体の
フローレート、又はプロセスに供給され、もしくはそれ
から取出される熱の割合を調整操作することにより、第
２プロセス変数、例えば製品組成、プロセス温度もしく
けプロセス圧力を第２プロセス変数についての所望値（
セットポイント）に実質的に等しくすることがなされて
いる。典型的には、このことは、第２プロセス変数の実
際の値と、第２プロセス変数についての所望値との間に
もし差があれば、その差のマグニチウド（誤差とも称さ
れる）を測定し、この誤差に基づき、第１プロセス変数
を調整操作することによって達成される。一般には、実
際の値と所望の間との比較はコントローラーの内部で行
われ、コントローラーは比例、比例−積分、比例−微分
又は比例−積分−微分のような種々の形式の制御方式を
利用してそれを行う。コントローラーは実際の値と所望
の値とを受は入れ、実際値と所望値どの比（１・父を表
わすスケーリングされた出力信号を生じろ。出力信月の
スケーリングは、割御すべなプ【」七ス斐数のタイツ′
°によつ゛できまる、すなわら、び１れを献仙１したい
ときには、出力信号は）ｊ（ンド／時のＱ’、ｉ位であ
゛ってよい。
ロセスに供給され、もしくはそれから取出される流体の
フローレート、又はプロセスに供給され、もしくはそれ
から取出される熱の割合を調整操作することにより、第
２プロセス変数、例えば製品組成、プロセス温度もしく
けプロセス圧力を第２プロセス変数についての所望値（
セットポイント）に実質的に等しくすることがなされて
いる。典型的には、このことは、第２プロセス変数の実
際の値と、第２プロセス変数についての所望値との間に
もし差があれば、その差のマグニチウド（誤差とも称さ
れる）を測定し、この誤差に基づき、第１プロセス変数
を調整操作することによって達成される。一般には、実
際の値と所望の間との比較はコントローラーの内部で行
われ、コントローラーは比例、比例−積分、比例−微分
又は比例−積分−微分のような種々の形式の制御方式を
利用してそれを行う。コントローラーは実際の値と所望
の値とを受は入れ、実際値と所望値どの比（１・父を表
わすスケーリングされた出力信号を生じろ。出力信月の
スケーリングは、割御すべなプ【」七ス斐数のタイツ′
°によつ゛できまる、すなわら、び１れを献仙１したい
ときには、出力信号は）ｊ（ンド／時のＱ’、ｉ位であ
゛ってよい。
第１）０ロセス変数の調整操作によって第２プロヒス変
数の実際値を所望値に実質的に等しく保とうとするとき
・プロセス制御＆ｃ従事１−る者は競合的な妾ｆ１′を
考油、せさるを得ない。第１に考ｌ祇すべき安ドには、
第２プロセス変数用のセットポイント周辺における第２
プロセスの実際１直のオシレーションをｉｊ’ｅけると
いう要求である。このことは、短時間のうらＶｃ２８１
フ”ロセス変数に大きブよ変動が生じ／、ｒい、ｊつに
することによっｔＪＱ型的には達成できるが、第２プ′
ロセス変数の実際値を七ットポイント値に引き戻すには
比較的長時間を要する。第２に考慮すべき要件は、プロ
セス変数の実際値がセラ）・ポイント値から有意に逸脱
すると、しばしば惨Ａ−んたる結果を招くため、特定の
プロセス変数を厳密に制御することが臨界的な条件であ
るという点である。これらの場合、もし第２プロセス変
数についての誤差が有意になり６Ｊじめたならば、有害
な結果が生じるのを防ぐため、大きな制御操作を施すこ
とが望ましいが、これは制御操作のマグニチウドに起因
して、第２プロセス変数の実際値がセットポイントの周
辺でオシレーションを起す原因てプｔ、ｌ、１５る。
数の実際値を所望値に実質的に等しく保とうとするとき
・プロセス制御＆ｃ従事１−る者は競合的な妾ｆ１′を
考油、せさるを得ない。第１に考ｌ祇すべき安ドには、
第２プロセス変数用のセットポイント周辺における第２
プロセスの実際１直のオシレーションをｉｊ’ｅけると
いう要求である。このことは、短時間のうらＶｃ２８１
フ”ロセス変数に大きブよ変動が生じ／、ｒい、ｊつに
することによっｔＪＱ型的には達成できるが、第２プ′
ロセス変数の実際値を七ットポイント値に引き戻すには
比較的長時間を要する。第２に考慮すべき要件は、プロ
セス変数の実際値がセラ）・ポイント値から有意に逸脱
すると、しばしば惨Ａ−んたる結果を招くため、特定の
プロセス変数を厳密に制御することが臨界的な条件であ
るという点である。これらの場合、もし第２プロセス変
数についての誤差が有意になり６Ｊじめたならば、有害
な結果が生じるのを防ぐため、大きな制御操作を施すこ
とが望ましいが、これは制御操作のマグニチウドに起因
して、第２プロセス変数の実際値がセットポイントの周
辺でオシレーションを起す原因てプｔ、ｌ、１５る。
プロセス変数の厳密制御が要求される多くのプロセス（
ｆＣおいて、プロセス変数がセットポイントの上又は下
に変動することは逆条件下にあるよりもむしろ危険であ
る。また、誤差のマグニチウドが大きくなると、プロセ
ス変数がプロセス限界値を超えて有害な結果を生じセす
（なるので、ますます危険である。この場合、前節に記
載した競合的要件九対する考慮は、誤差の勾号及び誤差
のマグニチウドＶＣ基づいて制御操作を変えることによ
り、ある程度調和させることができる。このようにして
、望ましくない状態が起こる確率により、行うべき制御
操作のマグニチウドがきまる制御システムを得ることが
できる。そのようＫして、セラ）・ポイント周辺におけ
るオシレーションを最低に抑えると共に、望ましくない
状態の起きる確率を低寸させイ）。
ｆＣおいて、プロセス変数がセットポイントの上又は下
に変動することは逆条件下にあるよりもむしろ危険であ
る。また、誤差のマグニチウドが大きくなると、プロセ
ス変数がプロセス限界値を超えて有害な結果を生じセす
（なるので、ますます危険である。この場合、前節に記
載した競合的要件九対する考慮は、誤差の勾号及び誤差
のマグニチウドＶＣ基づいて制御操作を変えることによ
り、ある程度調和させることができる。このようにして
、望ましくない状態が起こる確率により、行うべき制御
操作のマグニチウドがきまる制御システムを得ることが
できる。そのようＫして、セラ）・ポイント周辺におけ
るオシレーションを最低に抑えると共に、望ましくない
状態の起きる確率を低寸させイ）。
従って本発明の目的は、第２プロセス変数の実際値と第
２プロセス変数についてのセットポイントするセットポ
イントを作成する方法及び装置を提供することであり、
それによれば、第１プロセス変数のためのセラ）・ボ゛
インドを変動させる割合は、誤差の名〕号と誤差のマグ
ニチウドとに４−ってきまる。
２プロセス変数についてのセットポイントするセットポ
イントを作成する方法及び装置を提供することであり、
それによれば、第１プロセス変数のためのセラ）・ボ゛
インドを変動させる割合は、誤差の名〕号と誤差のマグ
ニチウドとに４−ってきまる。
本発明により，、第２プロセス変数の実際値と第２プロ
セス変数用のセットポイントとの間の誤差に基づき、第
１１′ロセス変数用のセットポイントを作成する方法及
び装置が提供される。第１プロセス変数のためのセット
ポイント用方程式には、誤差に比例する項、誤差の積分
に比例する項、及び若干同数の累乗に増大した誤差（誤
差を増大ずべき累乗のマグニチウドは、誤差の符号によ
ってきまる）に、比例する項が含まれる，、また、第１
プロセス変数のためのセットポイント用の方程式には、
誤差の導関数に比例する項も含まれ、この場合、かかる
項のマグニチウドは、誤差のマグニチウドによってきま
るものであり、又単なる誤差の導関数のマグニチウドで
はない。このようにして、プロセス中、あ乞状態の下で
は大きな制御作用が要求されること、及び他の状態の下
では最低の制御操作が要求されることを勘案しうるセッ
トポイントが作成される。
セス変数用のセットポイントとの間の誤差に基づき、第
１１′ロセス変数用のセットポイントを作成する方法及
び装置が提供される。第１プロセス変数のためのセット
ポイント用方程式には、誤差に比例する項、誤差の積分
に比例する項、及び若干同数の累乗に増大した誤差（誤
差を増大ずべき累乗のマグニチウドは、誤差の符号によ
ってきまる）に、比例する項が含まれる，、また、第１
プロセス変数のためのセットポイント用の方程式には、
誤差の導関数に比例する項も含まれ、この場合、かかる
項のマグニチウドは、誤差のマグニチウドによってきま
るものであり、又単なる誤差の導関数のマグニチウドで
はない。このようにして、プロセス中、あ乞状態の下で
は大きな制御作用が要求されること、及び他の状態の下
では最低の制御操作が要求されることを勘案しうるセッ
トポイントが作成される。
本発明の他の目的及び利点は、前記の簡単ブｆ説明及び
これから述べる図面を参照しての簡単な説明から明らか
になるであろう。
これから述べる図面を参照しての簡単な説明から明らか
になるであろう。
エチレンの重合を例にして本発明を説明する。
しかし、本発明は、第２プロセス変数の実際値が第２プ
ロセス変数にとっての所望値に実質的に等しく保たれる
ように、第１プロセス変数を調整操作することが所望さ
れる任意のプロセスに適用可能である。しかしながら、
本発明が重合反応器内の固形分濃度の制御に特に適用可
能であることを特記しておく。なせならば、この制御は
臨界的でｋ）す、また実際の固形分濃度がセットポイン
トを−Ｌまわることは、それを−トまわるよりも不其合
であるため−（ある。
ロセス変数にとっての所望値に実質的に等しく保たれる
ように、第１プロセス変数を調整操作することが所望さ
れる任意のプロセスに適用可能である。しかしながら、
本発明が重合反応器内の固形分濃度の制御に特に適用可
能であることを特記しておく。なせならば、この制御は
臨界的でｋ）す、また実際の固形分濃度がセットポイン
トを−Ｌまわることは、それを−トまわるよりも不其合
であるため−（ある。
特定的な開園）システムの形態が説明を目的とし１こ第
１図に示されている。しかしｌ工がら、特定的な制御形
態は本発明の臨界的特徴を構成するものでなく、本発明
は、第２ニア０ロセス変数の実際値が’１４！ ２プロ
セス変数の所望値に実質的に等しく保たれるように、第
１７パロセス変数を調整操作するのに利用される広範囲
の制御形態に適用しうるものである。
１図に示されている。しかしｌ工がら、特定的な制御形
態は本発明の臨界的特徴を構成するものでなく、本発明
は、第２ニア０ロセス変数の実際値が’１４！ ２プロ
セス変数の所望値に実質的に等しく保たれるように、第
１７パロセス変数を調整操作するのに利用される広範囲
の制御形態に適用しうるものである。
図面に信号ラインとして示されているラインは、この好
ましい態様におい゛Ｃ電気式又は空圧式のものである。
ましい態様におい゛Ｃ電気式又は空圧式のものである。
一般に、変換器から生じる１８号は、形が’Ｉｔ気式で
ある。しかし、流れ感知器から生じる信号は、形が一般
に空圧式である。流れが空圧式の形で測定されても、流
れ変換器によってそれを’ｉｆ、気式の形で伝達したけ
れば、電気式の形に変換ぜさるを得ないことは当業者に
とって周知に属するので、これらの信号の変換について
の説明は簡略化を１」的と１−で割愛させてもらう。ま
た、アナロダ形からデジタル形、又はデジタル形がらア
ナロダ形への変換も当業界で周知のことゆえ説明を省略
する。
ある。しかし、流れ感知器から生じる信号は、形が一般
に空圧式である。流れが空圧式の形で測定されても、流
れ変換器によってそれを’ｉｆ、気式の形で伝達したけ
れば、電気式の形に変換ぜさるを得ないことは当業者に
とって周知に属するので、これらの信号の変換について
の説明は簡略化を１」的と１−で割愛させてもらう。ま
た、アナロダ形からデジタル形、又はデジタル形がらア
ナロダ形への変換も当業界で周知のことゆえ説明を省略
する。
本発明は、情報を伝達するための機械的、水力学的又は
その他の信号手段にも適用可能である。
その他の信号手段にも適用可能である。
？’ｌとんどすべての制御システムにおいて、電気式、
水圧式、機械的又は水力学的な各信号の組合せのうりの
若干が利用されるであろうが、使用されるプロセス及び
装置と両立しうる他の任意のタイプの信号伝趣を用いる
ことは、本発明の範囲内に包含される。
水圧式、機械的又は水力学的な各信号の組合せのうりの
若干が利用されるであろうが、使用されるプロセス及び
装置と両立しうる他の任意のタイプの信号伝趣を用いる
ことは、本発明の範囲内に包含される。
測定されたプロセスパラメーターならびにコンピュータ
ーに供給されるセットポイントに基づいて所要の制御信
号を計算するため、本発明の好ましい態様においてはデ
ジタルコンピューターが用いられる。デジタルコンピュ
ーターは、オクラホマ州バートルズビルのアプライド・
オートメーション社（Ａｐｐｌｉｅｄ Ａｕｔｏｍａｔ
ｉｏｎ 、工ｎｃ、 ）製の０ＰＴＲＯＬ ７０００
プロセス・コンピューター・システムであるのが好まし
い。
ーに供給されるセットポイントに基づいて所要の制御信
号を計算するため、本発明の好ましい態様においてはデ
ジタルコンピューターが用いられる。デジタルコンピュ
ーターは、オクラホマ州バートルズビルのアプライド・
オートメーション社（Ａｐｐｌｉｅｄ Ａｕｔｏｍａｔ
ｉｏｎ 、工ｎｃ、 ）製の０ＰＴＲＯＬ ７０００
プロセス・コンピューター・システムであるのが好まし
い。
また信号ラインを利用してデジタルコンピュ−ター内で
行われた計算結果も表わすので、用語「信号−１はかか
る結果を示すのにも利用される。
行われた計算結果も表わすので、用語「信号−１はかか
る結果を示すのにも利用される。
従って、信号という用語は、等を流又は空気圧めみをさ
すのではなく、計算又は測定された値の二元的表示をさ
すのにも利用される。
すのではなく、計算又は測定された値の二元的表示をさ
すのにも利用される。
７０ロセスを特徴づけるパラメーター測定に用いられる
種々の変換用手段及びそれによって生じる種々の信号は
、各種の形態又は形式をとることができる。例えば、シ
ステムの制御要素は、電気的なアナログ方式、デジタル
方式、電子方式、空圧方式、水力方式、機械方式もしく
は他の類似タイプの装置、又はこのような装置タイプの
１棟もしくはそれ以上の組合せを用いてインプリメント
することかできる。現在好ましい本発明の態様は、電気
的アナログ方式の信号段取り翻訳装置と組合せた空圧式
最終制御装置を利用するのが好ましいのであるが、本発
明の装置及び方法は、プロセス制御技術の熟練者にとっ
て公知の入手しゃすい種棒の特定器具を用いてインプリ
メントすることができる。同様に、種々の信号の形式を
実質的に修正し、特定の装置据つけによる信号形式の条
件、安全率、測定又は制御器具の物理的特性及び他の類
似の要素に適応させることも可能である。例えば、差圧
式のオリフィス流量計によって生じた原料流測定信号は
、普通実際の流量の平方に一般に比例する関係を示す。
種々の変換用手段及びそれによって生じる種々の信号は
、各種の形態又は形式をとることができる。例えば、シ
ステムの制御要素は、電気的なアナログ方式、デジタル
方式、電子方式、空圧方式、水力方式、機械方式もしく
は他の類似タイプの装置、又はこのような装置タイプの
１棟もしくはそれ以上の組合せを用いてインプリメント
することかできる。現在好ましい本発明の態様は、電気
的アナログ方式の信号段取り翻訳装置と組合せた空圧式
最終制御装置を利用するのが好ましいのであるが、本発
明の装置及び方法は、プロセス制御技術の熟練者にとっ
て公知の入手しゃすい種棒の特定器具を用いてインプリ
メントすることができる。同様に、種々の信号の形式を
実質的に修正し、特定の装置据つけによる信号形式の条
件、安全率、測定又は制御器具の物理的特性及び他の類
似の要素に適応させることも可能である。例えば、差圧
式のオリフィス流量計によって生じた原料流測定信号は
、普通実際の流量の平方に一般に比例する関係を示す。
他の測定器具からは測定されたパラメーターに比例する
信号が生じ、又さらに他の変換手段からは測定されたパ
ラメーターとさらに複雑な、しかし公知の関係を有する
信号が生じる可能性がある。信号の形式又は信七と信号
が示すパラメーターとの間の厳密な関係に拘わりなく、
測定されたプロセスパラメーター又は所望のプロセス値
を表わす各信号は、測定されたパラメーター又は所望値
に対して、一定の関係を有し、その関係を利用すること
により、ある特定の信号値によって特定の測定値又は所
望値を表示すて）ことができる。従って、プロセス測定
値又は所望値を表わす信号は、信号ユニットと測定又は
所望ユごツ［・どの間の厳密な数学的関係どけ無関係に
、１ｆ−ＩＩＩ定又は所望値に関する情報を容易に検索
できる、ｔ ５１．ｃ信号である。
信号が生じ、又さらに他の変換手段からは測定されたパ
ラメーターとさらに複雑な、しかし公知の関係を有する
信号が生じる可能性がある。信号の形式又は信七と信号
が示すパラメーターとの間の厳密な関係に拘わりなく、
測定されたプロセスパラメーター又は所望のプロセス値
を表わす各信号は、測定されたパラメーター又は所望値
に対して、一定の関係を有し、その関係を利用すること
により、ある特定の信号値によって特定の測定値又は所
望値を表示すて）ことができる。従って、プロセス測定
値又は所望値を表わす信号は、信号ユニットと測定又は
所望ユごツ［・どの間の厳密な数学的関係どけ無関係に
、１ｆ−ＩＩＩ定又は所望値に関する情報を容易に検索
できる、ｔ ５１．ｃ信号である。
第１図ｆＹ−参照するに、重合反応器１１が図に示され
ている。導管手段１２を通ってエチレンが重合反応器１
１に供給される。同じように、希釈剤、例えばイソブタ
ンが導管手段１４を辿って重合反応器１１に供給され、
そ１−７で触媒、例えばシリカ）又はシリカ−チタニア
上の戦域的な酸化クロム触媒が、導管手段１５を通って
重合反応器１１に供給さ第１る。導管手段１５を通って
流れ込む触媒は、周期的に反応器１１内に導入されろ。
ている。導管手段１２を通ってエチレンが重合反応器１
１に供給される。同じように、希釈剤、例えばイソブタ
ンが導管手段１４を辿って重合反応器１１に供給され、
そ１−７で触媒、例えばシリカ）又はシリカ−チタニア
上の戦域的な酸化クロム触媒が、導管手段１５を通って
重合反応器１１に供給さ第１る。導管手段１５を通って
流れ込む触媒は、周期的に反応器１１内に導入されろ。
これは。
導管手段１５内に操作口」能的（Ｃ位置する触媒供給バ
ルブ１６を利用すること（（よつ′Ｃ達成される。
ルブ１６を利用すること（（よつ′Ｃ達成される。
反応流出物は導管手段１７を通って反応器１１から１反
出され、フラッシュタンク１８に供鼾↑される。この反
応流出物は、ポリエチレン、未反応エグレン及び・イソ
ブタンで（Ｊ成される。触媒は通常ポリエチレン内に含
まれる。
出され、フラッシュタンク１８に供鼾↑される。この反
応流出物は、ポリエチレン、未反応エグレン及び・イソ
ブタンで（Ｊ成される。触媒は通常ポリエチレン内に含
まれる。
フレッシュタンク１８内において、ポリエチレンは未反
応のエチレン及びイソブタンから分離され２）。ポリエ
チレンは、導管手段１９を通ってフラッシュタンク１８
から取出される。未反応のエチレン及びイソブタンは、
導管手段２１を曲ってフラッシュタンク１８から取出さ
れろ３、尺応器ンこ供給される希釈剤は反応することｌ
ｒ （、固形分濃度を調節′Ｊ−４）の洸利用される。
応のエチレン及びイソブタンから分離され２）。ポリエ
チレンは、導管手段１９を通ってフラッシュタンク１８
から取出される。未反応のエチレン及びイソブタンは、
導管手段２１を曲ってフラッシュタンク１８から取出さ
れろ３、尺応器ンこ供給される希釈剤は反応することｌ
ｒ （、固形分濃度を調節′Ｊ−４）の洸利用される。
本発明のセットポイント作成は、希釈剤のフローＶ−１
−を調整操作することにより、実際の固形分濃度を所望
の固形分濃度に実質的に等１〜く採つの（で利用される
。本発明のセットポイント作成がインフ０リメントされ
たｌ特定の重合プロセスにおいてＩｔ′ｌ：、反応器内
の固形分に対するセットポイントは６０幅であった。も
Ｉ〜固形分濃度が３６循をこえると、反応器内の液体が
固体と化して、浄化することがきわめて困難ｔｃ、完全
に閉塞した反応器にな、６ｏ もし固形分濃度が２５係
を下まわると、エチレン【づ、ガスとなり、反応器内の
密封円板が破壊される。
−を調整操作することにより、実際の固形分濃度を所望
の固形分濃度に実質的に等１〜く採つの（で利用される
。本発明のセットポイント作成がインフ０リメントされ
たｌ特定の重合プロセスにおいてＩｔ′ｌ：、反応器内
の固形分に対するセットポイントは６０幅であった。も
Ｉ〜固形分濃度が３６循をこえると、反応器内の液体が
固体と化して、浄化することがきわめて困難ｔｃ、完全
に閉塞した反応器にな、６ｏ もし固形分濃度が２５係
を下まわると、エチレン【づ、ガスとなり、反応器内の
密封円板が破壊される。
セットポイントと反応器内の液体が固体化する点との間
のマージンは、セットポイントとエチレンがガス化″す
る点との間のマージンよりもせまいので、固形分濃度が
セットポイントを下まわることに軟べ４）と、ｌＬ！ｉ
、］形分備度がセットポイントを上まわることの方がい
したんと臨界的である。また、固体ポリマーが詰まった
反応器を浄化するよりは１、反応器内の密封円板を、交
換する方が容易でもある。
のマージンは、セットポイントとエチレンがガス化″す
る点との間のマージンよりもせまいので、固形分濃度が
セットポイントを下まわることに軟べ４）と、ｌＬ！ｉ
、］形分備度がセットポイントを上まわることの方がい
したんと臨界的である。また、固体ポリマーが詰まった
反応器を浄化するよりは１、反応器内の密封円板を、交
換する方が容易でもある。
反応器１１内に操作ＤＪ′能的に設置された熱’ｔＪｆ
、対の１丁つな（ｈｋ度感知器と組合された温度変換器
２４に３１′す、反応器１１内のＱｋ度を表わす出力信
号２５が供給されろ。信号２５は温度変換器２４からコ
ンピューター１００への入力として供給され、さらに特
定的に固形分濃度計算ブロック１１１に供給される。
、対の１丁つな（ｈｋ度感知器と組合された温度変換器
２４に３１′す、反応器１１内のＱｋ度を表わす出力信
号２５が供給されろ。信号２５は温度変換器２４からコ
ンピューター１００への入力として供給され、さらに特
定的に固形分濃度計算ブロック１１１に供給される。
γ線濃度計２７〔マグロ〜・ヒル社（ＭｃＧｒａｗ−Ｈ
ｉ］、１） 発行の［ベリーのケミカル・エンゾニア
ーズ−ハ７ドブツク（Ｆｅｒｒｙ’ｓ Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌｌ（ｉｎ、７ｉｎｅｅｒｅ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ）
第５版ξ２２に記載の放射線♂シ度−１でよい〕から
反応器１１内の流体の密ルを表わず出力信号２９が供給
される。信号２９は、濃度計２７から固形分濃度計算ブ
ロック１１１に入力と１〜゛Ｃ供給される。
ｉ］、１） 発行の［ベリーのケミカル・エンゾニア
ーズ−ハ７ドブツク（Ｆｅｒｒｙ’ｓ Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌｌ（ｉｎ、７ｉｎｅｅｒｅ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ）
第５版ξ２２に記載の放射線♂シ度−１でよい〕から
反応器１１内の流体の密ルを表わず出力信号２９が供給
される。信号２９は、濃度計２７から固形分濃度計算ブ
ロック１１１に入力と１〜゛Ｃ供給される。
導管手段２１へ流れる流体の試料は、導管手段３３を通
ってアナライず一変換器３４に供給される。アナライデ
ー変換器３４は、オクラホマ州パートルズビルのアゾラ
イド・オートメーション社製のオプチクローム（Ｏｐｔ
ｉｃｈｒｏｍ ） １０２のごとキクロマトグラフ分析
器であるのが望ましい。アナライザー変換器３４は、導
管手段２１を通って流体中のエチレンの濃度を表わす出
力信号３６を供給する。本質的には、信号３６は反応器
１１から取出された未反応エチレンの濃度を表わす。信
号３６は、アナライザー変換器３４かも固形分濃度削算
ブロック１１１への入力として供給される。
ってアナライず一変換器３４に供給される。アナライデ
ー変換器３４は、オクラホマ州パートルズビルのアゾラ
イド・オートメーション社製のオプチクローム（Ｏｐｔ
ｉｃｈｒｏｍ ） １０２のごとキクロマトグラフ分析
器であるのが望ましい。アナライザー変換器３４は、導
管手段２１を通って流体中のエチレンの濃度を表わす出
力信号３６を供給する。本質的には、信号３６は反応器
１１から取出された未反応エチレンの濃度を表わす。信
号３６は、アナライザー変換器３４かも固形分濃度削算
ブロック１１１への入力として供給される。
反応器内の実際の固形分濃度は、例えば１９７６年託Ａ
春季総会議ｒ４ｃ碌に収録されたＤ・１（］、スミス（
Ｓｍ１ｔｈ ）の［プロセス変数の割算値利用による永
すオレフイン反応器の制御Ｊ （Ｃｏｎｔｒｏｌ ０ｆ
Ｐｏｌｙｏｌｅｆｉｎ Ｒｅａｃｔｏｒｓ Ｕｓｉｎｇ
Ｃａ１ｃｕｌａｔｅｄ Ｖａ’１ｕｅｅｏｆ Ｐｒｏ
ｃｅｓｓ ＶａｒｉａｂｌＧｓ ）に記載の方程式利
用による従来技法により、プロセス変数の測定値を基亭
にし７て甜算される。固形分濃度を測定する技法は、ン
ト梵門の臨界的特徴を構成１−るものではないので、任
意の技法を用いて固形分１＞度を測定しうろこと（Ｃ注
目すべきである。
春季総会議ｒ４ｃ碌に収録されたＤ・１（］、スミス（
Ｓｍ１ｔｈ ）の［プロセス変数の割算値利用による永
すオレフイン反応器の制御Ｊ （Ｃｏｎｔｒｏｌ ０ｆ
Ｐｏｌｙｏｌｅｆｉｎ Ｒｅａｃｔｏｒｓ Ｕｓｉｎｇ
Ｃａ１ｃｕｌａｔｅｄ Ｖａ’１ｕｅｅｏｆ Ｐｒｏ
ｃｅｓｓ ＶａｒｉａｂｌＧｓ ）に記載の方程式利
用による従来技法により、プロセス変数の測定値を基亭
にし７て甜算される。固形分濃度を測定する技法は、ン
ト梵門の臨界的特徴を構成１−るものではないので、任
意の技法を用いて固形分１＞度を測定しうろこと（Ｃ注
目すべきである。
反応２１；内の実μｓ、ミの固形分ｔ？度を・衣わず信
号１１２が、固形３．！〃ｒ゛牙度６１γ１．ブｒ〕ツ
ク１１１が１つ希釈剤セラトン１ζ゛インｌ−引↑γブ
ロック１１４（このブロックは、本ｑ）１的に本発明の
セットポイントイ／「成についての性徴を冶するコント
ローラーである）ヘノ０ロセス変数入力として供給され
７：、、。
号１１２が、固形３．！〃ｒ゛牙度６１γ１．ブｒ〕ツ
ク１１１が１つ希釈剤セラトン１ζ゛インｌ−引↑γブ
ロック１１４（このブロックは、本ｑ）１的に本発明の
セットポイントイ／「成についての性徴を冶するコント
ローラーである）ヘノ０ロセス変数入力として供給され
７：、、。
所望にＣ固形分濃度（本発明が適用されたエチレン反応
５圧ついては６０係）を表わ１−信号１１５が、希釈削
セットホイント計算ブ゛ロック１１４ヘセットポイント
入力として供給されろ。信号１１２及び１１５に応答し
、導管手段１４内を通る希釈剤のフローレートに対する
セットポイントが、希釈剤セットポイント計カーブロッ
ク１１４内において、以下第２図に関してさらに詳しく
述べるように計算さｉする。４８号１１２によって表わ
される実際の固形分濃度を、信号１１５によって表わさ
れる所望の固形分濃度に実質的に等１〜く保つように、
希釈剤の７ｏ−レートｒついて計算されたセットポイン
トを表わす信号４１が、コンピューター１００から流れ
コントローラー４２へ制御出力として供給される。
５圧ついては６０係）を表わ１−信号１１５が、希釈削
セットホイント計算ブ゛ロック１１４ヘセットポイント
入力として供給されろ。信号１１２及び１１５に応答し
、導管手段１４内を通る希釈剤のフローレートに対する
セットポイントが、希釈剤セットポイント計カーブロッ
ク１１４内において、以下第２図に関してさらに詳しく
述べるように計算さｉする。４８号１１２によって表わ
される実際の固形分濃度を、信号１１５によって表わさ
れる所望の固形分濃度に実質的に等１〜く保つように、
希釈剤の７ｏ−レートｒついて計算されたセットポイン
トを表わす信号４１が、コンピューター１００から流れ
コントローラー４２へ制御出力として供給される。
導管手段１４内に操作可能的に設置された流れ感知器４
５と組合さねた流れ変換器４４から、導管手段１４を通
る希釈剤の実際のフローレートを表わす出力信号４６が
供給される。信→づ４６は、比例−積分一徹分コントロ
ーラーであることが望ましい、流わコントローラー４２
へプロセス変数入力として供給されろ。
５と組合さねた流れ変換器４４から、導管手段１４を通
る希釈剤の実際のフローレートを表わす出力信号４６が
供給される。信→づ４６は、比例−積分一徹分コントロ
ーラーであることが望ましい、流わコントローラー４２
へプロセス変数入力として供給されろ。
信号４１及び４６ＩＣ応答し、流れコントローラー４２
は信号４１と４６との差に相当１−る出力信号４７を供
給する。信号４γは、導管手段１４を通る希釈剤の実際
のフローレートが、信号４１に、「つで表わされる所望
のフローレー トｉ′ｒ実質的に等し２く保たれるのに
必要な、導管手段１４内に操作可能的に設置された制御
パルプ４８の位置を表わずよう（てスケーリングされろ
。信号４７６．１’、流れコントローラー４２から制御
信号として制御パルプ４８に供給され、そして制御パル
プ４８がそれに応答して調整操作される。
は信号４１と４６との差に相当１−る出力信号４７を供
給する。信号４γは、導管手段１４を通る希釈剤の実際
のフローレートが、信号４１に、「つで表わされる所望
のフローレー トｉ′ｒ実質的に等し２く保たれるのに
必要な、導管手段１４内に操作可能的に設置された制御
パルプ４８の位置を表わずよう（てスケーリングされろ
。信号４７６．１’、流れコントローラー４２から制御
信号として制御パルプ４８に供給され、そして制御パル
プ４８がそれに応答して調整操作される。
さて第２図を参照するに、希釈剤セットポイント信号４
１を計算するのに用いられる論理についての論理的流れ
図が第２ Ａ 、 Ｂ図に示されているゎ第１工程は、
ＳＰ（信号１１５）からＰＶ （信号１１２）を引い
て、信号１１２で示される反応器１１内の実際の固形分
濃度と、信号１１５で示される所望の固形分濃度との差
を表わす誤差（Ｅ）を確立する。次に誤差に比例定数（
Ｋｐ） −ｗにおける変動１壬について２５０ボンド
／時−を乗じて比例項（ｐｇ） を計算する。時間の
関数としてのＥの積分値に積分定数（Ｋ□）−Ｅにおけ
る変動１壬について５０ボンド／時−を乗じて積分項（
Ｐ工） を導き出す。
１を計算するのに用いられる論理についての論理的流れ
図が第２ Ａ 、 Ｂ図に示されているゎ第１工程は、
ＳＰ（信号１１５）からＰＶ （信号１１２）を引い
て、信号１１２で示される反応器１１内の実際の固形分
濃度と、信号１１５で示される所望の固形分濃度との差
を表わす誤差（Ｅ）を確立する。次に誤差に比例定数（
Ｋｐ） −ｗにおける変動１壬について２５０ボンド
／時−を乗じて比例項（ｐｇ） を計算する。時間の
関数としてのＥの積分値に積分定数（Ｋ□）−Ｅにおけ
る変動１壬について５０ボンド／時−を乗じて積分項（
Ｐ工） を導き出す。
定数Ｋｐ及びｇｌｖｒ一ついて示した値は、本発明のセ
ットボ”インド作成を適用した重合プロセスに実際に利
用された値であったことを特記しておく。
ットボ”インド作成を適用した重合プロセスに実際に利
用された値であったことを特記しておく。
また、以下に記載する他の定数及び限界値も実際に利用
された値である。これらの値は、一般に経験に基づいて
きまるものであり、プロセスが異なれば、一般にこれら
の値も異なるであろう。
された値である。これらの値は、一般に経験に基づいて
きまるものであり、プロセスが異なれば、一般にこれら
の値も異なるであろう。
ＰＫ及びＰ工を計算した後、判断ブロックを利用して誤
差が０よりも大きいか、又はそれに等しいかを測定する
。プロセス変数がセットポイントを上まわると、有害条
件が起きる確率が高くブｆるので、プロセス変数がセッ
トポイントｖ上まわるか、又は下まわるかによって制御
作用が変わるため、前記の判断を行５のである。もし、
誤差が０よりも犬であるか、０に等しければ、比較的強
力な制御作用が望ましいので、誤差の立方に定数Ｋｑ、
２（１，２Ｋｐ に等しい）を乗じて累乗項（ＰＱ）
を導き出す。もし誤差が０よりも小であれば、二乗
し７た眼差に定数ＫＱ１ （０，７Ｋｐ に等しい）
を乗じたものを利用して累乗項ＰＱ を計算する。
差が０よりも大きいか、又はそれに等しいかを測定する
。プロセス変数がセットポイントを上まわると、有害条
件が起きる確率が高くブｆるので、プロセス変数がセッ
トポイントｖ上まわるか、又は下まわるかによって制御
作用が変わるため、前記の判断を行５のである。もし、
誤差が０よりも犬であるか、０に等しければ、比較的強
力な制御作用が望ましいので、誤差の立方に定数Ｋｑ、
２（１，２Ｋｐ に等しい）を乗じて累乗項（ＰＱ）
を導き出す。もし誤差が０よりも小であれば、二乗
し７た眼差に定数ＫＱ１ （０，７Ｋｐ に等しい）
を乗じたものを利用して累乗項ＰＱ を計算する。
累乗項ＰＱ、 を計算するのに、任意の所望の累乗を
使用できる。誤差が１よりも上になったら高い累乗値の
方が効果がいっそう大きいが、きわめて短時間のうらに
きわめて大きな制御作用がなされ２）ため、高い累乗値
はプロセスな不安定にする影響もイ〕していることを考
慮しこ入れるべきである。
使用できる。誤差が１よりも上になったら高い累乗値の
方が効果がいっそう大きいが、きわめて短時間のうらに
きわめて大きな制御作用がなされ２）ため、高い累乗値
はプロセスな不安定にする影響もイ〕していることを考
慮しこ入れるべきである。
従って１、所望の制御作用が維持される範囲内において
、できるだけ低い累乗値を用いるのが望ましい。本発明
のセットポイント作成が適用されたプロセスについては
、プロセス変数がセットポイントよりも犬であるか、又
は等しければ誤差の立方を用い、そしてプロセス変数が
セットポイントよりも下であれば誤差の平方を用いるの
が好ましか・つた。
、できるだけ低い累乗値を用いるのが望ましい。本発明
のセットポイント作成が適用されたプロセスについては
、プロセス変数がセットポイントよりも犬であるか、又
は等しければ誤差の立方を用い、そしてプロセス変数が
セットポイントよりも下であれば誤差の平方を用いるの
が好ましか・つた。
累乗項ＰＱ の計算がすんだ後、時間の関数としての
誤差の導関数（ＤＺＥＲＲ）を計算する。フィリ−（Ｗ
ｙｌ、１０）の「アＰパンスト・エンジニアリングＯマ
セマチツクスＪ （Ａｃ１ｖａｎｃｅｄ Ｋｎｇｉｎｅ
ｅｒｉｎｇｌＡａｔｈｅｍａｔｊ ｃｓ ）第２版母５
・乙の１８５頁に説明されているように、補正又は「平
滑」導関数が中心点に得られる、５回連続した１組の観
察に適用される差分の方程式から誤差の導関数を得る。
誤差の導関数（ＤＺＥＲＲ）を計算する。フィリ−（Ｗ
ｙｌ、１０）の「アＰパンスト・エンジニアリングＯマ
セマチツクスＪ （Ａｃ１ｖａｎｃｅｄ Ｋｎｇｉｎｅ
ｅｒｉｎｇｌＡａｔｈｅｍａｔｊ ｃｓ ）第２版母５
・乙の１８５頁に説明されているように、補正又は「平
滑」導関数が中心点に得られる、５回連続した１組の観
察に適用される差分の方程式から誤差の導関数を得る。
利用した特定の方程式は次のとおりであった：上記式中
、 Ｙエ ＝Ｎ個の計算値の移動平均から得た固形分壬 Ｙ−２−最も新しいワイリ一点 Ｙ＋２：最も古いワイリ一点 Ｎ ＝一つのワイリ一点を得るための固形分売の計算値
の個数 Ｓ工 ＝試料抽出間隔（秒） 誤差の導関数（ＤｚｚＲＲ）により、反応器内における
固形分濃度の変動率及び該変動の方向が示される。従っ
て、もしＤＩＲＨの符号が負であ１１．ば、固形分売は
減少中であり、一方正の符号であれば、固形分濃度が増
加中であることがわかる。
、 Ｙエ ＝Ｎ個の計算値の移動平均から得た固形分壬 Ｙ−２−最も新しいワイリ一点 Ｙ＋２：最も古いワイリ一点 Ｎ ＝一つのワイリ一点を得るための固形分売の計算値
の個数 Ｓ工 ＝試料抽出間隔（秒） 誤差の導関数（ＤｚｚＲＲ）により、反応器内における
固形分濃度の変動率及び該変動の方向が示される。従っ
て、もしＤＩＲＨの符号が負であ１１．ば、固形分売は
減少中であり、一方正の符号であれば、固形分濃度が増
加中であることがわかる。
ＤＺＥＲＲを計算した後、＋ ０．２５幅／時である６
［うに選定されたＤＬＴＤＺ １で表わされる割合より
も早い速度で固形分濃度が増加又は減少しているか否か
を最初に決定する。もし、誤差の導関数の絶対値が＋０
．２５ ％ ／時よりも犬でなければ、微分項の、’Ｋ
１部分（ＰＤ〕）をＯに等しくセットする。も１、／
１８’５ ；￥の導関数の絶対値が＋０．２５ｑｂ１
時よりも大であわば、ＰＤｌを、誤差の導関数に１幅当
り６００ボンドとして選んだ定数ＫＤ□を乗じたものに
等しくなるようにセットする。従って、誤差の４関数の
絶対値があらかじめ定めた値よりも大である時にのみ、
ＦＤ、はあるマグニチウｒを有する。
［うに選定されたＤＬＴＤＺ １で表わされる割合より
も早い速度で固形分濃度が増加又は減少しているか否か
を最初に決定する。もし、誤差の導関数の絶対値が＋０
．２５ ％ ／時よりも犬でなければ、微分項の、’Ｋ
１部分（ＰＤ〕）をＯに等しくセットする。も１、／
１８’５ ；￥の導関数の絶対値が＋０．２５ｑｂ１
時よりも大であわば、ＰＤｌを、誤差の導関数に１幅当
り６００ボンドとして選んだ定数ＫＤ□を乗じたものに
等しくなるようにセットする。従って、誤差の４関数の
絶対値があらかじめ定めた値よりも大である時にのみ、
ＦＤ、はあるマグニチウｒを有する。
ＰＤ］を計算し７た後、＋０．２５循／時であるように
選定されたＤＬＴＤＺ ２よりも大きな割合で固形分７
Ｎ度が増加中であるか否かを知るために、誤差の・１関
ａ （ＤＩＲＲ）を再度検討する。もし答がノーであれ
ば、第２微分項（ＦＤ２）を０に等しくセット−４る。
選定されたＤＬＴＤＺ ２よりも大きな割合で固形分７
Ｎ度が増加中であるか否かを知るために、誤差の・１関
ａ （ＤＩＲＲ）を再度検討する。もし答がノーであれ
ば、第２微分項（ＦＤ２）を０に等しくセット−４る。
もし答がイエスならば、固形分濃度が七ットポイントを
１．５％よりも多く上まわっているか否かの検討な行５
（ＤＬＴＤＢ ２は１．５係であるように選定された
）。かくして、誤差が負であるか、又は１．５幅未満で
あれば、ＦＤ２を再度０に等しくセット゛Ｊる。しかし
、もし誤差が１．５幅をこえてセットポイントを上まわ
っていれば、有意な制御作用を′採用することになるで
あろう。なぜかというに、実際の固形分濃度が１．５幅
をこえてセットポイントを上まわり、１〜かも増加中と
あれば、反応器の内容物が固体化する確率が高いからで
ある。
１．５％よりも多く上まわっているか否かの検討な行５
（ＤＬＴＤＢ ２は１．５係であるように選定された
）。かくして、誤差が負であるか、又は１．５幅未満で
あれば、ＦＤ２を再度０に等しくセット゛Ｊる。しかし
、もし誤差が１．５幅をこえてセットポイントを上まわ
っていれば、有意な制御作用を′採用することになるで
あろう。なぜかというに、実際の固形分濃度が１．５幅
をこえてセットポイントを上まわり、１〜かも増加中と
あれば、反応器の内容物が固体化する確率が高いからで
ある。
上記の制御作用を行う第１工程は、本発明の場合６６係
である固形分濃度の厳格限界値だ、実際の固形分酸度が
どの程度近づいているかを測定することである。このこ
とは、誤差についての厳格限界値から誤差をさし引くこ
と（セットポイントが３０壬故、ＤＬＴＳＰ １は３ｑ
ｂであった）によってマージン（ＭＲＧＮ ） を測
定することで達成される。
である固形分濃度の厳格限界値だ、実際の固形分酸度が
どの程度近づいているかを測定することである。このこ
とは、誤差についての厳格限界値から誤差をさし引くこ
と（セットポイントが３０壬故、ＤＬＴＳＰ １は３ｑ
ｂであった）によってマージン（ＭＲＧＮ ） を測
定することで達成される。
次尾、誤差の導関数に定数ＫＤ２ （３５０ボンｒ／１
係として選んだ）を乗じ、その結果をマージンで割れば
ＰＤ＞！が計算される。このようにして、誤差が厳格限
界値（ＤＬＴＳＰ １）に近づいたならば、ＭＲＧＮ
項のマグニチウＶが低減し、ＦＤ３項のマグニチウドが
増加することになるであろ５゜ＦＤ２の値を割算した後
、ＰＤｌとＦＤ２とを加えて微分項ＦＤ を計９する
。次に項ＰＥ、ＰＩ、ＰＱ及びＦＴ） を加えて信号４
１のマグニチウドを計算する。
係として選んだ）を乗じ、その結果をマージンで割れば
ＰＤ＞！が計算される。このようにして、誤差が厳格限
界値（ＤＬＴＳＰ １）に近づいたならば、ＭＲＧＮ
項のマグニチウＶが低減し、ＦＤ３項のマグニチウドが
増加することになるであろ５゜ＦＤ２の値を割算した後
、ＰＤｌとＦＤ２とを加えて微分項ＦＤ を計９する
。次に項ＰＥ、ＰＩ、ＰＱ及びＦＴ） を加えて信号４
１のマグニチウドを計算する。
要約するに、比例及び微分項（１）Ｅ及びｐＩ ）に周
知の）票準方式６’Ｕよるｉ＋ｉ１．制御で、払る。項
１゛Ｑ、は累乗（′（−捏、・人、５ぜた誤差ｖｔ二比
例し、該累乗のマグニテウドは、実際の固形分濃度がセ
ットポイントを上まわるか、又は−トまわるかによつ”
Ｃきまる。誤差が１φをこえて増加したとぎに、有意な
制御作用が生しフイ）でに１ろう。
知の）票準方式６’Ｕよるｉ＋ｉ１．制御で、払る。項
１゛Ｑ、は累乗（′（−捏、・人、５ぜた誤差ｖｔ二比
例し、該累乗のマグニテウドは、実際の固形分濃度がセ
ットポイントを上まわるか、又は−トまわるかによつ”
Ｃきまる。誤差が１φをこえて増加したとぎに、有意な
制御作用が生しフイ）でに１ろう。
同様１（、微分項のマダニチウドは、実際の固形分濃度
が増加Ｌ、又は減少する割合及び実際の固形分濃度がセ
ットポイントよりも上か、又は下かによ・つてきまろ。
が増加Ｌ、又は減少する割合及び実際の固形分濃度がセ
ットポイントよりも上か、又は下かによ・つてきまろ。
本質的には、微分項は、もし固邸分濃度が増加中である
が、まだセットポイント＋１゜３５幅よりも下であれば
一つのイ直を有し、そしても１−ρ・ｊ分外濃度が増加
中であって、しかもセットポイン） ＋１．５ ％より
も上であれば別の値を有するであろう。後の場合、微分
項のマグニチウドは、実際の固形分濃度が厳格限界値に
近づくにつれて増大ず７．、）。
が、まだセットポイント＋１゜３５幅よりも下であれば
一つのイ直を有し、そしても１−ρ・ｊ分外濃度が増加
中であって、しかもセットポイン） ＋１．５ ％より
も上であれば別の値を有するであろう。後の場合、微分
項のマグニチウドは、実際の固形分濃度が厳格限界値に
近づくにつれて増大ず７．、）。
制御技術の熟Ｗｆ者ならばよく判ると思うが、第２図に
示した論理１（多くの最高限界値及び最低限界値、なら
びに平滑フィルターを利用できろ。例えは、Ｏで割るの
を避け４）ため、ＭＲＧＮ 項に（ま最低限界値が多
分設けられるであろう。また、ＰＱ、、ＤＺ ＥＲＲ及
びＭＲＧＮ のような項を沖過してスムーズな制御作
用を保証するために、６０秒から１分までの範囲内の時
間定数を有する平滑ノイルターカー典型的に利用される
であろう。このよ５１．ｃ限界値や平滑フィルターは、
制御技術の熟練者にとって周知の事項で＃ ６ Ｌ、、
本発明の説明に重装１ｒ役割りを果ｆ、−１ものでもな
い故、これらについては説すリｌ−，なかった。
示した論理１（多くの最高限界値及び最低限界値、なら
びに平滑フィルターを利用できろ。例えは、Ｏで割るの
を避け４）ため、ＭＲＧＮ 項に（ま最低限界値が多
分設けられるであろう。また、ＰＱ、、ＤＺ ＥＲＲ及
びＭＲＧＮ のような項を沖過してスムーズな制御作
用を保証するために、６０秒から１分までの範囲内の時
間定数を有する平滑ノイルターカー典型的に利用される
であろう。このよ５１．ｃ限界値や平滑フィルターは、
制御技術の熟練者にとって周知の事項で＃ ６ Ｌ、、
本発明の説明に重装１ｒ役割りを果ｆ、−１ものでもな
い故、これらについては説すリｌ−，なかった。
本発明は第２図に示された特厘の配牌に限定されて）も
のでないことを再び特記しておく。累乗項については、
特定のプロセスごとの好適な任意の累乗に誤差を増大さ
せることができ、そしても（、。
のでないことを再び特記しておく。累乗項については、
特定のプロセスごとの好適な任意の累乗に誤差を増大さ
せることができ、そしても（、。
プロセス変数の実際の値がセットポイントの七になった
り、下になったりしていれば、累乗項をＯに等しくセッ
トすることが所望されるようブＩプロセスも若干ある。
り、下になったりしていれば、累乗項をＯに等しくセッ
トすることが所望されるようブＩプロセスも若干ある。
呼だ、あるプロセスでは、もしプロセス変数の実際値が
七ツトポイントの士にならな（て、セットポイントの下
になっていれば、累乗項のマグニチウドをＯよりも大き
くすることができる。
七ツトポイントの士にならな（て、セットポイントの下
になっていれば、累乗項のマグニチウドをＯよりも大き
くすることができる。
もし、微分項を用いるとすれば、該項の計算方法を変え
ることもできる。微分項をもし利用するとずれば、本発
明の重要な特徴は、微分項のマグニヂウドが、誤差の変
動率とセットポイントに対するプロセス変数の位置とに
よってきまるであろうという点である。
ることもできる。微分項をもし利用するとずれば、本発
明の重要な特徴は、微分項のマグニヂウドが、誤差の変
動率とセットポイントに対するプロセス変数の位置とに
よってきまるであろうという点である。
本発明の七ツトポイントの計算が適用された特定プロセ
スにおいては、項ＦＤ がＯ以外の値を有するごとはめ
ったにない。従って、微分項を用いることは必要でない
が、反応器内容物の固体化が起きる最高限界値を、固形
分濃度の実際値が超えないようにするためには、微分項
を用いるのが望ましい。
スにおいては、項ＦＤ がＯ以外の値を有するごとはめ
ったにない。従って、微分項を用いることは必要でない
が、反応器内容物の固体化が起きる最高限界値を、固形
分濃度の実際値が超えないようにするためには、微分項
を用いるのが望ましい。
第１図及び第２図に示したよりな好ましい態様を例にと
って本発明を説明した。第１図に示す本発明の実施に用
いられる特定の構成要素のうら、詳しい説明を省略した
もの、例えば温度変換器２４、制俤ｊバルブ４８、流れ
コントローラー４２、流れ変換器４４及び流れ感知器４
５６′ｉ、い１′″れも周知の市販されている制御素子
であって、例えｃｆマグロ−・ヒル社の「ベリーのケミ
カル・エンジニアーズ・〕・ンドブツク」第４版第２２
章に詳しく載っている。触媒供給パルプ１５４ｉ’Ｊ−
４スコア（Ｓθ１ｓｃｏｒθ）のボール逆止め供給ノ々
ルゾ゛亡あってずい。
って本発明を説明した。第１図に示す本発明の実施に用
いられる特定の構成要素のうら、詳しい説明を省略した
もの、例えば温度変換器２４、制俤ｊバルブ４８、流れ
コントローラー４２、流れ変換器４４及び流れ感知器４
５６′ｉ、い１′″れも周知の市販されている制御素子
であって、例えｃｆマグロ−・ヒル社の「ベリーのケミ
カル・エンジニアーズ・〕・ンドブツク」第４版第２２
章に詳しく載っている。触媒供給パルプ１５４ｉ’Ｊ−
４スコア（Ｓθ１ｓｃｏｒθ）のボール逆止め供給ノ々
ルゾ゛亡あってずい。
説明を簡単明瞭にするため、慣用の補助的ｆ、ｃ機器、
例えばボン７°その他のプロセス機器については、それ
らが本発明の説明に重要な役割りを果たすものでない故
、前記の説明に含ませなかった。
例えばボン７°その他のプロセス機器については、それ
らが本発明の説明に重要な役割りを果たすものでない故
、前記の説明に含ませなかった。
また、付加的な測定制御用装置、例えばエチレンや触媒
のフローレートを制御するのに用いられるような装置も
説明しなかったが、エチレンや触媒のフローレートを制
御することは、本発明の説明に重要な役割りを果たすも
のではないからである。
のフローレートを制御するのに用いられるような装置も
説明しなかったが、エチレンや触媒のフローレートを制
御することは、本発明の説明に重要な役割りを果たすも
のではないからである。
しかしながら、制御の概念が重合プロセスならびに他の
プロセスにおける異なる制御にも適用しうるものである
ことを特記しておく。
プロセスにおける異なる制御にも適用しうるものである
ことを特記しておく。
現在好ましいとされている態様を例にとって本発明を説
明したが、妥当な変更及び修正を当業者が行うことは可
能であり、そのような変更は、本ＩＪＩＪ細告に記載し
た本発明の範囲内に包含されるものである。
明したが、妥当な変更及び修正を当業者が行うことは可
能であり、そのような変更は、本ＩＪＩＪ細告に記載し
た本発明の範囲内に包含されるものである。
第１図は、重合液ｉ、’３システム及びそれに連携した
、本発明のセットボ・ｆン）・作成を利用する制御シス
チン・を模式的に示したものであり、そして第２図は、
フ０ロセス変数の実際の値とプロセス変数についてのセ
ットポイントとの間の誤差に基づき、本発明に従ってセ
ットポイントを作成するのに利用される論理の論理的流
れ図である。 図中、１１・・・反応器、１６・・・触媒供給パルプ、
１８・・・フラッシュタンク、２４・・・温度変換器、
２７・・・γ線儂度計、３４・・・アナライず一変換器
、４２・・・流れコントローラー、４４・・・流れ変換
器、４５・・・流れ感知器、４８・・・制御パルプ、１
００・・・コンピューター。 代理人 浅 利 皓
、本発明のセットボ・ｆン）・作成を利用する制御シス
チン・を模式的に示したものであり、そして第２図は、
フ０ロセス変数の実際の値とプロセス変数についてのセ
ットポイントとの間の誤差に基づき、本発明に従ってセ
ットポイントを作成するのに利用される論理の論理的流
れ図である。 図中、１１・・・反応器、１６・・・触媒供給パルプ、
１８・・・フラッシュタンク、２４・・・温度変換器、
２７・・・γ線儂度計、３４・・・アナライず一変換器
、４２・・・流れコントローラー、４４・・・流れ変換
器、４５・・・流れ感知器、４８・・・制御パルプ、１
００・・・コンピューター。 代理人 浅 利 皓
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 第１プロセス変数の欠除の値を表わＴ第１信
号を４ｒ（ｊ’、立するための手段； 前記第１プロセス変数についＣの所望１（１を表わ１−
第２包号を確立するための手段： 前記の第１イｈ号からｉ１Ｊ記の第２信号を引いて第１
（＠号と第２イー号との差を表わす第６伯号を権立同
るための手段： 前記第６イｉ号に比例定数を来じ°Ｃ比例項を表ゎ１第
４（ａ”４をルＩＣ立Ｊるための手段：時間の関数とし
ての前記第６＠号の積分値に４λ分定数を乗じて積分項
を表わす第５信号を確立するための手段； 前記第６信号のマグニチウドが０よりも大きいか、又は
小さいかを決定するための手段：累乗項を表わ１第６信
号を確立判るだめの手段、但し前記第３仙号のマグニチ
ウドが０よりも大の場合は、該累乗項は、該第６信号を
第１累乗に増大したうえ、その結果に累乗定数を乗じた
ものに等しいマグニチウドを有し、前記第６信号のマグ
ニチウドが０よりも小の場合は、該累乗項は、該第６信
号を第２累乗に増大したうえ、その結果に第２累乗走数
を乗じたものに等しいマグニチウドを有するものとする
： 前記第４、第５及び第６信号のマグニチウドの和に等し
い第７信号を確立するための手段、但し、該第７信号は
第２プロセス変数のためのセットポイントであり、前記
第１プロセス変数の実際の値を前記第２信号で表わされ
る所望値に実質的に等しく保つものと１−る；及び 前記第７信号に応答して前記第２プロセス変数を調整操
作するための手段： を含んでいることを特徴とする装置。 （２）時間の関数としての前記第６信号の導関数を表わ
す第８信号を確立するための手段；第１微分項を表わす
第９信号を確立するための手段、その際、もし前記第８
手段によ・りて表わされる変動率の絶対値が第１の予定
変動率よりも小゛であ第１ば、該第１微分項はＯのマグ
ニチウドを有し７、またもし該第８手段によ゛つて表わ
される変動率の絶対値が該第１予定変動率よりも犬であ
れは、該第１微分項は該第８信号に第１微分定数を乗じ
たものに等しいマグニチウドを有するものとする：第２
イｌ夕分項を表わす第１０信号を確立するための手段、
その際、もし前記第８信号で表わされろ変動率が第２の
予定変動率よりも犬であり、かつ、前記第３化号のマグ
ニチウドが第２の予定マグニチウドよりも大であれば、
該第２微分項は前記第８信号に第２微分定数を乗じ、そ
の結果を前記第ろ仏月と該第６信号の値の限界値との差
で除したものに宿］〜く、またも１．該第８イハ号で表
わされる変動率ｒ’ｖ−前記の第２予定変動率よりも小
であるか、又は該第６信号のマグニチウドが該第２予定
マグニチウドよりも小であれば、該第２微分項は０のマ
グニチウドに等１〜いものとする：及び前記の第９及び
第１０個号を前記の第４、第５及び第６信号に加算して
前記の第７信号を確立するプこめの手段； を付加的に３む、特許請求の範囲（１）に記載の装（ｉ
−′ｌ−８（３）重合反応器： 該重合反応器にモノマーを供給するための十段：該重合
反応器に周期的に触媒を導入するための触媒供給パルプ
； 該重合反応器洗希釈ハ１］流体を供給゛するための手段
： ポリマー、希釈剤′Ｍ１．休及び未反応のモノ−マーを
含む反応流出物を該重合反応器から取出すための手段： 該重合反応器内の実際の固形分濃ｑｆ表わ１第１信号を
確立するだめの手段： 該重合反応器内の所望の固形分儂度を表わす第２伯号を
２．ｊ（ｆｔ立するブ、−めの手段：該第１伯号から該
第２信号を引い“Ｃ第１イバ号と第２信号との差１）を
表わす第６信号を確立１−るための手段： 前記第６イｈ号に比例定数（Ｋｐ ） を乗じて比例
項（ＰＥ ） を表わす第４信号を確立するための手
段： 時間の関数とし、ての前記第６信号の積分値に積分５５
１数（Ｋ、）を乗じて積分項（］、’Ｉ ） を表わ
す第５化号を確立するだめの手段： 前η１［小６信号のマグニチウドが０よりも犬で鼠るか
、又は小であるかを決宇１“るための手段；累乗項（Ｐ
Ｑ） を表わす第６信号を確立するための手段、但し
７、前記第６信号のマグニチウドが０よりも大の場合、
該累乗項は、該第３信号を第１累乗に増大したうえ、そ
の結果に累乗定数（ＫＱ、２ ）を乗じたものに等しい
マグニチウドを有し、該第６信号のマグニチウドが０よ
りも犬でない」ん１合、該累乗項は、該第３信号を第２
累乗に増大したうえ、その結果に第２累乗定数（−ＫＱ
□）を乗じたものに等しいマグニチウドを有するものと
する： 前Ｍｊ＋の第４、第５及び第６信号のマグニチウドの和
に等しい第７信号を確立するための手段、化ｌ−１該第
７個号は前記希釈剤流体のフローレートを表わし、前記
第１プロセス変数の実際の値を前記第２信号で表わされ
る所望の値に実質的に等しく保つよう如するものとする
：及び 前記第７信号に応答して前記希釈剤流体のフローレート
を調整操作１ろための手段； を含んでいることを特徴とする装ｓｔ。 （４）時間の関数としての前記第３仏号の導関数（ＤＺ
Ｐ２ＲＲ）を表わす第８（８号を確立するための手段； 第１微分項（ＦＤ、 ）を表わす第９信号を確立するだ
めの手段、その際、もし前記第８信号で表わされる変動
率の絶対値が第１の予定変動率（１）ＬＴＤＺ １ ）
よりも小であれば、前記第１微分項は０の゛？グニチウ
ドを有し、またも（−該第８信月で表わされる変動率の
絶対値が該第１予定変動率よりも犬であれば、該第１微
分項は該第８信号に第１微分定数ＫＤ工を乗じたものに
等しいマグニチウムを有するものとする： 第２微分項（ＦＤ２）を表わす第１０信号を確立するた
めの手段、その際、もし前記第８信号で表わされる変動
率が第２の予定変動率（ＤＬ’ｒＤＺ ２ ）Ｊ二りも
大であり、かつ、該第３信号の一９グニチウドが第２の
予定されたマグニチウド（ＤＬＴＤＢ ２ ）よりも犬
であれば、前記の第２微分項は、該第８情けに第２微分
定数（ＫＤ２ ）な乗じたうえ、その結果イ）・該第６
情号と該第６信号の値につい℃の限界値（Ｉ）ＬＴＳＰ
１）との差で除し７たものに等しいマグニチウドを有
し、又もし７、該第８イハ号によって表わされる変動率
が該第２予定変動率Ｊりも犬でないか、又は該第６信号
のマダニチウドが該第２予定マグニチウドよりも小であ
れば、該第２微分項（よ０のマグニチウドを有するもの
とする−及び前記の第９及び第１０化号を前記の第４、
第５及び第６信号に加えて前記の第７信号を確立するた
めの手段： をイ（］加的に含む、特許請求の範囲（３）に記載の装
置。 （５） プロセス制御に用いるためのセットポイント
を作成するだめの方法におい′Ｃ１ 第１プロセスの変数な表わ１゛第１化号を確立し：前記
第１７″ロセス変数の所望の値を表わす第２信号を確立
し： 前記の第１信号から前記の第２伯号を減じて、第１個乞
と第２信号との間の差を表わす第６信号を確立し： 前？己の第３伯号に比例定数を乗じて比例項を衣わず第
４信号を確立し； 時間の関数としての前記第３佃弓の積分値に積分定θを
乗じて積分項を表わすｌ、ａ５５化を確立し、前記第３
信号のマグニチウドがＯＪりも人であるか、又は小であ
るかを決定し、 累乗項を表わず第６信号を確立し、その際、前記第３信
号Ｏ−）マグニチウドが０よりも大の場合、該累乗項は
該第６信号を第１累乗に増大Ｉ〜たうえ、その結果に累
乗定数を乗じたもの等しいマグニチウドを有１〜、該第
６信号のマグニチウドがＣよりも小の場合、該累乗項は
該第６信号を第２累乗に増大したうえ、その結果に第２
累乗定数を乗じたものに等しいマグニチウドを有するよ
うにし、前記第４、ｆＲ５及び第６価号のマグニチウド
の和に等しい第７信号を確立しくただ１−１この第７信
号は、第２プロセス変数のためのセットポイン）・であ
って、該第１プロセス変数の実際の値を該第２１ａ＋３
によって表わされる所望の面に実質的に等しく保つ）；
そして 前ｄ己第７信号に応答して前記第２プロセス変数なＷ５
間整操作゛する： 本工程を含むことを特徴と−ｆる前記方法。 （６）＋１．’１間の関数としての前記第３信号の導関
数を表わす第８悄号を確立し： 第１微分項を表わず第９信号を確立し、その際。 もし前記第８４ｇ号で表わされる変動率の絶対値が第１
予定変動率よりも小であれば、該第１微分項は０のマグ
ニナウドを治し、又もし該第８信号で表わされる変動率
の絶対値が第１予定変動率よりも大であれば、該第１微
分項は該第８信号に第１微分定数を乗じたものに等しい
マグニチクドを有するようＶこし； 第２微分項を表わす第１０伯号を確立し、その際、もし
、該第８信号で表わされる変動率が第２予定変動率より
も犬であり、かつ、該第６信号のマグニチウドが第２予
定マグニチウドよりも大であれば、該第２微分項は該第
８信号に第２微分定数を乗じたうえ、その結果を該第６
信号と該第６信号の値についての限界値との差で除した
ものに等しいマグニチウドを有し、又もし該第８信号で
表わされる変動率が該第２予定変動率よりも小であるか
、又は該第６信号のマグニチウドが該第２予定マグニチ
ウドよりも小であれば、該第２微分項はＯのマグニチウ
ドを有するようにし；そして前記の第９及び第１０佃゛
号を前記の第４、第５及び第６＠＠に加えて前記の小７
信号を確立する二上記の本工程を付加的に含む、特許請
求の範囲（５）に記載の方法。 （７）重合反応器内において所望の固形分濃度が保たれ
るように、重合プロセスへの希釈剤流体のフローレート
をＡ整操作する方法において。 該重合反応器内の実際の固形分濃度を表わす第１信−号
！確立し： 該重合反応器内の所望の固形分濃度を表わす第２信号を
確立し： 該第１４Ｍ号から該第２信号を減じて、第１信号と第２
信号との差１）を表わす第６信号を確立し： 該第６信号に比例定数（Ｋｐ） を乗じて比例項（ｐ
Ｈを表わず第４信号を確立し： 時間の関数としての前記第５信号の積分値Ｉ／ｉ：積分
定数（Ｋ１）’４じて積分項（ＰＩ ） を表わす第
５信号を確立し： 前日Ｕ′２第６伯号のマグニチウドが０よりも犬Ｃある
か、又は小であるかを決定し： 累乗項（ＰＱ ’） を表わす第６信号な確立し、そ
の際、前記第６信号のマグニチウドが０よりも犬の場合
、該累乗項は該第６信号を第１累乗に増大したうえ、そ
の結果に累乗定数（ＫＱ２ ）を乗じたものに等Ｉ−い
マグニチウドを有し、該第６信号のマグニチウドが０よ
りも犬でない場合、該累乗項は該第６信号を第２累乗に
増大したうえ、その結果に第２累乗定数（’−ＫＱ１）
を乗じたものに等しいマグニチウドを有するよ５に
し、 前記の第４、第５及び第６信号のマグニチウドの和に等
しい第７信号を確立しくこの際、この第７信号は、前記
希釈剤流体のフローレートを表わし、前記第１プロセス
の変数の実際の値を前記第２信号で表わされる所望の値
ｒ実質的に等１〜＜１．ｃるように保つ）：そして 前記第７信号に応答して前記希釈剤流体のフローレート
を調整操作する； 諸工程を含むことを特徴とする前記方法。 （８）時間の関数どしての前記第６信号の導関数（ＤＺ
ＥＲＲ）を表わす第８信七を確立し：第１微分項（ＰＤ
よ）を表わす第９信号を確立し：その際、もし、前記第
８信号で表わされる変動率の絶対値が第１予定変動率（
Ｔ）ＴＪＴＴ）Ｚ １ ）よりも小であれば、該第１微
分項はＯのマグニチウドを４１し、又もし該第８信号で
表わされる変動率の絶対値が該第１予定変動率よりも大
であれば、該第１微分項は該第８信号に第１微分定数（
ＫＤＩ ）を乗じたものに等しいマグニチウドを有する
ようＫ Ｌ、第２微分項（ＰＤ２）を表わす第１０信号
を確立し、その際、もし該第８信号で表わされる変動率
が第２予定変動率（ＤＬＴＤＺ ２ ）よりも大であり
、かつ、該第６信号のマグニチウドが第２予定マグニチ
ウド（ＤＩ・ＴＤＢ ２ ）よりも犬であれば、該第２
微分項は、該第８個号に第２微分定数（ＫＤ２）を乗し
たうえ、その結果を該第６信号と該第６信号の値につい
ての限界値（ＤＬＴＳＰ １ ）との差で除ｉ′。 たものに等しいマグニチウドを有し、又もし該第８信号
で表わされる変動率が該第２予定変動率よりも大きくな
いか、又は該第６信号のマグニチウドが該第２予定マグ
ニチウドよりも小であれば、該第２微分項は０の値を有
するようにし；そして前記の第９及び第１０信号を前記
の第４、第５及び第６信号に加えて前記の第７信号を確
立する；」二層の諸工程を伺加的に含む、特許請求の範
囲（７）に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/399,109 US4543637A (en) | 1982-07-16 | 1982-07-16 | Generation of a set point for process control |
| US399109 | 1982-07-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5943403A true JPS5943403A (ja) | 1984-03-10 |
| JPH0113121B2 JPH0113121B2 (ja) | 1989-03-03 |
Family
ID=23578188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58120137A Granted JPS5943403A (ja) | 1982-07-16 | 1983-07-01 | プロセス制御用のセツトポイントの作成 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4543637A (ja) |
| EP (1) | EP0099131B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5943403A (ja) |
| AT (1) | ATE35330T1 (ja) |
| CA (1) | CA1215448A (ja) |
| DE (1) | DE3377168D1 (ja) |
| ES (1) | ES8501897A1 (ja) |
| NO (1) | NO166982C (ja) |
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