JPS5941512B2 - reflector - Google Patents
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- JPS5941512B2 JPS5941512B2 JP12228579A JP12228579A JPS5941512B2 JP S5941512 B2 JPS5941512 B2 JP S5941512B2 JP 12228579 A JP12228579 A JP 12228579A JP 12228579 A JP12228579 A JP 12228579A JP S5941512 B2 JPS5941512 B2 JP S5941512B2
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、反射体、特に照明器具等に用いられる反射
体に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a reflector, particularly a reflector used in lighting equipment and the like.
従来から、照明器具等に用いられる反射体として、１ア
ルミニウム板を研磨して鏡面を形成しアルマイト処理し
たもの、２アルミニウム板のような金属板を研磨して鏡
面を形成し、これをシリコン系フツ素樹脂等の樹脂で被
覆したもの、３上記２の金属板の鏡面にアルカリ金属ケ
イ酸塩溶液を塗布し、乾燥、焼付けしてガラス質皮膜化
しこれを硝酸等で酸処理して皮膜中のアルカリ金属イオ
ンを除去したもの、が知られている。Traditionally, as reflectors used in lighting equipment, etc., 1 aluminum plates are polished to form mirror surfaces and alumite treated, 2 metal plates such as aluminum plates are polished to form mirror surfaces, and these are silicon-based. Those coated with resin such as fluororesin, 3. Apply an alkali metal silicate solution to the mirror surface of the metal plate mentioned in 2 above, dry and bake to form a glassy film, which is then acid-treated with nitric acid etc. to form a film. It is known that the alkali metal ions have been removed.
しかしながら、これらにはそれぞれつぎのような欠点が
あつた。すなわち、１の反射体は耐薬品性が悪く、２の
反射体は、樹脂皮膜の耐熱性が小さく、かつ表面硬度が
小さくて傷がつきやすい、３の反射体は、ガラス質皮膜
が脆く、かつ耐熱性、耐熱衝撃性に欠ける、という欠点
があつた。この発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、基材と、この基材に形成された鏡面と、この鏡
面を被覆している下側ガラス質皮膜と、この下側ガラス
質皮膜の上に形成されている上側ガラス質皮膜を備えた
反射体であつて、下側ガラス質皮膜の組成が、下記の組
成ＳｉＯ２：５２〜９７モル％
Ｐ２Ｏ５，Ｂ２Ｏ３およびＡｌ２Ｏ３からなる群から選
ばれた少なくとも一つの酸化物：１〜２３モル％Ｎａ２
Ｏ：２〜２５モル％に選ばれ、上側ガラス質皮膜の組成
が下記の組成ＳｌＯ２：５２．５〜９４．０モル係Ｐ２
Ｏ５，Ｂ２Ｏ３およびＡｌ２Ｏ３からなる群から選ばれ
た少なくとも一つの酸化物：１〜２３モル％Ｌｉ２Ｏ：
５〜２２モル％Ｎａ２Ｏ：０〜２．５モル％
に選ばれていることをその要旨とするものである。However, each of these had the following drawbacks. That is, reflector 1 has poor chemical resistance, reflector 2 has a resin film with low heat resistance and low surface hardness and is easily scratched, and reflector 3 has a brittle glass film. It also had the disadvantage of lacking heat resistance and thermal shock resistance. This invention was made in view of the above circumstances, and includes a base material, a mirror surface formed on this base material, a lower vitreous coating covering this mirror surface, and a lower vitreous coating of this lower vitreous coating. A reflector having an upper glassy film formed thereon, wherein the composition of the lower glassy film is selected from the group consisting of the following composition SiO2: 52 to 97 mol% P2O5, B2O3 and Al2O3. At least one oxide: 1-23 mol% Na2
O: 2 to 25 mol% is selected, and the composition of the upper glassy film is the following composition SlO2: 52.5 to 94.0 mol% P2
At least one oxide selected from the group consisting of O5, B2O3 and Al2O3: 1 to 23 mol% Li2O:
The gist is that Na2O is selected to be 5 to 22 mol% and 0 to 2.5 mol%.
すなわち、この発明の反射体は、鏡面を被覆しているガ
ラス質皮膜が、Ｎａ２Ｏリツチで造膜性に富みかつＰ２
Ｏ５，Ｂ２Ｏ３，Ａｌ２Ｏ３のような変性剤により膜強
度が大になつている下側ガラス質皮膜と、Ｌｉ２Ｏリツ
チで耐薬品性に富みかつＰ２Ｏ３Ｂ２Ｏ３，Ａｌ２Ｏ３
のような変性剤により膜強度が大になつている上側ガラ
ス質皮膜とからなつていて両皮膜の長所が生かし合わさ
れているため、ガラス質皮膜が耐薬品性、耐熱性、耐熱
衝撃性に富んでおり、かつ脆さがないのである。つぎに
、この発明を詳しく説明する。That is, in the reflector of the present invention, the vitreous film covering the mirror surface is rich in Na2O, has excellent film-forming properties, and has a P2
The lower glassy film has increased film strength due to modifiers such as O5, B2O3, and Al2O3, and the lower glass film is rich in Li2O and has high chemical resistance and P2O3B2O3 and Al2O3.
It consists of an upper vitreous coating whose strength is increased by the use of a modifying agent such as It is durable and not fragile. Next, this invention will be explained in detail.
この発明で用いる基材としては、アルミニウム、鉄、ガ
ラス、プラスチツク製のもの等があげられる。Examples of the base material used in this invention include those made of aluminum, iron, glass, and plastic.
これらは、それぞれ反射体の用途等に応じて使い分けら
れる。すなわち、反射体が、マルチハロゲン灯、高圧ナ
トリウム灯、水銀灯などの高輝度放電灯の反射体として
用いられるときは、反射体の温度が２０『Ｃにも達する
ようになり、長時間の耐熱性を保持する必要があるため
、基材としてアルミニウム、鉄またはガラス製のものが
用いられる。通常は、それらのなかでも、重量、衝撃強
度および安全性を考慮してアルミニウム製のものが用い
られる。反射体が、庭園灯、街路灯のようなデザイン性
を要求される照明器具の反射体として用いられるときは
、基材としてガラス製のものも多く用いられる。また、
鉄製の基材は重量が大であるが安価であるため、その特
徴を生かして使われる。プラスチツク製の基材は、耐熱
性を必要としない場合や、ガラス基材が安全性の点で使
用できないときに、その代用として用いられることが多
い。このような基材の表面に例えば、つぎのようにして
鏡面が形成される。These can be used depending on the purpose of the reflector. In other words, when the reflector is used as a reflector for high-intensity discharge lamps such as multi-halogen lamps, high-pressure sodium lamps, and mercury lamps, the temperature of the reflector reaches as high as 20°C, resulting in long-term heat resistance. Because it is necessary to hold the porosity, aluminum, iron, or glass is used as the base material. Among them, those made of aluminum are usually used in consideration of weight, impact strength, and safety. When the reflector is used as a reflector for lighting equipment that requires good design, such as garden lights and street lights, glass is often used as the base material. Also,
Iron base materials are heavy but inexpensive, so they are used to take advantage of these characteristics. Plastic substrates are often used as a substitute when heat resistance is not required or when glass substrates cannot be used for safety reasons. For example, a mirror surface is formed on the surface of such a base material in the following manner.
すなわち、基材がアルミニウム製のときは、基材を形成
したのち、ハブ研磨したり、ハブ研磨ののち（省略され
ることもある）引続いて脱脂処理を行い、ついで化学研
磨（例えば６７％ＨＮＯ３：６０１％、８７％Ｈ３ＰＯ
４：９４０１（ｆ）、ＣＵＳＯ４：微量）処理したり、
または電解研磨処理を施すことが行われる。電解研磨処
理をするときは、基材として高純度アルミニウム製のも
の、または特殊な合金製のものを用いる必要がある。基
材がグレードの低いアルミニウム製のもののときは、ア
ルミニウムの蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリ
ングにより基材表面に金属皮膜を形成して鏡面を形成す
ることが行われる。この場合、基材に対して直接金属皮
膜を形成して鏡面を形成してもよいが、金属皮膜と基材
との密着性を向上させるため、基材に対して予めウレタ
ン等により下地処理を施すことも行われる。基材がガラ
ス製のときは、アルミニウムの蒸着、イオンプレーテイ
ング、スパツタリングにより金属皮膜を形成して鏡面を
形成することが行われる。基材が鉄製のときは、ハブ研
磨したり、またはクロム、スズ、亜鉛、その他の金属に
よる化学めつき処理により金属皮膜を形成して鏡面を形
成したり、前記のような蒸着、イオンプレーテイング、
スパツタリング等の方法により金属皮膜を形成して鏡面
を形成したりすることが行われる。蒸着の場合は、下地
処理を施すことも行われる。基材がプラスチツクのとき
は、通常、蒸ふ、スパツタリングが行われる。このよう
にして基材表面に形成された鏡面は、下記の組成の下ガ
ラス質皮膜ＳｉＯ２：５２〜９７（ｆ）
Ｐ２Ｏ５，Ｂ２Ｏ３およびＡｌ２Ｏ３からなる群から選
ばれた少なくとも一つの酸化物：１〜２３モル％Ｎａ２
Ｏ：２〜２５モル％および、下記の組成の上ガラス質皮
膜（下ガラス質皮膜上に形成される）ＳｌＯ２：５２．
５〜９４．０Ｃｆ）
Ｐ２Ｏ５，Ｂ２Ｏ３およびＡｌ２Ｏ３からなる群から選
ばれた少なくとも一つの酸化物：１〜２３モル％Ｌｉ２
Ｏ：５〜２２モル％Ｎａ２Ｏ：Ｏ〜２．５モル係
で被覆される。That is, when the base material is made of aluminum, after forming the base material, hub polishing is performed, or after hub polishing (sometimes omitted), degreasing treatment is performed, and then chemical polishing (for example, 67% HNO3: 601%, 87%H3PO
4:9401(f), CUSO4: trace amount),
Alternatively, electrolytic polishing treatment is performed. When performing electrolytic polishing, it is necessary to use a base material made of high-purity aluminum or a special alloy. When the base material is made of low-grade aluminum, a mirror surface is formed by forming a metal film on the surface of the base material by aluminum vapor deposition, ion plating, or sputtering. In this case, a metal film may be formed directly on the base material to form a mirror surface, but in order to improve the adhesion between the metal film and the base material, the base material may be pretreated with urethane, etc. Giving is also done. When the base material is made of glass, a mirror surface is formed by forming a metal film by aluminum vapor deposition, ion plating, or sputtering. When the base material is made of iron, polishing the hub or chemical plating with chromium, tin, zinc, or other metals to form a mirror surface, or vapor deposition or ion plating as described above. ,
A mirror surface is formed by forming a metal film using a method such as sputtering. In the case of vapor deposition, a base treatment is also performed. When the base material is plastic, steaming and sputtering are usually performed. The mirror surface thus formed on the surface of the base material has the following composition: a glassy film SiO2: 52-97 (f) at least one oxide selected from the group consisting of P2O5, B2O3 and Al2O3: 1- 23 mol% Na2
O: 2 to 25 mol%, and an upper glassy film (formed on a lower glassy film) having the following composition: SlO2: 52.
5-94.0Cf) At least one oxide selected from the group consisting of P2O5, B2O3 and Al2O3: 1-23 mol% Li2
Coated with O: 5 to 22 mol% Na2O: O to 2.5 mol%.
上記下ガラス質皮膜および上ガラス質皮膜において、Ｐ
２Ｏ５，Ｂ２Ｏ３，Ａｌ２Ｏ３のような酸化物（変性剤
）の量が１モル％未満になると変性剤の量が少なすぎて
その効果が発揮されなくなる。In the lower vitreous film and the upper vitreous film, P
When the amount of oxides (modifiers) such as 2O5, B2O3, and Al2O3 is less than 1 mol %, the amount of the modifier is too small to exhibit its effect.
逆に、２３モル％を超えると変性剤の量が多くなりすぎ
てガラス質皮膜が柔らかくなり傷がつきやすくなる。酸
化物（変性剤）の量が１．０〜６．０モル％の範囲では
、特にガラス質皮膜の透明度が高まり完全透明となるた
め、酸化物の量をこの範囲内に選ぶことが最も好ましい
。酸化物の量が６．０モル％の範囲を超えるに従つて皮
膜の透明度が少しずつ失われてゆく。また、ガラス質皮
膜の膜厚は、上ガラス質皮膜、下ガラス質皮膜の合計で
、０．５〜５．０μに選ぶことが好ましい。すなわち、
膜厚をこの範囲に選ぶことにより最も効果が大になるか
らである。基材表面に形成された鏡面を上記のように下
および上ガラス質皮膜で被覆するには、例えばつぎのよ
うな方法が行われる。On the other hand, if it exceeds 23 mol %, the amount of the modifier becomes too large and the glassy film becomes soft and easily scratched. When the amount of oxide (modifier) is in the range of 1.0 to 6.0 mol%, the transparency of the glassy film increases and becomes completely transparent, so it is most preferable to select the amount of oxide within this range. . As the amount of oxide exceeds the range of 6.0 mol %, the transparency of the film gradually decreases. Further, the thickness of the vitreous coating is preferably selected to be 0.5 to 5.0 microns in total, including the upper vitreous coating and the lower vitreous coating. That is,
This is because the effect is maximized by selecting the film thickness within this range. In order to cover the mirror surface formed on the surface of the base material with the lower and upper vitreous films as described above, the following method is performed, for example.
すなわち、１スパツタリング法、２アルカリ金属ケイ酸
塩を変性した変性アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液を塗布
し焼付け、必要に応じて脱アルカリ処理をする方法、に
より下ガラス質皮膜を形成し、その上に同様にして上ガ
ラス質皮膜を形成することが行われる。この２の方法に
ついてより詳しく説明すると、アルカリ金属ケイ酸塩水
溶液に、リン酸塩、ホウ酸塩、アルミン酸塩を適宜に添
加混合して変性アルカリ金属ケイ酸塩水溶液をつくり、
これを基材の鏡面上に所定量塗布し、ついで乾燥して焼
付皮膜化し、下および上ガラス質皮膜を形成するもので
ある。この場合において、生成ガラス質皮膜中に気泡を
存在させないようにするため、乾燥、焼付けはつぎのよ
うにして行われる。すなわち、乾燥を５０〜１０『Ｃの
温度で行つてケイ酸塩水溶液中に存在する自由水を除去
し、ついで１００〜２００存Ｃの憑度で１次焼付けし、
引続いて２００℃を超え４００′Ｃ以下の温度で２次焼
付けする。このように焼付けを２段階に分けて行うこと
によりガラス質皮膜中に気泡が生成することが防がれる
のである。なお、必要な場合には、生成皮膜に対して酸
または水溶解時に酸性を呈する塩の水溶液を用いて脱ア
ルカリ処理する。この脱アルカリ処理によつても生成ガ
ラス質皮膜は何ら悪影響を受けない（酸化物（変性剤）
の作用により性能が向上しているため）のである。なお
、下および上ガラス質皮膜は、鏡面上だけでなく、図面
に示すように基材１の裏面２に設けてもよいのである。Specifically, a lower vitreous film is formed by 1 sputtering method, 2 a method of coating and baking an aqueous solution of a modified alkali metal silicate obtained by modifying an alkali metal silicate, and performing a dealkalization treatment as necessary. An upper vitreous film is formed in the same manner. To explain this second method in more detail, a modified alkali metal silicate aqueous solution is prepared by appropriately adding and mixing phosphate, borate, and aluminate to an alkali metal silicate aqueous solution.
A predetermined amount of this is applied onto the mirror surface of the base material, and then dried and baked into a film to form the lower and upper vitreous films. In this case, in order to prevent the presence of air bubbles in the resulting glassy film, drying and baking are carried out as follows. That is, drying is performed at a temperature of 50 to 10°C to remove free water present in the silicate aqueous solution, and then primary baking is performed at a temperature of 100 to 200°C.
Subsequently, secondary baking is performed at a temperature exceeding 200°C and below 400'C. By performing baking in two stages in this manner, the formation of air bubbles in the glassy film is prevented. If necessary, the resulting film is dealkalized using an acid or an aqueous solution of a salt that exhibits acidity when dissolved in water. Even with this dealkalization treatment, the resulting glassy film is not adversely affected in any way (oxides (modifiers)
This is because the performance is improved due to the effect of Note that the lower and upper vitreous films may be provided not only on the mirror surface but also on the back surface 2 of the base material 1 as shown in the drawings.
図において、３は下ガラス質皮膜、４は上ガラス質皮膜
、５は鏡面を構成する金属皮膜である。また、下および
上ガラス質皮膜は、それぞれ１層に限らず、下ガラス質
皮膜および上ガラス質皮膜の片方または双方を２層以上
形成するようにしてもよいのであり、このようにするこ
とにより、ガラス質皮膜の全体性能がさらに向上するよ
うになるのである。この発明の反射体は、鏡面を被覆し
ているガラス質皮膜が、前記のような組成の下ガラス質
皮膜と上ガラス質皮膜とからなるため、ガラス質皮膜に
脆さがなく、耐熱性、耐熱衝撃性に富んでおり、しかも
耐薬品性特に耐アルカリ性にも富んでいるのである。In the figure, 3 is a lower vitreous film, 4 is an upper vitreous film, and 5 is a metal film forming a mirror surface. Further, the lower and upper vitreous films are not limited to one layer each, but one or both of the lower vitreous film and the upper vitreous film may be formed in two or more layers. , the overall performance of the vitreous coating is further improved. In the reflector of the present invention, since the glassy film covering the mirror surface is composed of the lower glassy film and the upper glassy film having the above-mentioned composition, the glassy film is not brittle and has good heat resistance and It has excellent thermal shock resistance and chemical resistance, especially alkali resistance.
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。Next, examples will be described together with comparative examples.
基材として後記の第１表に示す材質の基材を準備し、こ
の基材表面を同表に示すように処理して鏡面化した。A base material made of the material shown in Table 1 below was prepared, and the surface of this base material was treated as shown in the same table to give it a mirror finish.
ついで、その鏡面上に同表に示すように、ケイ酸アルカ
リ液を塗布して乾燥、焼付けしたり、スパツタリングし
たりしてガラス質皮膜を形成し反射体を得た。この反射
体のガラス質皮膜（膜厚は１．０μ）の組成を同表に示
した。なお、スパツタリングは、所望の組成のガラス質
皮膜と同様の組成のプレート（ケイ酸アルカリ系組成物
で作製）を準備し、これを用いて行つた。粉末を用いて
もよいが、この場合はスパツタリング効果が悪くなる。
つぎに、上記のようにして得られた反射体のガラス質皮
膜の性能を調べた。Then, as shown in the table, an alkaline silicate solution was applied onto the mirror surface, dried, and baked or sputtered to form a glassy film to obtain a reflector. The composition of the glassy film (thickness: 1.0 μm) of this reflector is shown in the same table. Incidentally, the sputtering was performed using a plate (made of an alkali silicate composition) having the same composition as the glassy film having the desired composition. Powder may be used, but in this case the sputtering effect will be poor.
Next, the performance of the glassy coating of the reflector obtained as described above was investigated.
その結果は第２表のとおりであつた。表から明らかなよ
うに、実施例のもののガラス質皮膜は、耐熱性、耐熱衝
撃性に富み、しかも耐薬品性にも富んでいることがわか
る。なお、第２表の性能評価方法は、つぎのようにして
行つた。The results were as shown in Table 2. As is clear from the table, it can be seen that the glassy coatings of Examples have excellent heat resistance, thermal shock resistance, and chemical resistance. The performance evaluation method shown in Table 2 was performed as follows.
（１）耐薬品性：１０（ｆ）ＨＣｌｌｌＯ％ＮａＯＨ水
溶液を上ガラス質皮膜上に滴下し、室温で３０分間放置
し、鏡面の腐触の有無を調べた。(1) Chemical resistance: 10(f) HClllO% NaOH aqueous solution was dropped onto the upper vitreous film, left to stand at room temperature for 30 minutes, and the presence or absence of corrosion on the mirror surface was examined.
（２）耐熱性：反射体を２５０℃のオーブン中に入れて
１００時間保持し、クラツクの有無を、上記の耐熱薬品
性試験により調べた。(2) Heat resistance: The reflector was placed in an oven at 250° C. and held for 100 hours, and the presence or absence of cracks was examined by the heat resistance chemical test described above.
（３）耐熱衝撃性：反射体を２５０℃のオーブン中に入
れて３０分間保持したのち、水中に投入して急冷し、ク
ラツクの有無を、上記の耐薬品性試験により調べた。(3) Thermal shock resistance: The reflector was placed in an oven at 250°C and held for 30 minutes, then placed in water to be rapidly cooled, and the presence or absence of cracks was examined by the chemical resistance test described above.
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の反射体の一例の断面図である。
１・・・・・・基材、３・・・・・・下ガラス質皮膜、
４・・・・・・上ガラス質皮膜、５・・・・・・鏡面を
構成する金属皮膜。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The drawing is a sectional view of an example of the reflector of the present invention. 1...Base material, 3...Lower vitreous film,
4...Top vitreous film, 5...Metal film constituting the mirror surface.
Claims (1)
被覆している下側ガラス質皮膜と、この下側ガラス質皮
膜の上に形成されている上側ガラス質皮膜を備えた反射
体であつて、下側ガラス質皮膜の組成が、下記の組成Ｓ
ｉＯ＿２：５２〜９７モル％ Ｐ＿２Ｏ＿５、Ｂ＿２Ｏ＿３およびＡｌ＿２Ｏ＿３から
なる群から選ばれた少なくとも一つの酸化物：１〜２３
モル％Ｎａ＿２Ｏ：２〜２５モル％に選ばれ、上側ガラ
ス質皮膜の組成が下記の組成ＳｉＯ＿２：５２．５〜９
４．０モル％Ｐ＿２Ｏ＿５、Ｂ＿２Ｏ＿３およびＡｌ＿
２Ｏ＿３からなる群から選ばれた少なくとも一つの酸化
物：１〜２３モル％Ｌｉ＿２Ｏ：５〜２２モル％Ｎａ＿
２Ｏ：０〜２．５モル％ に選ばれていることを特徴とする反射体。 ２ 下側ガラス質皮膜および上側ガラス質皮膜の少なく
とも一方の、Ｐ＿２Ｏ＿５、Ｂ＿２Ｏ＿３およびＡｌ＿
２Ｏ＿３からなる群から選ばれた少なくとも一つの酸化
物の含有量が、１〜６モル％に選ばれている特許請求の
範囲第１項記載の反射体。 ３ 基材が、アルミニウム製の基材である特許請求の範
囲第１項または第２項記載の反射体。 ４ 鏡面の形成が、バフ研磨、化学研磨または電解研磨
によつて行われている特許請求の範囲第３項記載の反射
体。 ５ 鏡面の形成が、アルミニウムの蒸着によつて行われ
ている特許請求の範囲第３項記載の反射体。 ６ 鏡面の形成が、スパッタリングによつて行われてい
る特許請求の範囲第３項記載の反射体。 ７ スパッタリングが、アルミニウムを用いて行われて
いる特許請求の範囲第６項記載の反射体。 ８ 基材が、鉄製の基材である特許請求の範囲第１項ま
たは第２項記載の反射体。 ９ 鏡面の形成が、バフ研磨によつて行われている特許
請求の範囲第８項記載の反射体。 １０ 鏡面の形成が、めつきによつて行われている特許
請求の範囲第８項記載の反射体。 １１ 鏡面の形成が、アルミニウムの蒸着によつて行わ
れている特許請求の範囲第８項記載の反射体。 １２ 鏡面の形成が、スパッタリングによつて行われて
いる特許請求の範囲第８項記載の反射体。 １３ スパッタリングが、アルミニウムを用いて行われ
ている特許請求の範囲第１２項記載の反射体。 １４ 基材が、ガラス製の基材である特許請求の範囲第
１項または第２項記載の反射体。 １５ 鏡面の形成が、アルミニウムの蒸着によつて行わ
れている特許請求の範囲第１４項記載の反射体。 １６ 鏡面の形成が、スパッタリングによつて行われて
いる特許請求の範囲第１４項記載の反射体。 １７ スパッタリングが、アルミニウムを用いて行われ
ている特許請求の範囲第１６項記載の反射体。 １８ 基材が、プラスチック製の基材である特許請求の
範囲第１項または第２項記載の反射体。 １９ 鏡面の形成が、アルミニウムの蒸着によつて行わ
れている特許請求の範囲第１８項記載の反射体。 ２０ 鏡面の形成が、スパッタリングによつて行われて
いる特許請求の範囲第１８項記載の反射体。 ２１ スパッタリングが、アルミニウムを用いて行われ
ている特許請求の範囲第２０項記載の反射体。[Scope of Claims] 1. A base material, a mirror surface formed on the base material, a lower vitreous film covering the mirror surface, and an upper glass layer formed on the lower vitreous film. A reflector having a glassy coating, wherein the composition of the lower glassy coating is the following composition S.
iO_2: 52-97 mol% At least one oxide selected from the group consisting of P_2O_5, B_2O_3 and Al_2O_3: 1-23
Mol% Na_2O: selected from 2 to 25 mol%, and the composition of the upper glassy film is the following composition SiO_2: 52.5 to 9
4.0 mol% P_2O_5, B_2O_3 and Al_
At least one oxide selected from the group consisting of 2O_3: 1 to 23 mol% Li_2O: 5 to 22 mol% Na_
A reflector characterized in that 2O: 0 to 2.5 mol% is selected. 2 P_2O_5, B_2O_3 and Al_ of at least one of the lower vitreous coating and the upper vitreous coating
2. The reflector according to claim 1, wherein the content of at least one oxide selected from the group consisting of 2O_3 is selected to be 1 to 6 mol%. 3. The reflector according to claim 1 or 2, wherein the base material is an aluminum base material. 4. The reflector according to claim 3, wherein the mirror surface is formed by buffing, chemical polishing, or electrolytic polishing. 5. The reflector according to claim 3, wherein the mirror surface is formed by vapor deposition of aluminum. 6. The reflector according to claim 3, wherein the mirror surface is formed by sputtering. 7. The reflector according to claim 6, wherein the sputtering is performed using aluminum. 8. The reflector according to claim 1 or 2, wherein the base material is an iron base material. 9. The reflector according to claim 8, wherein the mirror surface is formed by buffing. 10. The reflector according to claim 8, wherein the mirror surface is formed by plating. 11. The reflector according to claim 8, wherein the mirror surface is formed by vapor deposition of aluminum. 12. The reflector according to claim 8, wherein the mirror surface is formed by sputtering. 13. The reflector according to claim 12, wherein the sputtering is performed using aluminum. 14. The reflector according to claim 1 or 2, wherein the base material is a glass base material. 15. The reflector according to claim 14, wherein the mirror surface is formed by vapor deposition of aluminum. 16. The reflector according to claim 14, wherein the mirror surface is formed by sputtering. 17. The reflector according to claim 16, wherein the sputtering is performed using aluminum. 18. The reflector according to claim 1 or 2, wherein the base material is a plastic base material. 19. The reflector according to claim 18, wherein the mirror surface is formed by vapor deposition of aluminum. 20. The reflector according to claim 18, wherein the mirror surface is formed by sputtering. 21. The reflector according to claim 20, wherein the sputtering is performed using aluminum.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12228579A JPS5941512B2 (en) | 1979-09-22 | 1979-09-22 | reflector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12228579A JPS5941512B2 (en) | 1979-09-22 | 1979-09-22 | reflector |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5647565A JPS5647565A (en) | 1981-04-30 |
| JPS5941512B2 true JPS5941512B2 (en) | 1984-10-08 |
Family
ID=14832163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12228579A Expired JPS5941512B2 (en) | 1979-09-22 | 1979-09-22 | reflector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5941512B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS589982A (en) * | 1981-07-07 | 1983-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Enamelled vessel body |
| KR101213933B1 (en) | 2004-05-31 | 2013-01-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | Module for liquid crystal display device |
| JP6197446B2 (en) * | 2013-07-29 | 2017-09-20 | Toto株式会社 | Enamel article and manufacturing method thereof |
-
1979
- 1979-09-22 JP JP12228579A patent/JPS5941512B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5647565A (en) | 1981-04-30 |
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