JPS5937539A - Photosensitive lithographic plate - Google Patents

Photosensitive lithographic plate

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Publication number
JPS5937539A
JPS5937539A JP14792582A JP14792582A JPS5937539A JP S5937539 A JPS5937539 A JP S5937539A JP 14792582 A JP14792582 A JP 14792582A JP 14792582 A JP14792582 A JP 14792582A JP S5937539 A JPS5937539 A JP S5937539A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
photosensitive
group
dicarboxylic acid
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14792582A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Shimizu
茂樹 清水
Akinobu Oshima
大島 昭信
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP14792582A priority Critical patent/JPS5937539A/en
Publication of JPS5937539A publication Critical patent/JPS5937539A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders

Abstract

PURPOSE:To obtain the titled lithographic plate having superior chemical resistance and superior printing resistance and developable in a weak alkaline water, by forming on a support a photosensitive layer composed of a specified compsn. of photocross-linkable polyester, an ethylenically unsatd. compd., a photopolymn. initiator, and an aliphatic carboxylic acid. CONSTITUTION:The photocross-linkable polyester is prepared having (A) aromatic dicarboxylic acid units each having formula I [(m), (n) are each 0 or 1], (B) dicarboxylic acid units each having sulfonate salt, and (C) diol units having formula II (formula III is a hydrogenated benzene ring; R<1>, R<2> are each 2-4C alkylene; R<3>, R<4> are each 1-6C alkyl; (r), (s) are each 0-3; and (t) is 0 or 1). The intended photosensitive lithographic plate is obtained by forming on a support a photosensitive layer consisting of said photocross-linkable polyester, an ethylenically unsatd. compd. having plural additionally polymeriable terminal unsatd. double bonds, a photopolymn. initiator, and aliphatic carboxylic acid or acid anhydride contg. plural carboxylic acids.

Description

【発明の詳細な説明】 関するものである。[Detailed description of the invention] It is related to

感光性平版印刷版の分野においては、ジアゾ化合物、桂
皮酸等に代表される光架橋性物質や、光重合性化合物等
が感光性物質として応用されている事は周知の事である
In the field of photosensitive lithographic printing plates, it is well known that photocrosslinkable substances such as diazo compounds and cinnamic acid, and photopolymerizable compounds are used as photosensitive substances.

ジアゾ化合物は、ジアゾ樹脂単独で用いられる場合と適
当な有機高分子担体を混合して用いられる場合がある。
The diazo compound may be used as a diazo resin alone or in combination with a suitable organic polymer carrier.

ところが両者共、適当な支持体、例えばアルミニウム、
銅、亜鉛等に塗布された場合、ジアゾ化合物は支持体の
表面と有害な相互作用を起し、現像性不良等の問題がお
きる。そこで塗布する前に、支持体に適当な表面処理、
例えば、ケイ酸ソーダー処理等を施すことが行なわれる
が、過酷な条件下等ではやはり経時安定性が満足されて
いなかった。
However, in both cases, suitable supports such as aluminum,
When applied to copper, zinc, etc., the diazo compound causes harmful interaction with the surface of the support, resulting in problems such as poor developability. Therefore, before coating, the support must be subjected to a suitable surface treatment,
For example, treatment with sodium silicate has been carried out, but the stability over time has not been satisfactory under severe conditions.

一方、桂皮酸骨格を高分子の側鎖あるいは主鎖に導入し
た不飽和ポリエステル樹脂が、経時安定性が良好でしか
も耐薬品性・耐刷性が優れている事は、良く知られてい
る事である。
On the other hand, it is well known that unsaturated polyester resins with a cinnamic acid skeleton introduced into the side chain or main chain of the polymer have good stability over time and excellent chemical resistance and printing durability. It is.

しかしながら、従来の桂皮酸骨格を含有する不飽和ポリ
エステルは、有機溶剤に対してのみ溶解性を示すため、
非露光部を溶解除去するための現像液として有機溶剤を
主とした液を用いなければならなかった。有機溶剤を使
用しなければならないという事は、経済的に不利である
と同時に、作業上の安全衛生の問題、現像液の廃棄処理
等々の問題があり、水あるいけ弱アルカリ水浴液で現像
可能な感光性平版印刷版が望まれていた。
However, conventional unsaturated polyesters containing a cinnamic acid skeleton are only soluble in organic solvents;
A solution mainly containing an organic solvent had to be used as a developer to dissolve and remove the non-exposed areas. Having to use organic solvents is economically disadvantageous, and at the same time, there are problems with work safety and health, disposal of the developer, etc., and it is possible to develop with water or a weak alkaline water bath. A photosensitive lithographic printing plate was desired.

本発明者らの一部はかかる点を考慮し、不飽和ポリエス
テルの持つ長所即ち経時安定性・耐薬品性・耐刷力を損
ガう事なく、水あるいけ弱アルカリ水溶液で現像可能な
感光性平版印刷版について検討した結果、特願昭5b−
iiざ3II!。
Taking these points into consideration, the present inventors developed a photosensitive material that can be developed with water or a weak alkaline aqueous solution without sacrificing the advantages of unsaturated polyester, namely, stability over time, chemical resistance, and printing durability. As a result of examining the lithographic printing plates, a patent application was filed in 1973.
iiza3II! .

特願昭57−!r67ざ3に示された様にスルフォネー
ト塩の基を有するジカルボン酸単位を必須成分とする感
光性ポリエステル・エチレン性不飽和化合物とからなる
感光層を有する平版印刷版を提案した。
Special request 1984! As shown in R67 Za3, a lithographic printing plate having a photosensitive layer consisting of a photosensitive polyester and an ethylenically unsaturated compound containing a dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group as an essential component was proposed.

かかる感光層を有す平版印刷版は水あるいは弱アルカリ
水溶液で現像可能でしかも耐薬品性・耐刷性・インキ受
容性も良好であるが、支持体、特にリン酸等によシ表面
が陽極酸化されたアルミ板等の場合、接着性が強すぎる
ためか、現像性の許容幅が狭く、疲労した現像液や希釈
1像液を使用する等の過酷な条件下では未露光部に汚ね
を生じる。
A lithographic printing plate having such a photosensitive layer can be developed with water or a weak alkaline aqueous solution and has good chemical resistance, printing durability, and ink receptivity. In the case of oxidized aluminum plates, etc., the allowable range of developability is narrow, perhaps because the adhesiveness is too strong, and under harsh conditions such as using a tired developer or diluted 1 developer, unexposed areas may become smeared. occurs.

本発明の目的は、かかる過酷な条件下のもとでも未露光
部に汚れを生じない平版印刷版を提供する事にある。
An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate that does not cause stains in unexposed areas even under such severe conditions.

本発明者等は鋭意検討を進めた結果、上記感光Itvに
少なくとも、λ個υ上のカルボキシル基を含有する脂肪
族カルボン酸を含有させる事により、耐薬・耐刷力等の
他の諸性能を損なう事力く過酷な条件下でも未露光部に
汚れを生じさせない現像性許容巾の広い感光性平版印刷
版が得られ、本発明を完成するに到った。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that by incorporating at least an aliphatic carboxylic acid containing λ carboxyl groups into the photosensitive ITV, other performances such as chemical resistance and printing durability can be improved. A photosensitive lithographic printing plate with a wide developability range that does not cause staining in unexposed areas even under harsh conditions without damaging the light has been obtained, and the present invention has been completed.

すなわち本発明の要旨とするところは、支持体上に、少
なくとも(A)  (a)一般式(1)(式中、mおよ
びnけθまたは/の数を示し少なくとも/方Vilであ
る)で表わされる芳香族ジカルボン酸単位、(b)スル
フォネート塩の基を有するジカルボン酸単位、および(
0)一般式(I)(式中、■は水素添加されたベンゼン
環を示しR′およびH*Fip素数−〜ダのアルキレン
基を示し HmおよびR4は水素原子または炭素数/〜
6のアルキル基を示し、rおよびeFi。〜3の数を示
しtは0またFilの数を示す。)で表わされるジオー
ル単位を含有する光架橋性ポリエステル、 (B)  少なくとも2個の付加重合性末端不飽和二重
結合を有するエチレン性不飽和化合物、(01光重合開
始剤、および、(DJ少なくともコ個以上のカルボキシ
ル基を含有する脂肪族カルボン酸またはその無水物から
成る感光層を有する事を特徴とする感光性平版印刷版に
存する。
That is, the gist of the present invention is to provide on a support at least (A) (a) with the general formula (1) (where m and n represent the number of θ or /, and at least / is Vil); an aromatic dicarboxylic acid unit represented by (b) a dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group, and (
0) General formula (I) (in the formula, ■ represents a hydrogenated benzene ring; R' and H*Fip represent an alkylene group of prime number - ~; Hm and R4 are hydrogen atoms or carbon numbers/~
6 alkyl group, r and eFi. ˜3, and t indicates 0 or the number of Fil. ), (B) an ethylenically unsaturated compound having at least two addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds, (01 photoinitiator, and (DJ at least The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate characterized by having a photosensitive layer made of an aliphatic carboxylic acid or anhydride thereof containing at least 1 carboxyl groups.

以下、本発明について詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明の(A)光架橋性ポリエステルは、(a)前記一
般式(1)で表わされる芳香族ジカルボン酸単位、(b
)スルフォネート塩の基を有するジカルボン酸単位、好
ましくは、スルフォネート塩の基を有する芳香族ジカル
ボン酸単位、および、(0)前記一般式(II)で表わ
されるジオール単位を必須成分とする。
(A) Photocrosslinkable polyester of the present invention comprises (a) an aromatic dicarboxylic acid unit represented by the general formula (1), (b)
) A dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group, preferably an aromatic dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group, and (0) a diol unit represented by the above general formula (II) as essential components.

前記一般式(1)で表わされる芳香族ジカルボン酸単位
は、例えば、p−フェニレンジアクリル酸、m−フェニ
レンジアクリル酸、p−カルボキシ桂皮酸、m−カルボ
キシ桂皮酸、またはそれらのアルキルエステル類等の誘
導体から誘導される。特に感度を考慮した場合、前記一
般式(1)においてm : n : /で表わされるも
のが好ましい。
The aromatic dicarboxylic acid unit represented by the general formula (1) is, for example, p-phenylene diacrylic acid, m-phenylene diacrylic acid, p-carboxycinnamic acid, m-carboxycinnamic acid, or alkyl esters thereof. derived from derivatives such as Particularly when sensitivity is taken into consideration, those represented by m:n:/ in the general formula (1) are preferable.

かかる芳香族ジカルボン酸単位は、光架橋性ポリエステ
ル中、通常5−4tよモル係、特に、/!−410モル
チの範囲が好ましい。
Such aromatic dicarboxylic acid units in the photocrosslinkable polyester usually have a molar ratio of 5-4t, especially /! A range of -410 molar is preferred.

(b)スルフォネート塩の基を有するジカルボン酸単位
は、例えば、!−す) IJウムスルアオイソフタル酸
、j−カリウムスルフォイン7タル酸、またけそれらの
アルキルエステル類、ヒドロキシアルキルエステル類等
の誘導体、3−ナトリウムスルフオフタル酸、3−カリ
ウムスル7オフタル酸、l−ナトリウムスルフオフタル
酸、グーカリウムスルフオフタル酸、またはそれらのア
ルキルエステル類、ヒドロキシアルキルエステル類等の
誘導体、−一ナトリウムスルフオテレフタル酸、−一カ
リウムスルフォテレフタル酸またはそれらのアルキルエ
ステル類、ヒドロキシアルキルエステル類等の誘導体、
α−ナトリウムスルフォこはく酸、β−ナトリウムスル
フオアジピン酸、2.5−ジナトリウムスルフオアジピ
ン酸またはそれらのアルキルエステル類tたはヒドロキ
シアルキルエステル類%、好ましくけ、左−ナトリウム
スルフォイソフタル酸ジメチル、コーナトリウムスル7
オテレフタル酸ジプチル等から誘導される。
(b) The dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group is, for example, ! -S) IJumsulaoisophthalic acid, j-potassium sulfoin heptathalic acid, derivatives thereof such as alkyl esters and hydroxyalkyl esters, 3-sodium sulfophthalic acid, 3-potassium sulfophthalic acid acids, l-sodium sulfophthalic acid, goopotassium sulfophthalic acid, or derivatives thereof such as alkyl esters and hydroxyalkyl esters, -monosodium sulfophthalic acid, -monopotassium sulfoterephthalic acid, or their derivatives Derivatives of alkyl esters, hydroxyalkyl esters, etc.
α-Sodium sulfosuccinic acid, β-sodium sulfoadipic acid, 2,5-disodium sulfoadipic acid or their alkyl esters or hydroxyalkyl esters%, preferably, sodium sulfoisophthalate Dimethyl acid, corn sodium sulfate 7
Derived from diptyl oterephthalate, etc.

かかるスルフォネート塩の基を有するジカルボン酸単位
は、光架橋性ポリエステル中、タモル優以上含有してい
ればよい。しかし含有量が増大するにつれて支持体に対
する接着性および平版印刷用の親油性の高いインキのイ
ンキ受容性が低下する傾向になるため、通常lIoモル
係以下、特に、/θ〜35モル係の範囲で使用するのが
好ましい。
It is sufficient that the dicarboxylic acid unit having such a sulfonate salt group is contained in the photocrosslinkable polyester in an amount of at least 1 mol or more. However, as the content increases, the adhesion to the support and the ink receptivity of highly lipophilic inks for lithographic printing tend to decrease. It is preferable to use it in

一ヒ記(a)芳香族ジカルボン酸単位および(1)lス
ルフォネート塩の基を有するジカルボン酸の単位は、本
発明の光架橋性ポリエステルのジカルボン酸成分を構成
するが、感度および現像性を考慮すると、これら(a)
単位と(b)単位の割合がl二〇、7〜/θ(モル比)
、特にl二0.2j〜3(モル比)であるのが好まし伝
(a) The aromatic dicarboxylic acid unit and (1) the dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group constitute the dicarboxylic acid component of the photocrosslinkable polyester of the present invention, but sensitivity and developability are taken into consideration. Then, these (a)
The ratio of units and (b) units is l20,7~/θ (molar ratio)
It is particularly preferred that the molar ratio is 0.2 to 3 (molar ratio).

また、前記一般式+1)で表わされるジオール単位ij
 、例工ば、/ 、 q−ビス(β−ヒドロキシエトキ
シ)シクロヘキサン、/1lI−ビス(−一ヒドロキシ
プロポキシ)シクロヘキサン、シクロヘキサンジオール
またitそれらの誘導体、水素添加されたビスフェノー
ルF、水素添加されたビスフェノールAまたはそれらの
ヒドロキシル基にエチレンオキシドあるいはプロピレン
オキシド等を付加した誘導体等から誘導される。得られ
るポリマーの耐薬品性、耐刷性を考、慮した場合、前記
一般式(Tl)において0は水素添加の程度の高いもの
が好ましく、特にシクロヘキサン環であるものが好まし
い。またR1およびR2は得られるポリマーのインキ受
容性を考Iすると直鎖状あるいは分枝状のアルキレン基
のどちらかを必らず有するものであることが好ましい。
In addition, the diol unit ij represented by the general formula +1)
Examples include /, q-bis(β-hydroxyethoxy)cyclohexane, /lI-bis(-monohydroxypropoxy)cyclohexane, cyclohexanediol and their derivatives, hydrogenated bisphenol F, hydrogenated bisphenol. It is derived from A or derivatives obtained by adding ethylene oxide, propylene oxide, etc. to the hydroxyl group thereof. In consideration of the chemical resistance and printing durability of the resulting polymer, 0 in the general formula (Tl) is preferably one with a high degree of hydrogenation, and particularly preferably a cyclohexane ring. Furthermore, in consideration of the ink receptivity of the resulting polymer, it is preferable that R1 and R2 necessarily have either a linear or branched alkylene group.

本発明においては、更にジオール単位として(1))脂
肪族ジオール単位を含有するものが好ましい。かかる脂
肪族ジオール単位は、例えば、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジエチレンクリコール、シクロピ
レンクリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、ネオペンチルグリコール、2.2−ジ
エチルトリメチレングリコール、コ、2−ジプロピルト
リメチレングリコール、コーエテルーコープロビルトリ
メチレングリコール、/、3−プロパンジオール、/、
ターブタンジオール、/、S−ベンタンジオール等の直
鎖状あるいは分枝状の脂肪族ジオールから誘導される。
In the present invention, it is preferable that the diol unit further contains (1)) an aliphatic diol unit. Such aliphatic diol units include, for example, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, cyclopylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, 2,2-diethyltrimethylene glycol, co,2-di Propyl trimethylene glycol, Coether-coprobil trimethylene glycol, /, 3-propanediol, /,
It is derived from linear or branched aliphatic diols such as terbutanediol, S-bentanediol and the like.

特に得られる光架橋性ポリエステルの水に対する溶解性
、耐薬品性等を考慮するとジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエ
ーテル結合を有する脂肪族ジオールが好ましい。
In particular, in consideration of water solubility, chemical resistance, etc. of the resulting photocrosslinkable polyester, aliphatic diols having an ether bond such as diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol are preferred.

上記(C)一般式(11)で表わされる水素添加された
ベンゼン環を含有するジオール単位および(d)脂肪族
ジオール単位の使用割合は、インキ受容性および現像性
とのバランスを考慮すると、これら(C)単位と(d)
単位の割合が/:θ、2〜3(モル比)であるのが好ま
しい。
The usage ratio of (C) the hydrogenated benzene ring-containing diol unit represented by the general formula (11) and (d) the aliphatic diol unit is determined based on the balance between ink receptivity and developability. (C) Unit and (d)
It is preferable that the ratio of units is /:θ, 2 to 3 (molar ratio).

本発明の光架橋性ポリエステルは上記(a)〜(0)ま
たは(a)〜(d)単位を与える各成分を用いて周知の
方法、例えば米国特許第36コλ320号に記載されて
いる方法に従って容易に製造することができる。
The photocrosslinkable polyester of the present invention can be produced by a well-known method using each component providing the units (a) to (0) or (a) to (d), such as the method described in U.S. Pat. No. 36/320. It can be easily manufactured according to the following.

即ち、前記一般式(1)で示される芳香族ジカルボン酸
のエステル誘導体と、スルフォネート塩の基を有するジ
カルボン酸のエステル誘導体と、必要に応じてその他の
周知のジカルボン酸のエステル誘導体とをジカルボン酸
単位の構成成分として、前ii’!一般式(If)で示
される水素添加されたベンゼン環を含有するジオール類
のうちの少なくとも一種のジオール成分と必要に応じて
脂肪族ジオールとをジオール単位の構成成分として混合
して加熱溶解した後、チタン系触媒を添加してエステル
交換反応を行なった後、徐々に減圧、列温することによ
り過剰のジオール成分および重縮合反応の進行に伴なっ
て生成するジオール成分を反応系外に留出させることに
より容易に製造することができる。
That is, an ester derivative of an aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (1), an ester derivative of a dicarboxylic acid having a sulfonate salt group, and, if necessary, an ester derivative of other well-known dicarboxylic acids, are combined into a dicarboxylic acid. As a component of the unit, the previous ii'! After mixing at least one diol component among the hydrogenated benzene ring-containing diols represented by the general formula (If) and, if necessary, an aliphatic diol as constituent components of a diol unit and heating and dissolving the mixture. After adding a titanium-based catalyst to perform the transesterification reaction, the excess diol component and the diol component generated as the polycondensation reaction progresses are distilled out of the reaction system by gradually reducing the pressure and increasing the temperature. It can be easily manufactured by

本発明においては、還元粘度(θ、コsr/dtN、N
−ジメチルフォルムアミド溶液、30(::)が0./
〜/、5、特に0.2〜o、trである光架橋性ポリエ
ステルが現像性を低下させること無く感度を向上させる
ことができるという観点から好ましい。
In the present invention, reduced viscosity (θ, cosr/dtN, N
-dimethylformamide solution, 30 (::) is 0. /
A photocrosslinkable polyester having a molecular weight of 0.2 to 5, particularly 0.2 to 0, tr is preferable from the viewpoint of improving sensitivity without reducing developability.

本発明の(B)少なくとも2個の付加重合性末端不飽和
二重結合を有するエチレン性不飽和化合物とは、後述す
る光重合開始剤の存在下で活性光線の照射を受けた場合
に付加重合反応を起して硬化し、実質的に不溶化をもた
らすような単量体、あるいは重合体を意味し、ここで単
量体とは狭義の単量体以外に二量体、二量体、第17ゴ
マーをも包含するものである。
(B) of the present invention is an ethylenically unsaturated compound having at least two addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds, which undergoes addition polymerization when irradiated with actinic rays in the presence of a photopolymerization initiator described below. It means a monomer or polymer that undergoes a reaction to harden and become substantially insolubilized. Monomer here includes dimers, dimers, and polymers other than monomers in the narrow sense. 17 sesame is also included.

付加重合性末端不飽和二重結合を有するエチレン性不飽
和単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸と脂肪族
ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸
と芳香族ボ1ノヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和
カルボン酸と多価カルボン酸及び前述の脂肪族ボ1ノヒ
ト°ロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多
価ヒドロキシ化合物とのエステル交換反応により得られ
るエステル、あるいはそれらのエステルを更に変性した
もの等が挙げられる。
Examples of ethylenically unsaturated monomers having an addition-polymerizable terminal unsaturated double bond include esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds, and esters of unsaturated carboxylic acids and aromatic polyhydroxy compounds. esters obtained by transesterification of unsaturated carboxylic acids with polyhydric carboxylic acids and polyhydric hydroxy compounds such as the aforementioned aliphatic polyhydroxy compounds and aromatic polyhydroxy compounds, or esters thereof. Further examples include those that have been modified.

不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸等勉(挙げられる。
Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, and itaconic acid.

脂肪族ポリヒドロキシ化合物としては、例えばエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、テトラエチレングリコール、ネオペンチルグリ
コール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、/、4’−ブタ/ジオール、1.コープタンジオー
ル等の二価7 ルコール、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、グリセロール等の三価アルコール
 ペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール等
の四価以上のアルコール類、ジヒドロキシマレイン酸等
の多価ヒドロキシカルボン酸類等が誉げられる。
Examples of aliphatic polyhydroxy compounds include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, /, 4'-buta/diol, 1. Dihydric alcohols such as coptanediol, trihydric alcohols such as trimethylol ethane, trimethylolpropane, and glycerol; tetrahydric or higher alcohols such as pentaerythritol and tripentaerythritol; polyhydric hydroxycarboxylic acids such as dihydroxymaleic acid, etc. is praised.

芳香族ポリヒドロキシ化合物としては、)為イドロキノ
ン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール等が挙げら
れる。
Examples of the aromatic polyhydroxy compound include hydroquinone, resorcinol, catechol, pyrogallol, and the like.

多価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、テトラクロルフタル酸、トリメリット酸、
ピロメリット酸先ベンゾフェノンジカルボン酸、マレイ
ン酸、フマル酸、マロン酸、ゲルタール酸、アジピン酸
、七ノくシン酸、テトラヒドロフタル酸等がある。
Examples of polyhydric carboxylic acids include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrachlorophthalic acid, trimellitic acid,
Examples include pyromellitic acid, benzophenone dicarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, geltaric acid, adipic acid, heptanoccic acid, and tetrahydrophthalic acid.

脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸トノエ
ステルの具体例としては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、テト
ラメチレングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタア
クリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレー
ト、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、グ
リセロールジアクリレート等のアクリル酸エステル、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタ
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタク
リレート、エチレングリコールジアクリレートタル酸ブ
タンジオールジメタクリレート、ソルビトールテトラメ
タクリレート等のメタクリル酸エステル、エチレングリ
コールシイタコネート、プロピレングリコールシイタコ
ネート、/1.2−ブタンジオールシイタコネート、テ
トラメチレングリコールシイタコネート、ペンタエリス
リトールトリイタコネート等のイタコン酸エステル、エ
チレングリコールジクロトネート、ジェテレ/グリコー
ルジクロトネート、ペンタエリスリトールテトラクロト
ネート等のクロトン酸エステル、エテレングリコールジ
マレエート、トリエチレンクリコールジマレエート、ペ
ンタエリスリトールジマレエート等のマレイン酸エステ
lルがある。
Specific examples of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acid tonoesters include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and pentaerythritol diacrylate. ,
Acrylic acid esters such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tripentaerythritol octaacrylate, glycerol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, Tetramethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate,
Methacrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, butanediol dimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, ethylene glycol diacrylate, butanediol dimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, ethylene Itaconic acid esters such as glycol shitaconate, propylene glycol shitaconate, /1,2-butanediol shitaconate, tetramethylene glycol shitaconate, pentaerythritol triitaconate, ethylene glycol dicrotonate, jetele/glycol di Examples include crotonic acid esters such as crotonate and pentaerythritol tetracrotonate, and maleic acid esters such as ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, and pentaerythritol dimaleate.

芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルポーン酸との
エステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハ
イドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレ
ート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリ
アクリレート等が挙げられる。
Examples of esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carponic acids include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate.

不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を表1に
記す。表中の2はアクリロイル基またはメタクリロイル
基を示す。
The ester obtained by the esterification reaction of an unsaturated carboxylic acid with a polyvalent carboxylic acid and a polyvalent hydroxy compound is not necessarily a single product, but typical examples are shown in Table 1. 2 in the table represents an acryloyl group or a methacryloyl group.

表1 Z−00,H,−000−0,H,−Coo−0,H,
0−ZZ−+002)144000−fOH,−I  
Coo−(−G、H,O−); ZZ−foo、 H,
+5OOC!−0H−0H−(!OO+C,H,0+5
Zz−foa、 H,−)、 ooo r::J−co
o−fa、 H,o−)、 Zz−(oc2H,−)、
 000 Z−00H,1,O,H,O,H,OH,O−Z\  
1 C / \               / \Z−0(
3H,OH,000−Cj6H,−0000H,OH,
0−ZZ−00H,\ 2ocH,,0H−00°−0H=OH−Co°=、O
H,0−ZH20−Z Z−QC,I(、−000−06H,−000−0,H
,−0H2−QC!H,OR14−Z Z−00H,,0−01(,000−06H,−Co°
0H2−0):’需HO−OR。
Table 1 Z-00,H, -000-0,H, -Coo-0,H,
0-ZZ-+002)144000-fOH,-I
Coo-(-G, H, O-); ZZ-foo, H,
+5OOC! -0H-0H-(!OO+C,H,0+5
Zz-foa, H,-), ooo r::J-co
o-fa, H, o-), Zz-(oc2H,-),
000 Z-00H, 1, O, H, O, H, OH, O-Z\
1 C / \ / \Z-0 (
3H,OH,000-Cj6H,-0000H,OH,
0-ZZ-00H,\2ocH,,0H-00°-0H=OH-Co°=,O
H,0-ZH20-Z Z-QC,I(,-000-06H,-000-0,H
,-0H2-QC! H,OR14-Z Z-00H,,0-01(,000-06H,-Co°
0H2-0): 'Demand HO-OR.

Z−00H,、CH20−Z Z−00Ht、0−OH,Ooo−0H=CH−COO
OH,−’=:’:O,Z−00H2 Z−QC2H,−000−(−OH2九〇〇〇−(!H
Z-00H,, CH20-Z Z-00Ht, 0-OH, Ooo-0H=CH-COO
OH,-'=:':O,Z-00H2 Z-QC2H,-000-(-OH29000-(!H
.

その側木発明に用いられるエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物の例としてはエチレンビスアクリルアミド
、ヘキサメチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミ
ド類、エチレンビスメタクリルアミド、ヘキサメチレン
ビスメタクリルアミド等のメタクリルアミド類、フタル
酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フマル酸ジアリル、ト
リアリルイソシアヌレート等のアリルエステル類、ジビ
ニルアジペート、ジビニルフタレート、エチレングリコ
ールジビニルエーテル等のビニール含有化合物が挙げら
れる。
Examples of compounds having an ethylenically unsaturated double bond used in the invention include acrylamides such as ethylenebisacrylamide and hexamethylenebisacrylamide; methacrylamides such as ethylenebismethacrylamide and hexamethylenebismethacrylamide; Examples include allyl esters such as diallyl phthalate, diallyl malonate, diallyl fumarate, and triallyl isocyanurate, and vinyl-containing compounds such as divinyl adipate, divinyl phthalate, and ethylene glycol divinyl ether.

変性した付加重合性末端不飽和二重結合を有するエチレ
ン性不飽和単量体としては、例えば特願昭16−:1/
θ9コO記載の遊離カルボキシル基を有する単量体が挙
げられる。これは、ヒドロキシアルキル基を含有する(
メタ)アクリレート類と二庸基性カルボン酸の酸無水物
との反応によ#)調製することができる。
Examples of modified ethylenically unsaturated monomers having addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds include, for example, Japanese Patent Application No. 1986-1/1999.
Examples include monomers having a free carboxyl group as described in θ9. It contains hydroxyalkyl groups (
They can be prepared by the reaction of meth)acrylates with acid anhydrides of dibasic carboxylic acids.

ヒドロキシアルキル基を含有する(メタ)アクリレート
類としては、トリメチロールエタンジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパンジメタクリレート、クリセロールジアクリレー
ト、グリセロールジメタクリレート、ヘンタエリスリト
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラアクリレート等の多価エステル類が挙げ
られる。
Examples of (meth)acrylates containing a hydroxyalkyl group include trimethylolethane diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, crystall diacrylate, glycerol dimethacrylate, hentaerythritol diacrylate, and pentaerythritol dimethacrylate. , pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, and other polyvalent esters.

これらのヒドロキシアルキル基をもつ(メタ)アクリレ
ート類と反応させる為の酸無水物としては、例えば、無
水コハク酸、無水マレイン酸。
Examples of the acid anhydride for reacting with these (meth)acrylates having a hydroxyalkyl group include succinic anhydride and maleic anhydride.

無水イタコン酸、無水フタル酸、無水へキサヒドロフタ
ル酸、無水テトラヒドロフタル酸などが挙げられる。
Examples include itaconic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride.

前記ヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリレー
トと前記酸無水物との半エステル化反応によりカルボキ
シル基をもつ(メタ)アクリレート化合物が調製される
が、反応条件としては両反応物の混合物を、反応溶媒中
あるいは無溶媒の状態で所謂熱重合防止剤の存在下、必
要に応じてピリジン、第3級アミン、硫酸、p−トルエ
ンスルホン酸等の触媒存在下で加熱するのが良好である
。該反応溶媒としてはベンゼン、トルエン、メチルエチ
ルケトン、ジオキサン等が有用である。
A (meth)acrylate compound having a carboxyl group is prepared by a half-esterification reaction between the (meth)acrylate having a hydroxyalkyl group and the acid anhydride. It is preferable to heat the mixture in the presence of a so-called thermal polymerization inhibitor in the absence of a solvent or in the presence of a catalyst such as pyridine, tertiary amine, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, etc., if necessary. Benzene, toluene, methyl ethyl ketone, dioxane, etc. are useful as the reaction solvent.

これらの少なくとも一個の付加重合性末端不飽和二重結
合を有するエチレン性不飽和化合物において、水、或い
は有機溶媒を全く含まない弱アルカリ性水溶液での現像
性を考慮すると、その分子中にアルコール性水酸基、フ
ェノール性水酸lkあるいは遊離カルボキシル基を含有
しているもの例えば、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート等の(メタ)アクリル酸エステルおよびその無水
コハク酸変性体等が特に好適である。
In these ethylenically unsaturated compounds having at least one addition-polymerizable terminal unsaturated double bond, considering the developability in a weakly alkaline aqueous solution containing no water or organic solvent, alcoholic hydroxyl groups are present in the molecule. , phenolic hydroxyl lk or those containing free carboxyl groups, such as (meth)acrylic esters such as pentaerythritol triacrylate, and succinic anhydride modified products thereof are particularly preferred.

該不飽和化合物は、前記光架橋性ポリエステル700重
量部に対して!乃至200重量部の範囲で用いられるが
、好ましくは10乃至io。
The unsaturated compound is based on 700 parts by weight of the photocrosslinkable polyester! It is used in a range of 200 parts by weight, preferably 10 to io.

重量部の範囲である。Parts by weight range.

本発明の(0)光重合開始剤は、活性光線の照射により
ラジカルを発生し、前述の(B)少なくとも一個の付加
重合性末端不飽和二重結合を有するエチレン性不飽和化
合物の付加重合反応をもたらすものである。
The photopolymerization initiator (0) of the present invention generates radicals upon irradiation with actinic rays, and undergoes the addition polymerization reaction of the ethylenically unsaturated compound having at least one addition-polymerizable terminal unsaturated double bond (B). It brings about

本発明において使用し得る光重合開始剤は、前述した光
架橋性ポリエステルの光架橋反応を阻害せずにしかも光
重合反応を効率良く発現させることができるものである
ことが必要である。
The photopolymerization initiator that can be used in the present invention needs to be capable of efficiently expressing the photopolymerization reaction without inhibiting the photocrosslinking reaction of the photocrosslinkable polyester described above.

また、6光平版印刷版として活性光線を照射して画像を
描き込む作業が必須であるが、この工程で用いられる光
源として−は通常3ダOnm以上の波長の光エネルギー
を発散するものが多く、この波長領域で光重合反応を効
率よく発現しなくてはならない。また、上述の光架橋性
ポリエステルの光架橋反応はポリエステル午独でも充分
起こるが、実用的な所謂感度を達5にさせるために通常
後述するような増感剤を感光層中に添加して使用に供ぜ
られる。この増感剤もやはり画像描き込みに使用される
光源の光エネルギー分布を考J・、τ?してそのエネル
ギーを効率よく光架橋反応の発現に変換できるように化
学的に設計された所産のものである。
In addition, as a six-light lithographic printing plate, it is essential to irradiate active light to draw an image, but the light source used in this process usually emits light energy with a wavelength of 3 daOnm or more. , the photopolymerization reaction must be efficiently expressed in this wavelength range. In addition, the photocrosslinking reaction of the photocrosslinkable polyester described above occurs sufficiently in polyesters, but in order to achieve a practical sensitivity of 5, a sensitizer as described below is usually added to the photosensitive layer. It is served to This sensitizer also takes into consideration the light energy distribution of the light source used for image drawing. It is a chemically designed product that can efficiently convert that energy into photocrosslinking reactions.

以上述べたように本発明における(0)光重合開始剤に
これらの光源の光エネルギー分布及び光架橋反応を併進
するために添加される増感剤の光吸収と十分に共存して
、光架橋性ポリエステルの光架橋反応が起るのと平行し
て、(B)少なくともコ個の付加重合性末端不飽和二重
結合を有するエチレン性不飽和化合物の光付加重合反応
を発現させる強力な光重合開始剤でなければならない。
As described above, the photopolymerization initiator (0) in the present invention sufficiently coexists with the light energy distribution of these light sources and the light absorption of the sensitizer added to promote the photocrosslinking reaction, and the photopolymerization initiator is In parallel with the photocrosslinking reaction of the polyester, (B) a strong photopolymerization reaction of the ethylenically unsaturated compound having at least 0 addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds. Must be an initiator.

この点に鑑みて本発明者らは検討した結果、本発明にお
ける光重合開始剤としてはベンジル−z、+、’−ビス
(ジメチルアq))ベンゾフェノンの組合せといった所
謂複合開始剤が特に有効であることを見出した。ここで
言う複合開始剤とは、特定の化合物の混合物を用いるこ
とにより光重合反応における光重合反応開始剤としては
相剰活性化作用が現われ、各々単独で用いた場合には予
想すら出来りいような効果を発現する特異な混合物を意
味する。
In view of this, the present inventors have investigated and found that a so-called composite initiator such as a combination of benzyl-z, +,'-bis(dimethylaq))benzophenone is particularly effective as a photopolymerization initiator in the present invention. I discovered that. The composite initiator referred to here refers to the fact that by using a mixture of specific compounds, a mutual activation effect appears as a photopolymerization initiator in a photopolymerization reaction, which cannot even be predicted when each is used alone. It refers to a unique mixture that exhibits such effects.

この複合開始剤の例としては、特公昭亭ダーーOθAク
ニ開示されているベンゾイン、ペンツインメチルエーテ
ル、ベンジル、フルオレノン等の化合物とp、4z’−
ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンのAll 合
セ、ベンジルとフルオレノン、あるいは、特開昭37−
1040!に開示された置換基を有するベンジル類と一
般式(式中、R1,R6、R丁およびR8はアルキル基
を示し、Uおよびv(dθ、/、また&″:J、−を示
す。)で表わさねるp−ジアルキルアミ/フェニルケト
ン頌との組合せ、特願昭左j−93ざ6sに開示された
一般式 (式中、R@けアルキル基を示し、Yは一〇−1−8−
1−8e−1−0H=OH−および−NRlo−より選
ばれたコ価原子または原子団であって3価窒素原子と共
に複素芳香環Bを形成しており、RI01d水素原子ま
たはアルキル基を示し、環Aは#喚基を有していてもよ
いベンゼン環またはナフタレン環であって環Bと縮合し
ている。)で表わされるp−ジアルキルアミノスチルベ
ン誘導体とへキサアリールビイミダゾールとの組合せ、
特願昭!rA−//13Jデに開示された一般式 (式中、Rlmはアルキル基を示し、Rlmは水素原子
またはアルキル基を表わしておシ、環Ai;i置換基を
有していてもよいベンゼン環またはナフタレン環であっ
て、チアゾール環と縮合している。)で表わされるp−
ジアルキルアミノシンナミリデン誘導体とヘキサアリー
ルビイミダゾールとの組合せ、特願昭36−lコざ1I
obおよび特願昭jA−/、??1IfflIに開示さ
れた、一般式 (式中、RIMおよびR” ijアルキル基を示し、環
Aおよび環Bは置換基を有していてもよいベンゼン環ま
たはナフタレン環を示し、xeけ陰イオンを示し、Wは
0また。は/を示す。)で表わされるシアニン染料ある
いは、チアピリリウム塩と、一般式 %式% (式中、Ras、R1l+およびRI7は置換基を有し
ていてもよいアルキル基またはアリール基、或いはアル
ケニル基、ピペリジノ基、 −NR,、−OR。
Examples of this composite initiator include compounds such as benzoin, pentuin methyl ether, benzyl, and fluorenone disclosed in Tokko Shotei Dar OθA Kuni, and p, 4z'-
All synthesis of bis(dialkylamino)benzophenone, benzyl and fluorenone, or JP-A-37-
1040! benzyls having substituents disclosed in 2003 and the general formula (in the formula, R1, R6, R and R8 represent an alkyl group, and U and v (dθ, /, and &″: J, −). A combination of p-dialkylami/phenylketone represented by the general formula disclosed in Japanese Patent Application Shosa J-93 Za 6s (wherein R@ represents an alkyl group, and Y represents 10-1-8 −
1-8e-1-0H is a covalent atom or atomic group selected from OH- and -NRlo-, which forms a heteroaromatic ring B together with a trivalent nitrogen atom, and RI01d represents a hydrogen atom or an alkyl group. , Ring A is a benzene ring or naphthalene ring which may have a # radical and is fused with Ring B. ) A combination of p-dialkylaminostilbene derivative and hexaarylbiimidazole,
Special request! rA-//13Jde (wherein Rlm represents an alkyl group, Rlm represents a hydrogen atom or an alkyl group, ring Ai; benzene which may have an i substituent) p- ring or naphthalene ring fused with a thiazole ring.
Combination of dialkylaminocinnamylidene derivative and hexaarylbiimidazole, Patent Application 1973-1 Koza 1I
ob and patent application ShojA-/? ? 1IfflI, where RIM and R" ij represent an alkyl group, ring A and ring B represent a benzene ring or naphthalene ring which may have a substituent, and xe represents an anion. (wherein, Ras, R1l+ and RI7 are optionally substituted alkyl groups) and a cyanine dye or thiapyrylium salt represented by the formula or an aryl group, an alkenyl group, a piperidino group, -NR,, -OR.

−S (ここでRd水素原子、アルキル基を示す。)を
示し、それらのうち少なくとも1つは、モノ−、ジーま
たけトリハロゲン置換メチル基−を示す。)で表わされ
る8 −) IJアジン誘導体との組合せ等が挙げられ
、いずれも好適に使用し得る。特に、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンジル、フルオレノン等の化
合物とり、y′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェ
ノンの組合せが好ましい。
-S (here, Rd represents a hydrogen atom or an alkyl group), and at least one of them represents a mono- or di-split trihalogen-substituted methyl group. 8-) IJ azine derivatives represented by ), etc. can be mentioned, and any of them can be suitably used. In particular, a combination of compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzyl, fluorenone, and y'-bis(dialkylamino)benzophenone is preferred.

この複合開始剤を構成する各々の特定の化合物の添加i
[、感光層中にo、i重量パーセント乃至20重量パー
セント、好ましlj:/重量パーセント乃至/θ重量パ
ーセントの範囲で用いると有利である。
Addition of each specific compound constituting this composite initiator i
It is advantageous to use o, i in the photosensitive layer in a range of weight percent to 20 weight percent, preferably lj: / weight percent to /θ weight percent.

以上の(A)光架橋性ポリニスデル (B)エチレン性
不飽和化合物 (C)光重合開始剤を必須とする感光層
に、本発明の(D)少なくともコ個以上のカルボキシル
基を含有する脂肪族カルボン酸またはその無水物を感光
層中に1通常、0.0 /〜/S重量%、より好ましく
は0.5〜10重f%含有させる事によシ現像性がさら
に改善される。
(A) photocrosslinkable polynisdel, (B) ethylenically unsaturated compound, (C) a photosensitive layer that essentially contains a photopolymerization initiator, and (D) an aliphatic group containing at least 0 carboxyl groups of the present invention. The developability is further improved by containing carboxylic acid or its anhydride in the photosensitive layer, usually 0.0 to 1% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight.

少なくとも2個以上のガルボキシル基を含有する脂肪族
カルボン酸としては、例えば、飽和脂肪族カルボン酸、
不飽和脂肪酸、脂肪族ジカルボン酸無水物、ヒドロキシ
酸、アミノ酸等があげられる。
Examples of aliphatic carboxylic acids containing at least two or more galboxyl groups include saturated aliphatic carboxylic acids,
Examples include unsaturated fatty acids, aliphatic dicarboxylic acid anhydrides, hydroxy acids, and amino acids.

飽和脂肪族カルボン酸の具体例としては、シュウ酸、マ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等があげら
れる。
Specific examples of saturated aliphatic carboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, speric acid, azelaic acid, and sebacic acid.

不飽和脂肪酸の具体例としては、フマル酸、マレイン酸
等が、脂肪族ジカルボ〉′酸無水物としては、無水コハ
ク酸、無水グルタル酸等があげられる。
Specific examples of unsaturated fatty acids include fumaric acid and maleic acid, and examples of aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include succinic anhydride and glutaric anhydride.

ヒドロキシ酸の具体例としては、酒石酸、リンゴ酸、ク
エン酸等が、アミノ酸の具体例としては、グルタミン酸
、アスパラギン酸等があげられる。
Specific examples of hydroxy acids include tartaric acid, malic acid, citric acid, etc., and specific examples of amino acids include glutamic acid, aspartic acid, etc.

好ましくは、飽和脂肪族カルボン酸、ヒドロキシ酸、特
に好ましくは、シュウ酸、酒石酸、リンゴ酸等が用いら
れる。
Preferably, saturated aliphatic carboxylic acids and hydroxy acids are used, particularly preferably oxalic acid, tartaric acid, malic acid and the like.

寸た、これらの必須成分の他に(E)フェノール性水酸
基を含有する樹脂を添加することも非常に有用な手段で
ある。このフェノール性水酸基を含有する樹脂を添加す
ると平版印刷版としての未j訊光時の耐水性が著しく向
上する。
In addition to these essential components, it is also a very useful means to add (E) a resin containing a phenolic hydroxyl group. Addition of this resin containing a phenolic hydroxyl group significantly improves the water resistance of the lithographic printing plate when exposed to light.

かかる樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類ある
いitタケトン類ら付加縮合反応によって合成される所
謂フェノール樹脂、ポリ−p−ヒドロキシスチレンに代
表されるようなポリ−ヒドロキシフェニル樹脂、あるい
は他の置換基を含有するポリ−ヒドロキシフェニル樹脂
等が挙げられる。またこれらの樹脂中の7エノール性水
酸基を、例えば桂皮酸クロリド、(メタ)アクリル酸ク
ロリドの様な酸クロリドと反応させて部分的にエステル
としたり、あるいは無水こはく酸、無水フタル酸などの
酸無水物と反応させて、部分的に遊離カルボン酸残基を
含有するように変性しまた樹脂も良好に用いられる。
Such resins include so-called phenol resins synthesized by addition condensation reaction of phenols and aldehydes or IT-taketones, poly-hydroxyphenyl resins such as poly-p-hydroxystyrene, or other substituents. Examples include poly-hydroxyphenyl resin containing. In addition, the 7-enolic hydroxyl group in these resins may be partially converted into an ester by reacting with an acid chloride such as cinnamic acid chloride or (meth)acrylic acid chloride, or with an acid such as succinic anhydride or phthalic anhydride. Resins partially modified to contain free carboxylic acid residues by reaction with anhydrides are also useful.

フェノール性水酸基を含有する樹脂は、光架橋ttポリ
エステルlθθ重量部に対してl乃至200重景部の範
囲で用いられるが、好ましくFir乃至750重量部の
範囲が好適である。
The resin containing a phenolic hydroxyl group is used in an amount of 1 to 200 parts by weight based on the photocrosslinked tt polyester lθθ, preferably in a range of Fir to 750 parts by weight.

本発明の感光性平版印刷版は、支持体上に上述した様な
(A)光架橋性ポリエステル、(B)少なくとも2個の
付加重合性末端不飽和二重結合を有するエチレン性不飽
和化合物、(0)光重合開始剤および(D)脂肪族カル
ボン酸を含有する感光性組成物を塗布することによって
得られる。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention comprises (A) a photocrosslinkable polyester as described above on a support, (B) an ethylenically unsaturated compound having at least two addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds, It is obtained by applying a photosensitive composition containing (0) a photopolymerization initiator and (D) an aliphatic carboxylic acid.

この感光性組成物は、前記光架橋性ポリエステルを溶媒
に溶解し、引き続いて少なくともコ個の付加重合性末端
不飽和二重結合を有するエチレン性不飽和化合物、光重
合開始剤および脂肪族カルボン酸をこの溶液に溶解させ
ることによって容易に製造される。
This photosensitive composition is prepared by dissolving the photocrosslinkable polyester in a solvent, and then adding an ethylenically unsaturated compound having at least 0 addition polymerizable terminal unsaturated double bonds, a photopolymerization initiator, and an aliphatic carboxylic acid. is easily produced by dissolving it in this solution.

好適々溶媒は、光架橋性ポリエステルの組成及び分子量
によって異なるが、スルフォネート塩の基を有するジカ
ルボン酸単位の含有率が低い場合には、塩化メチレン、
クロロホルム、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼン等の塩素系溶媒、フルフリルアルコール
、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコ
ール等のアルコール系溶8.エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル
、エチレングリコールモノプロビルエーテル、エチレン
グリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコー
ル七ツメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエテ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノプロビルエーテ
ル等のエチレングリコール及びジエチレングリコールの
エーテル系誘導体、エチレンクリコールエテルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセ
テート、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルフォ
ルムアミド、N−メチルピロリドン、ニトロエタン、ニ
トロベンゼン等の含窒素系溶媒、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン、グーメテルーダーメトキシーコーペン
タノン等のケトン系溶媒、及びジメチルスルフオキシド
等々の溶媒が挙げられる。
Suitable solvents vary depending on the composition and molecular weight of the photocrosslinkable polyester, but when the content of dicarboxylic acid units having sulfonate salt groups is low, methylene chloride,
Chlorinated solvents such as chloroform, trichloroethane, chlorobenzene, and dichlorobenzene, alcoholic solvents such as furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, and benzyl alcohol8. Ether derivatives of ethylene glycol and diethylene glycol such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monoether ether, diethylene glycol monopropyl ether, Ester solvents such as ethylene glycol ether ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, ethyl acetate, nitrogen-containing solvents such as dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, nitroethane, nitrobenzene, methyl ethyl ketone,
Examples include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, and goometeludermethoxycopentanone, and solvents such as dimethyl sulfoxide.

一方、スルフォネート塩の基を有するジカルボン酸単位
の含有率が高い場合には、水、ジアセトンアルコール、
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸−n−ブチル、乳酸−1
−ブチル等のケトアルコール及びヒドロキシ基含有脂肪
酸エステル類も有効とガる。
On the other hand, when the content of dicarboxylic acid units having sulfonate salt groups is high, water, diacetone alcohol,
Methyl lactate, ethyl lactate, n-butyl lactate, lactic acid-1
Keto alcohols such as -butyl and hydroxy group-containing fatty acid esters are also effective.

本発明の感光層は必要に応じて前記成分以外に公知の種
々の添加物を含有していてもよい。
The photosensitive layer of the present invention may contain various known additives in addition to the above-mentioned components, if necessary.

例えば、弱アルカリ性水溶液に対する現像性を阻害しな
い範囲内での他の樹脂、着色剤、可塑剤、安定剤、増感
剤等の添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤は
、感光性組成物を調製する時に添加すればよい。ここで
増感剤とは、光架橋性ポリエステル自身の光架橋反応を
促進するもので従来公知の、例えばペンズアンスロy、
A、/ /−ジクロロベンズアンスロン、//−クロロ
−6−ヒトロキシペンズアンスロン、/−カルボエトキ
シ−ツーケト−3−メチル−37”j’−/、9−ベン
ズアンスロン等ノペンズアンスロン誘導体、79g−ジ
クロロアントラキノン、/、g−ジメトキシアントラキ
ノン、/、コーペンズアントラキノン等のキノン類、!
−二トロアセナフテン、−一二トロフルオレノン、2、
t−ジニトロフルオレノン、l−二トロナフタレン、l
、j−ジニトロナフタレン等の七ノーあるいはポリニト
ロ化合物、−一ジベンゾイルメチレンー3−メチル−β
−ナフトチアゾリン、コーベンゾイルメテレンー3−メ
チル−β−ナフトチアゾリン、コーツ(コーフロイル)
メチレン−3−メチル−β−ナフトチアゾリン等のナフ
トチアゾリン誘導体が好適である。
For example, it may contain additives such as other resins, colorants, plasticizers, stabilizers, sensitizers, etc. within a range that does not inhibit the developability in a weakly alkaline aqueous solution. These additives may be added when preparing the photosensitive composition. Here, the sensitizer is a substance that promotes the photocrosslinking reaction of the photocrosslinkable polyester itself, and is a conventionally known agent, such as Penn's Anthroy,
A, nopenzanthrone derivatives such as / /-dichlorobenzanthrone, //-chloro-6-hydroxypenzanthrone, /-carboethoxy-two-keto-3-methyl-37"j'-/, 9-benzanthrone, 79 g - Quinones such as dichloroanthraquinone, /, g-dimethoxyanthraquinone, /, Coppen's anthraquinone,!
- ditroacenaphthene, - ditrofluorenone, 2,
t-dinitrofluorenone, l-nitronaphthalene, l
, 7- or polynitro compounds such as j-dinitronaphthalene, -1-dibenzoylmethylene-3-methyl-β
- Naphthothiazoline, cobenzoylmetherene - 3-methyl-β-naphthothiazoline, Coates (coufroyl)
Naphthothiazoline derivatives such as methylene-3-methyl-β-naphthothiazoline are preferred.

安定剤としては、例えば公知の熱重合防止剤が挙げられ
、ハイドロキノン、メチルハイドロ−キノン、p−メト
キシフェノール、ピロガロール、カテコール、2.6−
ジーt−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトール等が
好適に使用し得る。
Examples of the stabilizer include known thermal polymerization inhibitors, such as hydroquinone, methylhydroquinone, p-methoxyphenol, pyrogallol, catechol, 2.6-
Di-t-butyl-p-cresol, β-naphthol, etc. can be preferably used.

本発明の感光性組成物は、常法に従ってポリエチレンテ
レフタレートフィルム、印刷用亜鉛板、印刷用アルミニ
ウム板、シリコンウェーファー、クロム蒸着ガラス板等
の高分子フィルムあるいは金属板等の支持体上に、ディ
ップ・コート、コーティングロッド、スピナーコート、
スプレーコート等の周知の塗布方法により塗布すること
が可能である。
The photosensitive composition of the present invention can be applied by dipping onto a support such as a polymer film or a metal plate such as a polyethylene terephthalate film, a zinc plate for printing, an aluminum plate for printing, a silicon wafer, a chromium-deposited glass plate, etc. in accordance with a conventional method.・Coat, coating rod, spinner coat,
It is possible to apply by a well-known coating method such as spray coating.

感光性平版印刷版としては、表面を陽極酸化処理した印
刷用アルミニウム板上に塗布したものが好適で、特にリ
ン酸あるいはリン酸と硫酸の混酸浴中で陽極酸化処理を
施したアルミニウム板が本発明の光架橋性ポリエステル
との接着性が良好であるので特に好ましい。
As a photosensitive lithographic printing plate, one coated on a printing aluminum plate whose surface has been anodized is suitable. In particular, an aluminum plate which has been anodized in a bath of phosphoric acid or a mixed acid bath of phosphoric acid and sulfuric acid is suitable for printing. It is particularly preferred since it has good adhesion with the photocrosslinkable polyester of the invention.

こうして製造した感光性平版印刷版上に、常法に従って
被写物を重ねて露光するか、あるいは電子線等を照射し
て画像の描き込みを行なった後、弱アルカリ性水溶液を
用いて現像すれば支持体上に対応する画像を形成させる
ことができる。特に、本発明においては、現像液中に特
に有機溶媒を含有させなくとも良好に現像することがで
きるため従来の系に比べて極めて有用である。勿論、水
と親和性のある有機溶杯を少タ含むアルカリ水溶液でも
極めて優れた現像性を示す。
On the photosensitive lithographic printing plate produced in this way, an image is drawn by overlaying the object in a conventional manner or by irradiating it with an electron beam, etc., and then it is developed using a weakly alkaline aqueous solution. A corresponding image can be formed on the support. In particular, the present invention is extremely useful compared to conventional systems because it allows good development without the need for particularly containing an organic solvent in the developer. Of course, even an alkaline aqueous solution containing a small amount of organic solubles having an affinity for water shows extremely excellent developability.

以上本発明について詳細に説明したが1本発明の感光f
fl平版印刷版は、弱アルカリ性水溶液で現像すること
が可能であυ、しかも得らhる印刷版は耐摩耗性、耐薬
品性、耐刷性に優れ、さらに親油性の高い平版印刷用の
印刷インクを橙めて良好に受容するという優れた特徴を
有している。
The present invention has been explained in detail above.
The fl lithographic printing plate can be developed with a weakly alkaline aqueous solution, and the resulting printing plate has excellent abrasion resistance, chemical resistance, and printing durability, and is also highly lipophilic for lithographic printing. It has the excellent feature of ameliorating printing ink and receiving it well.

次に本発明について実施例により更に具体的に説明する
が、本発明はその要旨をこえない限り、以下の実施例に
限定されるものではない。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof.

製造例/ p−フェニレンジアクリル酸ジエチル3g、6t (/
 II Ommoj )、S−ナトリウムスル7オイソ
フタル酸ジメチル/7.t&f(Aθmmot)、/、
lI−ヒス(2−ヒドロキシエトキシ)−シクロヘキサ
ン/ 6.32 ? (p、Ommol)およびトリエ
チレングリコールλ八0f(/4!Ommol)を、2
00 ml三つロフラスコに仕込み、触媒とじてオルソ
チタン酸n−ブチルの&%エタノール溶液/θdを添加
し、9素ガスを送気しながら。
Production example/diethyl p-phenylene diacrylate 3g, 6t (/
II Ommoj), S-sodium sul 7-oisophthalate dimethyl/7. t&f(Aθmmot), /,
lI-His(2-hydroxyethoxy)-cyclohexane/6.32? (p, Ommol) and triethylene glycol λ80f (/4!Ommol), 2
00 ml was placed in a three-necked flask, and a &% ethanol solution of n-butyl orthotitanate/θd was added as a catalyst, while supplying 9 gases.

? Or、p、m、  の回転数で攪拌下、徐々に昇温
し、コ20Cで約30分間エステル交換反応を行なった
? The temperature was gradually raised while stirring at rotational speeds of Or, p, m, and transesterification was carried out at 20C for about 30 minutes.

次いで1.2JθCで54pHy  まで減圧した後。Then, the pressure was reduced to 54 pHy at 1.2 JθC.

速やかにコAOcまで昇温し、約2θ分間反応させた。The temperature was quickly raised to AOc, and the reaction was continued for about 2θ minutes.

更ニ、コロθCでl慢Hy まで減圧してコ。Next, reduce the pressure to 1 Hy with roller θC.

分間反応させ、過剰のジオール及び副生ジオールを留出
させて光架橋性ポリマーを得た。
The mixture was reacted for a minute, and excess diol and by-product diol were distilled off to obtain a photocrosslinkable polymer.

製造例コ p−フェニレンジアクリル酸ジエチル32.ざgf (
/2ommot)、j−ナトリウムスル7オイソフタル
酸ジメチル23.6g?(ざ。mmoz)、/、lI−
ヒス(2−ヒドロキシエトキシ)−シクロヘキサン/2
..211t(Aθmmoj)およびトリエチレングリ
コール27.Of(/ざθmmot)を、20θが三つ
ロフラスコに仕込み、触媒としてオルソチタン酸n−ブ
チルの5%エタノール溶液lθmlを添加し、窒素ガス
を送気しながら、A Or、p、m、  の回転数で攪
拌下、徐々に昇温し、2.20Cで約/時間エステル交
換反応を行なった。
Production example Co-diethyl p-phenylene diacrylate 32. zagf (
/2ommot), 23.6g of dimethyl j-sodium 7-oisophthalate? (za. mmoz), /, lI-
His(2-hydroxyethoxy)-cyclohexane/2
.. .. 211t(Aθmmoj) and triethylene glycol 27. Of(/θmmot) was placed in a 20θ three-hole flask, 1θml of a 5% ethanol solution of n-butyl orthotitanate was added as a catalyst, and while blowing nitrogen gas, AOr, p, m, The temperature was gradually raised while stirring at a rotational speed, and the transesterification reaction was carried out at 2.20C for about an hour.

がμ 次いで、22θCでk(RfHyまで減圧、した後、速
やかに243’C”Jで昇温し、IO0分間反応せた。
μ Next, the pressure was reduced to k (RfHy) at 22θC, and then the temperature was immediately raised to 243'C''J, and the reaction was carried out for IO minutes.

tL川 更に、コtsCで/’fH?まで減圧して5分間反応さ
せ、過剰のジオールおよび副生ジオールを留出させて光
架橋性ポリマーを得た。
tL Kawa furthermore, KotsC/'fH? The reaction mixture was allowed to react for 5 minutes under reduced pressure, and excess diol and by-product diol were distilled off to obtain a photocrosslinkable polymer.

比較例/ 表/に示した組成の感光液を、砂目室て後、リン酸浴中
で陽極酸化処理したアルミニウム板上に塗布した。冷布
後、toCで7時間乾燥して感光性平版印刷版を得た。
Comparative Example A photosensitive solution having the composition shown in Table/ was coated on an aluminum plate which had been subjected to anodization treatment in a phosphoric acid bath after graining. After cooling, the plate was dried at TOC for 7 hours to obtain a photosensitive lithographic printing plate.

乾燥後の塗布量は/31n9/dm2  であツタ。The coating amount after drying was /31n9/dm2.

この感光性平版印刷版に、光学濃度差θ、/ jのステ
ップウェッジを通、して3暉高圧水銀灯でso秒間露光
した。
This photosensitive lithographic printing plate was exposed to light for so seconds using a high-pressure mercury lamp for 3 days through a step wedge with an optical density difference θ, /j.

次いで、表2に示した組成の現像液に室温で7分間浸漬
し、柔らかい布で軽くこすって未露光部を除去した。
Next, it was immersed in a developer having the composition shown in Table 2 at room temperature for 7 minutes, and the unexposed areas were removed by rubbing lightly with a soft cloth.

得られた画像部のインキ着肉性、および、各種溶剤に対
する耐薬品性は1.好であった。
The ink receptivity and chemical resistance to various solvents of the obtained image area were 1. It was good.

標準条件下での現像性it良好であったが、短時間現像
、暖いは、希釈現像液や疲労現像液を使用した場合、非
画像部に汚れが発生した。
The developability was good under standard conditions, but staining occurred in non-image areas when a diluted developer or a fatigued developer was used during short-time development or at a warm temperature.

表   l 表   一 実施例7〜6および比較例−〜! 比較例/において、表/に示した組成の感光液に、更に
、表3に示したカルボキシル基含有化合物を添加するほ
かは同様にして感光性平版印刷版を製造し、a倍希釈条
件下での現像性を調べた。結果を表3に示した。
Table 1 Table 1 Examples 7 to 6 and Comparative Examples--! In Comparative Example/, a photosensitive lithographic printing plate was produced in the same manner except that the carboxyl group-containing compound shown in Table 3 was further added to the photosensitive solution having the composition shown in Table/, and the plate was prepared under a-fold dilution conditions. The developability of the film was investigated. The results are shown in Table 3.

衣   3 なお、現像性は下記の!段階評価で示した。Clothing 3 The developability is as below! Indicated by graded evaluation.

S: きわめて良好 弓 良好 3: &く一部汚れ発生 2二 一部汚れ発生 /: 汚れ発生 上記の結果から、実施例/〜実施例7に示したカルボキ
シル基含有化合物を添加した場合、現像液の許容幅が広
く、また、繰り返し現像を行なっても良好な現像性を示
すことが分った。
S: Very good bow Good 3: Staining occurred in some areas 22 Staining occurred in some areas/: Staining occurred From the above results, when the carboxyl group-containing compounds shown in Examples/- Example 7 were added, the developing solution It was found that the permissible range was wide and good developability was exhibited even after repeated development.

実施例? 比較例/において、下記表亭に示した組成の感光液を使
用するほかは同様にして感光性平版印刷版を製造した。
Example? In Comparative Example/, a photosensitive lithographic printing plate was produced in the same manner except that a photosensitive liquid having the composition shown below was used.

この感光性平版印刷版に、光学濃度差0./ !のステ
ップウェッジを通して1.?KW高圧水銀灯で70秒間
露光した。
This photosensitive planographic printing plate has an optical density difference of 0. /! 1. Through the step wedge. ? Exposure was performed for 70 seconds using a KW high pressure mercury lamp.

次いで、ケイ酸ナトリウムよ、!那および水酸化ナトリ
ウムハj%を含むアルカリ性水溶液およびその一倍希釈
液で現像したところ、いずれの場合も汚れは発生せず、
良好に現像する仁とができた。
Next, sodium silicate! When the film was developed with an alkaline aqueous solution containing sodium hydroxide and sodium hydroxide and a 1:1 diluted solution, no staining occurred in either case.
A film that developed well was obtained.

また、得られた画像部のインキ着肉性、耐薬品性も良好
であった。
Furthermore, the ink receptivity and chemical resistance of the obtained image area were also good.

表   ダ 比較例6 実施例7において、酒石酸を添加しないほかは同様の組
成の感光液を使用して感光性平版印刷版を製造し、現像
性を調べたところ、−倍希釈条件下では汚わが発生した
Comparative Example 6 In Example 7, a photosensitive lithographic printing plate was manufactured using a photosensitive solution having the same composition except that tartaric acid was not added, and the developability was examined. Occurred.

実施例j〜//および比較例り 比較例/において、表3に示した組成の感光液を使用す
る以外は同様にして感光性平版印刷版を製造した。
Photosensitive lithographic printing plates were produced in the same manner as in Examples j~// and Comparative Example//, except that the photosensitive liquid having the composition shown in Table 3 was used.

この感光性平版印刷版に光学濃度差0./ kのステッ
プウェッジを通して、jKW高圧水銀灯で、10秒間j
[)Thし、次いで、ベンジルアルコール30重量部、
ケイ酸ソーダダθチ水溶液/S重量部、イソプロピルナ
フタレンスルホン酸ソーダ70重量部および水9’l!
重量部から成る現像液を使用し、−倍希釈条件下で現像
した。
This photosensitive planographic printing plate has an optical density difference of 0. /k for 10 seconds with a KW high-pressure mercury lamp through a step wedge.
[)Th, then 30 parts by weight of benzyl alcohol,
Aqueous solution of sodium silicate/S, 70 parts by weight of sodium isopropylnaphthalene sulfonate, and 9'l of water!
Development was carried out under conditions of -fold dilution using a developer consisting of parts by weight.

その結果を表3に示した。The results are shown in Table 3.

また、実施例ff−/iのいずれの場合も、感度、イン
キ着肉性および耐薬品性は良好であった。
Further, in all cases of Example ff-/i, the sensitivity, ink receptivity and chemical resistance were good.

表    5Table 5

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体上に、少なくとも(A)  (−1一般式
(I)示 (式中、mおよびnはOlたはlの数を始し、少なくと
も1方け/である。)で表わされる芳香族ジカルボン酸
単位、(’b)スルフォネート地の基を有するジカルボ
ン酸単位、および(C)一般式(I) (式中、0は水素添加されたベンゼン環を示し、R1お
よびR2は炭素数−〜亭のアルキレン基を示し、R3お
よびR4は水素原子または炭素数7〜乙のアルキル基を
示し、rおよびBはθ〜3の数を示し、tはθまたはl
の数を示す。)で表わされるジオール単位を含有する光
架橋性ポリエステル、 (B)  少々くとも一個の゛付加重合性末端不飽和二
重結合を有するエチレン性不飽和化合物、(01光重合
開始剤、および、 (D)少&くとも一個のカルボキシル基を含有する脂肪
族カルボン酸またはその無水物から成る感光層を有する
事を特徴とする感光性平版印刷版。
(1) On a support, at least (A) (-1 represented by the general formula (I) (wherein m and n are the number of Ol or L, and at least one digit/) is disposed on the support. ('b) a dicarboxylic acid unit having a sulfonate group, and (C) the general formula (I) (wherein 0 represents a hydrogenated benzene ring, R1 and R2 represent a carbon R3 and R4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 7 to 3 carbon atoms, r and B represent a number of θ to 3, and t represents θ or l.
Indicates the number of ) a photocrosslinkable polyester containing a diol unit represented by (B) an ethylenically unsaturated compound having at least one addition polymerizable terminal unsaturated double bond, (01 photopolymerization initiator, and ( D) A photosensitive lithographic printing plate characterized by having a photosensitive layer comprising an aliphatic carboxylic acid containing at least one carboxyl group or an anhydride thereof.
(2)  (DJ  少なくとも一個のカルボキシル基
を含有する脂肪族カルボン酸を、感光層中に0.01〜
15重量%含有する特許請求の範囲第1項記載の感光性
平版印刷版。
(2) (DJ) An aliphatic carboxylic acid containing at least one carboxyl group is added in the photosensitive layer from 0.01 to
The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, containing 15% by weight.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6236657A (en) * 1985-08-10 1987-02-17 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Resist composition
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