JPH0411857B2 - - Google Patents

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JPH0411857B2
JPH0411857B2 JP57056183A JP5618382A JPH0411857B2 JP H0411857 B2 JPH0411857 B2 JP H0411857B2 JP 57056183 A JP57056183 A JP 57056183A JP 5618382 A JP5618382 A JP 5618382A JP H0411857 B2 JPH0411857 B2 JP H0411857B2
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JP
Japan
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acid
formula
photosensitive
group
represent
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JP57056183A
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Japanese (ja)
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JPS58173740A (en
Inventor
Shigeki Shimizu
Akinobu Ooshima
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
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Priority to US06/398,442 priority patent/US4421841A/en
Priority to AU86164/82A priority patent/AU555661B2/en
Priority to EP82106755A priority patent/EP0071236B1/en
Priority to DE8282106755T priority patent/DE3270758D1/en
Priority to CA000408244A priority patent/CA1178473A/en
Publication of JPS58173740A publication Critical patent/JPS58173740A/en
Publication of JPH0411857B2 publication Critical patent/JPH0411857B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/68Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G63/688Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing sulfur
    • C08G63/6884Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing sulfur derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • C08G63/6888Polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds in which at least one of the two components contains aliphatic unsaturation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
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  • Polymers & Plastics (AREA)
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  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、感光性組成物に関し、特に、高感度
でしかも耐薬品性、耐刷性の優れた水または弱ア
ルカリ性水溶液で現像可能な感光性平版印刷版に
適した感光性組成物に関するものである。 従来より、桂皮酸骨格を高分子の側鎖乃至は主
鎖に導入した不飽和ポリエステル樹脂については
種々の検討が行なわれ、既に平版印刷版用の感光
性樹脂層として応用されていることは周知のこと
である。 しかしながら従来の桂皮酸骨格を含有する不飽
和ポリエステルを用いる感光性平版印刷版におい
ては、その樹脂が一般には有機溶剤に対してのみ
溶解性を示すため、非露光部の溶出除去には有機
溶剤を主とした現像液を使用しなければならず、
経済的に不利であると同時に作業上の衛生面の問
題、更には使用済み現像液の廃棄処理等々の問題
があつた。 そこで近年かかる点を考慮して水、あるいは弱
アルカリ性水溶液で現像可能な感光性平版印刷版
の検討が進められている。例えば、主鎖中にオキ
シ桂皮酸を出発原料としたアルキルヒドロキシア
ルコキシシンナメートから誘導されるオキシモノ
カルボン酸残基及び芳香核に隣接したスルホ基を
有する芳香族炭化水素残基を含有する不飽和樹脂
を感光層とするアルカリ性水溶液で現像可能な感
光材料(特開昭52−130897)が提案されている。 しかしながら、従来の感光性平版印刷版は水、
あるいは有機溶媒を全く含まない弱アルカリ性水
溶液での現像性、感度、平版印刷時に使用される
種々の薬品に対する耐薬品性、インキ受容性、あ
るいは耐刷性等の点で未だ十分ではなく、更に改
良が望まれていた。 他にも従来、スルフオ基を有するジカルボン酸
をポリエステル形成成分として用いたポリエステ
ルをバインダー樹脂として、付加重合可能なな炭
素−炭素二重結合を有する不飽和化合物を光反応
開始剤とから成る水現像可能な樹脂凸版用の感光
性組成物が種々提案されている(例えば特公昭48
−6191、特開昭49−105888)が、これらの系は基
本的にバインダー樹脂であるポリエステル自身が
光反応により架橋し、不溶化するという性質を保
有していないことにより、酸素雰囲気下での光照
射の場合、極めて感度が低下したり、あるいは感
光層中に溶存している微量の酸素の影響を防止す
るため、特定の不活性気体雰囲気下での前処理に
長時間を必要とする、あるいは系自体が極めて親
水性であるため光硬化後でも活版用インクよりも
より親油性である平版印刷用の印刷インクを受容
し難い等々の平版印刷版材としての大きな欠点が
存在していた。 また、主鎖または側鎖に桂皮酸基、シンナミリ
デン酢酸基あるはフリルアクリル酸基を有する光
架橋性重合体に、少なくとも2個の付加重合性末
端二重結合を有するエチレン性不飽和単量体を添
加し、さらに光重合増感剤を添加するというドラ
イフイルム用、或いは、剥離現像用の感光性組成
物も提案されている。(例えば特公昭56−12857、
特開昭56−161538) しかし、これらの系も水、あるいは有機溶媒を
全く含まない弱アルカリ性水溶液では全く現像す
ることが出来ないことは言うまでもなく、またこ
れらの系の主眼点は、可塑効果を持つた液状物質
としてエチレン性不飽和単量体を添加することに
より、支持体への接着性を向上させたりあるいは
制御するというところに有るものである。 本発明者らは、かかる点の改良された感光性組
成物について検討し、先に特定の芳香族ジカルボ
ン酸単位、スルフオネート塩の基を有するジカル
ボン酸単位及び特定の水素添加されたベンゼン環
を有するジオール単位を必須成分とする感光性ポ
リエステルを感光層に使用することを提案した。
(特開昭56−118345) 本発明はこの感光性組成物を更に改良すること
を意図して、鋭意検討した結果、上記の必須成分
と共に、(B)少なくとも2個の付加重合性未端不飽
和二重結合を有するエチレン性不飽和化合物、お
よび(C)光重合開始剤を併用することにより所期の
目的が達成されることを見い出し、本発明を完成
するに到つた。 本発明の目的は極めて高感度で、かつ水、或い
は有機溶媒を全く含まない弱アルカリ水溶液でも
現像可能である感光性組成物を提供することにあ
り、本発明の他の目的は印刷分野においても最も
微秒な親水性−親油性のバランスを利用して印刷
するという平版印刷方式での印刷版として使用す
ることができ、更に、優れたインク受容性を有
し、しかも耐薬品性、耐刷性に優れた感光性組成
物を提供することにある。 しかして、かかる本発明の目的は、少なくとも
(A):(a)一般式() (式中、mおよびnは0または1の数を示
し、少なくとも一方は1である。) で表わされる芳香族ジカルボン酸単位、(b)スル
フオネート塩の基を有するジカルボン酸単位、
および、(c)一般式() (式中、
The present invention relates to a photosensitive composition, and in particular to a photosensitive composition that is highly sensitive, has excellent chemical resistance and printing durability, and is suitable for a photosensitive lithographic printing plate that can be developed with water or a weakly alkaline aqueous solution. be. Until now, various studies have been conducted on unsaturated polyester resins in which cinnamic acid skeletons are introduced into the side chains or main chains of polymers, and it is well known that they have already been applied as photosensitive resin layers for lithographic printing plates. It is about. However, in conventional photosensitive planographic printing plates that use unsaturated polyester containing a cinnamic acid skeleton, the resin is generally soluble only in organic solvents, so organic solvents are not used to elute and remove non-exposed areas. Main developer must be used,
In addition to being economically disadvantageous, there were also problems in terms of work hygiene and disposal of used developer. In recent years, consideration has been given to developing photosensitive lithographic printing plates that can be developed with water or a weakly alkaline aqueous solution. For example, unsaturated compounds containing an oxymonocarboxylic acid residue derived from an alkylhydroxyalkoxycinnamate starting from oxycinnamic acid and an aromatic hydrocarbon residue having a sulfo group adjacent to an aromatic nucleus in the main chain. A photosensitive material (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 130897/1989) has been proposed that has a resin photosensitive layer and is developable with an alkaline aqueous solution. However, conventional photosensitive lithographic printing plates are
Or, the developability with weakly alkaline aqueous solutions containing no organic solvents, sensitivity, chemical resistance to various chemicals used during lithographic printing, ink receptivity, printing durability, etc. are still insufficient, and further improvements are needed. was desired. In addition, conventionally, a water-developable process consisting of a polyester using a dicarboxylic acid having a sulfo group as a polyester-forming component as a binder resin, and an unsaturated compound having an addition-polymerizable carbon-carbon double bond as a photoreaction initiator. Various photosensitive compositions for resin letterpress printing have been proposed (for example,
-6191, JP-A-49-105888), but these systems basically do not have the property that the binder resin polyester itself crosslinks and becomes insolubilized by photoreaction, so it is difficult to absorb light in an oxygen atmosphere. In the case of irradiation, the sensitivity may be extremely reduced, or a long time may be required for pretreatment under a specific inert gas atmosphere to prevent the effects of trace amounts of oxygen dissolved in the photosensitive layer, or Since the system itself is extremely hydrophilic, it has major drawbacks as a lithographic printing plate material, such as being difficult to accept lithographic printing ink, which is more lipophilic than letterpress ink, even after photocuring. In addition, an ethylenically unsaturated monomer having at least two addition-polymerizable terminal double bonds in a photocrosslinkable polymer having a cinnamic acid group, a cinnamylidene acetic acid group, or a furyl acrylic acid group in the main chain or side chain. There have also been proposed photosensitive compositions for use in dry films or release development, in which a photopolymerization sensitizer is added. (For example, Tokuko Sho 56-12857,
However, it goes without saying that these systems cannot be developed at all with water or a weakly alkaline aqueous solution that does not contain any organic solvent, and the main point of these systems is to improve the plasticizing effect. By adding an ethylenically unsaturated monomer as a liquid substance, the adhesion to the support can be improved or controlled. The present inventors have studied photosensitive compositions improved in this respect, and have previously found a photosensitive composition having a specific aromatic dicarboxylic acid unit, a dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group, and a specific hydrogenated benzene ring. We proposed the use of a photosensitive polyester containing diol units as an essential component in the photosensitive layer.
(Japanese Unexamined Patent Publication No. 56-118345) With the intention of further improving this photosensitive composition, as a result of intensive studies, the present invention has revealed that, in addition to the above-mentioned essential components, (B) at least two addition-polymerizable infinitesimals. The present inventors have discovered that the desired objective can be achieved by using a combination of an ethylenically unsaturated compound having a saturated double bond and (C) a photopolymerization initiator, and have completed the present invention. An object of the present invention is to provide a photosensitive composition that has extremely high sensitivity and can be developed even with a weak alkaline aqueous solution containing no water or organic solvent. It can be used as a printing plate in the lithographic printing method, which prints using the most minute balance between hydrophilicity and lipophilicity, and it also has excellent ink receptivity, chemical resistance, and printing durability. An object of the present invention is to provide a photosensitive composition with excellent properties. Therefore, the object of the present invention is to at least
(A): (a) General formula () (In the formula, m and n represent the numbers 0 or 1, and at least one is 1.) An aromatic dicarboxylic acid unit represented by (b) a dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group,
and (c) general formula () (In the formula,

【式】は水素添加されたベン ゼン環を示し、R1およびR2は炭素数2〜4の
アルキレン基を示し、R3およびR4は水素原子
または炭素数1〜6のアルキル基を示し、rお
よびsは0〜3の数を示し、tは0または1の
数を示す) で表わされるジオール単位を含有する光架橋性
ポリエステル、 (B):少なくとも2個の付加重合性末端不飽和二重
結合を有するエチレン性不飽和化合物、並び
に、 (c):光重合開始剤とを含有することを特徴とする
感光性組成物 によつて容易に達成される。 以下、本発明について詳細に説明する。 本発明の(A)光架橋性ポリエステルは、(a)前記一
般式()で表わされる芳香族ジカルボン酸単
位、(b)スルフオネート塩の基を有するジカルボン
酸単位、好ましくは、スルフオネート塩の基を有
する芳香族ジカルボン酸単位、および、(c)前記一
般式()で表わされるジオール単位を必須成分
とする。 前記一般式()で表わされる芳香族ジカルボ
ン酸単位は、例えば、p−フエニレンジアクリル
酸、m−フエニレンジアクリル酸、p−カルボキ
シ桂皮酸、m−カルボキシ桂皮酸、またはそれら
のアルキルエステル類等の誘導体から誘導され
る。特に感度を考慮した場合、前記一般式()
においてm=n=1で表わされるものが好まし
い。 かかる芳香族ジカルボン酸単位は、光架橋性ポ
リエステル中、通常5〜45モル%、特に、15〜40
モル%の範囲が好ましい。 (b)スルフオネート塩の基を有するジカルボン酸
単位は、例えば、5−ナトリウムスルフオイソフ
タル酸、5−カリウムスルフオイソフタル酸、ま
たはそれらのアルキルエステル類、ヒドロキシア
ルキルエステル類等の誘導体、3−ナトリウムス
ルフオフタル酸、3−カリウムスルフオフタル
酸、4−ナトリウムスルフオフタル酸、4−カリ
ウムスルフオフタル酸、またはそれらのアルキル
エステル類、ヒドロキシアルキルエステル類等の
誘導体、2−ナトリウムスルフオテレフタル酸、
2−カリウムスルフオテレフタル酸またはそれら
のアルキルエステル類、ヒドロキシアルキルエス
テル類等の誘導体、α−ナトリウムスルフオこは
く酸、β−ナトリウムスルフオアジピン酸、2,
5−ジナトリウムスルフオアジピン酸またはそれ
らのアルキルエステル類またはヒドロキシアルキ
ルエステル類等、好ましくは、5−ナトリウムス
ルフオイソフタル酸ジメチル、2−ナトリウムス
ルフオテレフタル酸ジブチル等から誘導される。 かかるスルフオネート塩の基を有するジカルボ
ン酸単位は、光架橋性ポリエステル中、5モル%
以上含有していればよい。しかし含有量が増大す
るにつれて支持体に対する接着性および平版印刷
用の親油性の高いインキのインキ受容性が低下す
る傾向になるため、通常40モル%以下、特に、10
〜35モル%の範囲で使用するのが好ましい。 上記(a)芳香族ジカルボン酸単位および(b)スルフ
オネート塩の基を有するジカルボン酸の単位は、
本発明の光架橋性ポリエステルのジカルボン酸成
分を構成するが、感度および現像性を考慮する
と、これら(a)単位と(b)単位の割合が1:0.1〜10
(モル比)、特に1:0.25〜3(モル比)であるの
が好ましい。 また、前記一般式()で表わされるジオール
単位は、例えば、1,4−ビス(β−ヒドロキシ
エトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(2−
ヒドロキシプロポキシ)シクロヘキサン、シクロ
ヘキサンジオールまたはそれらの誘導体、水素添
加されたビスフエノールF、水素添加されたビス
フエノールAまたはそれらのヒドロキシル基にエ
チレンオキシドあるいはプロピレンオキシド等を
付加した誘導体等から誘導される。得られるポリ
マーの耐薬品性、耐刷性を考慮した場合、前記一
般式()において
[Formula] represents a hydrogenated benzene ring, R 1 and R 2 represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, r and s represent numbers from 0 to 3, and t represents a number of 0 or 1); (B): at least two addition-polymerizable terminal unsaturated diol units; This can be easily achieved using a photosensitive composition characterized by containing an ethylenically unsaturated compound having a double bond and (c) a photopolymerization initiator. The present invention will be explained in detail below. (A) Photocrosslinkable polyester of the present invention comprises (a) an aromatic dicarboxylic acid unit represented by the above general formula (), (b) a dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group, preferably a sulfonate salt group. and (c) a diol unit represented by the above general formula () as essential components. The aromatic dicarboxylic acid unit represented by the general formula () is, for example, p-phenylene diacrylic acid, m-phenylene diacrylic acid, p-carboxycinnamic acid, m-carboxycinnamic acid, or an alkyl ester thereof. derived from derivatives such as Especially when considering the sensitivity, the general formula ()
Preferably, m=n=1. The amount of such aromatic dicarboxylic acid units in the photocrosslinkable polyester is usually 5 to 45 mol%, particularly 15 to 40 mol%.
A mole % range is preferred. (b) The dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group is, for example, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 5-potassium sulfoisophthalic acid, or derivatives thereof such as alkyl esters or hydroxyalkyl esters, 3-sodium sulfoisophthalic acid, or derivatives thereof such as alkyl esters and hydroxyalkyl esters Sulfophthalic acid, 3-potassium sulfophthalic acid, 4-sodium sulfophthalic acid, 4-potassium sulfophthalic acid, or derivatives thereof such as alkyl esters and hydroxyalkyl esters, 2-sodium sulfophthalate acid,
2-potassium sulfoterephthalic acid or derivatives thereof such as alkyl esters and hydroxyalkyl esters, α-sodium sulfosuccinic acid, β-sodium sulfoadipic acid, 2,
It is derived from 5-disodium sulfoadipic acid or its alkyl esters or hydroxyalkyl esters, preferably dimethyl 5-sodium sulfoisophthalate, dibutyl 2-sodium sulfoterephthalate, and the like. The dicarboxylic acid unit having such a sulfonate salt group is 5 mol% in the photocrosslinkable polyester.
It is sufficient if the content is above. However, as the content increases, the adhesion to the support and the ink receptivity of highly lipophilic inks for lithographic printing tend to decrease.
It is preferable to use it in a range of 35 mol%. The above (a) aromatic dicarboxylic acid unit and (b) dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group are:
They constitute the dicarboxylic acid component of the photocrosslinkable polyester of the present invention, but considering sensitivity and developability, the ratio of these (a) units to (b) units is 1:0.1 to 10.
(molar ratio), particularly preferably 1:0.25 to 3 (molar ratio). Further, the diol unit represented by the general formula () is, for example, 1,4-bis(β-hydroxyethoxy)cyclohexane, 1,4-bis(2-
Hydroxypropoxy) cyclohexane, cyclohexanediol or derivatives thereof, hydrogenated bisphenol F, hydrogenated bisphenol A, or derivatives obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to the hydroxyl group thereof. When considering the chemical resistance and printing durability of the obtained polymer, in the general formula () above,

【式】は水素添加の程 度の高いものが好ましく、特にシクロヘキサン環
であるものが好ましい。またR1およびR2は得ら
れるポリマーのインキ受容性を考慮すると直鎖状
あるいは分枝状のアルキレン基のどちらかを必ら
ず有するものであることが好ましい。 本発明においては、更にジオール単位として(b)
脂肪族ジオール単位を含有するものが好ましい。
かかる脂肪族ジオール単位は、例えば、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジエチレン
グリコール、ジプロピレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、ネ
オペンチルグリコール、2,2−ジエチルトリメ
チレングリコール、2,2−ジプロピルトリメチ
レングリコール、2−エチル−2−プロピルトリ
メチレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタン
ジオール等の直鎖状あるいは分枝状の脂肪族ジオ
ールから誘導される。特に得られる光架橋性ポリ
エステルの水に対する溶解性、耐薬品性等を考慮
するとジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、テトラエチレングリコール等のエーテル
結合を有する脂肪族ジオールが好ましい。 上記(c)一般式()で表わされる水素添加され
たベンゼン環を含有するジオール単位および(d)脂
肪族ジオール単位の使用割合は、インキ受容性お
よび現像性とのバランスを考慮すると、これら(c)
単位と(d)単位の割合が1:0.2〜5(モル比)であ
るのが好ましい。 本発明の光架橋性ポリエステルは上記(a)〜(c)ま
たは(a)〜(d)単位を与える各成分を用いて周知の方
法、例えば米国特許第3622320号に記載されてい
る方法に従つて容易に製造することができる。 即ち、前記一般式()で示される芳香族ジカ
ルボン酸のエステル誘導体と、スルフオネート塩
の基を有するジカルボン酸のエステル誘導体と、
必要に応じてその他の周知のジカルボン酸のエス
テル誘導体とをジカルボン酸単位の構成成分とし
て、前記一般式()で示される水素添加された
ベンゼン環を含有するジオール類のうちの少なく
とも一種のジオール成分と必要に応じて脂肪族ジ
オールとをジオール単位の構成成分として混合し
て加熱溶解した後、チタン系触媒を添加してエス
テル交換反応を行なつた後、徐々に減圧、昇温す
ることにより過剰のジオール成分および重縮合反
応の進行に伴なつて生成するジオール成分を反応
系外に留出させることにより容易に製造すること
ができる。 本発明においては、還元粘度(0.25g/dlN,
N−ジメチルフオルムアミド溶液、30℃)が0.1
〜1.5、特に0.2〜0.8である光架橋性ポリエステル
が現像性を低下させること無く感度を向上させる
ことができるという観点から好ましい。 本発明の(B)少なくとも2個の付加重合性末端不
飽和二重結合を有するエチレン性不飽和化合物と
は、後述する光重合開始剤の存在下で活性光線の
照射を受けた場合に付加重合反応を起して硬化
し、実質的に不溶化をもたらすような単量体、あ
るいは重合体を意味し、ここで単量体とは狭義の
単量体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包
含するものである。 付加重合性末端不飽和二重結合を有するエチレ
ン性不飽和単量体としては、例えば、不飽和カル
ボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化
合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カル
ボン酸及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、
芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ
化合物とのエステル化反応により得られるエステ
ル、あるいはそれらのエステルを更に変性したも
の等が挙げられる。 不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸等が挙げられる。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物としては、例えば
エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタン
ジオール、1,2−ブタンジオール等の二価アル
コール、トリメチロールエタン、トリメチロール
プロパン、グリセロール等の三価アルコール、ペ
ンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール
等の四価以上のアルコール類、ジヒドロキシマレ
イン酸等の多価ヒドロキシカルボン酸類等が挙げ
られる。 芳香族ポリヒドロキシ化合物としては、ハイド
ロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロー
ル等が挙げられる。 多価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、ト
リメリツト酸、ピロメリツト酸、ベンゾフエノン
ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、マロン
酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、テ
トラヒドロフタル酸等がある。 脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルの具体例としては、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラメチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリ
スリトールオクタアクリレート、グリセロールジ
アクリレート等のアクリル酸エステル、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、トリメチロールエ
タントリメタクリレート、ペンタエリスリトール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、
1,2−ブタンジオールジメタクリレート、ソル
ビトールテトラメタクリレート等のメタクリル酸
エステル、エチレングリコールジイタコネート、
プロピレングリコールジイタコネート、1,2−
ブタンジオールイタコネート、テトラメチレング
リコールジイタコネート、ペンタエリスリトール
トリイタコネート等のイタコン酸エステル、エチ
レングリコールジクロトネート、ジエチレングリ
コールジクロトネート、ペンタエリスリトールテ
トラクロトネート等のクロトン酸エステル、エチ
レングリコールジマレエート、トリエチレングリ
コールジマレエート、ペンタエリスリトールジマ
レエート等のマレイン酸エステルがある。 芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアク
リレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レ
ゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリ
レート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げ
られる。 不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒ
ドロキシ化合物とのエステル化反応により得られ
るエステルとしては必ずしも単一物では無いが代
表的な具体例を表1に記す。表中のZはアクリロ
イル基またはメタクリロイル基を示す。
[Formula] preferably has a high degree of hydrogenation, and is particularly preferably a cyclohexane ring. Furthermore, in consideration of the ink receptivity of the resulting polymer, R 1 and R 2 preferably have either a linear or branched alkylene group. In the present invention, (b) is further used as a diol unit.
Those containing aliphatic diol units are preferred.
Such aliphatic diol units are, for example, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, 2,2-diethyltrimethylene glycol, 2,2-dipropyltrimethylene Derived from linear or branched aliphatic diols such as glycol, 2-ethyl-2-propyltrimethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol . In particular, in consideration of water solubility, chemical resistance, etc. of the resulting photocrosslinkable polyester, aliphatic diols having an ether bond such as diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol are preferred. The usage ratio of (c) the hydrogenated benzene ring-containing diol unit represented by the general formula () and (d) the aliphatic diol unit is determined by considering the balance between ink receptivity and developability. c)
The ratio of the unit to the unit (d) is preferably 1:0.2 to 5 (molar ratio). The photocrosslinkable polyester of the present invention can be prepared using the above-mentioned components (a) to (c) or (a) to (d) by a well-known method, for example, the method described in U.S. Pat. No. 3,622,320. It can be easily manufactured. That is, an ester derivative of an aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (), an ester derivative of a dicarboxylic acid having a sulfonate salt group,
At least one diol component among the hydrogenated benzene ring-containing diols represented by the general formula (), with other well-known dicarboxylic acid ester derivatives as a constituent component of the dicarboxylic acid unit, if necessary. and optionally an aliphatic diol as constituent components of the diol unit, heat-dissolved, add a titanium-based catalyst to perform a transesterification reaction, and gradually reduce the pressure and raise the temperature to remove the excess. It can be easily produced by distilling out of the reaction system the diol component and the diol component produced as the polycondensation reaction progresses. In the present invention, reduced viscosity (0.25 g/dlN,
N-dimethylformamide solution, 30℃) is 0.1
A photocrosslinkable polyester having a molecular weight of 1.5 to 1.5, particularly 0.2 to 0.8 is preferable from the viewpoint of improving sensitivity without reducing developability. (B) of the present invention is an ethylenically unsaturated compound having at least two addition polymerizable terminal unsaturated double bonds. It refers to a monomer or polymer that undergoes a reaction to harden and become substantially insolubilized. Monomer here includes dimers, trimers, and oligomers in addition to monomers in the narrow sense. It also includes. Examples of the ethylenically unsaturated monomer having an addition-polymerizable terminal unsaturated double bond include esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds, and esters of unsaturated carboxylic acids and aromatic polyhydroxy compounds. , unsaturated carboxylic acids and polyhydric carboxylic acids and the aforementioned aliphatic polyhydroxy compounds,
Examples include esters obtained by an esterification reaction with a polyhydric hydroxy compound such as an aromatic polyhydroxy compound, or further modified esters. Specific examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, and the like. Examples of aliphatic polyhydroxy compounds include dihydric compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, and 1,2-butanediol. Examples include alcohol, trihydric alcohols such as trimethylolethane, trimethylolpropane, and glycerol, tetrahydric or higher alcohols such as pentaerythritol and tripentaerythritol, and polyhydric hydroxycarboxylic acids such as dihydroxymaleic acid. Examples of aromatic polyhydroxy compounds include hydroquinone, resorcinol, catechol, pyrogallol, and the like. Examples of polycarboxylic acids include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrachlorophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, benzophenone dicarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, glutaric acid, adipic acid, and sebacic acid. , tetrahydrophthalic acid, etc. Specific examples of esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and pentaerythritol. Acrylic acid esters such as diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tripentaerythritol octaacrylate, glycerol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetramethylene glycol Dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, tripenta Erythritol octamethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate,
Methacrylic acid esters such as 1,2-butanediol dimethacrylate and sorbitol tetramethacrylate, ethylene glycol diitaconate,
Propylene glycol diitaconate, 1,2-
Itaconic acid esters such as butanediol itaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol triitaconate, crotonic acid esters such as ethylene glycol dicrotonate, diethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol tetracrotonate, ethylene glycol dimaleate , triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and other maleic acid esters. Examples of esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. The ester obtained by the esterification reaction of an unsaturated carboxylic acid with a polyvalent carboxylic acid and a polyvalent hydroxy compound is not necessarily a single product, but typical examples are shown in Table 1. Z in the table represents an acryloyl group or a methacryloyl group.

【表】 その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二
重結合を有する化合物の例としてはエチレンビス
アクリルアミド、ヘキサメチレンビスアクリルア
ミド等のアクリルアミド類、エチレンビスメタク
リルアミド、ヘキサメチレンビスメタクリルアミ
ド等のメタクリルアミド類、フタル酸ジアリル、
マロン酸ジアリル、フマル酸ジアリル、トリアリ
ルイソシアヌレート等のアリルエステル酸、ジビ
ニルアジペート、ジビニルフタレート、エチレン
グリコールジビニルエーテル等のビニール含有化
合物が挙げられる。 変性した付加重合性末端不飽和二重結合を有す
るエチレン性不飽和単量体としては、例えば特願
昭56−210920記載の遊離カルボキシル基を有する
単量体が挙げられる。これは、ヒドロキシアルキ
ル基を含有する(メタ)アクリレート類と二塩基
性カルボン酸の酸無水物との反応により調製する
ことができる。 ヒドロキシアルキル基を含有する(メタ)アク
リレート類としては、トリメチロールエタンジア
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレ
ート、トリメチロールプロパンジメタクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、グリセロール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラアクリレート等の多価エ
ステル類が挙げられる。 これらのヒドロキシアルキル基をもつ(メタ)
アクリレート類と反応させる為の酸無水物として
は、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無
水イタコン酸、無水フタル酸、無水ヘキサヒドロ
フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸などが挙げ
られる。 前記ヒドロキシアルキル基を有する(メタ)ア
クリレートと前記酸無水物との半エステル化反応
によりカルボキシル基をもつ(メタ)アクリレー
ト化合物が調製されるが、反応条件としては両反
応物の混合物を、反応溶媒中あるいは無溶媒の状
態で所謂熱重合防止剤の存在下、必要に応じてピ
リジン、第3級アミン、硫酸、p−トルエンスル
ホン酸等の触媒存在下で加熱するのが良好であ
る。該反応溶媒としてはベンゼン、トルエン、メ
チルエチルケトン、ジオキサン等が有用である。 これらの少なくとも2個の付加重合性末端不飽
和二重結合を有するエチレン性不飽和化合物にお
いて、水、或いは有機溶媒を全く含まない弱アル
カリ性水溶液での現像性を考慮すると、その分子
中にアルコール性水酸基、フエノール性水酸基あ
るいは遊離カルボキシル基を含有しているもの例
えば、ペンタエリスリトールアクリレート等の
(メタ)アクリル酸エステルおよびその無水コハ
ク酸変性体等が特に好適である。 該不飽和化合物は、前記光架橋性ポリエステル
100重量部に対して5乃至200重量部の範囲で用い
られるが、好ましくは10乃至100重量部の範囲で
ある。 本発明の(C)光重合開始剤は、活性光線の照射に
よりラジカルを発生し、前述の(B)少なくとも2個
の付加重合性末端不飽和二重結合を有するエチレ
ン性不飽和化合物の付加重合反応をもたらすもの
である。 本発明において使用し得る光重合開始剤は、前
述した光架橋性ポリエステルの光架橋反応を阻害
せずにしかも光重合反応を効率良く発現させるこ
とができるものであることが必要である。また、
感光平版印刷版として活性光線を照射して画像を
描き込む作業が必須であるが、この工程で用いら
れる光源としては通常340nm以上の波長の光エネ
ルギーを発散するものが多く、この波長領域で光
重合反応を効率よく発現しなくてはならない。ま
た、上述の光架橋性ポリエステルの光架橋反応は
ポリエステル単独でも充分起こるが、実用的な所
謂感度を達成させるために通常後述するような増
感剤を感光層中に添加して使用に供せられる。こ
の増感剤もやはり画像描き込みに使用される光源
の光エネルギー分布を考慮してそのエネルギーを
効率よく光架橋反応の発現に変換できるように化
学的に設計された所産のものである。 以上述べたように本発明における(C)光重合開始
剤はこれらの光源の光エネルギー分布及び光架橋
反応を促進するために添加される増感剤の光吸収
と十分に共存して、光架橋性ポリエステルの光架
橋反応が起るのと平行して、(B)少なくとも2個の
付加重合性末端不飽和二重結合を有するエチレン
性不飽和化合物の光付加重合反応を発現させる強
力な光重合開始剤でなければならない。 この点に鑑みて本発明者らは検討した結果、本
発明における光重合開始剤としてはベンジル−
4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノン
の組合せといつた所謂複合開始剤が特に有効であ
ることを見出した。ここで言う複合開始剤とは、
特定の化合物の混合物を用いることにより光重合
反応における光重合反応開始剤としては相剰活性
化作用が現われ、各々単独で用いた場合には予想
すら出来ないような効果を発現する特異な混合物
を意味する。 この複合開始剤の例としては、特公昭44−
20067に開示されているベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンジル、フルオレノン等の化
合物と4,4′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾ
フエノンの組合せ、ベンジルとフルオレノン、あ
るいは、特開昭57−10605に開示された置換基を
有するベンジル類と一般式 (式中、R5、R6、R7およびR8はアルキル基を
示し、uおよびvは0、1、または2を示す。)
で表わされるp−ジアルキルアミノフエニルケト
ン類との組合せ、特開昭55−95865に開示された
一般式 (式中、R9はアルキル基を示し、Yは−O−、
−S−、−Se−、−CH=CH−および−NR10−よ
り選ばれた2価原子または原子団であつて3価窒
素原子と共に複素芳香環Bを形成しており、R10
は水素原子またはアルキル基を示し、環Aは置換
基を有していてもよいベンゼン環またはナフタレ
ン環であつても環Bで縮合している。)で表わさ
れるp−ジアルキルアミノスチルベン誘導体とヘ
キサアリールビイミダゾールとの組合せ、特願昭
56−118339に開示された一般式 (式中、R11はアルキル基を示し、R12は水素
原子またはアルキル基を表わしており、環Aは置
換基を有していてもよいベンゼン環またはナフタ
レン環であつて、チアゾール環と縮合している。)
で表わされるp−ジアルキルアミノシンナミリデ
ン誘導体とヘキサアリールビイミダゾールとの組
合せ、特願昭56−128406および特願昭56−139484
に開示された、一般式 (式中、R13およびR14はアルキル基を示し、
環Aおよび環Bは置換基を有していてもよいベン
ゼン環またはナフタレン環を示し、Xは陰イオ
ンを示し、wは0または1を示す。)で表わされ
るシアニン染料あるいは、チアピリリウム塩と、
一般式 (式中、R15、R16およびR17は置換基を有して
いてもよいアルキル基またはアリール基、或いは
アルケニル基、ピペリジノ基、−NR2−、−OR、
−S(ここでRは水素原子、アルキル基を示す。)
を示し、それらのうち少なくとも1つは、モノ
−、ジ−またはトリハロゲン置換メチル基を示
す。)で表わされるs−トリアジン誘導体との組
合せ等が挙げられ、いずれも好適に使用し得る。
特に、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンジル、フルオレノン等の化合物と4,4′−ビ
ス(ジアルキルアミノ)ベンゾフエノンの組合せ
が好ましい。 この複合開始剤を構成する各々の特定の化合物
の添加量は、感光層中に0.1重量パーセント乃至
20重量パーセント、好ましくは1重量パーセント
乃至10重量パーセントの範囲で用いると有利であ
る。 また、これらの必須成分の他に(D)フエノール性
水酸基を含有する樹脂を添加することも非常に有
用な手段である。このフエノール性水酸基を含有
する樹脂を添加すると未露光時の耐水性が著しく
向上する。 かかる樹脂としては、フエノール類とアルデヒ
ド類あるいはケトン類から付加縮合反応によつて
合成される所謂フエノール樹脂、ポリ−p−ヒド
ロキシスチレンに代表されるようなポリ−ヒドロ
キシフエニル樹脂、あるいは他の置換基を含有す
るポリ−ヒドロキシフエニル樹脂等が挙げられ
る。またこれらの樹脂中のフエノール性水酸基
を、例えば桂皮酸クロリド、(メタ)アクリル酸
クロリドの様な酸クロリドと反応させて部分的に
エステルとしたり、あるいは無水こはく酸、無水
フタル酸などの酸無水物と反応させて、部分的に
遊離カルボン酸残基を含有するように変性した樹
脂も良好に用いられる。 フエノール性水酸基を含有する樹脂は、光架橋
性ポリエステル100重量部に対して1乃至500重量
部の範囲で用いられるが、好ましくは5乃至150
重量部の範囲が好適である。 本発明の感光性組成物は、例えば前記光架橋性
ポリエステルを溶媒に溶解し、引き続いて少なく
とも2個の付加重合性末端不飽和二重結合を有す
るエチレン性不飽和化合物および光重合開始剤を
この溶液に溶解させることによつて容易に製造さ
れる。 好適な溶媒は、光架橋性ポリエステルの組成及
び分子量によつて異なるが、スルフオネート塩の
基を有するジカルボン酸単位の含有率が低い場合
には、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の
塩素系溶媒、フルフリルアルコール、テトラヒド
ロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール等
のアルコール系溶媒、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノフエニルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノプロピルエーテル等のエチレン
グリコール及びジエチレングリコールのエーテル
系誘導体、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールエチルエーテル
アセテート、酢酸エチル等のエステル系溶媒、ジ
メチルフオルムアミド、N−メチルピロリドン、
ニトロエタン、ニトロベンゼン等の含窒素系溶
媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノ
ン、4−メチル−4−メトキシ−2−ペンタノン
等のケトン系溶媒、及びジメチルスルフオキシド
等々の溶媒が挙げられる。 一方、スルフオネート塩の基を有するジカルボ
ン酸単位の含有率が高い場合には、水は勿論なが
ら、ジアセトンアルコール、乳酸メチル、乳酸エ
チル、乳酸−n−ブチル、乳酸−i−ブチル等の
ケトアルコール及びヒドロキシ基含有脂肪酸エス
テル類も有効となる。 本発明の感光性組成物は必要に応じて前記成分
以外に公知の種々の添加物を含有していてもよ
い。例えば、水、或いは弱アルカリ性水溶液に対
する現像性を阻害しない範囲内での他の樹脂、着
色剤、可塑剤、安定剤、増感剤等の添加剤を含有
していてもよい。これらの添加剤は、感光性組成
物を調製する時に添加すればよい。ここで増感剤
とは、光架橋性ポリエステル自身の光架橋反応を
促進するもので従来公知の、例えばベンズアンス
ロン、6,11−ジクロロベンズアンスロン、11−
クロロ−ヒドロキシベンズアンスロン、1−カル
ボエトキシ−2−ケト−3−メチル−3−アザ−
1,9−ベンズアンスロン等のベンズアンスロン
誘導体、1,8−ジクロロアントラキノン、1,
8−ジメトキシアントラキノン、1,2−ベンズ
アントラキノン等のキノン類、5−ニトロアセナ
フテン、2−ニトロフルオレノン、2,7−ジニ
トロフルオレノン、1−ニトロナフタレン、1,
5−ジニトロナフタレン等のモノ−あるいはポリ
ニトロ化合物、2−ジベンゾイルメチレン−3−
メチル−β−ナフトチアゾリン、2−ヘンゾイル
メチレン−3−メチル−β−ナフトチアゾリン、
2−ジ(2−フロイル)メチレン−3−メチル−
β−ナフトチアゾリン等のナフトチアゾリン誘導
体が好適である。 安定剤としては、例えば公知の熱重合防止剤が
挙げられ、ハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、p−メトキシフエノール、ピロガロール、カ
テコール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾ
ール、β−ナフトール等が好適に使用し得る。 本発明の感光性組成物は、常法に従つてポリエ
チレンテレフタレートフイルム、印刷用亜鉛板、
印刷用アルミニウム板、シリコンウエーフアー、
クロム蒸着ガラス板等の使用目的に応じて適宜選
択される対象物上にデイツプ・コート、コーテイ
ングロツド、スピナーコート、スプレーコート等
の周知の塗布方法により塗布して使用するここと
が可能である。 例えば、支持体表面に感光性組成物を塗布する
ことにより、凸版印刷、グラビア印刷等の印刷材
料やフオトレジスト等を形成することができる。 一例として、感光性平版印刷版に使用する際に
は、支持体として表面を陽極酸化処理した印刷用
アルミニウム板が好適で、特にリン酸あるいはリ
ン酸と硫酸の混酸浴中で陽極酸化処理を施したア
ルミニウム板が本発明の光架橋性ポリエステル重
合体との接着性が良好であるので特に好ましい。 こうして使用状態に供された感光性組成物に対
しては、常法に従つて被写物を重ねて露光する
か、あるいは電子線等を照射して模様像や画像等
の描き込みを行なつた後、水、或いは弱アルカリ
性水溶液を用いて現像すれば支持体上に対応する
模様や画像等を形成させることができる。特に、
本発明においては、現像液中に有機溶媒を含有さ
せなくとも良好に現像することができるため従来
の系に比べて極めて有用である。勿論、水と親和
性のある有機溶媒を少量含むアルカリ水溶液でも
極めて優れた現像性を示す。 以上本発明について詳細に説明したが、本発明
の感光性組成物は、極めて高感度で水、或いは弱
アルカリ性水溶液で現像することが可能であり、
しかも感光性平版印刷版に使用すると、その印刷
版は耐摩耗性、耐薬品性、耐刷性に優れ、さらに
親油性の高い平版印刷用の印刷インクを極めて良
好に受容するという優れた特徴を有している。 次に本発明について実施例により更に具体的に
説明するが、本発明はその要旨をこえない限り、
以下の実施例に限定されるものではない。 製造例 1 p−フエニレンジアクリル酸ジエチル32.88g
(120mmol)、5−ナトリウムスルフオイソフタ
ル酸ジメチル23.68g(80mmol)、1,4−ビス
(2−ヒドロキシエトキシ)−シクロヘキサン
20.40g(100mmol)及びトリエチレングリコー
ル42.0g(280mmol)を200ml三ツ口フラスコに
仕込み、触媒としてオルソチタン酸ブチルの5%
エタノール溶液10mlを添加し、窒素ガス送気下、
200r.p.m.の回転数で撹拌しながら徐々に昇温し、
210℃で約1時間エステル交換反応を行ない、生
成するエタノール及びメタノールを留出させた。 次いで撹拌回転数を100r.p.m.に低下させ系を
1時間かけて徐々に減圧とし、1mmHgの減圧に
到達後浴温を速やかに250℃に昇温し、その条件
下で約30分間反応させ、過剰のジオール及び反応
の進行に伴つて生成するジオールを留出させた。
冷却後三ツ口フラスコを割つて透明な光架橋性ポ
リエステルを得た。得られたポリエステルの還元
粘度(ηsp/C、0.25g/dl N,N−ジメチル
フオルムアミド溶液、30℃)は0.45であつた。 製造例 2 p−フエニレンジアクリル酸ジエチル32.88g
(120mmol)、5−ナトリウムスルフオイソフタ
ル酸ジメチル23.68g(80mmol)、1,4−ビス
(2−ヒドロキシエトキシ)−シクロヘキサン
12.24g(60mmol)及びトリエチレングリコール
42.00g(280mmol)200ml三ツ口フラスコに仕込
み、製造例1と同様にエステル交換反応を行なつ
た。 次いで同様に210℃で1mmHg迄減圧とした後、
浴温を速かに240℃に昇温し、その条件下で45分
間反応させた。 得られたポリエステルの還元粘度(製造例1と
同様)は0.54であつた。 製造例 3〜6 下記表1に示した様な条件で数種の光架橋性ポ
リエステルを得た。
[Table] Other examples of compounds having ethylenically unsaturated double bonds that can be used in the present invention include acrylamides such as ethylenebisacrylamide and hexamethylenebisacrylamide, and methacrylamides such as ethylenebismethacrylamide and hexamethylenebismethacrylamide. , diallyl phthalate,
Examples include allyl ester acids such as diallyl malonate, diallyl fumarate, and triallyl isocyanurate, and vinyl-containing compounds such as divinyl adipate, divinyl phthalate, and ethylene glycol divinyl ether. Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a modified addition-polymerizable terminal unsaturated double bond include monomers having a free carboxyl group described in Japanese Patent Application No. 56-210920. They can be prepared by reacting (meth)acrylates containing hydroxyalkyl groups with acid anhydrides of dibasic carboxylic acids. Examples of (meth)acrylates containing a hydroxyalkyl group include trimethylolethane diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, glycerol diacrylate, glycerol dimethacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, Polyvalent esters such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, and dipentaerythritol tetraacrylate can be mentioned. (meta) with these hydroxyalkyl groups
Examples of the acid anhydride for reacting with acrylates include succinic anhydride, maleic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride. A (meth)acrylate compound having a carboxyl group is prepared by a half-esterification reaction between the (meth)acrylate having a hydroxyalkyl group and the acid anhydride. It is preferable to heat the mixture in the presence of a so-called thermal polymerization inhibitor in the absence of a solvent or in the presence of a catalyst such as pyridine, tertiary amine, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, etc., if necessary. Benzene, toluene, methyl ethyl ketone, dioxane, etc. are useful as the reaction solvent. Considering the developability of these ethylenically unsaturated compounds having at least two addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds in a weakly alkaline aqueous solution that does not contain any water or organic solvent, alcoholic Particularly suitable are those containing a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, or a free carboxyl group, such as (meth)acrylic acid esters such as pentaerythritol acrylate and their succinic anhydride modified products. The unsaturated compound is the photocrosslinkable polyester.
It is used in a range of 5 to 200 parts by weight per 100 parts by weight, preferably in a range of 10 to 100 parts by weight. (C) The photopolymerization initiator of the present invention generates radicals by irradiation with actinic rays, and the above-mentioned (B) photopolymerization initiator can be used to add-polymerize the ethylenically unsaturated compound having at least two addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds. It is something that brings about a reaction. The photopolymerization initiator that can be used in the present invention needs to be capable of efficiently expressing the photopolymerization reaction without inhibiting the photocrosslinking reaction of the photocrosslinkable polyester described above. Also,
It is essential to irradiate actinic rays to draw images on photosensitive lithographic printing plates, but the light sources used in this process usually emit light energy with a wavelength of 340 nm or more, and light in this wavelength range is essential. The polymerization reaction must be carried out efficiently. Furthermore, although the photocrosslinking reaction of the photocrosslinkable polyester described above occurs sufficiently with polyester alone, in order to achieve practical so-called sensitivity, a sensitizer as described below is usually added to the photosensitive layer for use. It will be done. This sensitizer is also a chemically designed product that takes into consideration the light energy distribution of the light source used for image drawing and can efficiently convert that energy into the expression of a photocrosslinking reaction. As described above, the photopolymerization initiator (C) in the present invention sufficiently coexists with the light energy distribution of these light sources and the light absorption of the sensitizer added to promote the photocrosslinking reaction, and thereby performs photocrosslinking. In parallel with the photocrosslinking reaction of the polyester, (B) a strong photopolymerization reaction of the ethylenically unsaturated compound having at least two addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds. Must be an initiator. In view of this point, the present inventors investigated and found that benzyl-
It has been found that so-called complex initiators such as a combination of 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone are particularly effective. The complex initiator referred to here is
When a mixture of specific compounds is used as a photopolymerization reaction initiator in a photopolymerization reaction, a mutual activation effect appears, and a unique mixture that exhibits an effect that cannot even be predicted when each compound is used alone can be created. means. Examples of this composite initiator include
Combinations of compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzyl, and fluorenone and 4,4'-bis(dialkylamino)benzophenone disclosed in No. 20067, benzyl and fluorenone, or substitutions disclosed in JP-A No. 57-10605. Benzyl groups with groups and general formulas (In the formula, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 represent an alkyl group, and u and v represent 0, 1, or 2.)
A combination with p-dialkylaminophenyl ketones represented by the general formula disclosed in JP-A-55-95865 (In the formula, R 9 represents an alkyl group, Y is -O-,
A divalent atom or atomic group selected from -S-, -Se-, -CH=CH-, and -NR 10 -, which forms a heteroaromatic ring B together with a trivalent nitrogen atom, and R 10
represents a hydrogen atom or an alkyl group, and even if ring A is a benzene ring or naphthalene ring which may have a substituent, it is fused with ring B. ) A combination of p-dialkylaminostilbene derivative represented by
General formula disclosed in 56-118339 (In the formula, R 11 represents an alkyl group, R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Ring A is a benzene ring or a naphthalene ring which may have a substituent, and is fused with a thiazole ring. are doing.)
Combination of p-dialkylaminocinnamylidene derivative represented by and hexaarylbiimidazole, Japanese Patent Application No. 56-128406 and Japanese Patent Application No. 56-139484
The general formula disclosed in (In the formula, R 13 and R 14 represent an alkyl group,
Ring A and Ring B represent a benzene ring or a naphthalene ring which may have a substituent, X represents an anion, and w represents 0 or 1. ) or thiapyrylium salt, and
general formula (In the formula, R 15 , R 16 and R 17 are an alkyl group or an aryl group which may have a substituent, or an alkenyl group, a piperidino group, -NR 2 -, -OR,
-S (Here, R represents a hydrogen atom or an alkyl group.)
, at least one of which represents a mono-, di- or trihalogen-substituted methyl group. ), and any of them can be suitably used.
In particular, benzoin, benzoin methyl ether,
A combination of a compound such as benzyl or fluorenone and 4,4'-bis(dialkylamino)benzophenone is preferred. The amount of each specific compound constituting this composite initiator may range from 0.1% by weight to 0.1% by weight in the photosensitive layer.
It is advantageous to use 20% by weight, preferably in the range of 1% to 10% by weight. Furthermore, it is also a very useful means to add (D) a resin containing a phenolic hydroxyl group in addition to these essential components. Addition of this resin containing phenolic hydroxyl groups significantly improves water resistance when unexposed. Such resins include so-called phenolic resins synthesized from phenols and aldehydes or ketones by addition condensation reaction, poly-hydroxyphenyl resins such as poly-p-hydroxystyrene, and other substituted resins. Examples include poly-hydroxyphenyl resins containing groups. In addition, the phenolic hydroxyl groups in these resins can be partially converted into esters by reacting with acid chlorides such as cinnamic acid chloride and (meth)acrylic acid chloride, or with acid anhydrides such as succinic anhydride and phthalic anhydride. Resins that have been modified to partially contain free carboxylic acid residues by reacting with substances are also well used. The resin containing a phenolic hydroxyl group is used in an amount of 1 to 500 parts by weight, preferably 5 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of the photocrosslinkable polyester.
A range of parts by weight is preferred. The photosensitive composition of the present invention can be prepared, for example, by dissolving the photocrosslinkable polyester in a solvent, and then adding an ethylenically unsaturated compound having at least two addition-polymerizable terminal unsaturated double bonds and a photopolymerization initiator to the photosensitive composition. It is easily produced by dissolving it in a solution. Suitable solvents vary depending on the composition and molecular weight of the photocrosslinkable polyester, but when the content of dicarboxylic acid units having sulfonate salt groups is low, suitable solvents include methylene chloride, chloroform, trichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc. Chlorinated solvents, alcoholic solvents such as furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monophenyl ether,
Ethylene glycol and ether derivatives of diethylene glycol such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, ester solvents such as ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, ethyl acetate, dimethyl formamide, N-methyl pyrrolidone,
Examples include nitrogen-containing solvents such as nitroethane and nitrobenzene, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, 4-methyl-4-methoxy-2-pentanone, and dimethyl sulfoxide. On the other hand, when the content of dicarboxylic acid units having sulfonate salt groups is high, not only water but also keto alcohols such as diacetone alcohol, methyl lactate, ethyl lactate, n-butyl lactate, i-butyl lactate, etc. and hydroxy group-containing fatty acid esters are also effective. The photosensitive composition of the present invention may contain various known additives in addition to the above-mentioned components, if necessary. For example, it may contain additives such as other resins, colorants, plasticizers, stabilizers, sensitizers, etc. within the range that does not inhibit the developability with water or weakly alkaline aqueous solutions. These additives may be added when preparing the photosensitive composition. Here, the sensitizer is a substance that promotes the photocrosslinking reaction of the photocrosslinkable polyester itself, and includes conventionally known sensitizers such as benzanthrone, 6,11-dichlorobenzanthrone, 11-
Chloro-hydroxybenzanthrone, 1-carboethoxy-2-keto-3-methyl-3-aza-
Benzanthrone derivatives such as 1,9-benzanthrone, 1,8-dichloroanthraquinone, 1,
Quinones such as 8-dimethoxyanthraquinone and 1,2-benzanthraquinone, 5-nitroacenaphthene, 2-nitrofluorenone, 2,7-dinitrofluorenone, 1-nitronaphthalene, 1,
Mono- or polynitro compounds such as 5-dinitronaphthalene, 2-dibenzoylmethylene-3-
Methyl-β-naphthothiazoline, 2-henzoylmethylene-3-methyl-β-naphthothiazoline,
2-di(2-furoyl)methylene-3-methyl-
Naphthothiazoline derivatives such as β-naphthothiazoline are preferred. Examples of the stabilizer include known thermal polymerization inhibitors, and suitable examples include hydroquinone, methylhydroquinone, p-methoxyphenol, pyrogallol, catechol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, and β-naphthol. It can be used for The photosensitive composition of the present invention can be applied to polyethylene terephthalate films, printing zinc plates,
Aluminum plates for printing, silicon wafers,
It can be applied by well-known coating methods such as dip coating, coating rod, spinner coating, and spray coating onto an object appropriately selected depending on the purpose of use, such as a chromium-deposited glass plate. . For example, by applying a photosensitive composition to the surface of a support, printing materials for letterpress printing, gravure printing, etc., photoresists, etc. can be formed. For example, when used in a photosensitive lithographic printing plate, a printing aluminum plate whose surface has been anodized is suitable as a support, especially anodized in a bath of phosphoric acid or a mixed acid bath of phosphoric acid and sulfuric acid. This aluminum plate is particularly preferred because it has good adhesion to the photocrosslinkable polyester polymer of the present invention. The photosensitive composition thus prepared for use is exposed to light in an overlapping manner according to conventional methods, or a pattern or image is drawn by irradiating it with an electron beam or the like. After that, by developing with water or a weakly alkaline aqueous solution, a corresponding pattern, image, etc. can be formed on the support. especially,
The present invention is extremely useful compared to conventional systems because it allows good development without containing an organic solvent in the developer. Of course, even an alkaline aqueous solution containing a small amount of an organic solvent having an affinity for water shows extremely excellent developability. The present invention has been described in detail above, and the photosensitive composition of the present invention can be developed with water or a weakly alkaline aqueous solution with extremely high sensitivity.
Moreover, when used in photosensitive lithographic printing plates, the printing plates have excellent abrasion resistance, chemical resistance, and printing durability, and also have excellent properties such as extremely good acceptance of highly oleophilic lithographic printing inks. have. Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention includes the following:
The present invention is not limited to the following examples. Production example 1 Diethyl p-phenylene diacrylate 32.88g
(120 mmol), 23.68 g (80 mmol) of dimethyl 5-sodium sulfoisophthalate, 1,4-bis(2-hydroxyethoxy)-cyclohexane
20.40g (100mmol) and 42.0g (280mmol) of triethylene glycol were placed in a 200ml three-necked flask, and 5% of butyl orthotitanate was added as a catalyst.
Add 10ml of ethanol solution and under nitrogen gas supply.
Gradually raise the temperature while stirring at a rotation speed of 200 rpm.
The transesterification reaction was carried out at 210°C for about 1 hour, and the produced ethanol and methanol were distilled off. Next, the stirring rotation speed was lowered to 100 rpm, and the system was gradually reduced in pressure over 1 hour. After reaching a reduced pressure of 1 mmHg, the bath temperature was quickly raised to 250°C, and the reaction was carried out under these conditions for about 30 minutes. Excess diol and diol produced as the reaction progressed were distilled off.
After cooling, the three-necked flask was broken to obtain a transparent photocrosslinkable polyester. The reduced viscosity (ηsp/C, 0.25 g/dl N,N-dimethylformamide solution, 30°C) of the obtained polyester was 0.45. Production example 2 Diethyl p-phenylene diacrylate 32.88g
(120 mmol), 23.68 g (80 mmol) of dimethyl 5-sodium sulfoisophthalate, 1,4-bis(2-hydroxyethoxy)-cyclohexane
12.24g (60mmol) and triethylene glycol
42.00 g (280 mmol) was charged into a 200 ml three-necked flask, and a transesterification reaction was carried out in the same manner as in Production Example 1. Then, after reducing the pressure to 1 mmHg at 210°C,
The bath temperature was quickly raised to 240°C, and the reaction was carried out under these conditions for 45 minutes. The reduced viscosity of the obtained polyester (same as in Production Example 1) was 0.54. Production Examples 3 to 6 Several kinds of photocrosslinkable polyesters were obtained under the conditions shown in Table 1 below.

【表】【table】

【表】 実施例1および比較例1 製造例1で得られた光架橋性ポリエステルの4
重量%のエチレングリコールモノメチルエーテル
溶液を調製し、これに2−ジベンゾイルメチレン
−3−メチル−β−ナフトチアゾリン(以下
DBTという)を上記ポリエステルに対して5重
量%添加した。 さらに、ここにペンタエリスリトールトリアク
リレート(大阪有機化学工業社製“ビスコート
300”)をポリエステルに対して40重量%、光反応
開始剤としてベンジル及びミヒラーケトンを各々
ポリエステルに対して2.8重量%添加し、均一に
溶解したのちを確認した後、アイゼンビクトリア
ピユアーブル−BOH(C.I.No.42595)(保土ケ谷化
学社製)をポリエステルに対して1重量%添加し
た後、濾過して感光液(1)とした。 この感光液(1)を、砂目立てし、さらにリン酸浴
中で陽極酸化処理を施したアルミニウム板にホワ
ラーにて塗布して感光性平版印刷版(1)を得た。 この印刷版に光学濃度段差0.15のステツプウエ
ツジを通して3kw高圧水銀灯を用いて1mの距離
から50秒間露光した。これを水道水下で数秒間柔
らかい布で穏かに擦つて現像を行なつたところ、
5段目まで不溶化していた。得られた画像に、通
常の平版印刷用現像インキを盛つたところインキ
受容性は極めて良好で、印刷機上での画像部のロ
ールアツプには数枚の紙が必要であるだけであつ
た。また、露光、現像処理して得られた画像につ
いて石油系溶媒およびアルコール系溶媒をそれぞ
れ用いて耐薬品性テストを行なつたところ、画像
部の変化は全く認められなかつた。 比較例として、ペンタエリスリトールアクリレ
ート、ベンジル及びミヒラーケトンを添加しない
感光液(2)を調製して上記アルミニウム板にホワラ
ー塗布して感光性平版印刷版(2)を得た。画像部の
ロールアツプに十数枚の紙を要した。また、感光
性平版印刷版(1)と(2)の両者について石油系溶媒を
用いて耐摩耗性テストを実施し摩耗後の画像部を
走査型電顕で観察した結果(1)の方が(2)よりも優れ
ており改良されていることが確認された。 実施例 2〜3 下記表2に示す組成の感光液(3)及び(4)を調製
し、実施例1と同様に感光性平版印刷版(3)及び(4)
を得た。
[Table] Example 1 and Comparative Example 1 4 of the photocrosslinkable polyester obtained in Production Example 1
A wt% ethylene glycol monomethyl ether solution was prepared, and 2-dibenzoylmethylene-3-methyl-β-naphthothiazoline (hereinafter referred to as
DBT) was added in an amount of 5% by weight based on the polyester. Furthermore, here is pentaerythritol triacrylate (“Viscoat” manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.).
300") was added to the polyester in an amount of 40% by weight, and benzyl and Michler's ketone as photoreaction initiators were added in an amount of 2.8% by weight based on the polyester, and after confirming that they were uniformly dissolved, Eisen Victoria Pour Blue-BOH ( CI No. 42595) (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) was added to the polyester in an amount of 1% by weight and filtered to obtain a photosensitive solution (1). This photosensitive solution (1) was grained and further placed in a phosphoric acid bath. A photosensitive lithographic printing plate (1) was obtained by applying the coating to an aluminum plate anodized with a whirler.This printing plate was passed through a step wedge with an optical density step of 0.15, and a 3kw high-pressure mercury lamp was used to coat the plate at a distance of 500 m from a distance of 1 m. I exposed it to light for a few seconds.I developed it by rubbing it gently with a soft cloth for a few seconds under tap water.
It was insolubilized up to the 5th stage. When the resulting image was loaded with a conventional lithographic development ink, the ink receptivity was very good and only a few sheets of paper were required to roll up the image area on the printing press. Furthermore, when a chemical resistance test was conducted on the image obtained by exposure and development using a petroleum solvent and an alcohol solvent, no change was observed in the image area. As a comparative example, a photosensitive solution (2) without the addition of pentaerythritol acrylate, benzyl, and Michler's ketone was prepared and coated on the aluminum plate with a white coating to obtain a photosensitive lithographic printing plate (2). It took more than a dozen sheets of paper to roll up the image section. In addition, we conducted an abrasion resistance test using a petroleum solvent for both photosensitive lithographic printing plates (1) and (2), and observed the image area after abrasion using a scanning electron microscope. It was confirmed that this method is superior to (2) and has been improved. Examples 2 to 3 Photosensitive solutions (3) and (4) having the compositions shown in Table 2 below were prepared, and photosensitive planographic printing plates (3) and (4) were prepared in the same manner as in Example 1.
I got it.

【表】 得られた印刷版を各々実施例1と同様に露光、
現像処理したところ、各々8段目及び9段目迄不
溶化していた。 感光液(3)を使用して得た印刷版を印刷機に取り
付けて印刷テストをした結果、優れたインキ受容
性を示し、15万枚印刷しても良好な印刷物が得ら
れ、極めて優秀な印刷適性を示した。 実施例4及び5 製造例2で得られた光架橋性ポリエステルを用
いて下記表3に示す組成の感光液(5)及び(6)を調製
し、実施例1と同様にして感光性平版印刷版(5)及
び(6)を得た。
[Table] The obtained printing plates were exposed in the same manner as in Example 1.
When developed, it was found that the 8th and 9th stages were insolubilized. A printing test was carried out using the printing plate obtained using the photosensitive liquid (3), which was installed in a printing machine, and it showed excellent ink receptivity, and even after printing 150,000 sheets, good prints were obtained, making it an extremely excellent product. Demonstrated printability. Examples 4 and 5 Photosensitive solutions (5) and (6) having the compositions shown in Table 3 below were prepared using the photocrosslinkable polyester obtained in Production Example 2, and photosensitive lithographic printing was carried out in the same manner as in Example 1. Versions (5) and (6) were obtained.

【表】 感光性平版印刷版(5)及び(6)を夫々実施例1と同
様に露光し、ケイ酸ナトリウム5..5%及び水酸化
ナトリウム1.2%を含むアルカリ性水溶液を用い
て現像したところ、非画像部は極めて奇麗に除去
され優れた現像性を示し、各々6段目迄不溶化し
ていた。これらの印刷版の耐摩耗性テストを実施
したところ、実施例2と同様に優れた耐摩耗性を
示し、またインキ受容性も極めて優れていた。 また、実施例4で得られた感光性平版印刷版(5)
を60℃、湿度90%の部屋に3日間保存した後、同
様に露光、現像したところ非画像部は奇麗に除去
され、良好な画像部を有する印刷版が得られた。
この印刷版の耐摩耗テストを実施したところ印刷
版は優れた耐摩耗性を示し、また、インキ受容性
も極めて良好であつた。 実施例6及び7 製造例2で得られた光架橋性ポリエステルを用
いて下記表4のような組成の感光液(7)及び(8)を調
製し、実施例1と同様にして感光性平版印刷版(7)
及び(8)を得た。
[Table] Photosensitive lithographic printing plates (5) and (6) were exposed in the same manner as in Example 1, and developed using an alkaline aqueous solution containing 5.5% sodium silicate and 1.2% sodium hydroxide. The non-image areas were removed very cleanly, showing excellent developability, and were insolubilized up to the 6th stage in each case. When these printing plates were subjected to an abrasion resistance test, they exhibited excellent abrasion resistance as in Example 2, and also had extremely excellent ink receptivity. In addition, the photosensitive planographic printing plate (5) obtained in Example 4
After storing it in a room at 60° C. and 90% humidity for 3 days, it was exposed and developed in the same manner, and the non-image areas were completely removed, yielding a printing plate with good image areas.
When this printing plate was subjected to an abrasion resistance test, the printing plate showed excellent abrasion resistance and also had extremely good ink receptivity. Examples 6 and 7 Photosensitive solutions (7) and (8) having the compositions shown in Table 4 below were prepared using the photocrosslinkable polyester obtained in Production Example 2, and photosensitive planographic plates were prepared in the same manner as in Example 1. Print version(7)
and (8) were obtained.

【表】 感光性平版印刷版(7)及び(8)を夫々実施例1と同
様に露光し、ケイ酸ナトリウム5..5%及び水酸化
ナトリウム1.2%を含むアルカリ性水溶液を用い
て現像したところ、非画像部は極めて奇麗に除去
され、印刷版(7)は6段目、印刷版(8)は4段目まで
不溶化していた。これらの印刷版の耐摩耗性テス
ト、及びインキ受容性はともに極めて優れてい
た。 実施例 8〜11 製造例2で得られた光架橋性ポリエステルを用
いて下記表5のような組成の感光液(9)〜(12)を調製
し、実施例1と同様に感光性平版印刷版(9)〜(12)を
得た。
[Table] Photosensitive lithographic printing plates (7) and (8) were exposed in the same manner as in Example 1, and developed using an alkaline aqueous solution containing 5.5% sodium silicate and 1.2% sodium hydroxide. The non-image area was removed very cleanly, and printing plate (7) was insolubilized up to the 6th stage and printing plate (8) up to the 4th stage. Both the abrasion resistance test and the ink receptivity of these printing plates were excellent. Examples 8 to 11 Using the photocrosslinkable polyester obtained in Production Example 2, photosensitive solutions (9) to (12) having the compositions shown in Table 5 below were prepared, and photosensitive lithographic printing was carried out in the same manner as in Example 1. Versions (9) to (12) were obtained.

【表】【table】

【表】 感光性平版印刷版(9)〜(12)について光学濃度段差
0.15のステツプウエツジを通して1kwメタルハラ
イドランプを用いて1mの距離から60秒間露光し、
実施例4及び5と同様に、ケイ酸ナトリウム5.5
%水酸化ナトリウム1.2%を含むアルカリ性水溶
液を用いて現像し、得られた画像について、石油
系溶媒及びアルコール系溶媒を用いた耐薬品性テ
スト、及び耐摩耗テストを行ない処理後の画像部
を走査型電顕で観察した結果を下記表6に示す。
[Table] Optical density difference for photosensitive lithographic printing plates (9) to (12)
Exposure for 60 seconds from a distance of 1 m using a 1 kW metal halide lamp through a 0.15 step wedge.
Similar to Examples 4 and 5, sodium silicate 5.5
The resulting image was developed using an alkaline aqueous solution containing 1.2% sodium hydroxide, and the resulting image was subjected to a chemical resistance test using petroleum-based solvents and alcohol-based solvents, as well as an abrasion resistance test, and the processed image area was scanned. The results of observation using an electron microscope are shown in Table 6 below.

【表】【table】

【表】 また、これらの印刷版の画像部のインキ受容性
も極めて優れており、印刷機上での画像部のロー
ルアツプには数枚の紙が必要であるだけであつ
た。 実施例 12〜16 製造例1で得られた光架橋性ポリエステルを用
いて、下記表7のような組成の感光液(13)〜
(17)を調製し、実施例1と同様にして感光性印
刷版(13)〜(17)を得た。
[Table] The ink receptivity of the image area of these printing plates was also very good, and only several sheets of paper were required to roll up the image area on the printing press. Examples 12 to 16 Using the photocrosslinkable polyester obtained in Production Example 1, photosensitive liquids (13) to 12 having the compositions shown in Table 7 below were prepared.
(17) was prepared, and photosensitive printing plates (13) to (17) were obtained in the same manner as in Example 1.

【表】【table】

【表】 感光性平版印刷版(13)〜(17)について実施
例1と同様に露光して、ケイ酸ナトリウム5.5%
及び水酸化ナトリウム1.2%を含むアルカリ性水
溶液を用いて現像した。 得られた画像部の耐薬品性、耐摩耗性及びイン
キ受容性はすべて良好であつた。また、未露光部
の耐水性も極めて良好であつた。 実施例 17〜20 製造例3〜6で得られた光架橋性ポリエステル
を用いて、実施例1と同様の処方で下記表8に示
す組成の感光液(18)〜(21)を調製し、感光性
平版印刷版(18)〜(21)を得た。
[Table] Photosensitive lithographic printing plates (13) to (17) were exposed in the same manner as in Example 1, and 5.5% sodium silicate was added.
and developed using an alkaline aqueous solution containing 1.2% sodium hydroxide. The resulting image area had good chemical resistance, abrasion resistance, and ink receptivity. Furthermore, the water resistance of the unexposed area was also extremely good. Examples 17 to 20 Using the photocrosslinkable polyesters obtained in Production Examples 3 to 6, photosensitive solutions (18) to (21) having the compositions shown in Table 8 below were prepared in the same manner as in Example 1, Photosensitive planographic printing plates (18) to (21) were obtained.

【表】 印刷版(18)〜(21)について実施例1と全く
同様にして露光し、現像して得られた画像部の耐
薬品性、耐摩耗性及びインキ受容性を測定したと
ころ良好な結果が得られた。
[Table] Printing plates (18) to (21) were exposed and developed in exactly the same manner as in Example 1, and the chemical resistance, abrasion resistance, and ink receptivity of the image areas obtained were measured. The results were obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 少なくとも(A):(a)一般式() (式中、mおよびnは0または1の数を示
し、少なくとも一方は1である。) で表わされる芳香族ジカルボン酸単位、(b)スル
フオネート塩の基を有するジカルボン酸単位、
および、(c)一般式() (式中、【式】は水素添加されたベン ゼン環を示し、R1およびR2は炭素数2〜4の
アルキレン基を示し、R3およびR4は水素原子
または炭素数1〜6のアルキル基を示し、rお
よびsは0〜3の数を示し、tは0または1の
数を示す) で表わされるジオール単位を含有する光架橋性
ポリエステル、 (B):少なくとも2個の付加重合性末端不飽和二重
結合を有するエチレン性不飽和化合物、並びに (c):光重合開始剤とを含有することを特徴とする
感光性組成物。 2 光架橋性ポリエステル(A)が、 (a) 一般式() (式中、mおよびnは0または1の数を示
し、少なくとも一方は1である。)で表わされ
る芳香族ジカルボン酸単位、 (b) スルフオネート塩の基を有する芳香族ジカル
ボン酸単位、 (c) 一般式() (式中、【式】は水素添加されたベン ゼン環を示し、R1およびR2は炭素数2〜4の
アルキレン基を示し、R3およびR4は水素原子
または炭素数1〜6のアルキル基を示し、rお
よびsは0〜3の数を示し、tは0または1の
数を示す)で表わされるジオール単位、およ
び、 (d) 脂肪族ジオール単位を含有する特許請求の範
囲第1項記載の感光性組成物。 3 光重合開始剤(c)が、複合開始剤である特許請
求の範囲第1項記載の感光性組成物。 4 感光層が、さらにDフエノール性水酸基を有
する樹脂を含有する特許請求の範囲第1項記載の
感光性組成物。
[Claims] 1 At least (A): (a) General formula () (In the formula, m and n represent the numbers 0 or 1, and at least one is 1.) An aromatic dicarboxylic acid unit represented by (b) a dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group,
and (c) general formula () (In the formula, [Formula] represents a hydrogenated benzene ring, R 1 and R 2 represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. (B): at least two addition-polymerizable polyesters; A photosensitive composition comprising: an ethylenically unsaturated compound having a terminal unsaturated double bond; and (c): a photopolymerization initiator. 2 The photocrosslinkable polyester (A) has the following formula: (a) General formula () (In the formula, m and n represent the numbers 0 or 1, and at least one is 1.) An aromatic dicarboxylic acid unit represented by (b) an aromatic dicarboxylic acid unit having a sulfonate salt group, (c ) General formula () (In the formula, [Formula] represents a hydrogenated benzene ring, R 1 and R 2 represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. (d) aliphatic diol unit; and (d) aliphatic diol unit. The photosensitive composition described in . 3. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator (c) is a composite initiator. 4. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the photosensitive layer further contains a resin having a D phenolic hydroxyl group.
JP57056183A 1981-07-28 1982-04-05 Photosensitive lithographic printing plate Granted JPS58173740A (en)

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