JPS5934699B2 - ３−ハイドロキシフェネチルアミン−２−カルボン酸エステル類の製造法 - Google Patents
３−ハイドロキシフェネチルアミン−２−カルボン酸エステル類の製造法Info
- Publication number
- JPS5934699B2 JPS5934699B2 JP4042075A JP4042075A JPS5934699B2 JP S5934699 B2 JPS5934699 B2 JP S5934699B2 JP 4042075 A JP4042075 A JP 4042075A JP 4042075 A JP4042075 A JP 4042075A JP S5934699 B2 JPS5934699 B2 JP S5934699B2
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- carboxylic acid
- hydroxyphenethylamine
- acid esters
- producing
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- Expired
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式（９
ＰｈＣＨ２Ｏ□Ｎ（Ｔ９
（ただし式中、Ｒは低級アルキル基を表わす）で示され
る３−ベンジルオキシフェニルアセトニトリル類を脱ベ
ンジルおよび還元することを特徴とする一般式（Ｉ）゛
゜□、、０、、 （ただし式中、Ｒは前記規定と同一） で示されるカルボン酸エステル類の製造法に関するもの
である。
る３−ベンジルオキシフェニルアセトニトリル類を脱ベ
ンジルおよび還元することを特徴とする一般式（Ｉ）゛
゜□、、０、、 （ただし式中、Ｒは前記規定と同一） で示されるカルボン酸エステル類の製造法に関するもの
である。
その要点は次の式によつて示される。（ただし式中、Ｒ
は低級アルキル基を表わす）本合成方法によると一般式
（１）で示されるフエネチルアミン類は一般式（Ｉ［ｌ
）で示されるフエニルアセトニトリル類を、還元剤を用
いて還元することにより得られる。
は低級アルキル基を表わす）本合成方法によると一般式
（１）で示されるフエネチルアミン類は一般式（Ｉ［ｌ
）で示されるフエニルアセトニトリル類を、還元剤を用
いて還元することにより得られる。
この場合の還元手段としては、一般に用いられるものな
らいずれでもよく、例えばパラジウム、ラネーニツケル
、白金などの触媒を用いて接触還元を行なうか、あるい
は錯金属化合物が望ましい。反応は通常このような触媒
の存在下行なわれるが、この時の浴媒としては反応に関
与しないものならどのようなものでもよく、具体的には
水、メタノール、エタノールなどがあげられる。反応温
度は常温常圧でもよく、高温高圧の場合も収率よく反応
は進行する。この場合２級アミンの副生を防ぐために、
アンモニアを飽和しておいてもよい。また触媒の種類に
よつては、一般式（５）で示されるベンジル体を中間体
として得ることもある。この場合は、このＱ）を塩酸飽
和エチルアルコール中、あるいは適当な還元手段を用い
て脱ベンジルを行ない（１）を得ることもできる。次に
（１）を酸あるいは塩基触媒の存在下、適当な溶媒中加
熱することにより式（）で示される３−ハイドロキシフ
エネチルアミン一２−カルボン酸を得ることができる。
このときの酸としては塩酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ化
水素酸などの鉱酸類、塩基としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどが用いられる。溶媒としては具体的
には水、含水メチルアルコール、含水エチルアルコール
および含水プロピルアルコールなどであり、反応温度は
５０〜２００℃程度である。また本反応は加圧下に行な
つてもよい。ここに生成したカルボン酸（）は公知の手
段（たとえば液性変換、転溶、再結晶、蒸留、造塩、ク
ロマトグラフイ一）により採取することができる。この
ようにして得られた式（）で示される３−ハイドロキシ
フエネチルアミン一３一カルボン酸は、β−アミノ酸の
形を有しており、生理学上あるいは血圧関係および消炎
剤の原料として、医薬品産業上きわめて重要なものであ
る。すなわち、本発明によつて得られる化合物（１）あ
るいは化合物（１）より容易に誘導される化合物（）は
、例えば下記に示す化学式に従つて降圧作用、抗炎症作
用を有する化合物（，およびＸＩ）等に変換される。〔
化合物（）の血圧降下作用：ＪＯｕｒｎａｌＯｆＭｅｄ
ｉｃｉｎａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙｌ第１２巻、９９８頁
（１９６９年）記載〕〔ＳＤ系ラツト（ｌ群３匹）を用
いたカラゲニン浮腫法における化合物（ＩＸ）および（
Ｘ）の５０％浮腫抑制率はそれぞれ４４．８％および４
７６％であり、対照薬である抗炎症剤フエニルプタゾン
（同抑制率：４５．７％と同程度の抗炎症作用を示した
。
らいずれでもよく、例えばパラジウム、ラネーニツケル
、白金などの触媒を用いて接触還元を行なうか、あるい
は錯金属化合物が望ましい。反応は通常このような触媒
の存在下行なわれるが、この時の浴媒としては反応に関
与しないものならどのようなものでもよく、具体的には
水、メタノール、エタノールなどがあげられる。反応温
度は常温常圧でもよく、高温高圧の場合も収率よく反応
は進行する。この場合２級アミンの副生を防ぐために、
アンモニアを飽和しておいてもよい。また触媒の種類に
よつては、一般式（５）で示されるベンジル体を中間体
として得ることもある。この場合は、このＱ）を塩酸飽
和エチルアルコール中、あるいは適当な還元手段を用い
て脱ベンジルを行ない（１）を得ることもできる。次に
（１）を酸あるいは塩基触媒の存在下、適当な溶媒中加
熱することにより式（）で示される３−ハイドロキシフ
エネチルアミン一２−カルボン酸を得ることができる。
このときの酸としては塩酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ化
水素酸などの鉱酸類、塩基としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどが用いられる。溶媒としては具体的
には水、含水メチルアルコール、含水エチルアルコール
および含水プロピルアルコールなどであり、反応温度は
５０〜２００℃程度である。また本反応は加圧下に行な
つてもよい。ここに生成したカルボン酸（）は公知の手
段（たとえば液性変換、転溶、再結晶、蒸留、造塩、ク
ロマトグラフイ一）により採取することができる。この
ようにして得られた式（）で示される３−ハイドロキシ
フエネチルアミン一３一カルボン酸は、β−アミノ酸の
形を有しており、生理学上あるいは血圧関係および消炎
剤の原料として、医薬品産業上きわめて重要なものであ
る。すなわち、本発明によつて得られる化合物（１）あ
るいは化合物（１）より容易に誘導される化合物（）は
、例えば下記に示す化学式に従つて降圧作用、抗炎症作
用を有する化合物（，およびＸＩ）等に変換される。〔
化合物（）の血圧降下作用：ＪＯｕｒｎａｌＯｆＭｅｄ
ｉｃｉｎａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙｌ第１２巻、９９８頁
（１９６９年）記載〕〔ＳＤ系ラツト（ｌ群３匹）を用
いたカラゲニン浮腫法における化合物（ＩＸ）および（
Ｘ）の５０％浮腫抑制率はそれぞれ４４．８％および４
７６％であり、対照薬である抗炎症剤フエニルプタゾン
（同抑制率：４５．７％と同程度の抗炎症作用を示した
。
なお、各薬物の経口投与量は５０ｍ７／Ｋｆである。〕
なお本発明で得られた化合物類（１），（），（）およ
び（５）はいずれも文献未知化合物であるが、それらの
構造は元素分析値、赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴ス
ペクトル、薄層クロマトグラフイ一等により確認するこ
とにより解明されたものである。次に参考例および実施
例にて本発明を説明するが、これらをもつて本発明は制
限されるものではない。
なお本発明で得られた化合物類（１），（），（）およ
び（５）はいずれも文献未知化合物であるが、それらの
構造は元素分析値、赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴ス
ペクトル、薄層クロマトグラフイ一等により確認するこ
とにより解明されたものである。次に参考例および実施
例にて本発明を説明するが、これらをもつて本発明は制
限されるものではない。
参考例 １
エチル ２−（３−ベンジルオキシフエニル）一２−シ
アノアセテート（ａ）の製造法金属ナトリウム１ｇより
製したナトリウムエトキシドと、３−ベンジルオキシフ
エニルアセトニトリル５．５ｇ１ジエチル炭酸５ｇおよ
びトルエン５０Ｔｎ１の混合物を加熱還流する。
アノアセテート（ａ）の製造法金属ナトリウム１ｇより
製したナトリウムエトキシドと、３−ベンジルオキシフ
エニルアセトニトリル５．５ｇ１ジエチル炭酸５ｇおよ
びトルエン５０Ｔｎ１の混合物を加熱還流する。
ナトリウムエトキシドが溶解したらトルエンを少しずつ
留出する。同時に留出量と同量のトルエンを滴下する。
留出温度が８０℃から１１０℃まで上昇したら留出を止
めて、そのまま５時間加熱還流する。溶媒留去後、氷水
を加え氷冷下、塩酸酸性とし、エチルエーテル抽出する
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒留去、減圧蒸留に付
し、沸点２００〜２０２℃／ＭＨｇの無色油状物５．２
ｇを得る。核磁気共鳴スペクトル（Ｐ］］１，ＣＣ１４
）１．１３（３Ｈ１三重線、Ｊ＝７５Ｈｚ，ＣＨ２ＣＨ
３）４．０４（２Ｈ１四重線、Ｊ＝７．５Ｈｚ，ＣＨ２
ＣＨ３）４．４８（１Ｈ１一重線、ＣＨ）４．８８（２
Ｈ１一重線、ＰｈＣＨ２） ６．２〜７．４（９Ｈ１多重線、芳香族プロトン）実施
例 １２−（３−ベンジルオキシフエニル）−２−ニト
キシカルボニルエチルアミン塩酸塩（ａ）の製造法参考
例１で得られるＡｌｇｌラネーニツケル０．３ｇおよび
アンモニア飽和エタノール２０ｍ１の混合物を、水素圧
１００シのオートクレーブ中、温度１００℃にて攪拌す
る。
留出する。同時に留出量と同量のトルエンを滴下する。
留出温度が８０℃から１１０℃まで上昇したら留出を止
めて、そのまま５時間加熱還流する。溶媒留去後、氷水
を加え氷冷下、塩酸酸性とし、エチルエーテル抽出する
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒留去、減圧蒸留に付
し、沸点２００〜２０２℃／ＭＨｇの無色油状物５．２
ｇを得る。核磁気共鳴スペクトル（Ｐ］］１，ＣＣ１４
）１．１３（３Ｈ１三重線、Ｊ＝７５Ｈｚ，ＣＨ２ＣＨ
３）４．０４（２Ｈ１四重線、Ｊ＝７．５Ｈｚ，ＣＨ２
ＣＨ３）４．４８（１Ｈ１一重線、ＣＨ）４．８８（２
Ｈ１一重線、ＰｈＣＨ２） ６．２〜７．４（９Ｈ１多重線、芳香族プロトン）実施
例 １２−（３−ベンジルオキシフエニル）−２−ニト
キシカルボニルエチルアミン塩酸塩（ａ）の製造法参考
例１で得られるＡｌｇｌラネーニツケル０．３ｇおよび
アンモニア飽和エタノール２０ｍ１の混合物を、水素圧
１００シのオートクレーブ中、温度１００℃にて攪拌す
る。
水素の吸収が止まつた後、触媒を沢別し、沢液は浴媒留
去する。残留物に塩酸飽和エチルエーテルを加え、析出
する沈殿物をエチルアルコールとエチルエーテルの混合
溶媒にて再結晶し、融点１４１−１４３℃の無色プリズ
ム晶２６０ｍ（！を得る。元素分析値：Ｃ，８Ｈ２ｌＮ
Ｏ３・ＨＣｌ計算値：Ｃ，６４，３７；Ｈ，６．６Ｏ：
Ｎ，４．ｌ７実験値：Ｃ，６４．４３：Ｈ，６．５５；
Ｎ，４．３３実施例 ２２−エトキシカルボニル−２−
（３−ハイドロキシフエニル）エチルアミノ塩酸塩（１
ａ）の製造法１）Ａ３．３ｇ，３Ｏ％パラジウム一炭素
５ｇ１塩酸飽和エチルアルコール０．５ｍｅおよびエチ
ルアルコール４０ｍｅの混合物を常温常圧にて接触還元
に付し、水素の吸収が止まつたら触媒沢別し、▲液は洛
媒留去する。
去する。残留物に塩酸飽和エチルエーテルを加え、析出
する沈殿物をエチルアルコールとエチルエーテルの混合
溶媒にて再結晶し、融点１４１−１４３℃の無色プリズ
ム晶２６０ｍ（！を得る。元素分析値：Ｃ，８Ｈ２ｌＮ
Ｏ３・ＨＣｌ計算値：Ｃ，６４，３７；Ｈ，６．６Ｏ：
Ｎ，４．ｌ７実験値：Ｃ，６４．４３：Ｈ，６．５５；
Ｎ，４．３３実施例 ２２−エトキシカルボニル−２−
（３−ハイドロキシフエニル）エチルアミノ塩酸塩（１
ａ）の製造法１）Ａ３．３ｇ，３Ｏ％パラジウム一炭素
５ｇ１塩酸飽和エチルアルコール０．５ｍｅおよびエチ
ルアルコール４０ｍｅの混合物を常温常圧にて接触還元
に付し、水素の吸収が止まつたら触媒沢別し、▲液は洛
媒留去する。
残留物をエチルアルコールとエチルエーテルの混合浴媒
にて再結晶し、融点１４３〜１４５のＣの無色針状晶１
．４ｇを得る。２）実施例１で得られるＡ２ＯＯｍ９，
３Ｏ％パラジウム一炭素１００ｍ７およびエチルアルコ
ール１０ｄの混合物を常温常圧にて接触還元に付し、水
素の吸収が止まつたら触媒沢別し、沢液は浴媒留去する
。
にて再結晶し、融点１４３〜１４５のＣの無色針状晶１
．４ｇを得る。２）実施例１で得られるＡ２ＯＯｍ９，
３Ｏ％パラジウム一炭素１００ｍ７およびエチルアルコ
ール１０ｄの混合物を常温常圧にて接触還元に付し、水
素の吸収が止まつたら触媒沢別し、沢液は浴媒留去する
。
残留物をエチルアルコールとエチルエーテルの混合溶媒
にて再結晶し、無色針状晶１３０ｍ７を得。元素分析値
：ＣｌｌＨ，５ＮＯ３・ＨＣｌ計算値：Ｃ，５３．７７
；Ｈ，６．５６；Ｎ，５．７Ｏ実験値：Ｃ，５３．７９
：Ｈ，６．９２：Ｎ，５．７２参考例 ２２−カルボキ
シ−２−（３−ハイドロキシフエニル）エチルアミン塩
酸塩（ａ）の製造法実施例２で得られた（１ａ）７０′
ｌ（ｌと３Ｎ塩酸水溶液３Ｔｎｅの混合物を３時間加熱
還流する。
にて再結晶し、無色針状晶１３０ｍ７を得。元素分析値
：ＣｌｌＨ，５ＮＯ３・ＨＣｌ計算値：Ｃ，５３．７７
；Ｈ，６．５６；Ｎ，５．７Ｏ実験値：Ｃ，５３．７９
：Ｈ，６．９２：Ｎ，５．７２参考例 ２２−カルボキ
シ−２−（３−ハイドロキシフエニル）エチルアミン塩
酸塩（ａ）の製造法実施例２で得られた（１ａ）７０′
ｌ（ｌと３Ｎ塩酸水溶液３Ｔｎｅの混合物を３時間加熱
還流する。
塩酸水溶液を留去し、残留物をエチルアルコールとエチ
ルエーテルの混合溶液にて再結晶し、融点１９２℃の無
色針状晶４２ｍｖを得る。元素分析値：Ｃ９Ｈ，，ＮＯ
３・ＨＣｌ
ルエーテルの混合溶液にて再結晶し、融点１９２℃の無
色針状晶４２ｍｖを得る。元素分析値：Ｃ９Ｈ，，ＮＯ
３・ＨＣｌ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（ただし式
中、Ｒは低級アルキル基を表わす）で示される３−ベン
ジルオキシフェニルアセトニトリル類を脱ベンジルおよ
び還元することを特徴とする一般式（ I ）▲数式、化
学式、表等があります▼ （ただし式中、Ｒは低級アルキル基を表わす）で示され
るカルボン酸エステル類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4042075A JPS5934699B2 (ja) | 1975-04-04 | 1975-04-04 | ３−ハイドロキシフェネチルアミン−２−カルボン酸エステル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4042075A JPS5934699B2 (ja) | 1975-04-04 | 1975-04-04 | ３−ハイドロキシフェネチルアミン−２−カルボン酸エステル類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51115439A JPS51115439A (en) | 1976-10-12 |
| JPS5934699B2 true JPS5934699B2 (ja) | 1984-08-24 |
Family
ID=12580157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4042075A Expired JPS5934699B2 (ja) | 1975-04-04 | 1975-04-04 | ３−ハイドロキシフェネチルアミン−２−カルボン酸エステル類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5934699B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62120898U (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-31 |
-
1975
- 1975-04-04 JP JP4042075A patent/JPS5934699B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62120898U (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-31 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51115439A (en) | 1976-10-12 |
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