JPS5933648B2 - 非焼成塊成鉱の製造装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、水硬性結合剤と水とが所定割合で添加され
た生ペレットあるいは生ブリケットの如き粒状原料を、
養生によって非焼成で塊成する非焼成塊成鉱の製造装置
に関するものである。

粉鉱石を養生硬化して冶金原料用のペレットにするには
、周知のように、焼成法と非焼成法がある。

焼成法が１０００°Ｃ以上の高温で生ペレットを焼結硬
化する方法であるのに対し、非焼成法は、結合剤を粉鉱
石に添加し混合造粒して生ペレットを作り、これを常温
乃至３００℃以下の比較的低温で養生硬化し、製品ペレ
ットとする方法であって、エネルギ使用量が極めて少な
く、操業も簡単であるなど、優れた利点がある。

しかし、非焼成法は生ペレットを常温乃至３００℃以下
の比較的低温で放置し養生するものであるから、その養
生期間が著しく長（、通常数週間を要するので、大量処
理するとなると県人な面積の養生ソ二ンが必要となる点
に問題があった。

例えば、第１図に縦断面図で示したなうな、その底面に
多数の通気孔２ａが設けられた竪型の容器２内に生ペレ
ット３を入れ、その上面から加熱ガスを吹込み、底面の
通気孔２ａから排気することにより、生ペレット１を加
熱ガスと生ペレツト間の対流伝熱現象を利用して加熱す
る場合、前記生ペレット１の目標加熱温度を７０°Ｃと
すると、前記加熱ガスの吹込み温度は、工業上現実的な
ガス量比である生ペレット１ｋｇ当り０．５〜２．０
Ｎ ｍ”のもとでは、前記目標加熱温度よりかなり高目
の温度即ち８５〜１００℃にしなければならない。

その結果、容器２内における最上層の生ペレット１は、
第２図に示す如く、その温度が前記目標加熱温度より高
い１００℃に急激に上り、以後その温度に長時間さらさ
れるため、目標加熱温度に所定時間さらすことを必要と
する生ペレットの水和反応に悪影響を与え、良質の製品
とならない。

一方、容器２内罠おける最下層の生ペレツＮＧζ第３図
に示す如く、目標加熱温度の７０℃になるまで長時間を
要することになる。

また、加熱ガスを目標加熱温度で吹込むと、容器２内の
最下層の生ペレットまで目標加熱温度に加熱するために
は、ぼう犬な量のガスが必要となる。

上述した加熱のための時間と温度の差を縮めるには、生
ペレット１を平面的に拡げ層厚をできるだけ薄くすれば
よいが、例えば、１日１０００ｔの生ペレットを処理す
るとして、９時間で養生を完了させるためには、生ペレ
ットの層厚を１０ｃｒ／Ｌ程度としても１８７０ｍの莫
大な面積の装置が必要となり、実用的ではない。

この発明は、上述の観点から、短時間で連続的に、かつ
広大な養生装置を必要とすることなく、しかも低い蒸気
原単位で経済的に良質なペレットの如き塊成鉱を非焼成
で製造することができる非焼成塊成鉱の製造装置を提供
するもので、一方から他方へ移動する粒状原料に対し、
所定温度の飽和水蒸気を含むガスを前記移動する粒状原
料と直交させて吹込み、前記粒状原料を、前記ガスの凝
縮伝熱により所定温度に加熱するための、前記移動する
粒状原料をはさみ、その一方側に設けたガス吹込装置と
、その他方側に設けたガス排気装置と、前記ガスにより
所定温度に加熱された粒状原料をその温度の飽和水蒸気
を含むガス雰囲気下で所定時間移動させ、その間に養生
を完成させるため養生室とからなることに特徴を有する
ものである。

ついで、この発明の装置をペレットを製造する場合の実
施例により図面を参照しながら説明する。

第４図にはこの発明の装置の第１実施例が一部省略した
正面図で、また第５図には縦断側面図で示されている。

図面に示したように、この第１実施例は、シャフト式養
生装置の一例であって、４は、例えば高さ９ｍ、幅１．
７５ｍ、長さ１２ｍの角シヤフト本体で、この角シヤフ
ト本体４の上端開口部上方には、角シヤフト本体４の長
さ方向に移動自在な移動式コンベヤのフィーダ５が設け
られている。

８は角シヤフト本体４内で養生を完成した製品ペレット
６を、角シヤフト本体４の下端開口部７から強制的に切
出す、角シヤフト本体４の長さ方向に沿って移動自在の
回転翼式切出機、１０は前記切出機８によって切出され
たペレット６を搬出するコンベア、９の底板である。

角シヤフト本体４の相対向する側壁４Ａ、４Ｂの外面に
は、一方の側壁４Ａの上端から約１ｍ下方の位置に、低
温部給気へラダ１１が、また他方の側壁４Ｂの上端から
約１ｍ下方の位置に、低温部排気へラダ１２が、それぞ
れ側壁４Ａ、４Ｂの長さ方向にその全長にわたって設け
られている。

低温部給気へラダ１１と低温部排気ヘッダ１２は、何れ
もその高さが約１ｍで、側壁４Ａ、４Ｂの前記低温部給
気ヘッダ１１と低温部排気ヘッダ１２の取付は位置には
、その全長にわたって多数の通気孔１３．１４が設けら
れている。

従って、低温部給気ヘッダ１１と低温部排気ヘッダ１２
とは、前記通気孔１３，１４群を介して角シヤフト本体
４内と連通し、循環ブロワ１５とダンパ１６とを有する
循環管路１７により無端に接続されている。

また、低温部給気ヘッダ１１と低温部排気ヘッダ１２の
下端から５ｍの間隔をおいた下方には、高温部給気ヘッ
ダ１８と高温部排気へラダ１９とが、それぞれ側壁４Ａ
、４Ｂの長さ方向全長にわたって設けられている。

角シヤフト本体４内の、前記低温部給気ヘッダ１１およ
び低温部排気ヘッダ１２の取付位置と、前記高温部給気
ヘッダ１８および高温部排気ヘッダ１９の取付位置との
間は、予備養生室４Ｃを形成している。

高温部給気ヘッダ１８と高温部排気ヘッダ１９は、何れ
もその高さが約１ｍで、側壁４Ａ、４Ｂの前記高温部給
気ヘッダ１８と高温部排気ヘッダ１９の取付は位置には
、その全長にわたって多数の通気孔２４．２５が設けら
れている。

従って高温部給気ヘッダ１８と高温部排気へラダ１９と
は、前記通気孔２４．２５群を介して角シヤフト本体４
内と連通している。

高温部給気ヘッダ１８は、管路２３Ａにより蒸気供給装
置２０にバルブ２１を介して接続され、高温部排気ヘッ
ダ１９は、ダンパ２２を有する管路２３Ｂを介して、前
記循環管路１７に接続されて℃・る。

更に、側壁４Ａ、４Ｂの下端近くには、乾燥用空気の給
気ヘッダ２６と排気へラダ２７とが、それぞれ側壁４Ａ
、４Ｂの長さ方向全長にわたって設けられている。

角シヤフト本体４内の、前記高温部給気ヘッダ１８およ
び高温部排気ヘッダ１９の取付位置と、前記乾燥用空気
の給気ヘッダ２６および排気ヘッダ２７の取付位置との
間は、本養生室４Ｄを形成している。

側壁４Ａ、４Ｂの前記給気へラダ２６と排気へラダ２７
の取付位置には、その全長にわたって多数の通気孔２８
．２９が設けられている。

従って、給気ヘッダ２６と排気ヘッダ２７とは、前記通
気孔２８．２９群を介して角シヤフト本体４内と連通し
ている。

給気ヘッダ２６は乾燥空気供給装置３０に、また排気ヘ
ッダ２７は排気ブロワ３１にそれぞれ接続されている。

３２はフィーダ５による原料の供給時の発塵や低温部圧
力制御用ダンパ１６の制御遅れによるニアリークの発塵
を集塵するための集塵装置である。

なお、この発明装置では、生ペレットの加熱時には排ガ
スが生じないので、プロセス用集塵装置は必要としない
。

次に、この発明装置による操業を、実施例に基づいて説
明する。

第６図は、粉鉄鉱石に結合剤として微粉化させた水滓を
加えて造粒し、水分含有量が８係の生ペレットを原料と
して、圧壊強度１００ｋｇ以上のペレットを製造する場
合のヒートパターンで、このヒートパターンでは、前記
原料を本装置により７０°Ｃの飽和水蒸気を含むガス中
で６時間予備養生し、ついで、１００℃の飽和水蒸気中
で３時間本養生した後、２５０℃の熱風で１時間乾燥し
、ついで、２０°Ｃの空気中で１時間冷却してペレット
とする。

操業に当っては、先づ上記原料生ペレットをフィーダ５
により角シヤフト本体４内に、その上端開口部から装入
する。

装入された生ペレットは、角シヤフト本体４内をゆっく
り降下し、その間に養生が行なわれ塊成されて逐次下端
開口部７から切出機８により切出される。

低温部給気へラダ１１からは、７０°Ｃの飽和水蒸気を
含むガスを、また高温部給気ヘッダ２６からは、１００
℃の飽和水蒸気を、角シヤフト本体４内を降下する生ペ
レットと直交させて吹込む。

高温部給気ヘッダ２６から吹込まれる１００℃の飽和水
蒸気は、蒸気供給装置２０により作られ、管路２３Ａを
通って高温部給気ヘッダ２６へ供給され、角シヤフト本
体４内に吹込まれる。

角シヤフト本体４内に吹込まれた１００℃の飽和水蒸気
は、ペレットを加熱した上、８５℃の飽和水蒸気を含む
ガスとなって、高温部排気ヘッダ１９から排気される。

高温部排気ヘッダ１９から排気された８５℃の飽和水蒸
気を含むガスは、管路２３Ｂから循環管路１７に入り、
低温部排気ヘッダ１２からの排ガスと混合されて、７０
℃の飽和水蒸気を含むガスとなり、低温部給気ヘッダ１
１に送られて、前記低温部給気へラダ１１から角シヤフ
ト本体４内に、角シヤフト本体４内を降下するペレット
と直交して吹込まれる。

なおこの場合、低温部給気ヘッダ１１に送りこむガスの
温度を７０°Ｃとするには、循環管路１７のダンパ１６
および管路２３Ｂのダンパ２２、また管路２３Ａのバル
ブ２１を操作し、循環ガス量と供給蒸気量を制御するこ
とにより容易に行なうことができる。

ところで、角シヤフト本体４内にフィーダ５によって装
入された生ペレツ）６Ａは、低温部給気ヘッダ１１から
、低温部排気ヘッダ１２に向けて生ペレツ）６Ａ層を直
交して流れる７０℃の飽和水蒸気を含むガスにより、７
０℃に加熱される。

この７０℃の飽和水蒸気を含むガスは、角シヤフト本体
４内で常温の生ペレットと接触し、前記生ペレットに熱
を奪われるが、そのときの温度の低下によって残りのガ
ス中の水分が凝縮する結果、この凝縮によって生ずる熱
によってガスの温度は引上げられ、７０℃に保持される
。

このように、７０℃の飽和水蒸気を含むガスを吹込むこ
とにより、このガスと生ペレツト間の凝縮伝熱によって
、生ペレット６Ａは急速に７０°Ｃに加熱される。

そして生ペレット６Ａを所定温度以上に加熱し、硬化前
に乾燥させるようなことは生じない。

か（して生ペレット６Ａを加熱した後のガスは、低温部
排気ヘッダ１２から、５０°Ｃの飽和水蒸気を含むガス
となって排出され、循環管路１７を流れる。

またガスの一部は、７０℃の飽和水蒸気を含むガスのま
ま、７０℃に加熱されたペレットと凝縮水と共に、角シ
ヤフト本体４の予備養生室４Ｃ内を降下し、高温部給気
ヘッダ２４が設げられている位置までの角シヤフト本体
４内を、７０℃の飽和水蒸気を含むガスの雰囲気に保つ
役割をはたす。

上述した如く、７０°Ｃの飽和水蒸気を含むガスによる
生ペレット６Ａの加熱は、その伝熱形態の大部分が凝縮
伝熱であるから、急速に生ペレット層の温度を上昇させ
ることができ、側壁４Ａと４Ｂ間の幅を１．７５ｍとし
たこの実施例のシャフト装置の場合、低温部給気へラダ
１１からもつとも遠い壁部４Ｂ付近の生ペレットが７０
℃に達するまでに要する時間は、実測の結果３０分を超
えれことはなかった。

なお、この３０分未満という所要時間は、この実施例の
場合、生ペレットを７０℃の飽和水蒸気を含むガスに６
時間存在させていることから、十分に許容できる遅れで
あって、製品に及ぼす影響は全くない。

かくして、予備養生室４Ｃ内を逐次下降し、高温部給気
ヘッダ１８に臨む位置に至るまでの間、７０℃の飽和水
蒸気を含むガス中に６時間存在し、その間に水和反応が
促進されて予備養生の終ったペレットは、高温部給気ヘ
ッダ１８の位置に至り、高温部給気ヘッダ１８からペレ
ット層を直交して流れる１００℃の飽和水蒸気により１
００°Ｃに加熱され、本養生室４Ｄ内で本養生が行なわ
れる。

この１００℃の飽和水蒸気による加熱作用は、前述した
７０℃の飽和水蒸気を含むガス中での加熱作用と同じく
、ガスとペレット間の凝縮伝熱によるものである。

なお、高温部給気ヘッダ１８から角シヤフト４内に吹込
まれた１００℃の飽和水蒸気は、予備養生された７０℃
のペレットによってその熱を奪われ、一部は約８５℃の
飽和水蒸気を含むガスとなり、高温部排気ヘッダ１９か
も、管路２３Ｂへと排出される。

かくして、本養生室４Ｄ内における１００℃の飽和水蒸
気中で３時間の本養生が完了し、十分な強度をもったペ
レットは、乾燥用空気の給気ヘッダ２６の位置に至り、
前記給気ヘッダ２６から吹込まれる２５０℃の熱風中で
１時間乾燥されて製品ペレット６となり、角シヤフト４
の下端開口部７より、回転翼式切出機８によって切出さ
れ、コンベア１０により搬出される。

なお、ペレットの２０°Ｃの空気による冷却工程は、大
気中でのコンベア１０による搬出過程で行なえばよく、
また、上記した乾燥用空気による乾燥を行なわず、本養
生の完了後のペレットを直ちに切出してもよい。

次に、この実施例における各部分のペレットおよび飽和
水蒸気を含むガス等の量、温度等に関するデータを示す
。

（月 本装置に供給される生ペレツト： 温度３０℃、水分８係、 固形物４１６６７ｋｇ／ｈ、水分３６２３ｋｇ／ｈ（２
）低温部給気ヘッダに供給される飽和水蒸気をを含むガ
ス： 温度７０°Ｃ１ 空気５１６０ｋｇ／ｈ、水蒸気１４２６ｋｇ／ｈ（３）
低温部排気ヘッダから排出されたガス：温度５０℃、 空気３８３５ｋｇ／ｈ、水蒸気３３１ｋｇ／ｈ（４）低
温部給気ヘッダと高温部給気ヘッダ間における角シヤフ
ト本体内の装入物： 温度７０℃、 ベレット４１６６フｋｇ／ｈ１水分３６２３ｋｇ／ｈ、 凝縮水７２９ｋｇ／ｈ （５）高温部給気ヘッダに供給される飽和水蒸気温度１
００°Ｃ１ 流量１３６１ｋｇ／ｈ （６）高温部排気ヘッダから排出されたガス：温度８５
℃、 空気１３２ ｓｋｇ／ｈ、水蒸気１０９５ｋｇ／ｈ（７
）本養生完了後の製品ペレット： 温度１００℃、 量４１６６７ｋｇ／ｈ（乾燥量）、 水分３６２３に９／ｈ、凝縮水１３６１ｋｇ／ｈなお、
上記（７）に示す如（、本養生完了後のペレットを直ち
に製品ペレットとして排出しても、凝縮水の量はペレッ
トの量の約３．３％程度であり、ペレットの表面に付着
した水分として扱うことができる範囲である。

上述した実施例においては、角シヤフト本体に一定の間
隔をおいて低温部給排気ヘッダと高温部給排気ヘッダと
を設け、生ペレットを第６図に示したヒートパターンの
如く、予備養生と本養生とによって硬化せしめたが、こ
のような予備養生と本養生とには分けず、一定温度の飽
和水蒸気を含むガスによって一定時間養生するようにし
てもよい。

第７図はこの場合のヒートパターンの一例で、粉鉄鉱石
に結合剤としてポルトランドセメントを加えて造粒した
生ペレットを原料とする場合の例である。

このヒートパターンでは、前記原料を６５℃の飽和水蒸
気を含むガスにより、９時間養生した後、２００°Ｃの
熱風で１．５時間乾燥し、ついで冷却してペレットとす
る。

この場合は、第４図および第５図に示した装置において
、高温部給気ヘッダ２６および高温部排気ヘッダ２７な
らびにその付属装置は不要となり、低温部給気ヘッダ１
１から６５℃の飽和水蒸気を含むガスを角シヤフト本体
４内に吹込み、低温部排気ヘッダ１２から排出させてこ
れを循環せしめればよい。

この間に角シヤフト本体４内の生ペレットは、凝縮伝熱
により６５°Ｃに加熱され、この温度で乾燥用空気の給
気ヘッダ２６に臨む位置まで、６５°Ｃの飽和水蒸気を
含むガスの雰囲気下にある角シヤフト本体４内を、９時
間かけて降下し、かくして養生が完成する。

結合剤にセメントを使用した生ペレットを養生するとき
は、このような６５℃以下の飽和水蒸気を含むガスで養
生を行なった方が、製品ペレットの強度を高める上にお
いて有効である。

第８図には、この発明装置の第２実施例が示されている
。

この実施例は無端移動するグレート式であって、無端移
動するグレート３３の上部がカバー４６で覆われ、仕切
り壁４７によって予備養生室となる低温加熱室３５と、
本養生室となる高温加熱室３６とが形成され、前記グレ
ート３３上に ベルトコンベア式のフィーダ３４から供
給された生ペレツ）６Ａが、低温加熱室３５と高温加熱
室３６を移動する間に、低温加熱室３５および高温加熱
室３６から吹込まれるガスによって養生を完成させるよ
うにした装置である。

グレート３３における低温加熱室３５の下方には、低温
加熱室３５かも吹込まれグレート３３を貫通したガスを
集める風箱３７が、また高温加熱室３６の下方には、高
温加熱室３６から吹込まれグレート３３を貫通したガス
を集める風箱３８が設けられている。

上記装置において、グレート３３上の生ペレット６Ａは
、低温加熱室３５内を通過する間に、ガス供給口４８か
ら吹込まれる７０℃の飽和水蒸気を含んだガスによって
予備養生が行なわれ、続いて高温加熱室３６内を通過す
る間に、ガス供給口４９から吹込まれる１００℃の飽和
水蒸気によって本養生が行なわれ製品ペレット６となっ
てグレート３３かも排出される。

低温加熱室３５下方の風箱３７には管路５０がまた高温
加熱室３６下方の風箱３８には管路５１が夫々接続され
、前記管路５０．５１は、低温加熱室３５のガス供給口
４８に接続する循環管路４２につながっている。

４０，４１は圧力制御用ダンパ、３９はブロワである。

また高温加熱室３６のガス供給口４９には、１００℃の
水蒸気を供給する水蒸気供給装置４３からの管路５２が
接続されている。

４４は管路５２に設けられたバルブである。

高温加熱室３６に吹込まれた１００℃の飽和水蒸気は、
グレート３３上のペレットを加熱した上、８５℃の飽和
水蒸気を含むガスとなって、風箱３８から排気される。

風箱３８から排気された８５℃の飽和水蒸気を含むガス
は、管路５１から循環管路４２に入り、低温加熱室３５
下方の風箱３７から排気されたガスと混合され、ダンパ
４０゜４１の調整により７０℃の飽和水蒸気を含むガス
となり、低温加熱室３５にそのガス供給口４８から吹込
まれる。

４５は原料供給部の上方に設けられた集塵装置である。

この実施例では、グレート３３上の生ペレットの層厚を
１ｍ、グレートの幅を５ｍとし、低温加熱′室の長さを
２５ｍ、その面積を１２５ｍ、また高温加熱室の長さを
１．２．５ｍ、その面積を６２５ｍ′となし、グレート
の移動速度は４．２ｍ／ｈとした。

つぎに、この第２実施例における各部分のペレットおよ
び飽和水蒸気を含むガス等の量、温度等に関するデータ
を示す。

■ 本装置に供給される生ペレット： 温度３０°Ｃ１水分８係、固形物４１６６７ｋｇ／ｈ、 水分３６２３ｋｇ／ｈ ［Ｆ］ 低温加熱室３５内に供給される飽和水蒸気を含
むガス： 温度７０℃、 空気５１６０ｋｇ／ｈ、水蒸気１４２６ｋｇ／ｈ■ 低
温部風箱から排出されるガス： 温度５０°Ｃ 空気３８３５ｋｇ／ｈ、水蒸気３３１に９／ｈ■ 低温
加熱室内を移送されるペレット：温度７０°Ｃ ペレット４１６６７ｋｇ／ｈ１凝縮水７２９ｋｇ／ｈ ■ 高温加熱室３６内に供給される飽和水蒸気：温度１
００°Ｃ 流量１３６１ｋｇ／ｈ ■ 高温部風箱から排出されたガス： 温度８５°Ｃ 空気１３２５に９／ｈ１水蒸気１０９５ｋｇ／ｈ■ ペ
レットと共に低温加熱室から高温加熱室内に移行する： 温度７０°Ｃ 空気１３２５に９／ｈ、水蒸気３６６ｋｇ／ｈ■ 本養
生完了後の製品ペレット： 温度１００°Ｃ ペレット４１６６７ｋｇ／ｈ 水分３６２３ｋｇ／ｈ、凝縮水１３６１ｋｇ／ｈ上述し
た第１実施例および第２実施例の図示せる装置は、低温
を７０°Ｃ１高温を１００°Ｃとした２段階の温度レベ
ルで使用する装置であるが、これを例えば５０°Ｃ２７
０°ｃ、ｉｏｏｏＣの３段階、あるいは、５０℃、７０
℃、９０°Ｃ，１０００Ｇの４段階等、多段階とするこ
とも可能である。

何れの場合も、各段の排気を他の段の排気と混合するこ
とにより、任意の温度の飽和水蒸気を含むガスとなし、
これを循環使用することができるから、プロセス排気は
生ぜず、そのための集塵装置は不要である。

また、加熱上限は１００℃未満の任意の温度にすること
も、また加圧によって１００℃を超える温度とすること
もできる。

各段階で使用するガスの温度は、管内での凝縮を避ける
ために、飽和温度より２〜３℃高めてもよい。

なお、上記実施例はペレットの養生について述べたが、
ブリケットの養生についても適用でき娠以上詳述したよ
うに、この発明の装置によれば、原料である生ペレット
の如き粒状原料の流れに対し、これを横切る方向に、所
定温度の飽和水蒸気を含んだガスの流れを形成せしめ、
前記ガスと粒状原料間の凝縮伝熱によって急速に所定温
度に加熱した上、所定時間同温度に保ち、かくして粒状
原料を短時間で連続的に養生して、所定硬度のペレット
の如き塊成鉱とすることができ、広大な養生ゾーンを必
要とせず、使用する蒸気原単位を大幅に低下させること
ができる等、工業上極めて優れた効果がもたらされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の非焼成法による塊成鉱製造装置の一例を
示す略示縦断面図、第２図は従来装置の上層における原
料の温度変化を示すグラフ、第３図は同じく下層におけ
る原料の温度変化を示すグラフ、第４図はこの発明の装
置の第１実施例を示す一部省略図示した正面図、第５図
は同、縦断側面図、第６図および第７図は、第１実施例
の装置を使用した操業例の一例を示すヒートパターン、
第８図は第２実施例の装置を一部省略図示した正面図で
ある。 図面において、４・・・・・・角シヤフト本体、４Ａ、
４Ｂ・・・・・・（［ｌｉｊ壁、４Ｃ・・・・・・予備
養生室、４Ｄ・・・・・・本養生室、５・・・・・・フ
ィーダ、６・・・・・・製品ペレット、６Ａ・・・・・
・生ペレット、７・・・・・・開口部、８・・・・・・
切出機、９・・・・・・底板、１０・・・・・・ベルト
コンベヤ、１１・・・・・・低温部給気ヘッダ、１２・
・・・・・低温部排気）・ラダ、１３，１４・・・・・
・通気孔、１５・・・・・循環ブロワ、１６・・・・・
・ダンパ、１７・・・・・・循環管路、１８・・・・・
・高温部給気ヘッダ、１９・・・・・・高温部排気ヘッ
ダ、２０・・・・・・蒸気供給装置、２１・・・・・・
バルブ、２２・・・・・・ダンパ、２３Ａ。 ２３Ｂ・・・・・・管路、２４，２５・・・・・・通気
孔、２６・・・・・・給気ヘッダ、２７・・・・・・排
気ヘッダ、２８ 、２９・・・・・・通気孔、３０・・
・・・・乾燥空気供給装置、３１・・・・・・排気ブロ
ワ、３２・・・・・・集塵装置、３３・・・・・・グレ
ート、３４・・・・・・フィーダ、３５・・・・・・低
温加熱室、３６・・・・・・高温加熱室、３７ 、３８
・・・・・・風箱、３９・・・・・・ブロワ、４０，４
１・・・・・・圧力制御用ダンパ、４２・・・・・・循
環管路、４３・・・・・・蒸気供給装置、４４・・・・
・・バルブ、４５・・・・・・集塵装置、４６・・・・
・・カバー、４７・・・・・・仕切り壁、４８，４９・
・・・・・ガス供給口、５０．５１，５２・・・・・・
管路。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 一方から他方へ移動する粒状原料に対し、所定温度
   の飽和水蒸気を含むガスを、前記移動する粒状原料と直
   交させて吹込み、前記粒状原料を、前記ガスの凝縮伝熱
   により所定温度に加熱するための、前記移動する粒状原
   料をはさみ、その一方側に設けたガス吹込装置と、その
   他方側に設けたガス排気装置と、前記ガスにより所定温
   度に加熱された粒状原料を、その温度の飽和水蒸気を含
   むガス雰囲気下で所定時間移動させ、その間に養生を完
   成させるための養生室とからなることを特徴とする非焼
   成塊成鉱の製造装置。