JPS5933279B2 - レ−ザ装置 - Google Patents
レ−ザ装置Info
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- JPS5933279B2 JPS5933279B2 JP9973376A JP9973376A JPS5933279B2 JP S5933279 B2 JPS5933279 B2 JP S5933279B2 JP 9973376 A JP9973376 A JP 9973376A JP 9973376 A JP9973376 A JP 9973376A JP S5933279 B2 JPS5933279 B2 JP S5933279B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser device
- oscillation
- single crystal
- present
- Prior art date
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1611—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth neodymium
-
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/164—Solid materials characterised by a crystal matrix garnet
- H01S3/1643—YAG
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1691—Solid materials characterised by additives / sensitisers / promoters as further dopants
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ用単結晶に関し、特にY3Al5O、2
/Nd単結晶(Nd二YAGと略記)を使用したレーザ
装置に関する。
/Nd単結晶(Nd二YAGと略記)を使用したレーザ
装置に関する。
Nd:YAGレーザは非常にすぐれているが高人力化す
ると発振出力は第1図の如く飽和現象が 2見られる。
ると発振出力は第1図の如く飽和現象が 2見られる。
このため発振が不安定になりレーザの応用上問題が生じ
る。この欠点を改良するため本発明者等はNd:YAG
単結晶中に微量のSiイオンを添加することにより発振
閾値も下がりレーザ装置として非常にすぐれた特性を持
つ事がわか 。つた。Nd:YAG単結晶を引上げる際
にメルト中にSiO2を添加して、得られた結晶を分析
し、Siイオン濃度とレーザ発振の閾値(thresh
old)の関係を測定した所第2図の如くになり、結晶
中のSiイオン濃度としては2Yiμmから103wm
の範囲が良い事がわかつた。以下、本発明の一実施例に
ついて説明する。
る。この欠点を改良するため本発明者等はNd:YAG
単結晶中に微量のSiイオンを添加することにより発振
閾値も下がりレーザ装置として非常にすぐれた特性を持
つ事がわか 。つた。Nd:YAG単結晶を引上げる際
にメルト中にSiO2を添加して、得られた結晶を分析
し、Siイオン濃度とレーザ発振の閾値(thresh
old)の関係を測定した所第2図の如くになり、結晶
中のSiイオン濃度としては2Yiμmから103wm
の範囲が良い事がわかつた。以下、本発明の一実施例に
ついて説明する。
第1図は従来のY3Al5O、2/Ndと本実施例のY
3Al5O、2/ Nd、、Siとを比較した入カー発
振出力相関図であり、Nd濃度は2原子%及びSi含有
量&魚 100pμmのもので引上法によつて育成され
た。図示されている様に従来のY3Al5O12/Nd
では飽和現象を示したが、Siが含有された本実施例の
Y3Al5012/Nd、Siでは発振出力も大きく、
飽和が見られなかつた。
3Al5O、2/ Nd、、Siとを比較した入カー発
振出力相関図であり、Nd濃度は2原子%及びSi含有
量&魚 100pμmのもので引上法によつて育成され
た。図示されている様に従来のY3Al5O12/Nd
では飽和現象を示したが、Siが含有された本実施例の
Y3Al5012/Nd、Siでは発振出力も大きく、
飽和が見られなかつた。
第2図は発振開始エネルギーとレーザ結晶中のSi含有
量との関係を示すもので、化学分析によりSi含有量を
測定した。第2図の結果から2pμmから103pμm
の間のSi量が有効にレーザ育成に働くことがわかつた
。従つて本発明におけるSiの含有量を定める理由とし
た。以上、実施例から明らかなように本発明のNd二Y
AG単結晶中にSiを含有させたレーザロッドをレーザ
装置に具備させる事によつて発振出力の飽和が見られな
い、レーザ発振開始エネルギーの低い、効率の良い高性
能のレーザ装置を得る事が出来、例えば穴あけの様な加
工等に使用する場合非常に精度を向上させることができ
るものである。
量との関係を示すもので、化学分析によりSi含有量を
測定した。第2図の結果から2pμmから103pμm
の間のSi量が有効にレーザ育成に働くことがわかつた
。従つて本発明におけるSiの含有量を定める理由とし
た。以上、実施例から明らかなように本発明のNd二Y
AG単結晶中にSiを含有させたレーザロッドをレーザ
装置に具備させる事によつて発振出力の飽和が見られな
い、レーザ発振開始エネルギーの低い、効率の良い高性
能のレーザ装置を得る事が出来、例えば穴あけの様な加
工等に使用する場合非常に精度を向上させることができ
るものである。
第1図は従来のレーザ用単結晶と本発明の単結晶とのそ
れぞれ入カー発振出力関係を示す相関図、第2図は本発
明におけるNd:YAG単結晶中のSiが及ぼす発振開
始エネルギーを示す図である。
れぞれ入カー発振出力関係を示す相関図、第2図は本発
明におけるNd:YAG単結晶中のSiが及ぼす発振開
始エネルギーを示す図である。
Claims (1)
- 1 2ppmから103ppmのSiイオンを含んだY
_3Al_5O_1_2/Nd単結晶を具備したレーザ
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9973376A JPS5933279B2 (ja) | 1976-08-23 | 1976-08-23 | レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9973376A JPS5933279B2 (ja) | 1976-08-23 | 1976-08-23 | レ−ザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5325392A JPS5325392A (en) | 1978-03-09 |
JPS5933279B2 true JPS5933279B2 (ja) | 1984-08-14 |
Family
ID=14255240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9973376A Expired JPS5933279B2 (ja) | 1976-08-23 | 1976-08-23 | レ−ザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5933279B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007112951A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Fujifilm Corp | 無機化合物及びこれを含む組成物と成形体、発光装置、固体レーザ装置 |
-
1976
- 1976-08-23 JP JP9973376A patent/JPS5933279B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5325392A (en) | 1978-03-09 |
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