JPS5929093A - スケ−ルの除去方法 - Google Patents
スケ−ルの除去方法Info
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- JPS5929093A JPS5929093A JP13892782A JP13892782A JPS5929093A JP S5929093 A JPS5929093 A JP S5929093A JP 13892782 A JP13892782 A JP 13892782A JP 13892782 A JP13892782 A JP 13892782A JP S5929093 A JPS5929093 A JP S5929093A
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- scale
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/24—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with neutral solutions
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- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はボイラプラント、原子カプラントなどの加熱
水系の機器配管類内表面に析出、付着、堆積したシリカ
または有機物スケールを除去する方法に関するものであ
る１、 発電用の貫流型または循環型ボイラプラント、あるいは
沸騰水型または加圧水型原子カプラントなどの加熱水系
、特に５０．ｋｇ（／Ｃ１ｒＬ２以上の圧力で運転され
る加熱水系においては、高純度の給水を供給し、腐食お
よびスケールの発生を防止している。
水系の機器配管類内表面に析出、付着、堆積したシリカ
または有機物スケールを除去する方法に関するものであ
る１、 発電用の貫流型または循環型ボイラプラント、あるいは
沸騰水型または加圧水型原子カプラントなどの加熱水系
、特に５０．ｋｇ（／Ｃ１ｒＬ２以上の圧力で運転され
る加熱水系においては、高純度の給水を供給し、腐食お
よびスケールの発生を防止している。
一般にこの種の加熱水系における給水は、工業用水など
の原水を、イオン交換樹脂を含む脱塩装置に上り脱塩し
、真空もしくは加；熱式脱気装置を用いた物理的脱気方
法および（または）ヒドラジンもしくは亜硫酸塩を用い
た化学的脱酸素方法により脱気、脱酸素し、はとんど不
純物を含まない状態で給水される。。
の原水を、イオン交換樹脂を含む脱塩装置に上り脱塩し
、真空もしくは加；熱式脱気装置を用いた物理的脱気方
法および（または）ヒドラジンもしくは亜硫酸塩を用い
た化学的脱酸素方法により脱気、脱酸素し、はとんど不
純物を含まない状態で給水される。。
ところが、このような高純度の給水でも、原水の採取場
所によってはシリカやフミン酸、リグニンスルホン酸等
の有機物が微量に混入し、これらが長期の運転中に加熱
水系の金属表面に析出、付帝、堆積してスケールを生成
し、種々の障害の原因となる。。
所によってはシリカやフミン酸、リグニンスルホン酸等
の有機物が微量に混入し、これらが長期の運転中に加熱
水系の金属表面に析出、付帝、堆積してスケールを生成
し、種々の障害の原因となる。。
従来、これらのスケールはボイラ捷たは原子カプラント
の定期点検のために運転が停止された際、酸、アルカリ
などの洗浄剤により化学的に除去されていた、このよう
な化学的洗浄方法においては、洗浄のための複雑な作業
が必要であるとともに、大量の廃液が発生し、中和等に
よる困雅な処理が必要となった一、特に原子カプラント
の場合、放肘注物質を含むだめ、被曝を避けての中和、
蒸発法等による濃縮後のセメント等による同化などの特
殊な処理を必要としていた。また残留する洗浄剤に基づ
＜ ＋１．＜食あるいは汚染などのいわゆるアフターフ
ェイント現象が発生するなどの問題点があったー この発明は、このような従来法における問題点を改善す
るだめのもので、単に高部条件下て溶存酸素を１０ ｐ
ｐｂ以上含む脱塩水と接触させるという１ｍ学な作業で
安全かつ効率的に７リカまだは有機物スケールを除去す
ることのできるスケールの除去方法を提供することを目
的としている。、この発明は溶存酸素が７１’１Ｉ）ｂ
以下の高純度水が供給さｉするＩＪＩ＋熱水系の内壁面
に生成したシリカまたは有機物スケールに、溶存酸素を
１０ ｐｐｌ）以−ヒ含む脱塩水を、８０゛Ｃす、上の
状態で接触させることを特徴とするスケールの除去方法
である５、本発明で加独水系とは、系内あ水（水蒸気を
含む）が加熱される密閉または開放系の水系である。
の定期点検のために運転が停止された際、酸、アルカリ
などの洗浄剤により化学的に除去されていた、このよう
な化学的洗浄方法においては、洗浄のための複雑な作業
が必要であるとともに、大量の廃液が発生し、中和等に
よる困雅な処理が必要となった一、特に原子カプラント
の場合、放肘注物質を含むだめ、被曝を避けての中和、
蒸発法等による濃縮後のセメント等による同化などの特
殊な処理を必要としていた。また残留する洗浄剤に基づ
＜ ＋１．＜食あるいは汚染などのいわゆるアフターフ
ェイント現象が発生するなどの問題点があったー この発明は、このような従来法における問題点を改善す
るだめのもので、単に高部条件下て溶存酸素を１０ ｐ
ｐｂ以上含む脱塩水と接触させるという１ｍ学な作業で
安全かつ効率的に７リカまだは有機物スケールを除去す
ることのできるスケールの除去方法を提供することを目
的としている。、この発明は溶存酸素が７１’１Ｉ）ｂ
以下の高純度水が供給さｉするＩＪＩ＋熱水系の内壁面
に生成したシリカまたは有機物スケールに、溶存酸素を
１０ ｐｐｌ）以−ヒ含む脱塩水を、８０゛Ｃす、上の
状態で接触させることを特徴とするスケールの除去方法
である５、本発明で加独水系とは、系内あ水（水蒸気を
含む）が加熱される密閉または開放系の水系である。
発電用に多く使用される工賃離型または循場型ボイラプ
ラントあるいは沸騰水型′またばυ１１圧水型原子カプ
ラントなど、５０ ｋｇｒ／／／Ｉ２以上の圧力となる
ように運転される加熱水系では、前述のように高純度の
給水が使用されており、溶存酸素は７１）Ｉ）ｂ以下と
されている。本発明ではこのような系に加熱条件下で溶
存酸素１０ ｒ）Ｉ）ｂ以−トの水を供給することによ
り、金属表面に生成したシリカまたは有機物スケールを
除去する。
ラントあるいは沸騰水型′またばυ１１圧水型原子カプ
ラントなど、５０ ｋｇｒ／／／Ｉ２以上の圧力となる
ように運転される加熱水系では、前述のように高純度の
給水が使用されており、溶存酸素は７１）Ｉ）ｂ以下と
されている。本発明ではこのような系に加熱条件下で溶
存酸素１０ ｒ）Ｉ）ｂ以−トの水を供給することによ
り、金属表面に生成したシリカまたは有機物スケールを
除去する。
本発明において用いられる溶存酸素を１０１）Ｉ）ｂ以
−ヒ含む脱塩水は、ボイラあるいは原子カプラントに供
給される給水に所定量の酸素を注入することにより製造
できる。この方法に供される給水は、工業用水や地下水
などの原水を脱塩装置で脱塩し、溶存酸素を除去するこ
とにより涛られる。
−ヒ含む脱塩水は、ボイラあるいは原子カプラントに供
給される給水に所定量の酸素を注入することにより製造
できる。この方法に供される給水は、工業用水や地下水
などの原水を脱塩装置で脱塩し、溶存酸素を除去するこ
とにより涛られる。
このような給水処理のために使用される脱塩装置として
は強酸性カチオン交換樹脂、弱酸性カチオン交換１酊脂
、強塩基注アニオン交換制脂、弱塩基１住アニオン交換
（酊脂などの公知のイオン交換樹脂を単独または組合せ
て使用したものがあり、その代表的な処理方法として次
のようなものがある。
は強酸性カチオン交換樹脂、弱酸性カチオン交換１酊脂
、強塩基注アニオン交換制脂、弱塩基１住アニオン交換
（酊脂などの公知のイオン交換樹脂を単独または組合せ
て使用したものがあり、その代表的な処理方法として次
のようなものがある。
（１′）１１形強酸性カチオン交換樹脂とＯＩＩ形強塩
基１生アニオン交換闇脂の混床塔。
基１生アニオン交換闇脂の混床塔。
〆ｉ、’） １．１形強酸性カチオン交換樹脂塔−説
炭酸塔−〇１１形強塩基性アニオン交換樹脂塔・（２床
ろ塔）１１リ ） 。
炭酸塔−〇１１形強塩基性アニオン交換樹脂塔・（２床
ろ塔）１１リ ） 。
■ １１形強酸性カチオノ交換樹脂塔−０１ｌ形弱ｊ話
基１牛アニオノ交換樹脂塔−脱炭酸塔−ＯＩｔ形・強塩
基性アニオン交換樹脂塔・・・（３床４塔型）。
基１牛アニオノ交換樹脂塔−脱炭酸塔−ＯＩｔ形・強塩
基性アニオン交換樹脂塔・・・（３床４塔型）。
■ ■１形強酸性カチオン交換樹脂塔−説炭酸塔−０１
１形強塩基性アニオン交換樹脂塔−１，１形強酸性カチ
オン交換樹脂塔−〇 Ｈ膨強塩基性アニオン交換樹脂塔
・・・（４床５塔型）。
１形強塩基性アニオン交換樹脂塔−１，１形強酸性カチ
オン交換樹脂塔−〇 Ｈ膨強塩基性アニオン交換樹脂塔
・・・（４床５塔型）。
イオン交換樹脂を用いだ脱塩方法として（伐−ヒ配に限
定されず、たとえば上記の２床６塔型等の後にさらにシ
リカボリツンヤあるいは混床式ポリノシャなどを付設し
たものなども採用可能である。
定されず、たとえば上記の２床６塔型等の後にさらにシ
リカボリツンヤあるいは混床式ポリノシャなどを付設し
たものなども採用可能である。
上記のような脱塩装置により得られた脱塩水は溶存酸素
を除去して給水とされるが、このだめの溶存酸素除去方
法としては、物理的、化学的処理法が採用できる。物理
的処理法としては真空または加熱脱気による方法、ある
いは水素ガスを供給して）１り中の溶存（俊素と水素と
を反応させる方法なとがあけられる。一方、化学的処理
法としては、ヒドラジンや卯硫酸塙などの脱酸素剤を添
加する方法があげられる。これらの方法は場合によって
単独で用いられたり、あるいは組合せて用いられる。組
合せ方法としては、例えば物理的に脱気処理した後、脱
酸素剤を添加し、さらに水素ガスを供給する方法などが
あげられる。
を除去して給水とされるが、このだめの溶存酸素除去方
法としては、物理的、化学的処理法が採用できる。物理
的処理法としては真空または加熱脱気による方法、ある
いは水素ガスを供給して）１り中の溶存（俊素と水素と
を反応させる方法なとがあけられる。一方、化学的処理
法としては、ヒドラジンや卯硫酸塙などの脱酸素剤を添
加する方法があげられる。これらの方法は場合によって
単独で用いられたり、あるいは組合せて用いられる。組
合せ方法としては、例えば物理的に脱気処理した後、脱
酸素剤を添加し、さらに水素ガスを供給する方法などが
あげられる。
こうして得られる脱酸素された脱塩水はその１ま通常運
転時の給水とできるもので、溶存酸素７ ｒ）Ｉ）ｌ）
リ、下、一般的には０ｐｐｂ となっているが、
これをスケール除去用として［重用するには、溶存酸素
を１０ｐｐｂ以上存在させる。この発明において、／リ
カや有機′吻スケールが金属表面から溶出するのは、溶
存酸素か゛酸化剤として作用するからと考えられ、１０
ｐ １）ｌ）が゛臨界濃度であることがわかった。
転時の給水とできるもので、溶存酸素７ ｒ）Ｉ）ｌ）
リ、下、一般的には０ｐｐｂ となっているが、
これをスケール除去用として［重用するには、溶存酸素
を１０ｐｐｂ以上存在させる。この発明において、／リ
カや有機′吻スケールが金属表面から溶出するのは、溶
存酸素か゛酸化剤として作用するからと考えられ、１０
ｐ １）ｌ）が゛臨界濃度であることがわかった。
溶存酸素計が１０ｐｐｌ〕未満であると、スケール除去
効果が悪化する。また後述のように高温での運転中に洗
浄を行う場合に（は、あ捷りにも多量の溶存［寝素が存
在すると腐食の問題が発生するので、１０〜１０００ｐ
ｐ＋）とするのが望ましい。加社水系を運休して洗浄す
る場合はｉ ０ｐｐｂ−飽和量（８ｐｐｍ ）でよい。
効果が悪化する。また後述のように高温での運転中に洗
浄を行う場合に（は、あ捷りにも多量の溶存［寝素が存
在すると腐食の問題が発生するので、１０〜１０００ｐ
ｐ＋）とするのが望ましい。加社水系を運休して洗浄す
る場合はｉ ０ｐｐｂ−飽和量（８ｐｐｍ ）でよい。
脱岐素された給水にｒ酸素を溶解するだめには、給水系
に酸素供給管を付設し、必要時に酸素供給管を通じて１
俊素を供給し、溶解するのが望ましいが、加熱水系へ直
接１酸素を供７拾してもよい。１唆素源としては［酸素
カス、空気、もしくはこれらを望素カスで希釈したもの
、寸だけ過酸化水素などがあげられる。まだ溶存酸素量
を制御するだめに、必要に応じて水素ガスを用いてもよ
い。
に酸素供給管を付設し、必要時に酸素供給管を通じて１
俊素を供給し、溶解するのが望ましいが、加熱水系へ直
接１酸素を供７拾してもよい。１唆素源としては［酸素
カス、空気、もしくはこれらを望素カスで希釈したもの
、寸だけ過酸化水素などがあげられる。まだ溶存酸素量
を制御するだめに、必要に応じて水素ガスを用いてもよ
い。
−上記は洗浄水として給水を使用する場合について説明
したが、給水処理に準じた処理により別途洗浄水を得て
もよい１．この場合には溶存酸素の除去は厳密に行う必
要はなく、むしろ飽和量の（容存酸素を含む脱塩水に、
必要に応じて水素ガスなどを供給し、所定量の溶存酸素
を含むように調整する方が簡単で好ましい、−１ 加熱水系の洗浄を行う時期は特に限定されないが、ボイ
ラ′！、たけ原子カプラントの定期検査時、スケールの
生成量が一定以上となったとき、あるいはスケール１に
関係なく一定期間経過したときなどがあげられる。
したが、給水処理に準じた処理により別途洗浄水を得て
もよい１．この場合には溶存酸素の除去は厳密に行う必
要はなく、むしろ飽和量の（容存酸素を含む脱塩水に、
必要に応じて水素ガスなどを供給し、所定量の溶存酸素
を含むように調整する方が簡単で好ましい、−１ 加熱水系の洗浄を行う時期は特に限定されないが、ボイ
ラ′！、たけ原子カプラントの定期検査時、スケールの
生成量が一定以上となったとき、あるいはスケール１に
関係なく一定期間経過したときなどがあげられる。
洗浄方法は溶存酸素を含む洗浄水まだは酸素を加熱水系
に供給し、溶ｒｒ酸素を１０ ｐｐＨ以上含む洗浄水を
、１１情度８０℃以上、好ましくは１２０℃以−ヒてス
ケールと接触させ、洗浄水を循環まだは］Ｗ拌して洗浄
を行う。洗浄操作としては、加熱水系の運休時に洗浄作
業として行うこともできるが、貫流ボイラなと、給水の
全量が蒸気化する系以外の加圧水系では、運転中に水系
の溶存酸素量を高めて洗浄操作を行うことができる。運
休時に洗浄する場合は、洗浄水槽から洗浄水を系内に供
給し、８０°Ｃは上、好ましくは１２０°Ｃ頃−トて一
定時間循環させて洗浄を行うのが望ましいい運転中に洗
浄を行う場合には、腐食を防止するため１１ｍ度、圧力
を若干下げて洗浄してもよい３゜ このような洗浄操作を行うことにより、金属表面に付着
したンリカまだは有機物スケールは除去され、洗浄水側
へ移行する。運休時に洗浄を行う場合は洗浄絡了後、洗
浄へを全敗排出するか、運転中に洗浄を行う場合は系内
の水（洗浄水）を一部づつ排出する１、 排出される洗浄水には多量のンリカまだは有機物スケー
ル成分が含まれているので、浄化装置に導入し、環境汚
染物質を除去してから放流するのが望ましい７、浄化装
置としてはイオン交換樹脂塔、粉末イオン交換樹脂をプ
レコートした濾過ｌＬ電磁フィルタなどがあげられる２
、 これらの浄１ヒ装置は洗浄水排出系路に設け、洗浄廃水
中のスケール成分等を除去した後放流するようにしても
よいが、洗浄水の循環系路内に浄化装置を設け、洗浄水
中の不純物を除去して一部を放流するとともに、残部を
再循環すれば、洗浄効率がよくなる、まだこれらの浄化
装置として給水処理′または復水処理用等の既設の設備
を利用してもよい。。
に供給し、溶ｒｒ酸素を１０ ｐｐＨ以上含む洗浄水を
、１１情度８０℃以上、好ましくは１２０℃以−ヒてス
ケールと接触させ、洗浄水を循環まだは］Ｗ拌して洗浄
を行う。洗浄操作としては、加熱水系の運休時に洗浄作
業として行うこともできるが、貫流ボイラなと、給水の
全量が蒸気化する系以外の加圧水系では、運転中に水系
の溶存酸素量を高めて洗浄操作を行うことができる。運
休時に洗浄する場合は、洗浄水槽から洗浄水を系内に供
給し、８０°Ｃは上、好ましくは１２０°Ｃ頃−トて一
定時間循環させて洗浄を行うのが望ましいい運転中に洗
浄を行う場合には、腐食を防止するため１１ｍ度、圧力
を若干下げて洗浄してもよい３゜ このような洗浄操作を行うことにより、金属表面に付着
したンリカまだは有機物スケールは除去され、洗浄水側
へ移行する。運休時に洗浄を行う場合は洗浄絡了後、洗
浄へを全敗排出するか、運転中に洗浄を行う場合は系内
の水（洗浄水）を一部づつ排出する１、 排出される洗浄水には多量のンリカまだは有機物スケー
ル成分が含まれているので、浄化装置に導入し、環境汚
染物質を除去してから放流するのが望ましい７、浄化装
置としてはイオン交換樹脂塔、粉末イオン交換樹脂をプ
レコートした濾過ｌＬ電磁フィルタなどがあげられる２
、 これらの浄１ヒ装置は洗浄水排出系路に設け、洗浄廃水
中のスケール成分等を除去した後放流するようにしても
よいが、洗浄水の循環系路内に浄化装置を設け、洗浄水
中の不純物を除去して一部を放流するとともに、残部を
再循環すれば、洗浄効率がよくなる、まだこれらの浄化
装置として給水処理′または復水処理用等の既設の設備
を利用してもよい。。
上記の処理により浄ｆヒ装置には不純物が捕捉されるが
、イオン交換樹脂や電磁フィルタの場合は必要により再
生し、その再生廃液を処理した後廃棄処分し、粉末イオ
ン交換樹脂の場合には全量を廃棄処分することができる
。特に原子カプラントの場合は、分離した不純物が放射
化しているので、粉末イオン交換樹脂を含む戸材や、電
（第フィルタなどから発生ずる再生廃液は、セメントや
プラスチックによる固［ヒ処理等したのち適切な処分を
行う、−１ 以−ヒのようにしてスケールの洗浄操作が終了すると、
運転中に洗浄を行った場合はそのまま通常運転に移り、
運休中に洗浄を行った場合は洗浄水を排出後給水を供給
し通常運転に移る。。
、イオン交換樹脂や電磁フィルタの場合は必要により再
生し、その再生廃液を処理した後廃棄処分し、粉末イオ
ン交換樹脂の場合には全量を廃棄処分することができる
。特に原子カプラントの場合は、分離した不純物が放射
化しているので、粉末イオン交換樹脂を含む戸材や、電
（第フィルタなどから発生ずる再生廃液は、セメントや
プラスチックによる固［ヒ処理等したのち適切な処分を
行う、−１ 以−ヒのようにしてスケールの洗浄操作が終了すると、
運転中に洗浄を行った場合はそのまま通常運転に移り、
運休中に洗浄を行った場合は洗浄水を排出後給水を供給
し通常運転に移る。。
なお以上の説明において、洗浄水の溶存酸素は頭ｖＪ１
０ ｐｐｂ以上あればよく、洗浄の途中で１゜ｐｐｂ未
満となっても差支えない６．また洗浄操作もＪ二記説明
のもの（で限定されず、任意に変更可能である１、さら
に除去対象となるスケールもシリカまだは（および）有
）残物を主成分として含むものであれば、曲の１戊分を
含んでいてもよい。、また洗浄対象となるυ０執水系も
ポイラヅラ／トまたは原子カゾラ／１・に限定されない
、。
０ ｐｐｂ以上あればよく、洗浄の途中で１゜ｐｐｂ未
満となっても差支えない６．また洗浄操作もＪ二記説明
のもの（で限定されず、任意に変更可能である１、さら
に除去対象となるスケールもシリカまだは（および）有
）残物を主成分として含むものであれば、曲の１戊分を
含んでいてもよい。、また洗浄対象となるυ０執水系も
ポイラヅラ／トまたは原子カゾラ／１・に限定されない
、。
以上のとおり、本発明によれは、加・臥水系に生成した
／リカまたは有機物スケールに、溶存酸素を１０１）ｐ
ｂ以Ｆ含む脱塩水を、温ｌｔ８０ ’ｃ、ｌ：Ｊ上で接
触させるように構成したので、簡単な作業で安全かつ効
率よくシリカまたは有機物スケールを除去することがで
き、この洗浄作業ｖ′ｉ加熱水系の運転中にも行うと七
ができる。１さらに洗（予成として、酸、アルカリ等の
化学薬品を使用する必要がないので、洗浄コストを低く
するとともに、薬品の残留によるアフターフェイント等
の問題が発生することはなく、洗浄廃液の処理も容易で
、放射性廃棄物等の量も少なくなる３、また溶存酸素に
よる腐食も本発明の実施に要する程度の短時間の接触で
はほとんど問題とならず、従来の化学薬品に比べれば腐
食性は小さい１、 次に本発明の実施例について説明する。
／リカまたは有機物スケールに、溶存酸素を１０１）ｐ
ｂ以Ｆ含む脱塩水を、温ｌｔ８０ ’ｃ、ｌ：Ｊ上で接
触させるように構成したので、簡単な作業で安全かつ効
率よくシリカまたは有機物スケールを除去することがで
き、この洗浄作業ｖ′ｉ加熱水系の運転中にも行うと七
ができる。１さらに洗（予成として、酸、アルカリ等の
化学薬品を使用する必要がないので、洗浄コストを低く
するとともに、薬品の残留によるアフターフェイント等
の問題が発生することはなく、洗浄廃液の処理も容易で
、放射性廃棄物等の量も少なくなる３、また溶存酸素に
よる腐食も本発明の実施に要する程度の短時間の接触で
はほとんど問題とならず、従来の化学薬品に比べれば腐
食性は小さい１、 次に本発明の実施例について説明する。
実施例１
原水を混床式イオン交換樹脂塔を含む脱塩装置で脱塩し
た後、真空脱気装置により脱気を行って得られた脱塩水
にヒドラジン０．５ ｐｐｍとアンモニアを３ ｐｐｍ
添加した給水（溶存１峻素Ｏｐｐｂ ）を供給して２
年間蒸気発生を行った強制循環型ボイラ（蒸気ｌ黒度２
８５℃、圧力６６ ｋｇｒ ４ゴ）に生成した有機性ス
ケールの除去を行った。上記ボイラ水には給水から持込
まれたリグニンスルホン酸塩が検出され、若干の着色が
見られた。また一旦運体してボイラ内のこげ茶色のター
ル状スケールを取出し、化学分析したところ、酸１ヒカ
ルンウＡ ２重量％、シリカ１５重騎係、強熱城′８ｔ
７５５重量係であった。このボイラ内にシリカスケール
の付着したテストピースも併せて１０るし、ボイラの洗
浄を開始した。
た後、真空脱気装置により脱気を行って得られた脱塩水
にヒドラジン０．５ ｐｐｍとアンモニアを３ ｐｐｍ
添加した給水（溶存１峻素Ｏｐｐｂ ）を供給して２
年間蒸気発生を行った強制循環型ボイラ（蒸気ｌ黒度２
８５℃、圧力６６ ｋｇｒ ４ゴ）に生成した有機性ス
ケールの除去を行った。上記ボイラ水には給水から持込
まれたリグニンスルホン酸塩が検出され、若干の着色が
見られた。また一旦運体してボイラ内のこげ茶色のター
ル状スケールを取出し、化学分析したところ、酸１ヒカ
ルンウＡ ２重量％、シリカ１５重騎係、強熱城′８ｔ
７５５重量係であった。このボイラ内にシリカスケール
の付着したテストピースも併せて１０るし、ボイラの洗
浄を開始した。
洗浄にあたって、まず上記給水に酸素カスを注入してｆ
４ 仔ｉＭｔ素を飽和させ、連休中のボイラに供給した
。続いてボイラの晶度、圧力を第１図に付記する値に高
めて運転し蒸気を発生させた。この開始水中に酸素ガス
と水素ガスを注入して、溶存酸素量を第１図に付記する
所定暇に調整し、洗浄を行った。なおボイラのブロー水
は全給水量の１０係とした、 洗浄効果は、有機物スケールの除去状態については、ブ
ロー水を抜き取り、２６０ ｎｍの紫外線吸収イ１す定
によりＵ Ｖ値を測定し、またシリカスケールの除去状
態についてはＪＩｓ−Ｉ３８２２４によりボイラ水中の
７リカの量をｉｔ’ｌｌ定したー紫外線吸収測定結果は
第１図のグラフに示す通りである１、この結果より、飽
和の溶存酸素が含まれていてもｌ晶度が低い状婢では有
を役物スケールの１＠出幼果が悪く、また高（１児下で
あっても溶存酸素が１０ ｐｐｈ未満では溶出効果が悪
いが、溶存酸素が１０ ｐｐｂ以上で高を品の場合には
有を役物スケールの除去効果が高いことがわかる１、 一方、ボイラ水中のシリカは常温下では、ボイラ給水（
３〜５ ｐｐｌ））の２〜５倍程度しか検出されなかっ
たが、２５５°Ｃ以上の高温下で溶存酸素が１０ｐｐｂ
以−ヒ含まれる状態で、ボイラ給水の１５〜２０倍のシ
リカが検出された。また洗浄後ボイラからテストピース
を取り出したところ、シリカス）１−ルの重量が半減し
−ていた。これらの結果、上記条件下ではシリカスケー
ルが効果的に溶出し、除去効果が高いことがわかる。
４ 仔ｉＭｔ素を飽和させ、連休中のボイラに供給した
。続いてボイラの晶度、圧力を第１図に付記する値に高
めて運転し蒸気を発生させた。この開始水中に酸素ガス
と水素ガスを注入して、溶存酸素量を第１図に付記する
所定暇に調整し、洗浄を行った。なおボイラのブロー水
は全給水量の１０係とした、 洗浄効果は、有機物スケールの除去状態については、ブ
ロー水を抜き取り、２６０ ｎｍの紫外線吸収イ１す定
によりＵ Ｖ値を測定し、またシリカスケールの除去状
態についてはＪＩｓ−Ｉ３８２２４によりボイラ水中の
７リカの量をｉｔ’ｌｌ定したー紫外線吸収測定結果は
第１図のグラフに示す通りである１、この結果より、飽
和の溶存酸素が含まれていてもｌ晶度が低い状婢では有
を役物スケールの１＠出幼果が悪く、また高（１児下で
あっても溶存酸素が１０ ｐｐｈ未満では溶出効果が悪
いが、溶存酸素が１０ ｐｐｂ以上で高を品の場合には
有を役物スケールの除去効果が高いことがわかる１、 一方、ボイラ水中のシリカは常温下では、ボイラ給水（
３〜５ ｐｐｌ））の２〜５倍程度しか検出されなかっ
たが、２５５°Ｃ以上の高温下で溶存酸素が１０ｐｐｂ
以−ヒ含まれる状態で、ボイラ給水の１５〜２０倍のシ
リカが検出された。また洗浄後ボイラからテストピース
を取り出したところ、シリカス）１−ルの重量が半減し
−ていた。これらの結果、上記条件下ではシリカスケー
ルが効果的に溶出し、除去効果が高いことがわかる。
実施例２
実施例１で用いたスケール付着ボイラのチューブを３
ｔｘ Ｘ ３ （：Ｉｎの大きさに切り出し、これをガ
ラスフックで吊るし、還流器付きフラスコ中に挿入した
。次にこのフラスコ中に溶存酸素を８ ｐｐｍ （飽和
）含む脱塩水５００ Ｉｎｌを供給し、ウォーターＡ
７．により水温を４０°Ｃ１８０”に、１００’ＣＫ設
定して有機物スケール成分の溶出量を実施例１と同様の
方法で測定した。
ｔｘ Ｘ ３ （：Ｉｎの大きさに切り出し、これをガ
ラスフックで吊るし、還流器付きフラスコ中に挿入した
。次にこのフラスコ中に溶存酸素を８ ｐｐｍ （飽和
）含む脱塩水５００ Ｉｎｌを供給し、ウォーターＡ
７．により水温を４０°Ｃ１８０”に、１００’ＣＫ設
定して有機物スケール成分の溶出量を実施例１と同様の
方法で測定した。
結果を第２図のグラフに示す。これ°から水温がｓｏ’
ｃ以−ヒになると、スケール成分の（容量効果が大にな
ることがわかる。
ｃ以−ヒになると、スケール成分の（容量効果が大にな
ることがわかる。
第１図および第２図は実施１シリ１および２における紫
外：腺吸収測定結果を示すグラフである１、代理人 弁
理士 柳 原 成 ０２動力炉・核燃料開発事業回天 洗工学センター内 ■出 願 人 栗田工業株式会社 東京都新宿区西新宿３丁目４番 ７号
外：腺吸収測定結果を示すグラフである１、代理人 弁
理士 柳 原 成 ０２動力炉・核燃料開発事業回天 洗工学センター内 ■出 願 人 栗田工業株式会社 東京都新宿区西新宿３丁目４番 ７号
Claims (4)
- （１）溶存酸素が７ ｐｐｂ以下の高純度水が供給され
る加此水系の内１層面に生成したシリカまたは有機物ス
ケールに、溶存酸素を１０ ｐｐｂ以−ヒ含む脱塩水を
、８０℃す、上の状態で接触させることを特徴とするス
ケールの除去方法 - （２）溶存酸素を１０ ｐｐｂ以上含む脱塩水は脱塩お
よび脱酸素された水に酸素カス、空気または過酸１ヒ水
素を注入した水である特許請求の範囲第１項記載のスケ
ールの除去方法 - （３）スケールと溶存酸素を１０ ｐｐｂ以上含む脱塩
水の接触は加熱水系の運転中に行うようにした特許請求
の範囲′ＰＪ１項まだは第２項記載のスケールの除去力
、去 - （４）加熱水系はボイラプラントまだは原子カプラント
である特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに
記載のスケールの除去方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13892782A JPS5929093A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | スケ−ルの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13892782A JPS5929093A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | スケ−ルの除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5929093A true JPS5929093A (ja) | 1984-02-16 |
| JPS6222680B2 JPS6222680B2 (ja) | 1987-05-19 |
Family
ID=15233385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13892782A Granted JPS5929093A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | スケ−ルの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5929093A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6280241A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-13 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| EP0636712A1 (fr) * | 1993-07-29 | 1995-02-01 | Framatome | Procédé de nettoyage chimique de pièces en matériau métallique |
| JP2009192203A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ボイラ運用方法及びボイラ制御装置 |
| WO2023166867A1 (en) | 2022-03-01 | 2023-09-07 | Kurita Water Industries Ltd. | Cleaning agent, cleaning method of water treatment apparatus, and cleaning method of silica-based scale |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP13892782A patent/JPS5929093A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6280241A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-13 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPH0564224B2 (ja) * | 1985-10-01 | 1993-09-14 | Tanaka Electronics Ind | |
| EP0636712A1 (fr) * | 1993-07-29 | 1995-02-01 | Framatome | Procédé de nettoyage chimique de pièces en matériau métallique |
| FR2708628A1 (fr) * | 1993-07-29 | 1995-02-10 | Framatome Sa | Procédé de nettoyage chimique de pièces en matériau métallique. |
| US5575863A (en) * | 1993-07-29 | 1996-11-19 | Framatome | Process for the chemical cleaning of metal components |
| JP2009192203A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ボイラ運用方法及びボイラ制御装置 |
| WO2023166867A1 (en) | 2022-03-01 | 2023-09-07 | Kurita Water Industries Ltd. | Cleaning agent, cleaning method of water treatment apparatus, and cleaning method of silica-based scale |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6222680B2 (ja) | 1987-05-19 |
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