JPS5925446Y2 - Solvent deaerator - Google Patents

Solvent deaerator

Info

Publication number
JPS5925446Y2
JPS5925446Y2 JP16994681U JP16994681U JPS5925446Y2 JP S5925446 Y2 JPS5925446 Y2 JP S5925446Y2 JP 16994681 U JP16994681 U JP 16994681U JP 16994681 U JP16994681 U JP 16994681U JP S5925446 Y2 JPS5925446 Y2 JP S5925446Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas flow
flow rate
degassing
gas
flow path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP16994681U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5878106U (en
Inventor
勝彦 斉藤
章典 清藤
Original Assignee
株式会社島津製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社島津製作所 filed Critical 株式会社島津製作所
Priority to JP16994681U priority Critical patent/JPS5925446Y2/en
Publication of JPS5878106U publication Critical patent/JPS5878106U/en
Application granted granted Critical
Publication of JPS5925446Y2 publication Critical patent/JPS5925446Y2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は溶媒中にガスを吸込むことによってその溶媒
の脱気を行なう方式の溶媒脱気装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] This invention relates to a solvent degassing device that degasses a solvent by sucking gas into the solvent.

従来、脱気ガス供給源にガス流量調節手段を接続し、そ
のガス流量調節手段に分岐手段を介して複数の脱気ガス
流路を接続し、それら脱気ガス流路の先端にそれぞれフ
ィルタ手段を取り付けた溶媒脱気装置が知られている。
Conventionally, a gas flow rate regulating means is connected to a degassing gas supply source, a plurality of degassing gas passages are connected to the gas flow rate regulating means via a branching means, and a filter means is provided at each tip of the degassing gas passage. A solvent degassing device is known.

この装置によって、たとえば高速液体クロマトグラフの
各移動相溶媒中にヘリウムなどの脱気ガスを細かな気泡
として送り込み、溶媒中に溶は込んでいる空気を追い出
すことが行われている。
With this device, for example, a degassing gas such as helium is fed into each mobile phase solvent of a high-performance liquid chromatograph as fine bubbles to expel air dissolved in the solvent.

しかし、上記従来装置には次のような問題点があった。However, the above conventional device has the following problems.

その第1は、溶媒の種類や量に合わせて脱気ガスの流量
を調節して脱気を行う必要があり、かつ脱気完了後その
脱気状態を保つために再度流量を調節して小流量で脱気
ガスを送りつづける必要があり、結局、2回も流量調節
を行う必要があることである。
First, it is necessary to perform deaeration by adjusting the flow rate of the degassing gas according to the type and amount of solvent, and after the degassing is completed, the flow rate must be adjusted again to maintain the degassing state. It is necessary to continue sending deaerated gas at a certain flow rate, and as a result, it is necessary to adjust the flow rate twice.

第2は、複数の脱気ガス流路の先端に取り付けられたフ
ィルタ手段にかかる溶媒の液圧や粘度などの相異によっ
て各脱気ガス流路の抵抗値が異なることになり、各脱気
ガス流路のガス流量がアンバランスで不安定になること
である。
Second, the resistance value of each degassing gas flow path differs due to differences in the liquid pressure and viscosity of the solvent applied to the filter means attached to the tips of the multiple degassing gas flow paths. This is because the gas flow rate in the gas flow path becomes unbalanced and unstable.

これを防ぐためには各脱気ガス流路に個別に流量調節手
段を設ければよいが、それぞれを調節する手間がかかる
ことになる。
In order to prevent this, each degassing gas flow path may be provided with a flow rate adjusting means individually, but it takes time and effort to adjust each of them.

この考案は上記のような問題点を解消することを目的と
してなされたもので゛ある。
This invention was made with the aim of solving the problems mentioned above.

以下、図に示す実施例に基いて、この考案を詳説する。This invention will be explained in detail below based on the embodiment shown in the drawings.

なお、これによりこの考案が限定されるものではない。Note that this invention is not limited to this.

第1図に示す1は、この考案の溶媒脱気装置の一実施例
である。
1 shown in FIG. 1 is an embodiment of the solvent degassing device of this invention.

この装置1は、ヘリウムガスボンベ2にベロー弁3を接
続し、そのベロー弁3に並列ガス流路4を接続し、その
並列ガス流路4に分岐管9を介して3つのヘリウムガス
流路10,11゜12を接続し、さらに各ヘリウムガス
流路10,11.12の先端に公称2μm程度の粗さの
焼結金属のフィルタ13,14.15を取り付けたもの
である。
This device 1 connects a bellows valve 3 to a helium gas cylinder 2, connects a parallel gas flow path 4 to the bellows valve 3, and connects three helium gas flow paths 10 to the parallel gas flow path 4 via a branch pipe 9. , 11.degree. 12 are connected to each other, and sintered metal filters 13, 14.15 having a nominal roughness of about 2 .mu.m are attached to the tips of each helium gas flow path 10, 11.12.

並列ガス流路4は、電磁弁5のみが介設されている主ガ
ス流路4aと、電磁弁6および抵抗管7が介設されてい
る小流量ガス流路4bとからなる。
The parallel gas flow path 4 consists of a main gas flow path 4a in which only a solenoid valve 5 is interposed, and a small flow rate gas flow path 4b in which a solenoid valve 6 and a resistance pipe 7 are interposed.

これら流路4 a 、4 bの流量比は好ましくは5:
1〜10:1程度である。
The flow rate ratio of these channels 4 a and 4 b is preferably 5:
The ratio is about 1 to 10:1.

電磁弁5,6はタイマー等を内蔵した制御部8によって
制御され、後に説明するようにこれらが並列流路4の選
択導通手段を構成している。
The electromagnetic valves 5 and 6 are controlled by a control section 8 having a built-in timer and the like, and these constitute selective conduction means for the parallel flow path 4, as will be explained later.

ヘリウムガス流路10,11.12は、各々ストップバ
ルブ16,17.18と抵抗管19,20.21とを直
列に具備したものである。
The helium gas flow paths 10, 11.12 each include a stop valve 16, 17.18 and a resistance tube 19, 20.21 in series.

抵抗管19,20.21は、パイプ中に微細な粒子を充
填したものであり、フィルタ13゜14.15において
生じると考えられる抵抗値よりも好ましくは5倍程度以
上の大きな抵抗値をもつようにしである。
The resistance tubes 19, 20, and 21 are pipes filled with fine particles, and are designed to have a resistance value that is preferably about five times or more greater than the resistance value that is thought to occur in the filters 13, 14, and 15. It's Nishide.

次にこの装置1の動作を説明するが、説明の都合上、第
1図に示すように、水WとメタノールMとをグラジェン
ト溶出装置Gにて混合して、その混合液を高速液体クロ
マトグラフLの移動相とする場合を例にとる。
Next, the operation of this apparatus 1 will be explained. For convenience of explanation, as shown in FIG. Let us take as an example the mobile phase of graph L.

この場合、水WおよびメタノールMの各々の単独の空気
に対する溶解度とこれらの混合液の空気に対する溶解度
とが非常に異なるので、そのまま混合すれば気泡が発生
して分析に悪影響を与える。
In this case, the solubility of each of water W and methanol M in air is very different from the solubility of a mixture thereof in air, so if they are mixed as is, bubbles will be generated, which will adversely affect the analysis.

そこで、この装置1による脱気が必要となる。Therefore, deaeration by this device 1 is necessary.

さて、まずフィルタ13をメタノールM中に入れ、かつ
フィルタ14を水W中に入れてストップバルブ16およ
び17を開く。
First, filter 13 is placed in methanol M, filter 14 is placed in water W, and stop valves 16 and 17 are opened.

使用しないヘリウムガス流路12のストップバルブ18
は閉じておく。
Stop valve 18 for unused helium gas flow path 12
Keep it closed.

次に制御部8にスタート指令を与える。Next, a start command is given to the control section 8.

そうすると電磁弁5のみが開く。Then, only the solenoid valve 5 opens.

ここでベロー弁3を開いて調節し、溶媒llにつき例え
ば100 m l 7分ぐらいの流量でヘリウムガスを
供給する。
Here, the bellows valve 3 is opened and adjusted to supply helium gas at a flow rate of, for example, about 100 ml for 7 minutes per liter of solvent.

溶媒中に溶解している空気がヘリウムに実用上十分な程
度まで置換されるのに要する時間が制御部8に設定され
ているので、その時間が経過したとき制御部8は自動的
に電磁弁5を閉じ電磁弁6を開く。
Since the time required for the air dissolved in the solvent to be replaced with helium to a practically sufficient extent is set in the control unit 8, when that time has elapsed, the control unit 8 automatically closes the solenoid valve. 5 and open the solenoid valve 6.

そこで比較的大流量でヘリウムガスが供給されて脱気が
完了したころ、小流量に自動的に切換えられることにな
る。
Therefore, helium gas is supplied at a relatively large flow rate, and when deaeration is completed, the flow rate is automatically switched to a small flow rate.

上記によって、水WおよびメタノールM中の空気が脱気
され、かわりにヘリウムガスが溶解されることになるが
、水WおよびメタノールMの各々の単独のヘリウムガス
に対する溶解度とこれらの混合液のヘリウムガスに対す
る溶解度とは同程度であるからこれらを混合してもほと
んど気泡を生じず、好適に移動相として使用できる。
As a result of the above, the air in water W and methanol M is degassed and helium gas is dissolved instead. Since their solubility in gases is about the same, almost no bubbles are generated when they are mixed, and they can be suitably used as a mobile phase.

脱気が完了したころ自動的に小流量に切換わるので、従
来のような再調節の手間がかからず、かつ動作が確実に
なる。
Since the flow rate is automatically switched to a small flow rate when deaeration is completed, there is no need for readjustment as in the past, and the operation is reliable.

また溶媒中のフィルタ13および14における抵抗値は
それぞれ異なるが、これらに比べて抵抗管19および2
0の抵抗値が十分大であるから、これらの抵抗管19.
20に依存してヘリウムガスの流量が決まり、意図に反
してアンバランスになるようなことが防がれ、また流量
も安定になる。
Furthermore, the resistance values of the filters 13 and 14 in the solvent are different, but compared to these, the resistance values of the resistance tubes 19 and 2 are different.
Since the resistance value of 0 is sufficiently large, these resistance tubes 19.
The flow rate of helium gas is determined depending on 20, which prevents unintended imbalance and stabilizes the flow rate.

変形実施例としては、脱気ガスとして窒素ガスなどを使
用するもの、ベロー弁3に代えてニードル弁などを使用
するもの、最初の脱気の際に電磁弁5,6を共に開とす
るもの、電磁弁5,6に代えて三方電磁弁などを用いる
もの、小流量ガス流路4bをヘリウムガスボンベ2と分
岐管9の間に跨設するものなどが挙げられる。
Modified embodiments include one that uses nitrogen gas as the degassing gas, one that uses a needle valve or the like instead of the bellows valve 3, and one that opens both the solenoid valves 5 and 6 during the first degassing. , one in which a three-way solenoid valve is used in place of the solenoid valves 5 and 6, and one in which a small flow rate gas flow path 4b is provided across the helium gas cylinder 2 and the branch pipe 9.

以上の説明から理解されるように、この考案の溶媒脱気
装置は、脱気ガス供給源にガス流量調節手段を接続し、
そのガス流量調節手段に分岐手段を介して複数の脱気ガ
ス流路を接続し、それら脱気ガス流路の先端にそれぞれ
フィルタ手段を取り付けた溶媒脱気装置において、脱気
ガス供給源と分岐手段の間もしくはガス流量調節手段と
分岐手段の間のガス流路に並列に小流量ガス流路を設置
して並列ガス流路とすると共にその並列ガス流路の選択
導通手段を設け、また脱気ガス流路中にそれぞれフィル
タ手段により抵抗の大なる抵抗手段を介設したものであ
り、これにって脱気完了時の流量の再調節が不用になり
かつ作動が確実になる。
As understood from the above explanation, the solvent deaerator of this invention connects a gas flow rate adjustment means to a deaeration gas supply source,
In a solvent deaerator in which a plurality of degassed gas flow paths are connected to the gas flow rate adjustment means via branching means, and a filter means is attached to each end of the degassed gas flow path, a degassing gas supply source and a branch are connected. A small flow rate gas flow path is installed in parallel in the gas flow path between the means or between the gas flow rate adjustment means and the branching means to form a parallel gas flow path, and selective conduction means for the parallel gas flow path is provided. Resistance means with a large resistance are interposed in each gas flow path by means of a filter means, thereby eliminating the need for readjusting the flow rate upon completion of deaeration and ensuring reliable operation.

また、種々の異なる溶媒に脱気するときに各脱気ガス流
路がアンバランスになることが防がれ、流量も安定にな
る。
Further, when degassing various different solvents, each degassing gas flow path is prevented from becoming unbalanced, and the flow rate becomes stable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの考案の溶媒脱気装置の一実施例の構成説明
図である。 1・・・・・・溶媒脱気装置、2・・・・・・ヘリウム
ガスボンベ、3・・・・・・ベロー弁、4・・・・・・
並列ガス流路、4a・・・・・・主ガス流路、4b・・
・・・・小流量ガス流路、5,6・・・・・・電磁弁、
7・・・・・・抵抗管、8・・・・・・制御部、9・・
・・・・分岐管、10,11゜12・・・・・・脱気ガ
ス流路、13,14.15・・・・・・フィルタ、16
゜17.18・・・・・・ストップバルブ、19,20
.21・・・・・・抵抗管、22・・・・・・圧力計。
FIG. 1 is an explanatory diagram of the configuration of one embodiment of the solvent degassing device of this invention. 1... Solvent deaerator, 2... Helium gas cylinder, 3... Bellows valve, 4...
Parallel gas flow path, 4a...Main gas flow path, 4b...
...Small flow rate gas flow path, 5,6...Solenoid valve,
7... Resistance tube, 8... Control section, 9...
... Branch pipe, 10, 11゜12 ... Degassing gas flow path, 13, 14.15 ... Filter, 16
゜17.18・・・Stop valve, 19,20
.. 21...Resistance tube, 22...Pressure gauge.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 脱気ガス供給源にガス流量調節手段を接続し、そのガス
流量調節手段に分岐手段を介して複数の脱気ガス流路を
接続し、それら脱気ガス流路の先端にそれぞれフィルタ
手段を取り付けた溶媒脱気装置において、 脱気ガス供給源と分岐手段の間もしくはガス流量調節手
段と分岐手段の間のガス流路に並列に小流量ガス流路を
設置して並列ガス流路とすると共にその並列ガス流路の
選択導通手段を設け、また脱気ガス流路中にそれぞれフ
ィルタ手段より抵抗の大なる抵抗手段を介設したことを
特徴とする溶媒脱気装置。
[Claims for Utility Model Registration] A gas flow rate regulating means is connected to a degassing gas supply source, a plurality of degassing gas passages are connected to the gas flow rate regulating means via a branching means, and the degassing gas passages are connected to a degassing gas supply source. In a solvent deaerator equipped with a filter means at each tip, a small flow rate gas flow path is installed in parallel with the gas flow path between the deaerated gas supply source and the branching means or between the gas flow rate adjustment means and the branching means. Solvent deaeration characterized in that parallel gas flow paths are formed in parallel gas flow paths, selective conduction means are provided for the parallel gas flow paths, and resistance means having a higher resistance than the filter means is interposed in each of the degassing gas flow paths. Device.
JP16994681U 1981-11-14 1981-11-14 Solvent deaerator Expired JPS5925446Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16994681U JPS5925446Y2 (en) 1981-11-14 1981-11-14 Solvent deaerator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16994681U JPS5925446Y2 (en) 1981-11-14 1981-11-14 Solvent deaerator

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5878106U JPS5878106U (en) 1983-05-26
JPS5925446Y2 true JPS5925446Y2 (en) 1984-07-26

Family

ID=29961911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16994681U Expired JPS5925446Y2 (en) 1981-11-14 1981-11-14 Solvent deaerator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5925446Y2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5878106U (en) 1983-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002516727A (en) Device for drawing blood
WO2020155577A1 (en) Full-two-dimensional gas chromatograph and modulation method
JPS5925446Y2 (en) Solvent deaerator
US4844059A (en) Method and apparatus for enriching respiratory gas with oxygen and delivering it to a patient
JPS6238721Y2 (en)
JPH05256834A (en) Liquid chromatograph
US3522816A (en) Fluid system for filling and emptying an enclosure
DE68903429T2 (en) DEVICE FOR SEPARATING GAS MIXTURES.
US3476137A (en) Controlled chemical feeder with antidiffusion means
EP0273677A3 (en) Flow controller and a high-pressure liquid system
JPH0651225B2 (en) Arc welding equipment
US2471541A (en) Burner control system, including a viscosity sensitive by-pass valve
JPS58174846A (en) Specimen feeder for gas chromatograph
JP3346260B2 (en) Degassing device
JP4258107B2 (en) Liquid chromatograph
DE2643752C2 (en) Arrangement for testing hydraulic systems
JPS5918454A (en) Carrier gas controlling apparatus for on-column capillary chromatograph
JPH0823552B2 (en) Capillary column sample introduction method
JPH1043552A (en) Membrane separation device and control method of operation pressure
JPS5932460A (en) Pressure filling of liquid
JPS5592298A (en) Gas pressure control method of welding gas backing
JPH10122424A (en) Pressure reducing valve device for extra-high pressure fluid
JPS58200161A (en) Liquid chromatograph
JPH0599354A (en) Fixed quantity flow valve
JPS58211589A (en) Method of testing refrigerating apparatus