JPS59229500A - めつき析出物の電解剥離方法 - Google Patents
めつき析出物の電解剥離方法Info
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- JPS59229500A JPS59229500A JP10238683A JP10238683A JPS59229500A JP S59229500 A JPS59229500 A JP S59229500A JP 10238683 A JP10238683 A JP 10238683A JP 10238683 A JP10238683 A JP 10238683A JP S59229500 A JPS59229500 A JP S59229500A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はめっき用ラックなどに析出しためつき析出物を
電解的に剥離する方法に関し、更に詳述するとめつき析
出物の電解剥離液を老化による廃棄を可及的に少なくし
て常に良好な状態に緒持し、ラックなどに析出しためっ
き析出物を連続的にかつ確実に電解剥離することができ
、この電解剥離■稈を自動めつきラインに組み入れるこ
とも可能な電解剥離方法に関する。
電解的に剥離する方法に関し、更に詳述するとめつき析
出物の電解剥離液を老化による廃棄を可及的に少なくし
て常に良好な状態に緒持し、ラックなどに析出しためっ
き析出物を連続的にかつ確実に電解剥離することができ
、この電解剥離■稈を自動めつきラインに組み入れるこ
とも可能な電解剥離方法に関する。
従来、めっき用ラックに析出した不要なめっき析出物を
電解的に剥離除去する電解剥離液として種々のものが提
案されている。しかし、これらの剥離液は!II離液が
新しいうちは剥離速度も比較的大きいが、直ぐに老化し
易く、老化すると剥離速度の低下が生じるものであった
。また従来、ラックに析出した析出物の剥離除去は、通
常めっきラインとは別個に剥離槽を設け、めっき作業ど
は無関係にめっき作業の終了後やラックを数回使用した
後などに長時間剥離液中にラックを放置していたもので
あるが、このような剥離方法は効率が悪−2− く、また多数のラックを必要とするものであった。
電解的に剥離除去する電解剥離液として種々のものが提
案されている。しかし、これらの剥離液は!II離液が
新しいうちは剥離速度も比較的大きいが、直ぐに老化し
易く、老化すると剥離速度の低下が生じるものであった
。また従来、ラックに析出した析出物の剥離除去は、通
常めっきラインとは別個に剥離槽を設け、めっき作業ど
は無関係にめっき作業の終了後やラックを数回使用した
後などに長時間剥離液中にラックを放置していたもので
あるが、このような剥離方法は効率が悪−2− く、また多数のラックを必要とするものであった。
更に、従来は電解剥離液が老化すると廃棄していたもの
である。それ故、従来はこのような剥離工程を自動めっ
きラインに組み入れることはできず、またもともと剥離
工程をめっきラインに組み入れることは全く考られてい
なかったものである。
である。それ故、従来はこのような剥離工程を自動めっ
きラインに組み入れることはできず、またもともと剥離
工程をめっきラインに組み入れることは全く考られてい
なかったものである。
しかしながら、本発明者はプリント配Ii1基板に電気
めっきを行なう場合、プリント配線基板の各部分におけ
るめつき膜厚を可及的に均一化すると共に、めっき毎に
膜厚がばらつかず、常にほぼ一定の膜厚にめっきする上
で陽極板の配置位置などやプリント配線基板を吊持する
めっき用ラックの形状、プリント配線基板に対する接点
のとり方などを考慮する必要があることは勿論であるが
、とりわけてめっき用ラックに析出した析出物が大きな
彩管を及ぼしていることを知見した。
めっきを行なう場合、プリント配線基板の各部分におけ
るめつき膜厚を可及的に均一化すると共に、めっき毎に
膜厚がばらつかず、常にほぼ一定の膜厚にめっきする上
で陽極板の配置位置などやプリント配線基板を吊持する
めっき用ラックの形状、プリント配線基板に対する接点
のとり方などを考慮する必要があることは勿論であるが
、とりわけてめっき用ラックに析出した析出物が大きな
彩管を及ぼしていることを知見した。
即ち、ラックはプリント配線基板をめっき液中に保持す
ると共に1.陰極ブスバーからの電気をプリント配線基
板に伝える仲介をするものであるため、金属材料により
形成されているが、その表面−3− の大部分はプラスチックゾル等の絶縁物で被覆され、め
っきが析出しないようになっている。しかしながら、ラ
ックのプリント配l1ll板を保持する部分などは金属
材料が露呈されており、これらの金属露呈部分にはめっ
きが析出する。このめっきの析出したラックをそのまま
析出物を剥離することなく再三■四使用する場合は、プ
リント配線基板の各部分におけるめつき膜厚に大きな差
が生じたり、電流密度やめつき時間等の条件を一定にし
ておいてもめつき毎にめつき膜厚にかなりの差が生じる
などの不都合が起り易いことを知見した。
ると共に1.陰極ブスバーからの電気をプリント配線基
板に伝える仲介をするものであるため、金属材料により
形成されているが、その表面−3− の大部分はプラスチックゾル等の絶縁物で被覆され、め
っきが析出しないようになっている。しかしながら、ラ
ックのプリント配l1ll板を保持する部分などは金属
材料が露呈されており、これらの金属露呈部分にはめっ
きが析出する。このめっきの析出したラックをそのまま
析出物を剥離することなく再三■四使用する場合は、プ
リント配線基板の各部分におけるめつき膜厚に大きな差
が生じたり、電流密度やめつき時間等の条件を一定にし
ておいてもめつき毎にめつき膜厚にかなりの差が生じる
などの不都合が起り易いことを知見した。
このため、本発明者はめつき毎にめっき析出物のないラ
ックを使用すること、更にはラックに析出した析出物の
剥離除去工程をめっきラインに組み入れてラックの析出
物を連続的に除去することが、めっき膜厚の均一化、−
走化を計る上で重要であることを知見し、これを可能と
するため電解剥離方法につき鋭意研究を行なった結果、
電解剥離液を連続的に電解剥離槽から取り出してこれを
沈降槽に導入し、この沈降槽で電解剥離液中の沈−4− 穀物を沈降させて除去し、その上澄液を電解剥離槽に返
送すると共に、電解剥離液に消耗成分を補給し、かつ前
記沈降槽で沈降せしめられた沈殿物を適宜抜き出すこと
により、電解剥離液を殆んど廃棄することなく使用し得
、かつ連続的にしかも確実に効率のよい安定した電解剥
離処理を行なうことができ、上記目的が良好に達成され
ることを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
ックを使用すること、更にはラックに析出した析出物の
剥離除去工程をめっきラインに組み入れてラックの析出
物を連続的に除去することが、めっき膜厚の均一化、−
走化を計る上で重要であることを知見し、これを可能と
するため電解剥離方法につき鋭意研究を行なった結果、
電解剥離液を連続的に電解剥離槽から取り出してこれを
沈降槽に導入し、この沈降槽で電解剥離液中の沈−4− 穀物を沈降させて除去し、その上澄液を電解剥離槽に返
送すると共に、電解剥離液に消耗成分を補給し、かつ前
記沈降槽で沈降せしめられた沈殿物を適宜抜き出すこと
により、電解剥離液を殆んど廃棄することなく使用し得
、かつ連続的にしかも確実に効率のよい安定した電解剥
離処理を行なうことができ、上記目的が良好に達成され
ることを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る電解剥離方法において、電解剥離液として
は従来から知られた稈々のものが使用し得るが、特にラ
ックに析出した析出物、とりわけ制電着物を除去する場
合は、酸化剤、ハロゲン酸又はその塩、及び短鎖のカル
ボン酸もしくはヒドロキシカルボン酸又はこれらの塩を
含み、州が6〜8程度に調整されたものが好ましく用い
られる。
は従来から知られた稈々のものが使用し得るが、特にラ
ックに析出した析出物、とりわけ制電着物を除去する場
合は、酸化剤、ハロゲン酸又はその塩、及び短鎖のカル
ボン酸もしくはヒドロキシカルボン酸又はこれらの塩を
含み、州が6〜8程度に調整されたものが好ましく用い
られる。
この場合、酸化剤としては硝酸、硝酸ナトリウムや硝酸
アンモニウム等の硝酸塩、過酸化水素、二酸化マンガン
などが挙げられ、これらは0.25モル/J以上、好ま
しくは0.3〜0.7モル/−5− J程度の濃度で使用され得る。また、ハロゲン酸又はそ
の塩としては、塩酸、塩化アンモニウムなどが挙げられ
、これらは0.3モル/J以上、好ましくは0.4〜1
モル/J稈度の濃度で使用され得る。更に、短鎖カルボ
ン酸、オキシカルボン酸、これらの塩としては、ギ酸、
酢酸、ヒドロキシ酢酸、これらのナトリウム塩、アンモ
ニウム塩などが挙られ、0.3モル/J以上、好ましく
は0.3〜1モル/J稈度の濃度で使用され得る。
アンモニウム等の硝酸塩、過酸化水素、二酸化マンガン
などが挙げられ、これらは0.25モル/J以上、好ま
しくは0.3〜0.7モル/−5− J程度の濃度で使用され得る。また、ハロゲン酸又はそ
の塩としては、塩酸、塩化アンモニウムなどが挙げられ
、これらは0.3モル/J以上、好ましくは0.4〜1
モル/J稈度の濃度で使用され得る。更に、短鎖カルボ
ン酸、オキシカルボン酸、これらの塩としては、ギ酸、
酢酸、ヒドロキシ酢酸、これらのナトリウム塩、アンモ
ニウム塩などが挙られ、0.3モル/J以上、好ましく
は0.3〜1モル/J稈度の濃度で使用され得る。
なお、この電解液中にはEDTAや乳酸などの錯化剤を
添加することができる。
添加することができる。
この電解剥離液を用いてラック析出物を電解剥離する場
合は、ラックを陽極にして電解を行なうもので、この場
合陽極電流密度は5〜40A/dm特に30〜40A/
dイとすることができる。
合は、ラックを陽極にして電解を行なうもので、この場
合陽極電流密度は5〜40A/dm特に30〜40A/
dイとすることができる。
なお、液温は室温〜60℃特に40〜50℃とすること
ができる。
ができる。
また、!11離に際しては空気撹拌を行なうことが好適
である。
である。
本発明においては、上述した如き電解剥離液を−6−
用いて被処理物、例えば、ラックの析出物を電解剥離す
るものであるが、この場合この電解剥離液を連続的に電
解剥離槽から取り出してこれを沈降槽に導入し、この沈
降槽で電解剥離液中の沈殿物を沈降させて除去し、その
上澄液をtllf解剥11tりに返送すると共に、電解
剥離液に消耗成分を補給し、かつ前記沈降槽で沈降せし
められた沈殿物を適宜抜き出し、処理するものである。
るものであるが、この場合この電解剥離液を連続的に電
解剥離槽から取り出してこれを沈降槽に導入し、この沈
降槽で電解剥離液中の沈殿物を沈降させて除去し、その
上澄液をtllf解剥11tりに返送すると共に、電解
剥離液に消耗成分を補給し、かつ前記沈降槽で沈降せし
められた沈殿物を適宜抜き出し、処理するものである。
この点につき図面を参照して説明すると、図中1は電解
剥11It槽、2は沈降槽で、電解剥ll1t槽1内の
電解剥離液を引き抜きパイプ3を通して沈降槽2に連続
的に導入すると共に、この沈降槽2内で電解剥離液中の
沈殿物を沈降させ、その上澄液を返送パイプ4を通して
剥離槽1に戻すものである。
剥11It槽、2は沈降槽で、電解剥ll1t槽1内の
電解剥離液を引き抜きパイプ3を通して沈降槽2に連続
的に導入すると共に、この沈降槽2内で電解剥離液中の
沈殿物を沈降させ、その上澄液を返送パイプ4を通して
剥離槽1に戻すものである。
ここで、沈降槽2の内容積は剥離槽1のほぼ1〜3倍に
形成され、引き抜きパイプ3に介装されたバルブ5、ポ
ンプ6、及び返送パイプ4に介装されたバルブ7、ポン
プ8を制御することにより、電解剥離液の循環速度を電
解剥離槽1中の剥離液が1時間に1〜3回入れ代わる程
度とすることが−7= 好ましい。
形成され、引き抜きパイプ3に介装されたバルブ5、ポ
ンプ6、及び返送パイプ4に介装されたバルブ7、ポン
プ8を制御することにより、電解剥離液の循環速度を電
解剥離槽1中の剥離液が1時間に1〜3回入れ代わる程
度とすることが−7= 好ましい。
なお、沈降槽2の構造は特に制限されないが、第1図に
示すように沈降槽2の一側部に近接して仕切板9を設け
、比較的小容積の導入室10とこれより大容積の清澄化
室11とを形成して、導入室10に導入された剥離液を
矢印に示したように仕切板9の下側から清澄化室11に
導び(ようにすることが好適である。
示すように沈降槽2の一側部に近接して仕切板9を設け
、比較的小容積の導入室10とこれより大容積の清澄化
室11とを形成して、導入室10に導入された剥離液を
矢印に示したように仕切板9の下側から清澄化室11に
導び(ようにすることが好適である。
沈降槽2において剥離液から沈降分離された沈殿物は沈
降112の底部に沈殿するが、これは適宜抜き出して処
理を行なう。この場合、処理法としては、図示したよう
に沈殿物を濾過機12に送りこの濾過機12で沈殿物中
の水分を除去し、固形ケークを形成するようにすること
が好ましい。ここで、濾過機としてはフィルタープレス
機が有効であり、源側(濾布)として目の細かなもの、
特に0.5〜20μm程度のものを使用し、まず加圧原
液(剥離液)濾過を行ない、次いで第2図に示すように
圧搾板13内に圧縮空気を導入して圧搾板13を膨張さ
せ、これにより濾過板14と圧−8− 押板13との間にあるケーク15の水分を押し出し除去
する方式が最も効果的である。なお、この濾過工程で生
じた濾液はパイプ16を通して沈降槽2に戻す(場合に
より、剥離槽1に戻すこともできる。)また、前記ケー
ク15はこれを硫酸等の酸、或いは苛性ソーダ等のアル
カリに溶解し、電解を行なってケーク15より金属分を
回収することができる。
降112の底部に沈殿するが、これは適宜抜き出して処
理を行なう。この場合、処理法としては、図示したよう
に沈殿物を濾過機12に送りこの濾過機12で沈殿物中
の水分を除去し、固形ケークを形成するようにすること
が好ましい。ここで、濾過機としてはフィルタープレス
機が有効であり、源側(濾布)として目の細かなもの、
特に0.5〜20μm程度のものを使用し、まず加圧原
液(剥離液)濾過を行ない、次いで第2図に示すように
圧搾板13内に圧縮空気を導入して圧搾板13を膨張さ
せ、これにより濾過板14と圧−8− 押板13との間にあるケーク15の水分を押し出し除去
する方式が最も効果的である。なお、この濾過工程で生
じた濾液はパイプ16を通して沈降槽2に戻す(場合に
より、剥離槽1に戻すこともできる。)また、前記ケー
ク15はこれを硫酸等の酸、或いは苛性ソーダ等のアル
カリに溶解し、電解を行なってケーク15より金属分を
回収することができる。
また、上述した剥離液の処理において、連続的又は必要
時に適宜、剥離液に消耗成分、例えば酸化剤、アルカリ
等を補給するものであり、更に必要により汲み出しで失
なわれる成分を補給するものである。 本発明によれば
、被処理物を電解剥離液中に浸漬し、この被処理物に析
出された剥離すべき析出物を前記電解剥離液にて電解的
に剥離する方法において、電解剥離液を連続的に電解剥
離槽から取り出してこれを沈降槽に導入し、この沈降槽
で電解剥離液中の沈殿物を沈降させて除去し、その上澄
液を電解剥離槽に返送すると共に、電解剥離液に消耗成
分を補給し、かつ前記沈降槽−〇 − で沈降せしめられた沈殿物を適宜抜き出すようにしたこ
とにより、電解剥離液を殆んど廃棄することなく使用で
き、連続的にしかも確実に効率のよい安定した電解剥離
処理を行なうことができる。
時に適宜、剥離液に消耗成分、例えば酸化剤、アルカリ
等を補給するものであり、更に必要により汲み出しで失
なわれる成分を補給するものである。 本発明によれば
、被処理物を電解剥離液中に浸漬し、この被処理物に析
出された剥離すべき析出物を前記電解剥離液にて電解的
に剥離する方法において、電解剥離液を連続的に電解剥
離槽から取り出してこれを沈降槽に導入し、この沈降槽
で電解剥離液中の沈殿物を沈降させて除去し、その上澄
液を電解剥離槽に返送すると共に、電解剥離液に消耗成
分を補給し、かつ前記沈降槽−〇 − で沈降せしめられた沈殿物を適宜抜き出すようにしたこ
とにより、電解剥離液を殆んど廃棄することなく使用で
き、連続的にしかも確実に効率のよい安定した電解剥離
処理を行なうことができる。
即ち、電解剥離液中の沈殿物が連続的に除去され、かつ
消耗成分が補給されることにより、電解剥離液が常に一
定の状態に維持され、安定した処理がなされる。この場
合、電解剥離液中の沈殿物の除去は沈降槽にて沈降分離
されることによりなされるので、連続した沈殿物除去処
理、従って連続した電解剥離処理が行なわれるものであ
る。本発明者の検討によれば、濾過機を用いた沈殿物除
去処理では目詰りが生じ、連続した沈殿物除去処理が行
ない難く、それ故安定した電解剥離処理の点で問題があ
ったが、沈降分離法を採用することにより、処理の連続
化を確実に可能としたものである。
消耗成分が補給されることにより、電解剥離液が常に一
定の状態に維持され、安定した処理がなされる。この場
合、電解剥離液中の沈殿物の除去は沈降槽にて沈降分離
されることによりなされるので、連続した沈殿物除去処
理、従って連続した電解剥離処理が行なわれるものであ
る。本発明者の検討によれば、濾過機を用いた沈殿物除
去処理では目詰りが生じ、連続した沈殿物除去処理が行
ない難く、それ故安定した電解剥離処理の点で問題があ
ったが、沈降分離法を採用することにより、処理の連続
化を確実に可能としたものである。
しかもこの際、剥離液の循環速度を電解剥離槽中の電解
剥離液が1時間に1〜3回入れ換わる程度とし、沈降槽
内容積を剥離槽内容積の1〜3倍程度として、沈殿物の
沈降処理を行なわせることに−10− より、沈殿物の確実な沈降分離が行なわれるものである
。
剥離液が1時間に1〜3回入れ換わる程度とし、沈降槽
内容積を剥離槽内容積の1〜3倍程度として、沈殿物の
沈降処理を行なわせることに−10− より、沈殿物の確実な沈降分離が行なわれるものである
。
更に、沈降分離され、沈降槽から扱き出された沈殿物を
圧縮空気の圧力によりケーク中の水分を押し出すタイプ
のフィルタープレス機により濾過圧搾する場合は、水分
の少ない良好なケークが得られ、沈降槽の沈殿物を簡単
かつ確実に処理し得るので、本発明の電解剥離■稈全体
が非常に効率化される。
圧縮空気の圧力によりケーク中の水分を押し出すタイプ
のフィルタープレス機により濾過圧搾する場合は、水分
の少ない良好なケークが得られ、沈降槽の沈殿物を簡単
かつ確実に処理し得るので、本発明の電解剥離■稈全体
が非常に効率化される。
このように、本発明によれば電解剥離処理が確実に連続
化され、自動化され1qるので、自動めっきラインに本
発明電解剥離工程を組み入れることができるものである
。従って、本発明はプリント配線基板の電気銅めっきに
用いたラックに析出した不要な電着銅析出物の除去など
に有効に使用され、その自動めつき工程に組み入れるこ
とができる。
化され、自動化され1qるので、自動めっきラインに本
発明電解剥離工程を組み入れることができるものである
。従って、本発明はプリント配線基板の電気銅めっきに
用いたラックに析出した不要な電着銅析出物の除去など
に有効に使用され、その自動めつき工程に組み入れるこ
とができる。
なお、ラックの析出物を電解剥離除去する場合、電解剥
離液として酸化剤、ハロゲン酸類、短鎖カルボン酸もし
くはヒドロキシカルボン酸類を含む−11− ものを使用し、この剥離液中に生じる沈殿物を連続的に
除去しつつ温度40〜50℃、陽極電流密度30〜40
A/d−m’、空気撹拌の条件下で電解剥離を行なう場
合に効果的な処理が達成される。
離液として酸化剤、ハロゲン酸類、短鎖カルボン酸もし
くはヒドロキシカルボン酸類を含む−11− ものを使用し、この剥離液中に生じる沈殿物を連続的に
除去しつつ温度40〜50℃、陽極電流密度30〜40
A/d−m’、空気撹拌の条件下で電解剥離を行なう場
合に効果的な処理が達成される。
またこのようなラック析出物の剥離除去において、上述
した如き電解剥離処理を行なった後、更に浸漬剥離液に
で浸漬剥離液中することが好ましく、これにより電解剥
離処理において析出物を完全に剥離除去する必要がなく
なり、電解剥離液の液口担が軽減されると共に、全体と
して剥離処理時間が非常に短縮化される。即ち、ラック
を電解剥離液中に浸漬してラックに析出した析出物の一
部を電解的に剥離し、更に浸漬剥離液中に浸漬して残っ
た析出物を完全に溶解除去するようにした場合には、前
記電解剥離液を使用して上述した条件で電解剥離を行な
うことにより、例えば、プリント配線基板に電気銅めっ
きを35μm@度施したラックについては15〜30分
程度の時間で銅電着物の90〜98%が除去され、これ
を濃硝酸150yf/J以上、好ましくは200〜40
〇−12− 厭/Jの浸漬剥離液(S合によっては過酸化水素や塩化
第2鉄溶液等も使用できる)に浸漬することにより、3
〜15分程度で完全にラックの銅電着物を除去すること
ができるものである。なお、ラックの材質については特
に制限されないがステンレススチールが好適に用いられ
る。
した如き電解剥離処理を行なった後、更に浸漬剥離液に
で浸漬剥離液中することが好ましく、これにより電解剥
離処理において析出物を完全に剥離除去する必要がなく
なり、電解剥離液の液口担が軽減されると共に、全体と
して剥離処理時間が非常に短縮化される。即ち、ラック
を電解剥離液中に浸漬してラックに析出した析出物の一
部を電解的に剥離し、更に浸漬剥離液中に浸漬して残っ
た析出物を完全に溶解除去するようにした場合には、前
記電解剥離液を使用して上述した条件で電解剥離を行な
うことにより、例えば、プリント配線基板に電気銅めっ
きを35μm@度施したラックについては15〜30分
程度の時間で銅電着物の90〜98%が除去され、これ
を濃硝酸150yf/J以上、好ましくは200〜40
〇−12− 厭/Jの浸漬剥離液(S合によっては過酸化水素や塩化
第2鉄溶液等も使用できる)に浸漬することにより、3
〜15分程度で完全にラックの銅電着物を除去すること
ができるものである。なお、ラックの材質については特
に制限されないがステンレススチールが好適に用いられ
る。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明する。
下記組成
硝酸アンモニウム 20 a、/J塩化アジアン
モニウム 15 g/Jギ酸アンモニウム 15
り/J EDTA 10 g/Jの電解剥離液
を使用し、−を6〜8に維持しつつ、温度45℃陽極電
流密度35A/dイ、空気撹拌の条件でプリント配線基
板の電気銅めっき(約35μm)に使用したステンレス
スチール製のラックを連続的に浸漬し、ラックに付着し
た電着銅の剥離除去を行なった。
モニウム 15 g/Jギ酸アンモニウム 15
り/J EDTA 10 g/Jの電解剥離液
を使用し、−を6〜8に維持しつつ、温度45℃陽極電
流密度35A/dイ、空気撹拌の条件でプリント配線基
板の電気銅めっき(約35μm)に使用したステンレス
スチール製のラックを連続的に浸漬し、ラックに付着し
た電着銅の剥離除去を行なった。
−13−
この場合、電解剥離槽よりも内容積がほぼ2倍の第1図
に示す如き沈降槽に電解剥離槽中の電解剥暉液が1時間
に2回入れ換わる循環速麿で電解剥離液を導入し、剥離
槽中で沈殿物を沈時分離し、その上澄液を剥離槽に戻す
と共に、沈降槽中の沈殿物を適宜扱き出し、ケーク中の
水分を空気を圧搾することにより押し出し除去するタイ
プのフィルタープレス機を用いて処理し、また電解剥離
液には硝酸、アンモニア苛性ソーダを補給した。
に示す如き沈降槽に電解剥離槽中の電解剥暉液が1時間
に2回入れ換わる循環速麿で電解剥離液を導入し、剥離
槽中で沈殿物を沈時分離し、その上澄液を剥離槽に戻す
と共に、沈降槽中の沈殿物を適宜扱き出し、ケーク中の
水分を空気を圧搾することにより押し出し除去するタイ
プのフィルタープレス機を用いて処理し、また電解剥離
液には硝酸、アンモニア苛性ソーダを補給した。
上述した電解剥離処理を3ケ月間に亘って行なったが、
その間電解剥離液の廃棄を行なうことなく良好な電解剥
離処理が行なわれた。
その間電解剥離液の廃棄を行なうことなく良好な電解剥
離処理が行なわれた。
なお、電解剥離処理の時間は20分とし、電解剥離後、
濃硝酸350xl/jの浸漬剥離液に5分間浸漬するこ
とによりラックの銅電着物は完全に剥離除去された。
濃硝酸350xl/jの浸漬剥離液に5分間浸漬するこ
とによりラックの銅電着物は完全に剥離除去された。
また、前記フィルタープレス機により水分量の非常に少
ない固いケークが得られた。
ない固いケークが得られた。
第1図は本発明の実施に用いる装置の概略図、−14=
第2図はフィルタープレス機を用いて沈殿物を処理した
場合の圧縮空気によるケークの圧搾態様を示す概略断面
図である。 1・・・・・・電解剥離槽、 2・・・・・・沈降槽
3・・・・・・引き抜きパイプ、4・・・・・・返送パ
イプ12・・・・・・濾過機 出願人 三 和 防 錆 株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司 −15− 第1図 一521= ノ13
場合の圧縮空気によるケークの圧搾態様を示す概略断面
図である。 1・・・・・・電解剥離槽、 2・・・・・・沈降槽
3・・・・・・引き抜きパイプ、4・・・・・・返送パ
イプ12・・・・・・濾過機 出願人 三 和 防 錆 株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司 −15− 第1図 一521= ノ13
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、被処理物を電解剥離液中に浸漬し、この被処理物に
析出された剥離すべき析出物を前記電解剥離液にて電解
的に剥離する方法において、電解剥離液を連続的に電解
剥離槽から取り出してこれを沈降槽に導入し、この沈降
槽で電解剥離液中の沈殿物を沈降させて除去し、その上
澄液を電解剥離槽社返送すると共に、電解剥離液に消耗
成分を補給し、かつ前記沈降槽で沈降せしめられた沈殿
物を適宜抜き出すことを特徴とするめつき析出物の電解
剥離方法。 2、沈降槽から抜き出された沈殿物を圧縮空気の圧力に
よりケーク中の水分を押し出すフィルタープレス機によ
り濾過圧搾するようにした特許請求の範囲第1項記載の
方法。 −1−
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10238683A JPS59229500A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | めつき析出物の電解剥離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10238683A JPS59229500A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | めつき析出物の電解剥離方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59229500A true JPS59229500A (ja) | 1984-12-22 |
Family
ID=14326007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10238683A Pending JPS59229500A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | めつき析出物の電解剥離方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59229500A (ja) |
-
1983
- 1983-06-08 JP JP10238683A patent/JPS59229500A/ja active Pending
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