JPS59222290A - 汚廃液中の有害物質除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、生活雑排水、産業及び工場廃水中に含まれて
いるノルマルヘキサンの除去方法に関する０ 近時、化学の進歩に伴い、河川、湖沼、海域の家庭、集
落、ホテル、旅館、寮他の雑排水及び産業、工場廃水に
より、汚濁並富栄養化の問題が騒がれ、この対策に苦慮
している現状である。この公害物質を総称ノルマルヘキ
サン（油脂、洗剤のほか原素といわれる物質）といい、
これ等は各処理施設の処理能力を低下させるのと、又、
公害にか＼る汚染源であることも周知の通りである。

特に、各種処理装置より排出される放流水中には、アン
モニア性窒素並びに燐酸等の原素が含まれており、植物
性プランクトン（アオコ）の増殖しやすい富栄養化の原
因となり、この植物性プランクトンは季節により増殖さ
れ、又枯死するため、湖沼等の自浄に最も障害をもたら
すものであるのと、各種汚水処理装置もこれ等により機
能を妨げられていることも現実の通りで、このノルマル
ヘキサン除去は、排、廃水処理を無公害とすることに必
要欠くことのできないものである。

本発明は、この現況に着目し、処理装置中の矛１次処理
装置内に除去設備を組入れ、最も有害であるノルマルヘ
キサンを除去し、処理装置の円滑、かつ、安全な運転と
、更に効果を大ならしめ、公害の基因となる物質を除去
することを目的とするものである。

次に、Ｉｆ／−１図に示したノルマルヘキサン除去装置
に基いて、本発明方法の実施例について説明する。この
莢施例は、河川、湖沼、海域などの家庭、集落、ホテル
、旅館、寮他の生活雑廃水中に含まれている油脂、洗剤
その他の原素といわれるノルマルヘキサンの除去方法で
ある。

先づ、上述のような夾雑物や公害物質を含む生活兼廃水
を貯槽（１）内に流入させ、汚水及び比重の重いものを
該貯槽（１）内に沈降せしめるとともに、軽浮上物質は
浮上させ、汚廃水の流れを利用してこの軽浮上物質をレ
ーキ装置（２）によって除去する。

一方、貯槽（１）下部に沈降した比重の重い夾雑物はパ
イプ（３）によって吸い上げ、この貯槽（１）に隣接せ
（３） る別の貯槽（４）に流入させ、別途処理する。軽浮上物
質がレーキ装置（２）によって除去された汚廃水は、樋
（５）を介してノルマルヘキサン分ｗ１曝気槽（６）に
誘導される。

この分離曝気槽（６）に貯留されたノルマルヘキサンを
含む汚廃水は該槽（６）において曝気ノズル（力より噴
出するエアにて洗剤による泡の発生を起さない程度にエ
ア攪拌せしめられ、可急的速やかに、軽浮上物質（ノル
マルヘキサンなど）と、比重のある汚水並びに有機物質
などに分離しやすい状態とする。このように分離し易い
状態となった汚廃水を、分離曝気槽（６）の下部に設け
た開口（８）から、牙／ノルマルヘキサン分離槽（９）
へ移流させる。このとき、移流する汚廃水は、相当の流
速で移流するのと、分離曝気槽（６）の水深により圧力
がか＼す、（４ｔ） 従って、２／ノルマルヘキサン分離槽（９）で吹上げ状
態を惹起する。このことは、浮上したノルマルヘキサン
を攪拌し、静止を妨げるので、上記分離曝気槽（６）と
牙ｌノルマルヘキサン分離槽（９）とを連通させる上記
開口（８）の上部及び左右を囲うように、牙！ノルマル
ヘキサン分離槽（９）の開口壁部に天壁を前方にｍｌけ
下向き弧状としたカバー（１０）を設け、移流直後の汚
廃水の吹上げ現象を防止させ、浮上ノルマルヘキサンを
静止状態とする。。

牙！ノルマルヘキサン分離槽（９）に流入した汚廃水は
、同様な条件をもつ開口αυを経て矛コノルマルヘキサ
ン分離槽（１２１内に移流される。このとき比重のある
汚水及び有機物質は、矛ｌ及び矛コノルマルヘキサン分
離槽（９１，（１２１の下底壁に設けられた、左右のテ
ーパー壁（１３１，ｆｉ４）によって構成せる流路００
゜０６）を流速を速めながら移流し、流路０６）端に連
設せる移流管ピット０ηに至り、該移流管ピット０７）
に下端を臨ませた移流管（＋８１にて吸い上げられ、汚
水安定層０９によって形成された樋（２０）に流出され
る。汚水移流管０８）よりの流入汚廃水は流速を高め移
流してくる。そのため樋（２０）に流入するときは、波
状を起こし、次の樋に及ぼす影響が大きいので、水流を
静止するためバッフル（２１）を設け、両側バッフルｆ
ｆｌ＋＋内の汚廃水の波状流を防ぐ構造体としである。

そして樋（２υで静流化された汚廃水は、汚水安定層０
傷に設けた三角ノツチを有する開口（２２から配分水堰
（２３）によって囲まれた樋内）に平均して流入し、こ
の配分水堰０３）に設けた開口（２６）を経て調整槽（
図示略）に送られ、公知の手段で浄化されて放流せしめ
られる。

一方、上記牙ｌノルマルヘキサン分離槽（９）において
、分離浮上せしめられたノルマルヘキサンなどの浮上物
は、該分離槽（６）の対向壁間に橋架され、かつ、木表
面下／！出程度に没設されるとともに、上面を開口した
直径約／２ｔｊｍ程度の複数の管（２７）内に流入し、
これらの管（２）を結合した管寄せ（２８）を経て排出
操作弁−を有するノルマルヘキサン排出管（３０に供給
し、該排出管Ｃ３０）からノルマルヘキサン貯留槽Ｇｌ
＋に流入貯留せしめる。

牙コノルマルヘキサン分離槽ａ２）は、矛ｌノルマルヘ
キサン分離槽（６）と同様であるが、矛！ノルマルヘキ
サン分離槽で除去し得なかったノルマルヘキサンやゴム
、毛髪などの浮上物を再度除去し、有効的な有機性物質
含有汚水とするもので、浮上したノルマルヘキサンなど
は、管罰、管寄せ（２匂。

（７） ノルマルヘキサン排出管（３０）を経てノルマルヘキサ
ン貯留槽Ｓ１）内に流入貯留せしめられる。

上述のノルマルヘキサン排出管（３０）は、開口を有す
る管（５）の下部に約コθ薗の堅管（３りをとりつけ、
この各堅管０２を連通させた管寄せ（２８）に一端が連
結されたもので、この排出管Ｃ３０）は、約５０分のｌ
の勾配とし、濃度のあるノルマルヘキサン排除物質が加
速度に流下するようにしである。そしてこの排出管（至
）の末端に排出操作弁（バタフライ弁）翰をとりつけ、
その開閉により排除物質がノルマルヘキサン貯留槽ｔｌ
ｌ）に流入する。ノルマルヘキサン排除物質の状態を観
察し、濃い場合にはバタフライ弁（イ）を閉め、更に＞
１．牙コノルマルヘキサン分離槽（９）、θ２を満杯と
し、この操作を繰り返し行うことによりノルマルヘキサ
ン除去装置、詳しく（？） は、管（２７）　、製管０２．管寄せ（至）、排出管Ｇ
Ｏ）、バタフライ弁（イ）の付着物の排出をし、次期操
作に支障のないように処置する。

またバタフライ弁翰は、槽上において操作に便利なもの
とするために、バタフライ弁頓にハンドル０→を付設し
、スラブ上に突出させ、槽上にて操作できるよう設備し
、また、バタフライ弁翰上にマンホールをとりつけ、排
水の状態を観察するとともに、バタフライ弁（イ）の補
修も行えるように設備する。そして、ノルマルヘキサン
貯留槽！１）においては、処理施設の規模により容量を
決定し、ノルマルヘキサンの貯留量を観察し、適宜バツ
キュームカーなどにて公共の廃棄物処理施設に搬出処分
する。

また上記貯槽（４）に流入せしめられた比重の重い夾雑
物が汚廃水は、千鳥状に配設された隔壁ｐ、ｉ）によっ
て構成された蛇行状の流路を通って、上記分離曝気槽（
６）に流入され、ノルマルヘキサン除去がなされるもの
である。

次に、牙ｔ〜２図について、工場、産業汚廃水処理につ
いて説明する。

汚廃水は受入槽Ｇツに流入され、この槽（３ツ内の汚廃
水は下底部のものからポンプアップされ、貯槽（（２）
に送られる。該貯槽（列内の汚廃水に含まれている軽浮
上物は、上記矛ｌ実施例で示したと同様構造の管（３７
）　、堅管弼、管寄せ（３１，排出管曲を経て、ノルマ
ルヘキサン貯留槽（４１）内に流出せしめ、同時に沈降
物質をポンプアップし、ノルマルヘキサン貯留槽（４１
）に供給する。貯槽（３６）内の汚廃水は、その中間層
からパイプ（４笥によって分離曝気槽（４３に送られ、
こ−でオアｌ実施例と同様な曝気ノズル（４４）から噴
出するエアにて泡の発生を起こさない程度に攪拌され、
可及的速やかに軽浮上物質（ノルマルヘキサンなど）と
、比重のある汚水並びに有機性物質などとに分離しやす
い状態とする。そしてこの状態の汚廃水を、上記才／実
施例と同様な操作で矛／ノルマルヘキサン分離槽（４勺
から矛コノルマルヘキサン分離槽（４６）へと移流させ
、両分船種（４Ｆ９　、　（４６）で浮上分離されたノ
ルマルヘキサンなどは、】１１実施例と同様な手段でノ
ルマルヘキサン貯留槽（４１）に流入させ、また２２ノ
ルマルヘキサン分離槽（４Ｇ）のピット（４ηに至った
有機性物質などは、ポンプアップによりノルマルヘキサ
ン貯留槽圓に送られ、またノルマルヘキサンを含まない
牙コノルマルヘキサン分離槽（４６）内の汚廃水は、そ
の中間層からパ（ｌ／　） イブ囮にて調整槽（図示略）に移流せしめられ、ノルマ
ルヘキサン貯留槽（４０内の廃棄物質は、上記実施例同
様にバキュームカーなどで公共の廃棄物処理施設に搬出
処分せしめる。

このように本発明によれ４丁、従来の牙１次処理装置内
に本発明の除去装置をｆＦ［み入れ、合理的手段によっ
て最も有害である汚廃水中のノルマルヘキサンを除去せ
しめ、ノルマルヘキサン、詳しくは、アンモニア性窒紫
や燐酸などの原素を微量とした汚廃水を処理装置に供給
させ、排、廃水処理を無公害とすることができるなど優
れた特長を有するものである。

【図面の簡単な説明】

図は本発明方法を実施するに当り使朋する装置の一例を
示し、ｌ−／図は生活汚廃水のノルマルへ（／、２　　
） キサンを目的とした装置の平面図９才２図は牙／図Ａ−
Ａ線の断面図、第３図は牙１図Ｂ−Ｂ線の断面図２オグ
図は第１図０−ａ線の断面図、第５図は工場、産業汚廃
水のノルマルヘキサン除去装置の平面図１．ｔに図は矛
！図Ｄ−Ｄ線の断面図。 】・７図は牙！図Ｅ−１１ｉ線の断面図である。 （１）・・・貯槽、（２）・・・レーキ装置、（６）・
・・分離曝気槽。 （７）・・・曝気ノズル、　（８）・・・開口、　（９
）・・・１１１ノルマルヘキサン分離槽、００・・・カ
バー、Ｑｌ）・・・開口、０２・・・オコノルマルヘキ
サン分離槽、αη・・・ビット、　（＋８＋・・・移流
管、＠・・・管、　（２８）・・・管寄せ、ＧＯ）・・
・排出管、Ｇ１）・・・ノルマルヘキサン貯留槽。 特　許　出　願　　人　　　　岩　　　城　　　秋　　
　雄昭和！！年ｄ月、２／　日 昭和、ｔ♂年　　　特　願第りｄダ１９　月３、　補正
をする者 事件との関係　出願人 ４、代理人 ６、　補正により増加する発明の数 ７、補正の対象 明細書 ／明細書牙λ頁矛１４を行並に矛３頁矛３行に記載のあ
る「原素」を「元素」と補正。 以　　上 昭和！１年　２月　ｒ　Ｂ 昭和！ｌイ１　　　　特　　１ｉｉｆｉ　第ｔｔｙｔｙ
−ｙ３　補正をする者 小作との関係　出願人 氏　　　ｆ′１（名（どｊ、） ４　　代　　理　　人 住所　　東京都角イ６区百人町１−２２−２７　太陽ビ
ル７　補正の対象 明細書 ８　拘１ｉ　ｉＦ″）　ｉ’ｉ　ｆＶ　　　別紙のとお
りｌ明細書牙グ頁牙７行及び矛１３頁】アワ行の「原素
」を「元素」と補正。 ユ同矛ｙ頁、ｉ１／４を行の「夾雑物は」を「有機物は
汚水と共に」と補正。 ３同牙！頁牙１行の「可急的」を「可及的」と補正。 グ同２ｉｉ頁牙／行の「夾雑物が」を「砂礫と」と補正
。 ！同牙／４’頁矛／行の「キサン」の次に「の分離除去
」を加入。 以　　上 ５１

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 硬質および夾雑物質を取除いた汚水を、ノルマルヘキサ
   ン分離曝気槽に誘導してエア攪拌し、可及的速やかに軽
   浮上物質と、比重のある汚水および有機物質などとを分
   離し易い状態としたのち、該分離曝気槽内の汚水を、攪
   拌防止機構を備えた下部開口より次槽の分離槽に対して
   吠き上げ状態が生じないように移流させ、該分離槽にお
   いて、軽浮上物質は槽上部に静止状態で滞留させるとと
   もに、比重のある汚水および有機物質は槽の底部を流し
   、浮上滞留せるノルマルヘキサンは、該分離槽の木表面
   下に没設した除去装置により順次抽出してノルマルヘキ
   サン貯留槽に貯留させ、バツキューム力−などにより適
   時公共の処理施設に搬出処分し、一方、ノルマルヘキサ
   ン以外の汚水は、汚水移流管にて既設の調整槽に流出す
   ることを特徴とするノルマルヘキサン除去方法。