JPS59198649A - Electron beam device - Google Patents

Electron beam device

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Publication number
JPS59198649A
JPS59198649A JP7448183A JP7448183A JPS59198649A JP S59198649 A JPS59198649 A JP S59198649A JP 7448183 A JP7448183 A JP 7448183A JP 7448183 A JP7448183 A JP 7448183A JP S59198649 A JPS59198649 A JP S59198649A
Authority
JP
Japan
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bias voltage
beam current
value
signal
cathode
Prior art date
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Pending
Application number
JP7448183A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Tsukamoto
塚本 清一
Hideki Kobayashi
英樹 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS59198649A publication Critical patent/JPS59198649A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/24Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for

Abstract

PURPOSE:To express the near end of a cathode life by monitoring the changing degree of a parameter setting an instruction signal controlling a beam current, from the initial value immediately after cathode renewal. CONSTITUTION:Bias voltage control circuits 5 and 6 feedback-controlling the bias voltage to be impressed on an electron gun and beam current control devices 56 and 31 correcting a bias voltage setting signal Vg while comparing effective value Iba of the beam current in the constant state after beam irradiation with the current set value Ibc are provided. A cathode life can be known by checking the changing degree from the initial value, after cathode renewal, of the parameter setting said bias voltage setting signal Vg and a filament can be renewed in a mass production line , while selecting timing not causing trouble to production, thus bringing industrial big advantage.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、高速の電子ビームをワークに照射し、穴あ
け、溶接、溶解、熱処理などの加工を行う電子ビーム装
置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electron beam apparatus that irradiates a workpiece with a high-speed electron beam to perform processing such as drilling, welding, melting, and heat treatment.

この釉は子ビーム装置では、一般にビーム電流を制御し
て所望の加工を行わせるが、多数のワークを次々と均一
に加工するためにはビーム電流の鞘贋や再現性を良好に
保つ必要がある。そのため、ビーム電流の値を検出し設
定値と比較してその偏差がなくなるようにフィードバッ
ク制御するビーム電流自動制御回路を用いることが多い
This glaze is used in child beam devices to generally control the beam current to perform the desired processing, but in order to uniformly process a large number of workpieces one after another, it is necessary to maintain good consistency and reproducibility of the beam current. be. Therefore, an automatic beam current control circuit is often used that detects the value of the beam current, compares it with a set value, and performs feedback control so that the deviation is eliminated.

ところで加工用電子ビーム装置では一般にカソード(又
はフィラメント)が数十時間乃至数百時間の#命しかな
く、時々交換しなければなら々い。
However, in electron beam processing equipment, the cathode (or filament) generally has a lifespan of only several tens to hundreds of hours, and must be replaced from time to time.

ビーム電流自動制御回路を用いるとカソードが徐々に損
耗して行くにもかかわらず、ビーム電流は変化を生じな
いように自動補正され、ある時突然(フィラメントの断
線などで)設定したビーム電流が得られなくなることが
多い。これでカソード寿命が尽きたことになシ、カソー
ド交換作業を行うことになる。カソードの寿命が終シに
近すいたことを何らかの方法で知ることができれば、使
用者側の都合のよい時にカソード交換作業に入ることが
でき生産のペースを乱さないですむなどの利点が得られ
る。
By using an automatic beam current control circuit, the beam current is automatically corrected so that it does not change even though the cathode gradually wears out, and at some point suddenly (due to a filament breakage, etc.), the set beam current is obtained. It often becomes impossible to do so. Now that the cathode has reached the end of its lifespan, the cathode must be replaced. If there is some way to know when the cathode is nearing the end of its lifespan, the user can start replacing the cathode at a time convenient for him, which would have the advantage of not disrupting the pace of production. .

この発明は、ビーム電流を急速に立上らせたシ低下させ
たりすることが可能で比較的安価かつ高信頼度のビーム
電流制御装置を備え、カソード寿命が終シに近いことを
表出できる電子ビーム装置を提供するものである。この
発明は、また、ビーム電流の精度や再現性が良好で同種
のワークをくり返し多数加工するのに適した電子ビーム
装置でカソード寿命のため突然加工不可能に々ることを
防止することも目的としている。
This invention is equipped with a relatively inexpensive and highly reliable beam current control device that is capable of rapidly increasing and decreasing the beam current, and can indicate that the cathode life is nearing its end. The present invention provides an electron beam device. Another purpose of this invention is to prevent an electron beam device that has good beam current accuracy and reproducibility and is suitable for repeatedly processing many workpieces of the same type from suddenly becoming unable to process due to cathode life. It is said that

そのため本発明の電子ビーム装置では、ビーム電流が立
ち上った後、定常状態を保つ期間内の一部期間にビーム
電流の値を検出し、その検出値とビーム電流設定値とを
比較して補正信号を作り、ビーム電流を制御する指令信
号発生部に加えるようにしたビーム電流制御装置を用い
、該指令信号を定めるパラメータがカソード更新直後の
初期値から変化する度合いをコンパレータ68でモニタ
している。
Therefore, in the electron beam device of the present invention, after the beam current rises, the value of the beam current is detected during a part of the period during which the steady state is maintained, and the detected value is compared with the beam current setting value to generate a correction signal. A beam current control device is used in which a command signal is generated and applied to a command signal generating section that controls the beam current, and a comparator 68 monitors the degree to which the parameter defining the command signal changes from the initial value immediately after the cathode update.

以下に図を用いてこの発明の内容を述べる。The content of this invention will be described below using figures.

第1図は不発明による電子ビーム装置の一実施例の要部
説明図である。電子ビーム装置でビーム電流を制御する
には、電子ビーム源、すなわちカソード又はフィラメン
ト51、グリッド52、アノード53からなる電子銃の
グリッド−カソード間電圧(グリッドバイアス電圧)に
よるのが一つの方法である。34は加速電源% 55は
被照射物、54は電子ビームである本図はこのグリッド
バイアス電圧によシビーム電流の大きさをコントロール
する方式の一例であシ、グリッドバイアス電源用変成器
57.および整流平滑回路58の入力を与える単巻変成
器1と同様な電圧波形をフィードバック用変成器2に加
えて整流平滑回IM3によジグリッドバイアス電圧にほ
ぼ比例する直流電圧をとシ出し、バイアス電圧設定回路
31からの信号波形4と比較してそれに倣うようフィー
トノくツク制御する。ここに述べたバイアス電圧設定回
路31を詳述したものが、第3図である。図で、61は
バイアス電圧演算回路で、外部から与えられるビーム電
流目標値Ib。と加速電圧Vpおよび、あらかしめプリ
セットされる電子銃のμ、係数Kを元に、3極管のビー
ム電流の公式: を変形した式: によりバイアス電圧を演算し、バイアス電圧設楚信号■
2oを得る。62はバイアス電圧補正回路で、演算回路
61で用いた式(1)のKの値を補正するものである。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a main part of an embodiment of an electron beam device according to the invention. One way to control the beam current in an electron beam device is to use the grid-cathode voltage (grid bias voltage) of an electron beam source, that is, an electron gun consisting of a cathode or filament 51, a grid 52, and an anode 53. . 34 is an accelerating power source; 55 is an object to be irradiated; and 54 is an electron beam. A voltage waveform similar to that of the autotransformer 1 which provides the input to the rectifying and smoothing circuit 58 is applied to the feedback transformer 2, and a DC voltage approximately proportional to the digrid bias voltage is outputted by the rectifying and smoothing circuit IM3. It compares with the signal waveform 4 from the voltage setting circuit 31 and performs foot-knock control so as to follow it. FIG. 3 shows a detailed explanation of the bias voltage setting circuit 31 described here. In the figure, 61 is a bias voltage calculation circuit, and the beam current target value Ib is given from the outside. Based on the accelerating voltage Vp, the preset electron gun μ, and the coefficient K, the bias voltage is calculated by the formula for the triode beam current: and the bias voltage setting signal ■
Get 2o. Reference numeral 62 denotes a bias voltage correction circuit that corrects the value of K in equation (1) used in the arithmetic circuit 61.

すなわち、ビームの立上シ以前は、係数1(のプリセッ
ト値に、の発生器65の電圧を、切替スイッチ66で選
択してに二KOとして演算回路61が演算するが%電子
銃、特にフィラメントの特性変化などによりKの値は少
し変化することがある。そこで、実際にバイアス電圧設
定信号としてバイアス制御4回路(偏差増幅器5と、サ
イリスタ回路6)に出力された′電圧Vgoと検出抵抗
35で検出される実際のビーム電流1ha、実際のビー
ム電流が立上った後、定常状態を保つ期間内の1部期間
−第2図の11,12..13−にビーム電流指令信号
発生器56から出されるサンプルホールド倍力59によ
り、サンプルホールド回路63に、前記K】の値をに1
′として保持し、サンプルホールド回路にデータが有る
か、無いがを記憶するフリップフロップ64をセット(
記憶有シ)して、切替スイッチ66をK。側からに1′
側に切替える。これにょシ、演算回路61はに−Kl′
として演算をやシ直し、ビーム電流指令値Ibcと実際
値Ibaの差をなくしてゆくものである。
That is, before the beam starts up, the voltage of the generator 65 is selected by the selector switch 66 to a preset value of coefficient 1, and the calculation circuit 61 calculates 2 KOs. The value of K may change slightly due to changes in the characteristics of the K. Therefore, the voltage Vgo output to the four bias control circuits (deviation amplifier 5 and thyristor circuit 6) and the detection resistor 35 are actually used as bias voltage setting signals. After the actual beam current rises, the beam current command signal generator is activated during a part of the period during which the steady state is maintained - 11, 12...13 in Figure 2. A sample and hold booster 59 output from 56 causes the sample and hold circuit 63 to set the value of K to 1.
', and set a flip-flop 64 to store whether there is data in the sample and hold circuit (
(with memory), and then press the changeover switch 66 to K. 1' from the side
Switch to the side. In this case, the arithmetic circuit 61 is -Kl'
The calculation is slightly revised to eliminate the difference between the beam current command value Ibc and the actual value Iba.

尚、サンプルホールドの保持するデータは5次のサンプ
ル信号59が入るか、リセット67が入るまでは保持さ
れている。もし、ビーム電流の可変幅が広く、電子銃の
特性の非直線により1つのに1のデータで全ビーム電流
範囲をカバーし切れない時は、ビーム電流の可変幅を数
等分し、各々の可変域について、各々1個づつのKを与
える補正回路62.サンプルホールド63.切替スイッ
チ66゜フリップフロップ64.プリセット値発生器6
5’z等分した数だけ用意して、選択的に使用する(図
示せず)。ここで、フィラメント交換完了信号71で、
データホールド回路70に蓄えられたパラメータにの値
の初期値と、パラメータにの更新値をコンパレータ68
でモニターL、Kの値がある範囲(例えば±15%)の
外に10回連続してはみ出たときは警報69を発するよ
うにしておけば、フィラメント加熱電流の低下とか電子
銃のセツティング不良とか全見出し適切な処置を施せ、
これらの不具合が見出せないときはフィラメントの損耗
が進んでまもなくその寿命が終るということを察知でき
ることになる。偏差増幅器5とサイリスク回路6はここ
で述べたに1の値を時々刻々と更新してゆくフィードバ
ックループ内にあシ。
Note that the data held by the sample hold is held until the fifth-order sample signal 59 is input or a reset 67 is input. If the variable width of the beam current is wide and it is not possible to cover the entire beam current range with one-to-one data due to the non-linear characteristics of the electron gun, divide the variable width of the beam current into several equal parts and A correction circuit 62 for providing one K for each variable range. Sample hold 63. Selector switch 66° flip-flop 64. Preset value generator 6
A number of 5'z equal parts are prepared and used selectively (not shown). Here, at the filament exchange completion signal 71,
A comparator 68 outputs the initial value of the parameter stored in the data hold circuit 70 and the updated value of the parameter.
If the monitor L and K values are outside a certain range (for example, ±15%) 10 times in a row, alarm 69 will be issued, which will prevent a decrease in the filament heating current or a poor electron gun setting. Please take appropriate measures under all headings.
If these defects are not found, it can be determined that the filament is wearing out and will soon reach the end of its life. The deviation amplifier 5 and the SiRisk circuit 6 are placed in a feedback loop that updates the value of 1 from time to time as described here.

サイリスタ回路6は商用周波数交流電源7から給電され
ている。こうして電子銃(51〜53)のグリッドバイ
アス電圧をほぼ16号波形4に類似させるように制御で
きる。
The thyristor circuit 6 is supplied with power from a commercial frequency AC power source 7. In this way, the grid bias voltage of the electron guns (51 to 53) can be controlled to be approximately similar to No. 16 waveform 4.

そうすると第2図に示すように時間と共に変化するビー
ム電流波形が得られる。前記したようにビーム電流が定
常値になる期間の一部11,12゜13において、それ
ぞれビーム電流の値全検出するが、その検出方法は、例
えば、期間11、又は12.13での平均的値、あるい
は、交流リップルの影響を少なくするため、リップル周
波数に同期してサンプリングした値又は、放電等による
ノイズを取シ除くため、複数回サンプリングして、前後
の値といちじるしい相異のある値は、それを除くような
データの処理を行なった値を取シ出す方法を組み合わせ
て使用する。以上に示すとおシ、フィードバック制御は
、定常状態においてのみ、サンプリングの形で行なわれ
、ビームの立上シ/立下シ期間は、オープンループ制御
となるため、立上シ/立下)部分において、フィードバ
ック信号が不連続となる事によ)生じがちな、オーツく
−シュート、アンダーシーートもなくな〕、再現性の良
い、電子ビーム加工ヲ<多返し行わせ得る。
In this case, a beam current waveform that changes over time as shown in FIG. 2 is obtained. As mentioned above, the full value of the beam current is detected in parts 11, 12 and 13 of the period when the beam current reaches a steady value. value, or a value sampled in synchronization with the ripple frequency to reduce the influence of AC ripple, or a value sampled multiple times to remove noise due to discharge, etc., and has a significant difference from the previous and subsequent values. uses a combination of methods to extract values obtained by processing the data to remove them. As shown above, feedback control is performed in the form of sampling only in the steady state, and open loop control is performed during the beam rise/fall period. There are no automatic shoots or undersheets that tend to occur due to discontinuity of the feedback signal, and the electron beam processing has good reproducibility and can be repeated many times.

さらに、第1図のバイアス電圧フィートノくツクサブル
ープは高電圧部の影響を受けないので充分早い応答性を
発揮し、高電圧回路入力電源周波数食上げなくても急速
なビーム電流の立ち上)等を可能にする。
Furthermore, since the bias voltage feed sub-loop shown in Figure 1 is not affected by the high voltage section, it exhibits sufficiently fast response and can prevent rapid beam current rise without increasing the frequency of the high voltage circuit input power supply. enable.

以上のように、カソード(フィラメント)寿命が終シと
なる前に、予み寿命終了が近いことを知ることができ、
不発明の電子ビーム装置は大量生産ラインなどでの使用
に際し、生産に支障を与えないタイミングを選んでフィ
ラメントの更新を行うことができ、工業上大きな利点が
得られる・
As described above, you can know in advance that the cathode (filament) is nearing its end before it reaches its end.
When the uninvented electron beam device is used in mass production lines, it is possible to renew the filament at a time that does not disrupt production, which provides great industrial advantages.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は不発明の電子ビーム装置用ビーム電流制御回路
の一実施例を示す要部説明図、第2図はビーム電流の時
間的変化の一定を示す波形図、第3図は、第1図のバイ
アス電圧設足回路31を詳説する図である。 1・・・単巻変成器、2・・・・・変成器、3・・・・
・整流平滑回路、4・・・・・・信号波形、5・・・・
偏差増幅器、6・・・・・・サイリスタ回路、8,9.
10・・・・ビーム電流が定常値になる期間、11,1
2,13,8゜9.10で示す定常値になる期間内の1
部期間、56・・・・・ビーム電流指令信号発生器、5
7・・・・バイアストランス、58・・・・・バイアス
整流器% 51・・・・フィラメント、52・・・・・
グリッド% 53・・・・・・アノード、54・・・・
・電子ビーム、55・・・・・亀子ビーム被照射物、3
4・・・・加速電圧源、35・・・・・・ビーム電流検
出抵抗、31・・・・・バイアス電圧設定器、59・・
・・・サンプルホールド信号、67・・・・・・サンプ
ルホールドリセット信号、61・・・・・バイアス′転
圧演算回路、62・・・・・・バイアス電圧補正回路、
63・・・・・・サンプルホールド回路、64・・・・
・・フリップフロップ、65・・・・・・電子銃の比例
係数にの初期値K。
FIG. 1 is an explanatory diagram of the main parts of an embodiment of the beam current control circuit for an electron beam device according to the invention, FIG. 2 is a waveform diagram showing constant temporal changes in the beam current, and FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating in detail the bias voltage addition circuit 31 shown in the figure. 1...Single-turn transformer, 2...Transformer, 3...
- Rectification and smoothing circuit, 4... Signal waveform, 5...
Deviation amplifier, 6... Thyristor circuit, 8, 9.
10... Period when the beam current reaches a steady value, 11,1
2, 13, 8° 1 within the period of steady value shown in 9.10
Part period, 56... Beam current command signal generator, 5
7...Bias transformer, 58...Bias rectifier% 51...Filament, 52...
Grid% 53... Anode, 54...
・Electron beam, 55... Kameko beam irradiated object, 3
4... Accelerating voltage source, 35... Beam current detection resistor, 31... Bias voltage setting device, 59...
...Sample hold signal, 67...Sample hold reset signal, 61...Bias' compaction calculation circuit, 62...Bias voltage correction circuit,
63...Sample hold circuit, 64...
...Flip-flop, 65...Initial value K for the proportional coefficient of the electron gun.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電子銃のグリッドーカンード間に印加するバイア
ス電圧を指令信号発生部(バイアス電圧設定回路)から
のバイアス電圧設定信号に基づき、バイアス電圧検出器
からの検出信号と比較して、フィードバック制御をする
バイアス電圧制御回路によシ供給するようにし、ビーム
照射を開始しビーム電流が立上った後、定常状態を保つ
期間の一部期間にビーム電流の実際値を検出し、その実
際値とビーム電流設定値とを比較してバイアス電圧設定
信号を補正するようにした電子ビーム装置用ビーム電流
制御装置を有し、該バイアス電圧設定信号を定めるパラ
メータのカソード更新直後の初期値からの変化度合いを
チェックしてカソードを交換すべき時期を指示させる如
くした電子ビーム装置。 に) ビーム照射開始時に電子銃のグリッドーカンード
間に印加するバイアス電圧を、バイアス電圧設定回路か
らの設定信号に基づき、バイアス電圧検串器からの検出
信号と比較して、フィードバック制御をするバイアス電
圧制御回路によシ供給するようにし、前記バイアス電圧
設定回路として、ビーム電流目標値、および加速電圧検
出器からの加速電圧検出値から、所要のビーム電流を得
るだめの、バイアス電圧設定信号を、電子銃の特性に合
わせて算出するような演算回路、およびビーム照射を開
始しビーム電流が立上った後、定常状態を保つ期間内の
一部期間にビーム電流の実際値を検出し、その実際値と
バイアス電圧設定イ=号とを比較して、バイアス電圧補
正信号を作シ、バイアス電圧設定信号を補正して、常に
所望のビーム電流値が得られるようにするための補正回
路を設けたビーム電流制御装置を有し、該バイアス信号
設定信号を足めるパラメータのカソード更新直後の初期
値からの変化度合いをチェ、りしてカソードを交換すべ
き時期を指示させる如くした電子ビーム装置。
(1) Based on the bias voltage setting signal from the command signal generator (bias voltage setting circuit), the bias voltage applied between the grid and cand of the electron gun is compared with the detection signal from the bias voltage detector, and feedback is provided. After the beam irradiation starts and the beam current rises, the actual value of the beam current is detected during a part of the period during which the steady state is maintained, and the actual value of the beam current is detected. A beam current control device for an electron beam device is configured to correct a bias voltage setting signal by comparing a value with a beam current setting value, and a beam current control device for an electron beam device is configured to correct a bias voltage setting signal by comparing a beam current setting value with a beam current setting value. An electron beam device that checks the degree of change and indicates when to replace the cathode. 2) Feedback control is performed by comparing the bias voltage applied between the grid and cand of the electron gun at the start of beam irradiation with the detection signal from the bias voltage detector based on the setting signal from the bias voltage setting circuit. A bias voltage setting signal is supplied to the bias voltage control circuit, and the bias voltage setting circuit is used to obtain a required beam current from a beam current target value and an accelerating voltage detection value from an accelerating voltage detector. is calculated according to the characteristics of the electron gun, and after the beam irradiation starts and the beam current rises, the actual value of the beam current is detected during a part of the period during which the steady state is maintained. , a correction circuit that compares the actual value with the bias voltage setting value and generates a bias voltage correction signal, and corrects the bias voltage setting signal so that the desired beam current value is always obtained. The beam current control device has a beam current control device equipped with a bias signal setting signal, and checks the degree of change from the initial value immediately after the cathode update of the parameter adding the bias signal setting signal, and instructs when to replace the cathode. Beam device.
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