JPS5918992A - Power source voltage generation circuit for liquid crystal display - Google Patents

Power source voltage generation circuit for liquid crystal display

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JPS5918992A
JPS5918992A JP12766882A JP12766882A JPS5918992A JP S5918992 A JPS5918992 A JP S5918992A JP 12766882 A JP12766882 A JP 12766882A JP 12766882 A JP12766882 A JP 12766882A JP S5918992 A JPS5918992 A JP S5918992A
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裕一 高橋
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、液晶表示装置用電源電圧発生回路に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a power supply voltage generation circuit for a liquid crystal display device.

液晶は、その寿命を長くさせるために交流駆動される。Liquid crystals are driven by alternating current to extend their lifespan.

マトリックス配置された複数の画素(セグメント)を持
つ液晶表示装置を駆動する場合に、走査線数nに応じて
最適な駆動条件を与える方法として電圧平均化法1/a
バイアス法が公知である。
When driving a liquid crystal display device having a plurality of pixels (segments) arranged in a matrix, the voltage averaging method 1/a is used as a method for providing optimal driving conditions according to the number of scanning lines n.
Bias methods are known.

電圧平均化法に従うと、液晶の光学的変化がそれに加え
られる電圧の実効値に依存するという前提の下で、画素
すべてに加えられる駆動電圧の実効値を一定にさせるよ
うに駆動電圧が変化させられる。
According to the voltage averaging method, on the premise that the optical change of the liquid crystal depends on the effective value of the voltage applied to it, the driving voltage is varied so as to keep the effective value of the driving voltage applied to all pixels constant. It will be done.

第1図には、ドットマトリクス構成の液晶表示装置の構
成図が示されている。同図において、複数の画素SGは
、複数の共通電極COM1ないしCOM16と複数のセ
グメント電極S1ないしSlとの交点に配置される。複
数の画素SGによって所望のパターンを表示させるため
に、共通電極COM1ないしCOM16が適当な順序に
従って順次に走査(選択)される。セグメント電極S1
ないしS2は、表示すべきパターンに従って、共通電極
の走査と同期して選択、又は非選択レベルにされる。
FIG. 1 shows a configuration diagram of a liquid crystal display device having a dot matrix configuration. In the figure, the plurality of pixels SG are arranged at the intersections of the plurality of common electrodes COM1 to COM16 and the plurality of segment electrodes S1 to Sl. In order to display a desired pattern by the plurality of pixels SG, the common electrodes COM1 to COM16 are sequentially scanned (selected) in an appropriate order. Segment electrode S1
to S2 are set to the selected or non-selected level in synchronization with the scanning of the common electrode, according to the pattern to be displayed.

第2図には、電圧平均化法に従って液晶衣示装置に印加
される電圧波形例が示されでbる。同図は、n=16、
1/5バイアスの場合の選択,非選択のタイミング図で
ある。
FIG. 2 shows an example of a voltage waveform applied to a liquid crystal display according to the voltage averaging method. In the figure, n=16,
It is a timing diagram of selection and non-selection in the case of 1/5 bias.

画素SGに加えられる駆動電圧は、選択期間以外は、ピ
ーク値V0の1/5のバイアス値とされる。すなわち、
駆動電圧は、表示装置に設けられる走査線の数、画素の
選択、非選択に応じて適当に重みづけされている。
The drive voltage applied to the pixel SG has a bias value of 1/5 of the peak value V0 except during the selection period. That is,
The driving voltage is appropriately weighted depending on the number of scanning lines provided in the display device and whether pixels are selected or not.

いま、一般化して走査線数をn、バイアスを1/aとす
ると、選択及び非選択の画素に加えられる電圧の実効値
VS・VNSは、次式(1),(2)で与えられる。
Now, in general, assuming that the number of scanning lines is n and the bias is 1/a, the effective values VS·VNS of the voltages applied to selected and non-selected pixels are given by the following equations (1) and (2).

ここで、V0は駆動電圧(波高値)である。Here, V0 is a drive voltage (peak value).

コントラストのよい表示を得るには、VSとVNSの比
αが最大となるようにaが決められる。すなわち、上式
(1)及び2から、比αは、次式(3)のように表わさ
れる。
In order to obtain a display with good contrast, a is determined so that the ratio α between VS and VNS is maximized. That is, from the above equations (1) and 2, the ratio α is expressed as the following equation (3).

である。It is.

例えば、走査線数nを16として、1/16のデューテ
ィーをもって画素を駆動する場合、aは5となりαma
xは約1.29となる。
For example, when the number of scanning lines n is 16 and pixels are driven with a duty of 1/16, a becomes 5 and αma
x is approximately 1.29.

そこで、この場合、画素に加えられる駆動電圧が上記第
2図A及びBに示したような波形となるよう走査線に加
えられる電圧及び表示駆動電圧がそれぞれ適当に設定さ
れる。
Therefore, in this case, the voltage applied to the scanning line and the display driving voltage are respectively set appropriately so that the driving voltage applied to the pixel has a waveform as shown in FIGS. 2A and 2B.

なお、第2図C、Dは、それぞれ第1図に示されたよう
な共通電極(走査線)COM1、COM2に加えられる
電圧波形を示している。共通電極の選択レベルはV0も
しくは0とされ、非選択レベルは4V0/5もしくはV
0/5とされる。従って、第2図Cに従うと、共通電極
COM1は、1走査周期Tのうち最初の1/16周期γ
1において選択される。同様に、共通電極COM2は期
間γ2において選択される。セグメント電極は、前記の
ように共通電極の操作と表示させるべきデータとによっ
てそのレベルが決定される。セグメント電極の選択レベ
ルは、0もしくはV0とされ、非選択レベルは、2V0
/5もしくは3V0/5とされる。第2図Eは、第1図
のセグメント電極S1に結合された画素(セグメント)
SG11ないしSG161のうち画素SG11のみを選
択(衣示)させるべきときにセグメント電極S1に印加
される電圧波形例を示している。選択されるべき画素S
G11には第2図Aに示されたような波形となる電圧が
印加され、非選択の画素SG21には第2図Bに示され
たような波形となる電圧が印加される。
Note that FIGS. 2C and 2D show voltage waveforms applied to the common electrodes (scanning lines) COM1 and COM2, respectively, as shown in FIG. 1. The selection level of the common electrode is V0 or 0, and the non-selection level is 4V0/5 or V
It is considered to be 0/5. Accordingly, according to FIG.
1. Similarly, common electrode COM2 is selected during period γ2. As described above, the level of the segment electrode is determined by the operation of the common electrode and the data to be displayed. The selection level of the segment electrode is 0 or V0, and the non-selection level is 2V0.
/5 or 3V0/5. FIG. 2E shows a pixel (segment) coupled to the segment electrode S1 in FIG.
An example of the voltage waveform applied to the segment electrode S1 when only the pixel SG11 is to be selected (displayed) among SG11 to SG161 is shown. Pixel S to be selected
A voltage having a waveform as shown in FIG. 2A is applied to G11, and a voltage having a waveform as shown in FIG. 2B is applied to the unselected pixel SG21.

駆動電圧V0は、液晶表示装置の特性に応じて決められ
る。駆動電圧V0が大きくされすぎた場合、これに応じ
て、非選択とされているべき画素に加えられる電圧の実
効値が増加される。その結果、すべての画素が選択され
てしまう。逆に、駆動電圧V0が小さくされすぎてしま
う場合、選択されるべき画素に印加される電圧の実効値
が不充分な値となる。その結果、いかなる画素も選択さ
れなくなってくる。
The driving voltage V0 is determined according to the characteristics of the liquid crystal display device. If the drive voltage V0 is increased too much, the effective value of the voltage applied to the pixel that should be unselected is increased accordingly. As a result, all pixels are selected. Conversely, if the driving voltage V0 is made too small, the effective value of the voltage applied to the pixel to be selected will be an insufficient value. As a result, no pixels will be selected.

第3図には、画素の駆動電圧V0対相対反射輝度B特性
が示されている。特性曲線CVSは、選択されるべき画
素すなわち第2図Aに示されたような波形の電圧が印加
される画素における特性を示し、特性曲線CVNSは、
非選択とされるべき画素すなわち第2図Bに示されたよ
うな波形の電圧が印加される画素における特性を示して
いる。
FIG. 3 shows the pixel drive voltage V0 vs. relative reflection brightness B characteristic. The characteristic curve CVS shows the characteristics of the pixel to be selected, that is, the pixel to which a voltage having the waveform as shown in FIG. 2A is applied, and the characteristic curve CVNS is
It shows the characteristics of a pixel to be made non-selected, that is, a pixel to which a voltage having the waveform as shown in FIG. 2B is applied.

特性曲線CVS及びCVNSから次のことが明らかとな
る。すなわち、非選択画素における許容できる反射輝度
の下限値が80%であり、また選択画素における許容で
きる反射輝度の上限値が40%であるとすると、これに
応じて駆動電圧V0の取り得る範囲は同図中で斜線をほ
どこした範囲(V60≦V0≦V40)に制限される。
The following becomes clear from the characteristic curves CVS and CVNS. In other words, if the lower limit of allowable reflected brightness in non-selected pixels is 80%, and the upper limit of allowable reflected brightness in selected pixels is 40%, then the possible range of drive voltage V0 is as follows: It is limited to the shaded range (V60≦V0≦V40) in the figure.

言いかえると斜線範囲が、実質的にクロストークのない
動作電圧範囲であるとみなされる。従って駆動電圧V0
は、望ましくは最大許容値V60と最小許容値V40と
によって決まる中心値に設定される。なお、上記動作電
圧範囲は、上式より走査線数nの増大とともに狭くなる
In other words, the shaded range is considered to be the operating voltage range with substantially no crosstalk. Therefore, the driving voltage V0
is preferably set to a central value determined by the maximum allowable value V60 and the minimum allowable value V40. Note that the above operating voltage range becomes narrower as the number of scanning lines n increases from the above equation.

そして、このような液晶のしきい値特性には、視角依存
性がある。この視角依存性を考慮すると動作電圧V0の
範囲はより狭くなる。さらに、駆動電圧V0の最適範囲
は、液晶材料の特性に応じて、比較的強い濃度依存性を
持つ。第4図には、温度対駆動電圧特性の一例が示され
ている。例えば、ある種の液晶では、その最適駆動電圧
が、0°〜25℃のような比較的せまい温度変化に対し
て、約0.11ボルトも変化するという負の温度係数を
有する。かてて加えて、最適駆動電圧の範囲は表示装置
の製造ぱらつきに応じて例えば、V40′,V60′の
ように、比較的大きくぱらついてしまうものである。
The threshold characteristics of such liquid crystals have viewing angle dependence. Considering this viewing angle dependence, the range of the operating voltage V0 becomes narrower. Furthermore, the optimum range of the driving voltage V0 has relatively strong concentration dependence depending on the characteristics of the liquid crystal material. FIG. 4 shows an example of temperature versus drive voltage characteristics. For example, some liquid crystals have negative temperature coefficients such that their optimal drive voltage varies by about 0.11 volts for relatively narrow temperature changes such as from 0° to 25°C. In addition, the optimum drive voltage range varies relatively widely, for example, V40' and V60', depending on manufacturing variations of display devices.

従って、この発明の目的は、液晶に対する温度保証機能
及びバラツキ補償機能とを備えた液晶表示装置用電源電
圧発生回路を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a power supply voltage generation circuit for a liquid crystal display device having a temperature guarantee function and a variation compensation function for liquid crystal.

この発明の他の目的は、以下の説明及び図面から明らか
になるであろう。
Other objects of the invention will become apparent from the following description and drawings.

以下、この発明を実施例とともに詳細に説明する。Hereinafter, this invention will be explained in detail together with examples.

第5図には、この発明の一実施例の回路ブロック図が示
されている。
FIG. 5 shows a circuit block diagram of an embodiment of the present invention.

図示の回路1ないし4は、公知のCMOS集積回路技術
によって、1つの半導体チップ上に形成される。各回路
の電源電圧は、外部端子P1とP0との間に結合された
電源Eから出力される。
The illustrated circuits 1 to 4 are formed on one semiconductor chip using known CMOS integrated circuit technology. The power supply voltage for each circuit is output from a power supply E coupled between external terminals P1 and P0.

記号1で示されているのは、レベル設定用レギレータで
ある。このレギレータ1は、特に制限されないが、電圧
比較回路CL1と、可変インピーダンス手段としてのM
OSFETQ1とにより構成されている。
The symbol 1 indicates a level setting regulator. This regulator 1 includes, but is not particularly limited to, a voltage comparator circuit CL1 and a variable impedance means M.
It is composed of OSFETQ1.

電圧比較回路CL1は、ゲート電極が互いに逆導電型の
シリコンから構成され且つ互いに同じチャンネル導電型
とされた一対のMOSFETを含んでいる。電圧比較回
路CL1は、上記一対のMOSFETのしきい値電圧差
(第7図参照)によって決定されるオフセット電圧VO
F1を持つ。上記一対のMOSFETは、半導体集積回
路技術によって、互いに等しい不純物濃度にされたチャ
ンネル形成領域、及び互いに等しい材質、厚さとされた
ゲート絶縁膜を持つ。従って、一対のMOSFETのし
きい値電圧差すなわちオフセット電圧VOF1は、p型
シリコンとn型シリコンのフエルミレベル差に等しくさ
れる。p型シリコンとn型シリコンにおける導電決定不
純物がほゞ飽和濃度に等しいような高濃度にされること
によって、オフセット電圧VOF1は、実質的にシリコ
ンのバンドギャップに等しいような値になる。
The voltage comparator circuit CL1 includes a pair of MOSFETs whose gate electrodes are made of silicon of opposite conductivity types and whose channel conductivity types are the same. The voltage comparator circuit CL1 calculates an offset voltage VO determined by the threshold voltage difference between the pair of MOSFETs (see FIG. 7).
Has F1. The pair of MOSFETs have channel formation regions made to have the same impurity concentration and gate insulating films made of the same material and thickness using semiconductor integrated circuit technology. Therefore, the threshold voltage difference between the pair of MOSFETs, ie, the offset voltage VOF1, is made equal to the Fermi level difference between p-type silicon and n-type silicon. By setting the conductivity-determining impurities in p-type silicon and n-type silicon to a high concentration approximately equal to the saturation concentration, the offset voltage VOF1 becomes a value substantially equal to the bandgap of silicon.

電圧比較回路CL1の非反転入力(+)には、接地電位
(0ボルト)が与えられる。外部電源電圧供給端子P1
とその反転入力(−)との間には、MOSFETQ1が
設けられている。このMOSFETQ1のゲートには、
上記電圧比較回路CL1の出力電圧が印加される。これ
により、上記反転入力(−)の電圧VOL1を上記オフ
セット電圧VOF1と等しくさせるように、MOSFE
TQ1のインピーダンスが制御される。その結果、上記
電圧VOL1は、オフセット電圧VOF1に従った定電
圧となる。この場合、上記オフセット電圧VOF1が上
記のようにシリコンのバンドギャップにほゞ等しい値に
され、上記一対のMOSFETのそれぞれのしきい値電
圧の比較的大きい絶対値ばらつきのような素子特性のば
らつきに実質的に影響されず、かつ、温度依存性を実質
的に持たない極めて安定した電圧(約1.1ボルト)で
あることより、上記電圧VOL1も同様に極めて安定し
た定電圧となる。この定電圧VOL1は、可変抵抗Rに
よって分圧される。可変抵抗Rを介して得られる分圧電
圧VRは上記定電圧VOL1の範囲内で任意のレベルに
設定され得る。
A ground potential (0 volts) is applied to the non-inverting input (+) of the voltage comparison circuit CL1. External power supply voltage supply terminal P1
A MOSFET Q1 is provided between the inverting input (-) and the inverting input (-). At the gate of this MOSFETQ1,
The output voltage of the voltage comparison circuit CL1 is applied. As a result, the MOSFE
The impedance of TQ1 is controlled. As a result, the voltage VOL1 becomes a constant voltage according to the offset voltage VOF1. In this case, the offset voltage VOF1 is set to a value approximately equal to the silicon bandgap as described above, and variations in device characteristics such as relatively large variations in absolute values of the respective threshold voltages of the pair of MOSFETs are avoided. Since it is an extremely stable voltage (approximately 1.1 volts) that is substantially unaffected and has virtually no temperature dependence, the voltage VOL1 is also an extremely stable constant voltage. This constant voltage VOL1 is divided by a variable resistor R. The divided voltage VR obtained through the variable resistor R can be set to any level within the range of the constant voltage VOL1.

記号2で示されているのは、温度補償用レギレータであ
る。このレギレータ2は、特に制限されないが電圧比較
回路CL2と、可変インピーダンスとしての制御MOS
FETQ2とにより構成されている。
What is designated by symbol 2 is a temperature compensation regulator. This regulator 2 includes, but is not particularly limited to, a voltage comparator circuit CL2 and a control MOS as a variable impedance.
FETQ2.

この実施例に従うと、液晶表示装置に供給される駆動電
圧は、MOSFETのしきい値電圧対温度特性にもとづ
いて変化される。この場合、半導体集積回路装置として
構成されるMOSFETのしきい値電圧が負の温度係数
を持つので、液晶表示装置に供給される駆動電圧は、動
作温度の上昇とともに減少される。すなわち、上記駆動
電圧は、温度の変化とともに適切例変化される。
According to this embodiment, the drive voltage supplied to the liquid crystal display is varied based on the threshold voltage versus temperature characteristics of the MOSFET. In this case, since the threshold voltage of a MOSFET configured as a semiconductor integrated circuit device has a negative temperature coefficient, the driving voltage supplied to the liquid crystal display device is reduced as the operating temperature rises. That is, the driving voltage is suitably changed as the temperature changes.

上記電圧比較回路CL2は、液晶表示装置の温度補償の
ために、駆動すべき液晶の温度係数に見合った温度係数
にされたオフセット電圧VOF2を持っている。
The voltage comparator circuit CL2 has an offset voltage VOF2 whose temperature coefficient corresponds to the temperature coefficient of the liquid crystal to be driven, in order to compensate for the temperature of the liquid crystal display device.

このオフセット電圧VOF2は、MOSFETのしきい
値電圧を利用したレベルシフト回路等よって形成される
This offset voltage VOF2 is formed by a level shift circuit using the threshold voltage of a MOSFET.

上記電圧比較回路CL2の非反転入力(+)には上記レ
ベル設定用レギレータ1の出力電圧VRが印加される。
The output voltage VR of the level setting regulator 1 is applied to the non-inverting input (+) of the voltage comparison circuit CL2.

制御MOSFETQ2は、外部電源電圧供給端子P1と
その反転入力(−)との間に設けられ、そのゲートには
、電圧比較回路CL2の出力電圧が印加される。
Control MOSFET Q2 is provided between external power supply voltage supply terminal P1 and its inverting input (-), and the output voltage of voltage comparison circuit CL2 is applied to its gate.

これにより、MOSFETQ2のインピーダンスが上記
レギレータ1のMOSFETQ1と同様に制御される結
果として、電圧比較回路CL2の反転入力(−)の電圧
VCL2は、上記電圧VRとオフセット電圧VOF2と
を加算した電圧に等しい値になる。
As a result, the impedance of MOSFETQ2 is controlled in the same way as MOSFETQ1 of the regulator 1, and as a result, the voltage VCL2 at the inverting input (-) of the voltage comparison circuit CL2 is equal to the sum of the voltage VR and the offset voltage VOF2. Becomes a value.

温度補償用レギュレータ2の出力電圧、すなわち電圧V
OL2は記号3で示された昇圧回路に伝えられる。昇圧
回路3は、その詳細な回路構成の図示を省略するが、チ
ャージポンプ容量C1のような複数の容量、平滑容器C
nのような複数の容量及び複数のスイッチMOSFET
を備えている。
The output voltage of the temperature compensation regulator 2, that is, the voltage V
OL2 is transmitted to a booster circuit indicated by symbol 3. The booster circuit 3 includes a plurality of capacitors such as a charge pump capacitor C1, and a smooth container C, although the detailed circuit configuration is not shown in the drawings.
Multiple capacitance and multiple switch MOSFETs such as n
It is equipped with

昇圧回路3は電圧VOL2を入力電圧として、例えば上
述のような1/5バイアス電圧により液晶表示装置を駆
動することができるようにするために、この電圧VOL
2と、その2倍,3倍,4倍及び5倍昇圧した値(2V
ないし5V(=0))の各電圧を形成する。例えば、容
量C1は、定常的に繰り返えされる昇圧動作のうちの第
1期間においてスイッチMOSFETを介してその一方
の端子に電圧VOL2が供給され、その他方の端子に回
路の接地電圧が供給される。その結果、容量C1は電圧
VOL2に充電される。昇圧動作の第2期間において容
量C1の他方の端子に電圧VOL2が供給され、その結
果容量C1の一方の端子にほゞ2・VOL2に昇圧され
た電圧が出力される。容量C1によって昇圧された電圧
2・VOL2は、適当なスイッチMOSFETを介して
平滑容量Cnに供給される。このような昇圧動作の繰り
返えしによって、平滑容量Cnの充電々圧は、電圧VO
L2に対してほゞ2倍の値に維持される。同様に、平滑
容量Onに得られる2倍昇圧電圧と入力電圧VOL2を
利用する回路動作によって3倍昇圧電圧が得られ、2倍
昇圧電圧、3倍昇圧電圧を利用する回路動作によって4
倍、5倍昇圧電圧が得られる。特に制限されないが、昇
圧動作で必要とされる容量C1、Cnのような容量は、
比較的大容量であることによって、半導体集積回路装置
の外付部品とされる。すなわち容量C1ないしCnは、
半導体集積回路装置の外部端子P4ないしP5に結合さ
れる。昇圧回路3を動作させるための適当なクロック信
号は、特に制限されないが、駆動回路4内の後述するよ
うな制御回路から出力される。
The booster circuit 3 uses the voltage VOL2 as an input voltage to drive the liquid crystal display device with, for example, the above-mentioned 1/5 bias voltage.
2 and its 2x, 3x, 4x, and 5x boosted values (2V
to 5V (=0)). For example, the capacitor C1 has one terminal supplied with the voltage VOL2 via the switch MOSFET and the circuit ground voltage supplied with the other terminal during the first period of the boost operation that is regularly repeated. Ru. As a result, the capacitor C1 is charged to the voltage VOL2. During the second period of the boost operation, voltage VOL2 is supplied to the other terminal of capacitor C1, and as a result, a voltage boosted to approximately 2·VOL2 is output to one terminal of capacitor C1. The voltage 2·VOL2 boosted by the capacitor C1 is supplied to the smoothing capacitor Cn via a suitable switch MOSFET. By repeating such boosting operation, the charging voltage of the smoothing capacitor Cn becomes the voltage VO
It is maintained at a value approximately twice that of L2. Similarly, a triple boosted voltage is obtained by a circuit operation that uses the double boosted voltage obtained from the smoothing capacitor On and the input voltage VOL2, and a circuit operation that uses the double boosted voltage and the triple boosted voltage generates a 4× boosted voltage.
A double or five-fold boosted voltage can be obtained. Although not particularly limited, the capacitances such as capacitors C1 and Cn required for boost operation are as follows:
Due to its relatively large capacity, it is used as an external component of semiconductor integrated circuit devices. That is, the capacitances C1 to Cn are
It is coupled to external terminals P4 and P5 of the semiconductor integrated circuit device. An appropriate clock signal for operating the booster circuit 3 is outputted from a control circuit as described later in the drive circuit 4, although it is not particularly limited.

昇圧回路3の出力電圧は、駆動回路4に供給される。駆
動回路4は、その詳細を図示しないが、液晶表示装置5
によって表示させるべきデータが書き込まれるRAM(
ランダムアクセスメモリ)、上記RAMから出力される
データ信号を受けることによって適当なパターンデータ
を形成するROM(リードオンリメモリ)からなるよう
なパターン発生回路、上記パターン発生回路の出力を保
持するラッチ回路もしくはレジスタ、上記ラッチ回路か
ら出力されるパターンデータ信号と適当なタイミング信
号とによって、液晶表示装置5のセグメント電極に供給
すべき電圧を選択する第1電圧選択回路、上記タイミン
グ信号と同期して液晶表示装置5の共通電極に供給すべ
き電圧を選択する第2電圧選択回路、及びこれらの回路
の動作を制御するための制御回路から構成される。駆動
回路4内のRAMに書き込むべきデータは、外部端子P
7ないしP8を介して、図示しないマイクロコンピュー
タのような情報処理装置から供給される。
The output voltage of the booster circuit 3 is supplied to the drive circuit 4. Although the details are not shown, the drive circuit 4 is connected to the liquid crystal display device 5.
RAM (
Random access memory), a pattern generation circuit consisting of a ROM (read only memory) that forms appropriate pattern data by receiving a data signal output from the RAM, a latch circuit that holds the output of the pattern generation circuit, or a register, a first voltage selection circuit that selects the voltage to be supplied to the segment electrodes of the liquid crystal display device 5 based on the pattern data signal output from the latch circuit and an appropriate timing signal; It consists of a second voltage selection circuit for selecting the voltage to be supplied to the common electrode of the device 5, and a control circuit for controlling the operation of these circuits. The data to be written to the RAM in the drive circuit 4 is sent to the external terminal P.
The data is supplied from an information processing device such as a microcomputer (not shown) via P7 to P8.

駆動回路4から出力される駆動信号は、外部端子P9な
いしP10を介して液晶表示装置5に供給される。
A drive signal output from the drive circuit 4 is supplied to the liquid crystal display device 5 via external terminals P9 and P10.

この実施例に従うと、回路1ないし4が形成されたCM
OS集積回路装置と、液晶表示装置5とは、例えば1つ
のケース内に配置され、同じ周囲温度のもとに置かれる
。回路1ないし4が形成されたCMOS集積回路装置は
、それ自体よく知られているように著るしく小さい消費
電力特性を持ち、その動作状態における温度上昇は充分
に小さい。CMOS集積回路装置の温度上昇が充分に小
さいことによって、温度補償用レギュレータ2内に設け
られる温度補償用MOSFETは、その動作温度が、液
晶表示装置5のそれと実質的に等しいような値にされる
。温度補償MOSFETに、周囲温度の変化と実質的に
等しい大きい温度変化を与えることができるので、温度
補償用レギュレータ2から適切な温度係数の電圧を出力
させることができる。
According to this embodiment, the CM in which circuits 1 to 4 are formed
The OS integrated circuit device and the liquid crystal display device 5 are placed, for example, in one case and placed under the same ambient temperature. As is well known, the CMOS integrated circuit device in which the circuits 1 to 4 are formed has extremely low power consumption characteristics, and the temperature rise in its operating state is sufficiently small. Since the temperature rise of the CMOS integrated circuit device is sufficiently small, the operating temperature of the temperature compensation MOSFET provided in the temperature compensation regulator 2 is set to a value that is substantially equal to that of the liquid crystal display device 5. . Since a large temperature change substantially equal to a change in ambient temperature can be applied to the temperature compensation MOSFET, a voltage with an appropriate temperature coefficient can be outputted from the temperature compensation regulator 2.

上記構成に従うと、電圧VCL2の温度係数を不 所望に変化させることなく、この電圧VCL2のレベル
調整を電圧VRの調整によって行なうことができる。従
って、駆動すべき液晶表示装置の特性及び製造ばらつき
に見合ったレベル調整及び温度補償を実現することがで
きる。
According to the above configuration, the level of voltage VCL2 can be adjusted by adjusting voltage VR without undesirably changing the temperature coefficient of voltage VCL2. Therefore, it is possible to realize level adjustment and temperature compensation commensurate with the characteristics and manufacturing variations of the liquid crystal display device to be driven.

そして、この実施例のように昇圧回路を用いた場合には
各バイアス電圧Vないし5V間でも、その相対的レベル
調整及び温度補償が自動的に行なえるという利点を有す
る。
When a booster circuit is used as in this embodiment, there is an advantage that relative level adjustment and temperature compensation can be automatically performed even between each bias voltage V to 5V.

第6図には、上記レギレータ1,2の具体的一実施例回
路が示されている。
FIG. 6 shows a specific example circuit of the above-mentioned regulators 1 and 2.

この実施例におけるMOSFETQ1ないしQ23は、
前記のように、公知の相補型MOS集積回路技術によっ
て、第5図の回路3及び4を構成するMOSFETとと
もに1個の半導体基板上に形成される。
MOSFETs Q1 to Q23 in this example are:
As described above, it is formed on a single semiconductor substrate together with the MOSFETs forming circuits 3 and 4 of FIG. 5 by known complementary MOS integrated circuit technology.

レベル設定用レギレータ1の電圧比較回路CL1は、イ
カの各回路素子によって構成されている。
The voltage comparison circuit CL1 of the level setting regulator 1 is constituted by various circuit elements.

pチャンネル作動MOSFETQ3,Q4は、シリコン
バンドギャップに実質的に等しい値のしきい値電圧差、
すなわちオフセット電圧VOF1を持つように構成され
る。そのため、MOSFETQ3は、そのゲート電極が
p型不純物を1016cm−3以上のような高濃度で含
むポリシリコン層から構成され、MOSFETQ4は、
そのゲート電極がn型不純物を同様に1018cm−3
以上のような高濃度で含むポリシリコン層から構成され
ている。これに応じてMOSFETQ3,Q4のID−
IG特性は第7図に示すように一定の差を持つものであ
る。この差はオフセット電圧VOF1と等しい。
The p-channel actuated MOSFETs Q3, Q4 have a threshold voltage difference substantially equal to the silicon bandgap;
That is, it is configured to have an offset voltage VOF1. Therefore, MOSFETQ3 has a gate electrode composed of a polysilicon layer containing p-type impurities at a high concentration of 1016 cm-3 or more, and MOSFETQ4 has
The gate electrode also contains n-type impurities at 1018 cm-3.
It is composed of a polysilicon layer containing a high concentration as described above. Accordingly, the ID-
The IG characteristics have a certain difference as shown in FIG. This difference is equal to the offset voltage VOF1.

上記差動MOSFETQ3,Q4のドレインには、電流
ミラー回路を構成するnチャンネルMOSFETQ5,
Q6が負荷として設けられている。
The drains of the differential MOSFETs Q3 and Q4 are connected to an n-channel MOSFET Q5, which constitutes a current mirror circuit.
Q6 is provided as a load.

上記差動MOSFETQ3,Q4の共通ソース側には、
低電流源としてのpチャンネルMOSFETQ7が設け
られている。
On the common source side of the differential MOSFETs Q3 and Q4,
A p-channel MOSFET Q7 is provided as a low current source.

また、MOSFETQ8ないしQ11は、定電流バイア
ス回路を構成している。上記MOSFETQ7と、後述
するMOSFETQ12とは、この定電流バイアス回路
によって定電流動作にさせられる。
Furthermore, MOSFETs Q8 to Q11 constitute a constant current bias circuit. The above-mentioned MOSFET Q7 and MOSFET Q12, which will be described later, are caused to operate at a constant current by this constant current bias circuit.

上記構成の電圧比較回路CL1には、外部電源電圧端子
P1から電源電圧が供給される。
A power supply voltage is supplied to the voltage comparison circuit CL1 having the above configuration from an external power supply voltage terminal P1.

上記電圧比較回路CL1の非反転入力(+)であるMO
SFETQ3のゲートは接地されている。
MO, which is the non-inverting input (+) of the voltage comparison circuit CL1,
The gate of SFETQ3 is grounded.

反転入力(−)であるMOSFETQ4のゲートと、上
記電源供給端子P1との間にはMOSFETQ1が設け
られている。このMOSFETQ1のゲートには、上記
電圧比較回路CL1の出力電圧が印加される。定電流M
OSFETQ12は、上記MOSFETQ1に適当なバ
イアス電流を流すために設けられている。
A MOSFET Q1 is provided between the gate of the MOSFET Q4, which is the inverting input (-), and the power supply terminal P1. The output voltage of the voltage comparison circuit CL1 is applied to the gate of this MOSFETQ1. Constant current M
OSFETQ12 is provided to allow an appropriate bias current to flow through the MOSFETQ1.

この実施例では、特に制限されないが、ICの外部端子
の不所望な増加を防ぐため、レベル設定のための分圧回
路は、内部に設けられた固定抵抗R1と、外部端子P2
を介して外部に設けられた可変抵抗R2とにより構成さ
れている。分圧電圧VRのレベル調整は、この可変抵抗
R2の調整により簡単に行なえるようになっている。
In this embodiment, although not particularly limited, in order to prevent an undesirable increase in the number of external terminals of the IC, a voltage dividing circuit for level setting includes an internally provided fixed resistor R1 and an external terminal P2.
and a variable resistor R2 provided externally via a variable resistor R2. The level of the divided voltage VR can be easily adjusted by adjusting the variable resistor R2.

一方、温度補償用レギレータ2の電圧比較回路CL2は
、次の相違点を除き、上記電圧比較回路CL1と同様で
ある。
On the other hand, the voltage comparison circuit CL2 of the temperature compensation regulator 2 is the same as the voltage comparison circuit CL1 described above except for the following differences.

差動MOSFETQ13とQ14は、特に制限されない
が、上記分圧電圧V1のレベル設定範囲との関係から、
具体的には出力電圧VOL2の電圧値を−1.2〜−1
.5ボルトのような範囲にわたって調整可能とするため
、次のようなオフセット電圧VOF′を得るためのしき
い値電圧差を持つようにされる。
The differential MOSFETs Q13 and Q14 are not particularly limited, but from the relationship with the level setting range of the divided voltage V1,
Specifically, the voltage value of output voltage VOL2 is set to -1.2 to -1.
.. In order to be adjustable over a range such as 5 volts, there is a threshold voltage difference to obtain the following offset voltage VOF'.

すなわち、MOSFETQ13は、そのゲート電極がM
OSFETQ4のそれと同様にn型不純物を高濃度で含
むポリシリコン層から構成され、MOSFET14は、
そのゲート電極が真性の、すなわち導電型決定不純物を
実質的に含まないポリシリコン層から構成される。この
場合、MOSFETQ14のID−IG特性は、第6図
に点線で示すようになる。
That is, MOSFETQ13 has a gate electrode of M
Like that of OSFETQ4, MOSFET14 is composed of a polysilicon layer containing a high concentration of n-type impurities.
The gate electrode is made of an intrinsic polysilicon layer, ie, substantially free of conductivity type determining impurities. In this case, the ID-IG characteristic of MOSFET Q14 becomes as shown by the dotted line in FIG.

したがって、両者の差(約0.48ボルト)がオフセッ
ト電圧VOF2′としてあらわれる。
Therefore, the difference between the two (approximately 0.48 volts) appears as the offset voltage VOF2'.

反転入力側のMOSFETQ14には、ダイオード形態
のすなわちゲートとドレインが共通結合されたMOSF
ETQ23によるレベルシフト回路が設けられている。
The MOSFET Q14 on the inverting input side is a diode-type MOSFET whose gate and drain are commonly coupled.
A level shift circuit using ETQ23 is provided.

このMOSFETQ23のしきい値電圧VthNに所定
の負の温度係数を持たせるため、このMOSFETQ2
3には定電流MOSFETQ23により、適当な値のバ
イアス電流(約10nA程度)が流される。上記MOS
FETQ23のしきい値電圧VthNは、例えば0.4
5ボルト程度とされる。これにより、電圧比較回路CL
2は、実質的に約0.93ボルト程度のオフセット電圧
VOF2を持つ。
In order to make the threshold voltage VthN of this MOSFETQ23 have a predetermined negative temperature coefficient, this MOSFETQ2
3, a bias current of an appropriate value (approximately 10 nA) is passed through constant current MOSFET Q23. The above MOS
The threshold voltage VthN of FETQ23 is, for example, 0.4.
It is said to be around 5 volts. As a result, voltage comparator circuit CL
2 has an offset voltage VOF2 of substantially the order of about 0.93 volts.

電圧比較回路CL2がこのように約0.93ボルト程度
のオフセット電圧を持つので、出力電圧VOL2の電圧
範囲を−1.2〜1.5ボルト程度とするためには、電
圧VRを−0.3〜0.8ボルトの範囲で変化させれば
よい。この電圧VRは、上記定電圧VOL1(約1.1
ボルト)を分圧することによって充分に得ることができ
る。出力電圧VOL2には、MOSFETQ23のしき
い値電流VthNに負の温度係数に一致するような温度
係数が与えられる。
Since the voltage comparator circuit CL2 has an offset voltage of approximately 0.93 volts, in order to set the voltage range of the output voltage VOL2 to approximately -1.2 to 1.5 volts, the voltage VR must be set to -0. It may be varied within the range of 3 to 0.8 volts. This voltage VR is the constant voltage VOL1 (approximately 1.1
can be obtained by dividing the voltage (volts). The output voltage VOL2 is given a temperature coefficient that matches the negative temperature coefficient of the threshold current VthN of the MOSFET Q23.

これにより、出力電圧VOL2に対して上述のように0
℃から25℃の温度変化に対して、−70mV(ミリボ
ルト)のような適切な電圧変化を設定することができる
As a result, the output voltage VOL2 becomes 0 as described above.
For a temperature change from 0C to 25C, an appropriate voltage change such as -70mV (millivolts) can be set.

この発明は、前記実施例に限定されない。The invention is not limited to the above embodiments.

例えば、竃圧比較回路CL2に適当な温度係数のオフセ
ット電圧を与えるために、必要ならば、上記分圧電圧V
Rを上述のようなレベルシフト回路を通してMOSFE
TQ13のゲートに入カするようにしてもよい。
For example, in order to provide an offset voltage with an appropriate temperature coefficient to the voltage comparison circuit CL2, if necessary, the voltage division voltage V
MOSFE through the level shift circuit as described above.
It may be arranged to enter the gate of TQ13.

また、この電圧比較回路CL2にオフセット電圧VOF
2を与えるための構成は、得るべき出力電圧VOL2に
応じて、種々の実施形態を採ることができる。例えば、
上述のように1.2〜1.5ボルト程度の範囲の電圧を
得るときには、MOSFETQ23のゲート絶縁膜の膜
厚,膜質及びチャンネル長等により、そのしきい値電圧
Vthのみで、上述のような電圧(0.9ボルト程度)
を形成するものとしてもよい。
In addition, an offset voltage VOF is applied to this voltage comparison circuit CL2.
2 can take various embodiments depending on the output voltage VOL2 to be obtained. for example,
As mentioned above, when obtaining a voltage in the range of about 1.2 to 1.5 volts, depending on the thickness, film quality, channel length, etc. of the gate insulating film of MOSFETQ23, the above threshold voltage Vth is required. Voltage (about 0.9 volts)
It is also possible to form a .

さらに、使用するMOSFETの導電型は、必要とされ
る電圧の極性に応じて、種々の組み合せとするものであ
ってもよい。
Furthermore, the conductivity types of the MOSFETs used may be combined in various ways depending on the polarity of the required voltage.

第6図に示されたようなMOSFETQ17、Q22は
、MOSFETQ8ないしQ11からなるバイアス回路
によってバイアスされても良い。この場合、MOSFE
TQ15ないしQ21からなるバイアス回路は省略する
ことができる。
MOSFETs Q17 and Q22 as shown in FIG. 6 may be biased by a bias circuit consisting of MOSFETs Q8 to Q11. In this case, the MOSFE
The bias circuit consisting of TQ15 to Q21 can be omitted.

第5図に示されたレギュレータ1は、それ自体正確であ
りかつ温度変動によっても実質的にレベル変化しないよ
うな出力電圧を形成できるものであれば良く、第6図に
示されたような具体的回路に限定されない。レギュレー
タ1から出力される電圧は、そのレベルがMOSFET
Q3とQ4のゲート電極としてのシリコン層のフエルミ
レベルの差によって決定される代りに、互いに異なる金
属材料から構成されたところのゲート電極における仕事
函数差によって決定されても良い。
The regulator 1 shown in FIG. 5 may be of any type as long as it is accurate in itself and can form an output voltage that does not substantially change in level even with temperature fluctuations, and the regulator 1 shown in FIG. It is not limited to specific circuits. The voltage output from regulator 1 has a level equal to that of the MOSFET.
Instead of being determined by the difference in the fermi levels of the silicon layers serving as the gate electrodes of Q3 and Q4, it may be determined by the difference in work function of gate electrodes made of different metal materials.

電圧VRのレベルを決めるための回路は、第5図及ひ第
6図に示されたような可変抵抗のみに限定されない。第
8図には、電圧VRのレベルを変更させるための他の回
路が示されている。抵抗R31ないしR33は、それぞ
れにおける抵抗値に適当な重みがつけられている。これ
らの抵抗R31ないしR33は、MOSFETQ30な
いしQ32がカウンタ6の出力によってオン状態にされ
ると、抵抗R2に実質的に並列接続される。外部端子P
9は、スイッチKSがオン状態にされていないとき、プ
ルアップ抵抗R4によって負電位(論理“0”)に維持
される。従って、ゲート回路Gは閉じられており、カウ
ンタ6の内容は、以前の状態に保持される。スイッチK
Sが閉じられると、これに応じて外部端子P9が論埋“
1”にされるのでゲート回路Gが開かれ、クロック信号
φがカウンタ6に供給される。その結果、カウンタ6の
内容が更新される。MOSFETQ30ないしQ32の
オン、オフ状態は、カウンタ6の内容の変化に応じて制
御される。その結果、電圧VRのレベルが変化される。
The circuit for determining the level of voltage VR is not limited to only variable resistors as shown in FIGS. 5 and 6. FIG. 8 shows another circuit for changing the level of voltage VR. The resistance values of the resistors R31 to R33 are appropriately weighted. These resistors R31 to R33 are connected substantially in parallel to resistor R2 when MOSFETs Q30 to Q32 are turned on by the output of the counter 6. External terminal P
9 is maintained at a negative potential (logic "0") by the pull-up resistor R4 when the switch KS is not turned on. The gate circuit G is therefore closed and the contents of the counter 6 are kept in their previous state. switch K
When S is closed, external terminal P9 is closed accordingly.
1'', the gate circuit G is opened and the clock signal φ is supplied to the counter 6. As a result, the contents of the counter 6 are updated. As a result, the level of voltage VR is changed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、ドットマトリクス構成の液晶表示装置の構成
図、 第2図は、液晶表示装置に加えられる駆動電圧の波形図
、 第3図,第4図は、それぞれ液晶表示装置の特性曲線図
、 第5図は、この発明の一実施例を示すブロック図、 第6図は、その具体的一実施例回路図、第7図は、その
電圧比較回路に用いられる差動MOSFETのID−V
G特性図、 第8図は電圧調整回路の回路図である。 1・・・レベル設定用レギレータ、イ・・・温度補償用
レギレータ、3・・・昇圧回路。 代理人 弁理士 河 川 利 幸
Figure 1 is a block diagram of a liquid crystal display device with a dot matrix configuration. Figure 2 is a waveform diagram of the driving voltage applied to the liquid crystal display. Figures 3 and 4 are characteristic curve diagrams of the liquid crystal display. , FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 6 is a circuit diagram of a specific embodiment thereof, and FIG. 7 is a diagram showing ID-V of a differential MOSFET used in the voltage comparison circuit.
G characteristic diagram, FIG. 8 is a circuit diagram of the voltage adjustment circuit. 1... Regulator for level setting, A... Regulator for temperature compensation, 3... Boost circuit. Agent Patent Attorney Toshiyuki Kawakawa

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.ゲート電極材料の仕事函数が互いに異なるようにさ
れた第1、第2のMOSFETを含み上記第1、第2M
OSFETを利用することによって上記第1と第2のM
OSFETのゲート電極の仕事函数差に基づいた電圧を
発生する第1電圧発生回路と、駆動すべき液晶表示装置
の温度特性に見合った温度特性を有する実質的なオフセ
ット電圧を入力端子と出力端子との間に有し上記第1電
圧発生回路の出力電圧が上記入力端子に供給される第2
電圧発生回路とを備えてなり、上記第2電圧発生回路か
ら出力電圧を得るものとしたことを特徴とする液晶表示
装置用電源電圧発生回路。
1. The first and second MOSFETs include first and second MOSFETs whose gate electrode materials have different work functions.
By using OSFET, the first and second M
A first voltage generation circuit generates a voltage based on the work function difference between the gate electrodes of the OSFET, and a substantial offset voltage having temperature characteristics commensurate with the temperature characteristics of the liquid crystal display device to be driven is connected to the input terminal and the output terminal. a second voltage generating circuit having a voltage between the voltage generating circuit and the output voltage of the first voltage generating circuit is supplied to the input terminal;
1. A power supply voltage generating circuit for a liquid crystal display device, comprising: a voltage generating circuit, and obtaining an output voltage from the second voltage generating circuit.
2.上記出力電圧及びそのn倍された多値レベル電圧に
より液晶表示装置が駆動されるものであることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載の液晶表示装置用電源
電圧発生回路。
2. 2. The power supply voltage generation circuit for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is driven by the output voltage and a multi-level voltage multiplied by n times the output voltage.
3.上記第2電圧発生回路の入力端子に加えられる電圧
は、電圧レベル変更回路によってそのレベルが設定され
てなることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
液晶表示装置用電圧発生回路。
3. 2. The voltage generating circuit for a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the voltage applied to the input terminal of the second voltage generating circuit has a level set by a voltage level changing circuit.
4.上記電圧レベル変更回路は、分圧回路から構成され
かつ上記第1電圧発生回路の出力電圧を受けることによ
って上記第2電圧発生回路に供給すべき電圧を出力する
ように構成されてなることを特徴とする特許請求の範囲
第3項に記載の液晶表示装置用電源電圧発生回路。
4. The voltage level changing circuit is comprised of a voltage dividing circuit, and is configured to output a voltage to be supplied to the second voltage generating circuit by receiving the output voltage of the first voltage generating circuit. A power supply voltage generation circuit for a liquid crystal display device according to claim 3.
5.上記分圧回路は、その全部又は1部が外付可変抵抗
で構成されるものであることを特徴とする特許請求の範
囲第4項に記載の液晶表示装置用電源電圧発生回路。
5. 5. The power supply voltage generating circuit for a liquid crystal display device according to claim 4, wherein the voltage dividing circuit is entirely or partially constituted by an external variable resistor.
6.上記第2電圧発生回路は、ゲートとドレインが結合
されたレベルシフトMOSFETを備え、上記オフセッ
ト電圧は少なくともその一部が上記レベルシフトMOS
FETのしきい値電圧を含むものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1ないし第5項のうちの一つに記載
の液晶表示装置用電源電圧発生回路。
6. The second voltage generation circuit includes a level shift MOSFET whose gate and drain are coupled, and the offset voltage is at least partially connected to the level shift MOSFET.
6. A power supply voltage generating circuit for a liquid crystal display device according to claim 1, characterized in that the circuit includes a threshold voltage of a FET.
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Cited By (3)

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WO1996021880A1 (en) * 1995-01-11 1996-07-18 Seiko Epson Corporation Power source circuit, liquid crystal display, and electronic device
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