JPS5917669B2 - laminate board - Google Patents

laminate board

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Publication number
JPS5917669B2
JPS5917669B2 JP10101276A JP10101276A JPS5917669B2 JP S5917669 B2 JPS5917669 B2 JP S5917669B2 JP 10101276 A JP10101276 A JP 10101276A JP 10101276 A JP10101276 A JP 10101276A JP S5917669 B2 JPS5917669 B2 JP S5917669B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
diorganopolysiloxane
directly bonded
monovalent hydrocarbon
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP10101276A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5326879A (en
Inventor
史朗 五明
芳輝 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP10101276A priority Critical patent/JPS5917669B2/en
Publication of JPS5326879A publication Critical patent/JPS5326879A/en
Publication of JPS5917669B2 publication Critical patent/JPS5917669B2/en
Expired legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers

Description

【発明の詳細な説明】 ・5 この発明は柔軟性、耐熱性、耐折曲性、電気絶縁
性および接着性にすぐれた積層板に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION -5 The present invention relates to a laminate having excellent flexibility, heat resistance, bending resistance, electrical insulation and adhesive properties.

従来、フレキシブルプリント配線基板としてはたとえば
ポリエステルフィルムまたはポリイミドj0フィルムに
銅箔を接着一体化してなるもの、あるいは柔軟性にすぐ
れたエポキシ樹脂を用いてガラスクロスと銅箔とを接着
一体化してなるものが知られている。
Conventionally, flexible printed wiring boards have been made by bonding and integrating copper foil onto a polyester film or polyimide J0 film, or by bonding and integrating glass cloth and copper foil using an epoxy resin with excellent flexibility. It has been known.

しかしながら、ポリエステルフィルムと銅箔とを接着一
体化してなる基板は耐熱性に■5 劣るため、端子の接
続に最も有効な半田浴溶接によつてポリエステルが熱に
よつて破壊をひき起すなどの加工面での欠点を有するた
め、端子の接続を行うにあたつては、たとえば、手半田
で注意深く溶接する方法、機械的に力化める方法などが
採■0 用されているが、これにはその作業に多大の労
力を要し、またこのようにして接続したものは信頼性が
小さく、さらにはコスト高になるという不利があつた。
また、ポリイミドフィルムに銅箔を接着一体化してなる
ものは接着力が弱く、またポリ15イミドフィルムが非
常に高価なため、その用途が限定されるという欠点があ
り、さらに柔軟性にすぐれたエポキシ樹脂を使用してガ
ラスクロスと銅箔とを接着一体化してなるものは柔軟性
、耐折曲性に劣り、フレキシブルプリント配線基板とし
ての機能を満足させることができないという不利があつ
た。この発明は上記したような従来の欠点を除去した、
とくにはフレキシブルプリント配線基板に好適とされる
積極板を提供しようとするものであつて、これはアルケ
ニル基含有ジオルガノポリシロキサン、けい素原子に直
結した水素原子を有するオルガノハイドロジエンポリシ
ロキサン、無機質充填剤および白金もしくは白金化合物
からなるオルガノポリシロキサン組成物を含浸または塗
布した無機質繊維物と、金属箔とを積層一体化してなる
ものである。
However, a board made by bonding and integrating a polyester film and a copper foil has poor heat resistance; therefore, processing such as solder bath welding, which is the most effective method for connecting terminals, causes polyester to break due to heat. Because of this, when connecting terminals, methods such as careful welding with manual soldering or methods that apply mechanical force are used; This process requires a great deal of effort, and connections made in this way have the disadvantages of low reliability and high cost.
In addition, polyimide film that is made by bonding and integrating copper foil has a weak adhesive strength, and poly-15imide film is very expensive, so its uses are limited. A product made by bonding and integrating a glass cloth and a copper foil using resin has a disadvantage in that it has poor flexibility and bending resistance, and cannot satisfy the function of a flexible printed wiring board. This invention eliminates the above-mentioned conventional drawbacks.
In particular, the purpose is to provide a positive board that is suitable for flexible printed wiring boards. It is formed by laminating and integrating an inorganic fiber impregnated or coated with an organopolysiloxane composition consisting of a filler and platinum or a platinum compound, and a metal foil.

つぎに、本発明をさらに詳細に説明すると、この発明に
使用するアルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンは
、1分子中にけい素原子に直結したアルケニル基を有す
る限り、種々のものを使用することができるが、本発明
においては、とくに(式中、RIは置換もしくは非置換
の一価炭化水素基、R2は水酸基または同種もしくは異
種の一価炭化水素基を表わし、mは正の整数を表わす)
で示され、けい素原子に直結した全有機基の0.000
5〜5モル%がアルケニル基であり、かつ25℃におけ
る粘度が1,000,000センチストータス以上であ
るジオルガノポリシロキサンと一般式(式中、R3は上
述したR4と同じ意味であり、R4は上述したR2と同
じ意味である。
Next, to explain the present invention in more detail, various alkenyl group-containing diorganopolysiloxanes used in the present invention can be used as long as each molecule has an alkenyl group directly bonded to a silicon atom. However, in the present invention, in particular, (where RI represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R2 represents a hydroxyl group or a monovalent hydrocarbon group of the same or different kind, and m represents a positive integer)
0.000 of all organic groups directly bonded to silicon atoms
A diorganopolysiloxane in which 5 to 5 mol% is an alkenyl group and has a viscosity at 25°C of 1,000,000 centistotas or more and the general formula (wherein, R3 has the same meaning as R4 described above, R4 has the same meaning as R2 described above.

nは正の整数を表わす)で示され、けい素原子に直結し
た全有機基の0.01〜15モル%がアルケニル基であ
り、かつ25℃における粘度が100,000センチス
トークス以下であるジオルガノポリシロキサンからなる
オルガノポリシロキサン混合物が好ま上記した一般式(
1)で示されるジオルガノポリシロキサンはけい素原子
に直結した全有機基の0,0005〜5モル%、好まし
くは0.005〜3モル%がビニル基などのアルケニル
基であることが必須とされ、またこのものは25℃にお
ける粘度が1,000,000センチストーク以上、好
ましくは3,000,000〜8,000,000セン
チストークスの範囲にあるものがよい。このジオルガノ
ポリシロキサンは、けい素原子に結合した全有機基に対
するアルケニル基の割合が0.0005モル%以下では
、架橋密度が小さく硬化して得られる被膜が機械的強度
に劣り、また5モル%以上であると接着性が低下し、ま
た得られる被膜が架橋密度が大きすぎるために、柔軟性
に劣る固いもろいものとなる。また、上記した一般式(
)で示されるジオルガノポリシロキサンはけい素原子に
直結した全有機基の0.01〜15モル%、好ましくは
0.1〜5モル%がビニル基などのアルケニル基で.6
り、また25℃における粘度が100,000センチス
トークス以下、好ましくは100〜50,000センチ
ストークスであるものがよく、アルケニル基含有量が上
記範囲外であると前記と同様の理由により目的を達成す
ることができない。
n represents a positive integer), 0.01 to 15 mol% of all organic groups directly bonded to silicon atoms are alkenyl groups, and the viscosity at 25°C is 100,000 centistokes or less. Preferably, an organopolysiloxane mixture consisting of an organopolysiloxane having the above general formula (
In the diorganopolysiloxane represented by 1), it is essential that 0,0005 to 5 mol%, preferably 0.005 to 3 mol% of the total organic groups directly bonded to silicon atoms be alkenyl groups such as vinyl groups. The viscosity at 25° C. is 1,000,000 centistokes or more, preferably in the range of 3,000,000 to 8,000,000 centistokes. In this diorganopolysiloxane, if the ratio of alkenyl groups to the total organic groups bonded to silicon atoms is less than 0.0005 mol%, the crosslinking density will be small and the resulting cured film will have poor mechanical strength. % or more, adhesiveness decreases and the resulting film has too high a crosslinking density, resulting in a hard and brittle film with poor flexibility. In addition, the above general formula (
In the diorganopolysiloxane represented by ), 0.01 to 15 mol%, preferably 0.1 to 5 mol% of the total organic groups directly bonded to silicon atoms are alkenyl groups such as vinyl groups. 6
In addition, the viscosity at 25° C. is preferably 100,000 centistokes or less, preferably 100 to 50,000 centistokes, and if the alkenyl group content is outside the above range, the purpose cannot be achieved for the same reason as above. Can not do it.

上記したオルガノポリシロキサンの混合割合は上記した
一般式(1)で示されるジオルガノポリシロキサン95
〜50重量%、好ましくは90〜60重量%に対して、
上記一般式()で示されるジオルガノポリシロキサン5
〜50重量%、好ましくは10〜40重量%とすること
が必須とされるが、これは一般式(1)で示されるジオ
ルガノポリシロキサンの割合が95重量%を超えると、
組成物が金属箔に対して濡れ性が劣るものとなり、また
接着・囲が低下し、反面それが50重量%をこえると金
属箔に対する濡れ姓は向上するが、機械的強度、とくに
凝集力が低下するため、接着界面において凝集破壊を生
じ接着力が著しく劣るものとなる。
The mixing ratio of the above-mentioned organopolysiloxane is 95% of the diorganopolysiloxane represented by the above-mentioned general formula (1).
~50% by weight, preferably 90-60% by weight,
Diorganopolysiloxane 5 represented by the above general formula ()
-50% by weight, preferably 10-40% by weight, but this means that if the proportion of the diorganopolysiloxane represented by the general formula (1) exceeds 95% by weight,
If the composition exceeds 50% by weight, the composition will have poor wettability to the metal foil, and its adhesion and enclosing properties will decrease.On the other hand, if the composition exceeds 50% by weight, the wettability to the metal foil will improve, but the mechanical strength, especially the cohesive force, will deteriorate. As a result, cohesive failure occurs at the adhesive interface, resulting in significantly poor adhesive strength.

また、本発明において使用するオルガノポリシロキサン
組成物中のオルガノハイドロジエンポリシロキサンは1
分子中にけい素原子に直結した水素原子を少なくとも2
個有するものであることが好ましく、またこのものはそ
の構造にはとくに制限がなく、したがつて従来公知とさ
れている直鎖状、分枝鎖状、環状構造のいずれのオルガ
ノハイドロジエンポリシロキサンも使用することができ
る。このオルガノハイドロジエンポリシロキサンの使用
量は前記アルケニル基含有オルガノポリシロキサン中の
けい素原子に直結したアルケニル基1個あたり、けい素
原子に直結した水素原子を1.2〜6個好ましくは1.
4〜3個与えるに必要な量とされるが、これは1.2個
未満では本発明の組成物が良好に硬化せず、したがつて
機械的強度が低下し接着力がきわめて悪くなり、また6
個をこえた場合にも良好な硬化を行うことができず、接
着力の低下をもたらす。
Furthermore, the organohydrodiene polysiloxane in the organopolysiloxane composition used in the present invention is 1
At least 2 hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms in the molecule
There are no particular limitations on the structure of the polysiloxane, and therefore any conventionally known organohydrodiene polysiloxane with a linear, branched, or cyclic structure may be used. can also be used. The amount of the organohydrodiene polysiloxane used is preferably 1.2 to 6 hydrogen atoms directly bonded to a silicon atom per alkenyl group directly bonded to a silicon atom in the alkenyl group-containing organopolysiloxane.
If the amount is less than 1.2, the composition of the present invention will not cure well, resulting in decreased mechanical strength and extremely poor adhesive strength. Also 6
Even when the number of particles exceeds 1, it is not possible to perform a good curing, resulting in a decrease in adhesive strength.

このオルガノハイドロジエンポリシロキサンの粘度は流
動姓を有する限りとくに限定する必要はないが作業性な
どを考慮した場合には25℃における粘度が10,00
0センチストークス以下のものであることが好ましい。
The viscosity of this organohydrodiene polysiloxane does not need to be particularly limited as long as it has fluidity, but when considering workability etc., the viscosity at 25 ° C.
It is preferably 0 centistokes or less.

このようなオルガノハイドロジエンポリシロキサンとし
ては、具体的には下記のようなものが例示される。
Specific examples of such organohydrodiene polysiloxanes include the following.

さらに、本発明において使用するオルガノポリシロキサ
ン組成物中の無機質充填剤としては、具体的には乾式シ
リカ、湿式シリカ、シリカの表面をトリクロロメチルシ
ランなどで処理したシラン処理シリカなどの補強性充填
剤、けい酸ジルコニウム、ガラス繊維粉、けい酸アルミ
ニウム、けいそう土、酸化亜鉛、炭酸亜鉛などの難燃性
を付与オス7′)−六くで去ス布士貞各11ナ『μ六{
話ぼムh 太益日日においてはとくに比表面積が100
〜300イ/9程度の乾式シリカを使用することが好ま
しく、これらはその2種以上を併用してもよい。
Furthermore, as the inorganic filler in the organopolysiloxane composition used in the present invention, specifically reinforcing fillers such as dry silica, wet silica, and silane-treated silica whose surface is treated with trichloromethylsilane etc. , zirconium silicate, glass fiber powder, aluminum silicate, diatomaceous earth, zinc oxide, zinc carbonate, etc. are added to provide flame retardant properties.
Talking about the specific surface area of 100
It is preferable to use dry silica of about 300 i/9, and two or more of these may be used in combination.

この無機質充填剤の使用量は上記アルケニル基含有ジオ
ルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジエンポリシ
ロキサンの合計量100重量部に対して10〜200重
量部、好ましくは20〜100重量部の範囲とされる。
The amount of the inorganic filler used is in the range of 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the alkenyl group-containing diorganopolysiloxane and organohydrodiene polysiloxane.

これは10重量部未満では、該組成物が接着性に劣るも
のとなり、また硬化物の機械的強度が低下し、また20
0重量部をこえると接着性に劣るものとなるからである
If it is less than 10 parts by weight, the composition will have poor adhesive properties, and the mechanical strength of the cured product will decrease;
This is because if the amount exceeds 0 parts by weight, the adhesiveness will be poor.

また、本発明において使用するオルガノポリシロキサン
組成物中の白金または白金化合物は、従来、ビニル基含
有オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジエンポ
リシロキサンとの付加反応用触媒冫して公知とされてい
るものでよく、これには塩化白金酸、アルコール変性塩
化白金酸、塩化白金酸とオレフインとのコンプレツクス
、白金黒、アルミナ、シリカなどの担体に固体白金を担
持させるものなどが例示される。
Furthermore, the platinum or platinum compound in the organopolysiloxane composition used in the present invention is one that is conventionally known as a catalyst for the addition reaction between a vinyl group-containing organopolysiloxane and an organohydrodiene polysiloxane. Common examples include chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, a complex of chloroplatinic acid and olefin, and solid platinum supported on a carrier such as platinum black, alumina, or silica.

この使用量は触媒量、すなわち通常は上記アルケニル基
含有ジオルガノポリシロキサンに対し白金量で5〜40
ppmとすれば充分であるが、所望の硬化速度《応じて
適宜増減することが望ましい。本発明に使用するオルガ
ノポリシロキサン組成物は上記した各成分をロール混練
機、ペンシェルミキサー、バンバリーミキサ一などによ
り混練することにより製造されるが、これらの配合の順
序にはとくに制限はない。
The amount used is a catalytic amount, that is, usually 5 to 40% platinum based on the alkenyl group-containing diorganopolysiloxane.
Although ppm is sufficient, it is desirable to increase or decrease the amount as appropriate depending on the desired curing speed. The organopolysiloxane composition used in the present invention is produced by kneading the above-mentioned components using a roll kneader, Penn shell mixer, Banbury mixer, etc., but there is no particular restriction on the order of mixing these components.

しかし加熱混練時に白金化合物の作用により組成物が硬
化することがあるので、この白金化合物は最後に添加す
ることが有利である。なお、この際、必要ならば従来公
知とされている白金化合物の活性抑制剤たとえば有機り
ん化合物、ハロカーボン、アセチレン化合物、スルホキ
シド化合物などを同時に添加することは差支えない。本
発明において使用することができる金属箔としては、銅
、アルミニウム、メツキ処理を施した鉄板などが例示さ
れ、また無機質繊維質物としてはガラス繊維、ガラスク
ロス、アスベストクロスなどが例示される。
However, since the composition may harden due to the action of the platinum compound during heating and kneading, it is advantageous to add the platinum compound last. At this time, if necessary, conventionally known platinum compound activity inhibitors such as organic phosphorus compounds, halocarbons, acetylene compounds, sulfoxide compounds, etc. may be added at the same time. Examples of metal foils that can be used in the present invention include copper, aluminum, and plated iron plates, and examples of inorganic fibrous materials include glass fibers, glass cloth, and asbestos cloth.

本発明の積層板を得るにあたつては、たとえば上記した
オルガノポリシロキサン組成物を必要に応じて有機溶剤
で希釈して使用するのに好適な粘度に調製し、これを無
機質繊維質物に含浸させたのち、金属箔と重ね合わせ、
ついで加熱、加圧して積層一体化する方法、あるいはあ
らかじめ金属箔と無機質繊維質物を重ね合わせ、該繊維
質物にオルガノポリシロキサン組成物を均一に塗布し、
ついで上記と同様にして積層一体化する方法、などの方
法を採用すればよく、この場合の圧力は0.21<g/
CflL以上すればよく、また加熱温度はほぼ100〜
180℃程度とされる。
In order to obtain the laminate of the present invention, for example, the above-mentioned organopolysiloxane composition is diluted with an organic solvent as necessary to adjust the viscosity suitable for use, and the inorganic fibrous material is impregnated with this. After that, overlap it with metal foil,
Then, the metal foil and the inorganic fibrous material are overlapped in advance, and the organopolysiloxane composition is uniformly applied to the fibrous material.
Then, a method such as laminating and integrating in the same manner as above may be adopted, and the pressure in this case is 0.21<g/
The heating temperature should be at least CflL, and the heating temperature should be approximately 100~100℃.
It is said to be around 180°C.

上記した有機溶剤としてはトルエン、キシレン、ミネラ
ルターベンなどの脂肪族あるいは芳香族炭化水素系溶剤
などがあげられるが、さらにこれらの有機溶剤に等量ま
でのエタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル
−メチルエチルケトン、アセトン、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルなどの親水性有機溶剤を混合したものも使用する
ことができ、これらの混合溶剤を使用した場合にはとく
に金属に対する濡れがよくなつて安定した均一な接着力
を得ることができる。
Examples of the above-mentioned organic solvents include aliphatic or aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, and mineral turbene, but these organic solvents may also be supplemented with up to an equal amount of ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate-methyl ethyl ketone, Mixtures of hydrophilic organic solvents such as acetone, ethylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether can also be used, and when these mixed solvents are used, wetting of the metal is particularly good, resulting in stable and uniform wetting. It is possible to obtain strong adhesive strength.

なお、金属箔と無機質繊維質物とを積層一体化するにあ
たつては、あらかじめ金属表面を従来から知られている
プライマーで処理してもよく、これによればさらに接着
を良好に行うことができ、このプライマーとしてはアミ
ノシラン、ビニルシラン、エポキシシランあるいはアル
キルチタネート類を主体とするカツプリング効果を有す
るものがあげられる。
In addition, when laminating and integrating the metal foil and the inorganic fibrous material, the metal surface may be treated in advance with a conventionally known primer, which can further improve adhesion. Examples of this primer include those having a coupling effect mainly composed of aminosilane, vinylsilane, epoxysilane, or alkyl titanates.

本発明に係る積層板は、実用上必要とされるに充分な接
着力を有し、しかも柔軟性に富み、耐熱性、耐折曲性、
電気絶縁性にすぐれ、たとえばこの積層板を50℃、相
対湿度90%の雰囲気中に2か月間または105℃、相
対湿度9001)に2か月間放置しても接着力の低下は
全く認められないというすぐれた接着力を有している。
The laminate according to the present invention has adhesive strength sufficient for practical use, is highly flexible, has heat resistance, bending resistance,
It has excellent electrical insulation properties, and even if this laminate is left in an atmosphere of 50°C and 90% relative humidity for 2 months or 105°C and relative humidity of 900% for 2 months, no decrease in adhesive strength will be observed. It has excellent adhesive strength.

さらに、この積層板は、エツチング液に対して抵抗力が
あり、耐アルカリ性の悪いレジストインキをプリントし
て、一般に用いられている塩化第二鉄を主剤とするエツ
チング液でエツチングし、5%水酸化ナトリウム水溶液
でレジストインキを洗い流し、十分に水洗して乾燥した
のちの接着力、電気絶縁性などは全く低下することなく
、実用上すぐれた性能を保持し、たとえば従来から用い
られているエツチング方法によつて、プリント配線を容
易に形成することができ、また耐熱性にすぐれるため、
耐半田浴性が良く、300℃で30分間加熱しても接着
力、電気絶縁性などの性能が殆んど変化せず、部品の装
着作業をきわめて簡単に、しかも確実に行うことができ
るという利点を有し、とくにフレキシブルプリント回路
用基板に好適とされる。実施例粘度が4,000,00
0センチストークスであり、けい素原子に直結した全有
機基の0,004モル%がビニル基で、かつ分子鎖両末
端がジメチルビニルシリル基で封鎖されたビニル基含有
ジメチルポリシロキサン600yと粘度が10,000
センチストークスであり、けい素原子に直結した全有機
基の0.174モル%がビニル基で、かつ分子鎖両末端
がジメチルビニルシリル基で封鎖されたビニル基含有ジ
メチルポリシロキサン4009を混合し、これに乾式シ
リカ微粉末(商品名 アエロジルA−300;日本アエ
ロジル社)5009とジメチルジメトキシシラン109
を加えて二ーダ一で混合しながら180℃に加熱し、約
3時間同温度で混練したのち冷却し、二ロロールでさら
に混練し、ついで得られた混練物をキシレン15009
およびイソプロピルアルコール8509からなる混合溶
剤に溶解した。
Furthermore, this laminate is printed with a resist ink that is resistant to etching liquids and has poor alkali resistance, and then etched with a commonly used etching liquid containing ferric chloride as the main ingredient, and etched with 5% water. After washing off the resist ink with an aqueous sodium oxide solution, thoroughly rinsing with water, and drying, the adhesive strength, electrical insulation properties, etc. do not deteriorate at all, and the product maintains excellent performance in practical use. Because it allows easy formation of printed wiring and has excellent heat resistance,
It has good solder bath resistance, with almost no change in performance such as adhesive strength or electrical insulation even when heated at 300°C for 30 minutes, making it extremely easy and reliable to attach parts. It has advantages and is particularly suitable for flexible printed circuit boards. Example viscosity is 4,000,00
0 centistokes, 0,004 mol% of all organic groups directly bonded to silicon atoms are vinyl groups, and both ends of the molecular chain are capped with dimethylvinylsilyl groups. 10,000
mixed with vinyl group-containing dimethylpolysiloxane 4009, which is centistokes, 0.174 mol% of all organic groups directly connected to silicon atoms are vinyl groups, and both ends of the molecular chain are blocked with dimethylvinylsilyl groups, To this, dry silica fine powder (trade name Aerosil A-300; Nippon Aerosil Co., Ltd.) 5009 and dimethyldimethoxysilane 109 were added.
was added and heated to 180°C while mixing with a roller, kneaded at the same temperature for about 3 hours, cooled, further kneaded with a roller, and then mixed with xylene 15009.
and isopropyl alcohol 8509.

これに、白金重量で12ppmとなる量の塩化白金酸を
加えたのち、分子式で示されるメチルハイドロジエンポ
リシロキサン(水酸化カリウムの存在下における水素ガ
ス発生量は350m1/9・00C・1気圧・である)
を、ビニル基1個に対する水素原子の量が1.5になる
量を添加して調整した柘成物を、厚さ120μmのガラ
スクロス(日東紡績社製、WE−12−104)100
重量部に不揮発分が150重量部になるように含浸し、
ついで銅箔を重ね合わせ、圧力0.21<9/Cdl温
度150℃で15分間加熱加圧して積層一体化し全体の
厚さが240μmのフレキシブルプリント配線用基板を
得た。
After adding chloroplatinic acid in an amount of 12 ppm based on the weight of platinum, methylhydrodiene polysiloxane (the amount of hydrogen gas generated in the presence of potassium hydroxide is 350 m1/9, 00 C, 1 atm, )
A 120 μm thick glass cloth (manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd., WE-12-104) 100 μm was prepared by adding an amount such that the amount of hydrogen atoms per vinyl group was 1.5.
Impregnated so that the non-volatile content becomes 150 parts by weight,
Next, the copper foils were stacked and heated and pressed at a pressure of 0.21<9/Cdl temperature of 150° C. for 15 minutes to integrate the laminated layers to obtain a flexible printed wiring board having a total thickness of 240 μm.

このものについて銅箔とガラスクロスとの接着力、耐折
曲性、体積抵抗率、表面抵抗、耐半田浴性を調べたとこ
ろ、下記の表に示すような結果が得られた。
When this product was examined for adhesive strength between copper foil and glass cloth, bending resistance, volume resistivity, surface resistance, and solder bath resistance, the results shown in the table below were obtained.

なお、比較のために上記で使用した組成物の代りにポリ
エステルフイルム、ポリイミドフイルム、エポキシ樹脂
とガラスクロスを使用した市販の銅張りフレキシブルプ
リント配線用基板について諸特性を同表に併記した。
For comparison, the properties of commercially available copper-clad flexible printed wiring boards using polyester film, polyimide film, epoxy resin, and glass cloth instead of the composition used above are also listed in the same table.

なお市販の銅張りフレキシブルプリン 基板の全体の厚さは下記の厚さである。In addition, commercially available copper-clad flexible pudding The total thickness of the substrate is as follows:

卜配線用For wiring

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 アルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンけい素
原子に直結した水素原子を有するオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサン、無機質充填剤および白金もしくは白
金化合物からなるオルガノポリシロキサン組成物を含浸
または塗布した無機質繊維物と、金属箔とを積層一体化
してなる積層板。 2 前記アルケニル基含有ジオルガノポリシロキサンが
、a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は置換もしくは非置換の一価炭化水素基
、R^2は水酸基または同種もしくは異種の一価炭化水
素基を表わし、mは正の整数を表わす)で示され、けい
素原子に直結した全有機基の0.0005〜5モル%が
アルケニル基であり、かつ25℃における粘度が1,0
00,000センチストークス以上であるジオルガノポ
リシロキサンとb)一般式▲数式、化学式、表等があり
ます▼ (式中、R^3は置換もしくは非置換の一価炭化水素基
、R^4は水酸基または同種もしくは異種の一価炭化水
素基を表わし、nは正の整数を表わす)で示され、けい
素原子に直結した全有機基の0.01〜15モル%がア
ルケニル基であり、かつ25℃における粘度が100,
000センチストークス以下であるジオルガノポリシロ
キサンからなるオルガノポリシロキサン混合物である特
許請求の範囲第1項記載の積層板。
[Scope of Claims] 1 Alkenyl group-containing diorganopolysiloxane Impregnated or coated with an organopolysiloxane composition consisting of an organohydrodiene polysiloxane having a hydrogen atom directly bonded to a silicon atom, an inorganic filler, and platinum or a platinum compound. A laminate made by laminating and integrating inorganic fibers and metal foil. 2 The alkenyl group-containing diorganopolysiloxane has a) general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (in the formula, R^1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R^2 is a hydroxyl group or (represents the same or different types of monovalent hydrocarbon groups, m represents a positive integer), 0.0005 to 5 mol% of all organic groups directly bonded to silicon atoms are alkenyl groups, and The viscosity at is 1,0
b) General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R^3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and R^4 is represents a hydroxyl group or a monovalent hydrocarbon group of the same or different kind, n represents a positive integer), and 0.01 to 15 mol% of all organic groups directly bonded to silicon atoms are alkenyl groups, and Viscosity at 25°C is 100,
The laminate according to claim 1, which is an organopolysiloxane mixture comprising a diorganopolysiloxane having a diorganopolysiloxane of 000 centistokes or less.
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