JPS59168809A - Brush apparatus - Google Patents
Brush apparatusInfo
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- JPS59168809A JPS59168809A JP4362283A JP4362283A JPS59168809A JP S59168809 A JPS59168809 A JP S59168809A JP 4362283 A JP4362283 A JP 4362283A JP 4362283 A JP4362283 A JP 4362283A JP S59168809 A JPS59168809 A JP S59168809A
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- brush
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明はブラシ装置にかかり、特に半導体部品に発生
するはりを取り除くブラシ装置の改善に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a brush device, and more particularly to an improvement in a brush device for removing beams generated on semiconductor components.
半導体装置の製造においては、内部接続を終わった半導
体チップを外気から獲るため、樹脂封止するようにして
いる。一般にはモールド工程が用いられる。ところで、
このモールド工程にあたって、第1図に示すようにモー
ルド部a・・の根元に樹脂ばりb・・・がどうしても発
生する。In the manufacture of semiconductor devices, semiconductor chips that have been internally connected are sealed with resin to remove them from the outside air. Generally, a molding process is used. by the way,
During this molding process, resin burrs b are inevitably generated at the bases of the mold parts a, as shown in FIG.
−そこで、樹脂ばりb・・・の除去が必要となる。この
樹脂ばりb・・・の除去は、従来からブラシ装態を用い
てなきれていて、詳しくは以下のよりにしていた。- Therefore, it is necessary to remove the resin burr b... Conventionally, this resin burr b... has been removed using a brush device, and the details are as follows.
すなわち、第2図(a) 、 (b)に示すブラシ体、
あるいは第3図(a) 、 (b)に示すブラシ体を多
段に設けた構造が用いられていた。すなわち、第2図(
、) 、 (b)に示すものは、砥粒が入ったナイロン
糸gおよびブラシ整列板り、hから環状に構成されたブ
ラシ部lを筒状部材から構成したブラシ支持体eの外周
面にかしめに取着してブラシ体を構成したもので、また
第3図(a) 、 (b)に示すものはナイロン糸mお
よび環状の固定具tがら構成したブラシ部rを円板部材
から構成したブラシ支持体jの外周面に取沼してブラシ
体を構成、したものである。そして、これらブラシ体を
第4図に示すように回転軸n上に、半導体装置における
モールド部a・・・のピッチ間距離Xにスペーサ。で合
わせて多段に取り付けるブラシ構造が用いられている。That is, the brush body shown in FIGS. 2(a) and 2(b),
Alternatively, a structure in which brush bodies are provided in multiple stages as shown in FIGS. 3(a) and 3(b) has been used. In other words, Figure 2 (
, ) , (b) shows that a brush part l having an annular structure is formed from a nylon thread g containing abrasive grains and a brush alignment plate h to the outer peripheral surface of a brush support e made of a cylindrical member. The brush body is constructed by attaching the brush body to a caulking member, and in the case shown in FIGS. 3(a) and 3(b), the brush part r is composed of a nylon thread m and an annular fixture t, and is composed of a disc member. The brush body is constructed by surrounding the outer peripheral surface of the brush support j. Then, as shown in FIG. 4, these brush bodies are placed on the rotation axis n, and spacers are placed at the pitch distance X of the mold portion a of the semiconductor device. A brush structure is used in which the brushes are attached in multiple stages.
そして、回転駆動源(図示シナイ)で回転軸nを高速に
回転させ、この状態で支持部材pにて支持ならびガイド
された半導体装置の各モールド部a、aを’t’fl接
サーeナすら、ナイロン糸g・・・、あるいはナイロン
糸m・で構成されたブラシを通過させることにより樹脂
ばりb・・・を除去するようにしている。なお、dはブ
ラシ体Cを回転軸n上に固定するだめの止めナツトであ
る。Then, the rotary shaft n is rotated at high speed by a rotary drive source (not shown), and in this state, each mold part a, a of the semiconductor device supported and guided by the support member p is held in contact with the 't'fl contact server e. Even the resin burrs b are removed by passing them through a brush made of nylon thread g or nylon thread m. Note that d is a locking nut for fixing the brush body C on the rotating shaft n.
ところで、このようなブラシによるぼり除去に際し、ブ
ラシのピッチ間距離又とモールド部a−のピノ、チ間距
離Xとが一定で、ブラシの全長ピッチが半導体装置に対
し精度よく対応していることが必要とされる。By the way, when removing burrs with such a brush, it is necessary that the distance between the pitches of the brushes and the distance between the pins and the tips of the mold part a-- be constant, and that the pitch of the entire length of the brush corresponds accurately to the semiconductor device. is required.
ところが、上述したような筒状、円板状のブラシ支持体
e + fを用いてブラシ部1+rを取付ける構造では
どうしてもブラシ支持体e、にへの数層具合などによっ
て個々に全体の幅が約±0.2筒程度のばらつきを伴な
う。このため、ブラシ体をモールド部a・・・のピッチ
間距離Xに合わせたのでは、ブラシのピッチ間距離Xを
一定に保つことは難しく、IX−xlのはらっきの誤差
が累積されて所期のはシ除去ができなくなる問題がある
。すなわち、誤差が累積されると、ブラシの位置が樹脂
ばpb・・・のある被はり除去部から外ずれてモールド
部aに達し、樹脂ばシbが除去されずにモールド部aを
削り取ってしまう不都合をきたす。However, in the structure in which the brush parts 1+r are attached using the cylindrical or disc-shaped brush supports e + f as described above, the overall width of each brush support e and the brush part 1+r inevitably varies depending on the number of layers in the brush supports e and ni. There is a variation of about ±0.2 cylinders. For this reason, if the brush body is adjusted to the pitch distance X of the mold part a..., it is difficult to keep the pitch distance X of the brush constant, and errors in the pitch of IX-xl are accumulated. There is a problem that it becomes impossible to remove the stains during the period. In other words, as the errors accumulate, the position of the brush deviates from the covering removal part where the resin bap... This causes inconvenience.
そこで、このようなことがら、各積厚み寸法を有したス
ペーサ0をあらかじめ用意しておき、各ブラシの全体幅
yに合わせてスペーサ0を選択しながら、ピッチ間距離
Xを調整することが行なわれているが、これでは多大な
調整時間を費やしてしまうものであっ/ヒ。Therefore, in order to avoid such problems, it is recommended to prepare spacers 0 having various stacking thickness dimensions in advance, and adjust the pitch distance X while selecting the spacer 0 according to the overall width y of each brush. However, this would require a lot of adjustment time.
この発明は上口己が11イに着目してなされたもので、
その目的とするところは、ブラシのピッチ間距離を全校
に亘って一定に保つことができるブラシ装置を提供する
ととにある。This invention was made by Kimi Kamiguchi, focusing on 11i.
The purpose is to provide a brush device that can keep the distance between the pitches of the brushes constant over the entire school.
この発明は、ブラシ支持体の外周部にブラシ部が取り付
けられたブラシ体が多段に設けられたブラシ装置におい
て、ブラシ支持体を、ブラシ部の一方の幅方向111部
と密接するとともに上記多段に設けられるブラシ体のピ
ッチ間距離を栽定する詑21のフランツ部材と、この第
1のフランツ部材と保合さtン゛ラシ部の他方の幅方向
側部に密接して上記第1のフランツ部材とともに上記ブ
ラシ部を挾持する第2のフランツ部材とから構成づ−る
ことにより、他のブラシへのピッチ間距離誤差の累積を
なくして、ブラシのピッチ間距離を全長に亘って一定に
保つようにしようとするものでめる。This invention provides a brush device in which brush bodies each having a brush part attached to the outer periphery of the brush support body are provided in multiple stages, in which the brush support body is brought into close contact with a 111 part in the width direction of one of the brush parts, and in the multi-stage brush body. A flange member 21 for determining the distance between the pitches of the provided brush bodies, and a flange member connected to the first flange member in close contact with the other widthwise side of the brush portion. By comprising a second Franz member that holds the brush part together with the brush member, the pitch distance between the brushes can be kept constant over the entire length by eliminating the accumulation of pitch distance errors to other brushes. Describe what you are trying to do.
以下、この発明を第5図および第6図に示す一実施例に
もとづいて説明する。第5図中1は回転駆動源(図示し
ない)で高速に回転駆動される回転軸である。そして、
この回転軸l上に−は、その軸心方向に沿ってブラシ体
2が多段に設けられ、ブラシ装置を構成している。まだ
回転軸1の直下においては、その下段に配置された半導
体装置3が、その幅方向に沿って通過移動するようにな
っている。そして、このように構成されたブラシ装置の
ブラシ体2が第6図に示されている。このブラシ体2の
構造について説明すれは、図中4はブラシ部である。こ
のブラシ部4は、たとえば砥粒が入った長さの長いナイ
ロン糸5を放射状に多数本取着して環状に形成するとと
もに、このナイロン糸群の両側に円板状のブラシ整列板
6,6と後述するブラシ支持体7とをそれぞれ配して構
成される。そして、このブラシ部4の幅yは、半導体装
置3のモールド部3a・・・間における被ばシ除去部3
b・・・の旺1に対応して設定されている。一方、この
発明の要部となるブラシ支持体7 (d第1のフランツ
部材7aと第2のフランツ部材7bとから構成される。The present invention will be explained below based on an embodiment shown in FIGS. 5 and 6. Reference numeral 1 in FIG. 5 is a rotating shaft that is rotationally driven at high speed by a rotational drive source (not shown). and,
On this rotating shaft l, brush bodies 2 are provided in multiple stages along the axial direction of the rotary shaft l, thereby configuring a brush device. Immediately below the rotating shaft 1, the semiconductor device 3 disposed at the lower stage is configured to pass along the width direction thereof. The brush body 2 of the brush device constructed in this way is shown in FIG. To explain the structure of this brush body 2, numeral 4 in the figure is a brush portion. This brush part 4 is formed into a ring shape by attaching a large number of long nylon threads 5 containing abrasive grains radially, and has disc-shaped brush alignment plates 6, 6 on both sides of the nylon thread group. and a brush support 7 to be described later. The width y of this brush portion 4 is determined by the width y of the covered removal portion 3 between the mold portions 3a of the semiconductor device 3.
It is set corresponding to 1 of b. On the other hand, the brush support 7 (d), which is the main part of the present invention, is composed of a first Franz member 7a and a second Franz member 7b.
第1のフランツ部材7aとしては、高精ルLな機榔:加
工によって筒状の軸取付部8ならびにその軸取付部8の
一端部にフランジ部9を力ロエして構成されていて、そ
の全長Wは半導体装置3のモーノット部3a・・・のピ
ッチ間距離Xに対し約±0.01mといつた高精度で合
わされている。そして、この第1の7ランノ部材7aの
軸取付部8の外周部に上記ブラシ部4が嵌挿される。ま
た軸取付部8の先端外周部には上記回転軸1の回転方向
に対し逆方向におれじ10が刻設されている。他方、易
2の7ランノ部材7bは、中央に透孔11ならびに上記
おねじ10に対応しプこ保合部としてのめねじ12を備
えた円板13から構成される。そして、この円板13は
、ブラシ部4を嵌挿した軸取付部8のおねじ10に進退
可能に螺挿され、各フランジ部9と円板13との両端面
でブラシ部4をその幅方向両側部から挾み付けて固定し
ている。したがって、第1のフランツ部材7aはブラシ
部4の一方の幅方向側部に密接し、第2のフランジ部材
7bは他の幅方向側部に密接して、ブラシ部4を挾持す
るようになっている。なお、円板13は回転軸lの回転
方向とは逆の方向で[7まり、回転方向に沿う方向でゆ
るむようになっている。また、第1のフランジ部7aを
構成する7ランノ部9の厚みFは半導体装置3のモール
ド部3a・・・のピッチ間距離Xに合わせて高精度に設
定されていることはいうまでもない。The first flange member 7a is constructed using a high-precision machine: a cylindrical shaft attachment part 8 and a flange part 9 are attached to one end of the shaft attachment part 8 by machining. The overall length W is matched with the pitch distance X of the mo-not portions 3a of the semiconductor device 3 with high accuracy of approximately ±0.01 m. The brush portion 4 is fitted into the outer peripheral portion of the shaft mounting portion 8 of the first seven-run member 7a. Further, a groove 10 is carved on the outer peripheral portion of the tip of the shaft mounting portion 8 in a direction opposite to the rotational direction of the rotating shaft 1. On the other hand, the 7-run member 7b of I2 is composed of a disk 13 having a through hole 11 in the center and a female screw 12 corresponding to the male screw 10 and serving as a locking portion. The disc 13 is screwed into the male thread 10 of the shaft mounting part 8 into which the brush part 4 is inserted so that it can move forward and backward, and the brush part 4 can be inserted into the brush part 4 by its width at both end surfaces of each flange part 9 and the disc 13. It is clamped and fixed from both sides. Therefore, the first flange member 7a comes into close contact with one widthwise side portion of the brush portion 4, and the second flange member 7b comes into close contact with the other widthwise side portion to sandwich the brush portion 4. ing. Note that the disc 13 is designed to loosen in a direction opposite to the direction of rotation of the rotation axis l, and to loosen in a direction along the rotation direction. Further, it goes without saying that the thickness F of the seven-run part 9 constituting the first flange part 7a is set with high precision in accordance with the pitch distance X of the mold part 3a of the semiconductor device 3. .
そして、このように構成されたブラシ体2は回転軸1上
にその軸心方向に沿ってピンチ間距離Xに合わせて複数
配置され、止めナツト14゜14を通じて回転軸−1に
取り付けられている。A plurality of brush bodies 2 configured as described above are arranged along the axial direction of the rotating shaft 1 according to the distance between the pinches X, and are attached to the rotating shaft -1 through a locking nut 14° 14. .
そして、このように構成されたプラン装置を用いて半導
体装置3のモールド部3a・・・の根元に発生する樹脂
はり(図示しない)を取シ除くときには、回転駆動源(
図示しない)にて回転軸1を通じ各ブラシ体4・・・を
高速に回転させ、この状態で支持部材15にて支持なら
びにガイドされた半導体装置3の各モールド部3a間上
を摺接しなから半導体装置3をその幅方向に沿って移動
させることにより樹脂ばりの除去が行なわれる。ここで
、複数個のブラシ体4・・・の連結は、全体幅W、すな
わち第1および第2のフ木も
ランシフa 、7bの連綿によりブラシのピンチ間距離
Xが決められるので、ブラシ幅yのバラツキは第1およ
び第2のフランジ部制’ 7 a 。When removing the resin beam (not shown) generated at the base of the mold part 3a of the semiconductor device 3 using the plan device configured in this way, the rotational drive source (
(not shown) rotates each brush body 4 at high speed through the rotating shaft 1, and in this state slides over each mold part 3a of the semiconductor device 3 supported and guided by the support member 15. The resin burrs are removed by moving the semiconductor device 3 along its width. Here, the connection of the plurality of brush bodies 4... is determined by the overall width W, that is, the distance between the pinches of the brush by the continuous threads of the first and second brushes a and 7b, so the brush width The variation in y is the difference between the first and second flange parts.
zb内だけの問題であり個々のブラシ幅のばらつきを解
消することができるようになり、他のブラシ体4・・・
へ(ばらつ′きが影帆ゝせす、その誤差は累積さ7しな
い。よって、多段に並んだブラシのピッチ間距離Xをブ
ラシ装置の全長に亘って簡単に一定値以内の小さなほら
つきに保つことができるよ’15になり、はりの除去の
際において、モールド部3a・・を傷つけることなくモ
ールド部3a・・・の根元の樹脂d:りを正確、かつ確
実に原云することかできる。This is a problem only within zb, and it is now possible to eliminate variations in the width of individual brushes, and other brush bodies 4...
(The variation causes an effect, and the error does not accumulate. Therefore, it is easy to keep the pitch distance X of the multi-stage brushes within a certain value over the entire length of the brush device. When removing the beam, it is possible to accurately and reliably remove the resin at the base of the mold part 3a without damaging the mold part 3a. I can do it.
7よづ、上述した一実施例では第1のフランジ部材と第
2のフランツ部材との連結とねじを用いて進退しth!
整可箭な構造としたが、それ以外の保合手段にて進退調
整できるようにしてもよいことはもちろんである。7. In the embodiment described above, the first flange member and the second flange member are connected and moved back and forth using screws.
Although the structure is designed to be adjustable, it goes without saying that other securing means may be used to adjust the forward and backward movement.
さらに、上記笑施例においては、ブラシ側に対[7て半
導体装置を通過させるようにしているが、半導体装置全
固定し、ブラシ側を動かすようにしてパリ取りを行うよ
うにしてもよいことはもちろんである。Furthermore, in the above embodiment, the semiconductor device is passed through the brush side, but it is also possible to completely fix the semiconductor device and move the brush side to remove deburrs. Of course.
以上説明したようにこの発明によれば、面精度に昂1の
フランジ部と第2の7ランノ部材を連結しあうことによ
り他のブラシへの誤差の累積を何年にフ外消することか
できるようになる。As explained above, according to the present invention, by connecting the first flange part and the second 7-run member to each other for surface accuracy, it is possible to completely eliminate the accumulation of errors in other brushes. become able to.
したがって、ブラシのピッチ間距離をブラシ装置全長に
亘って一定値以内の小さな誤差にお塾え、その全長距離
を一定に保つことができるようになり、他の部分を傷つ
けることなくばりを正確、かつ確実に除去することがで
きる。Therefore, the distance between the pitches of the brushes can be maintained within a small error within a certain value over the entire length of the brush device, and the entire distance can be kept constant, allowing accurate burrs and burrs to be removed without damaging other parts. and can be removed reliably.
第1図は半導体装置におけるはシ発生の状態を示す平面
図、ゐ2図(a) 、 (b)および第3図(a)。
(b)は異なる従来のブラシ体を示す断面図および側面
図、第4図はそのブラシ体で構成されてなるブラシ装置
を示す正面図、第5図および第6図はこの発明の一実施
例を示し、第5図はブラシ装置の一部断面した正面図、
第6図はブラシ体の正断面図である。
ノ・・・回転軸、2 ・ブラシ体、4・・ブラシ部、7
・・・ブラシ支持体、7a・・第1のフランツ部材、7
b ・第2の7ランノ部材、lOおねじ、12−めねし
。
出願ノ\代理人 弁理士 鈴 江 武 彦矛I図
矛2図
(a ) (b)FIG. 1 is a plan view showing the state of chipping in a semiconductor device, FIGS. 2(a) and 3(b), and FIG. 3(a). (b) is a sectional view and side view showing a different conventional brush body, FIG. 4 is a front view showing a brush device constituted by the brush body, and FIGS. 5 and 6 are one embodiment of the present invention. FIG. 5 is a partially sectional front view of the brush device;
FIG. 6 is a front sectional view of the brush body. No...Rotating shaft, 2 - Brush body, 4... Brush part, 7
...Brush support body, 7a...First Franz member, 7
b - Second 7-run member, lO male thread, 12-female thread. Application No. Agent Patent Attorney Takehiko Suzue I Illustration 2 (a) (b)
Claims (1)
体を設け、このブラシ体を回転軸上にその軸心方向に沿
って多段に設けてなるブラシ装置において、上記ブラシ
体を構成するブラシ支持体を、ブラシ部の一方の幅方向
側部と密接するとともに上記多段に設けられるブラシ体
のピッチ間距離を規定する第1のフランツ部材と、この
第]のフランツ部材に対し係合されブラシ部の他方の幅
方向側部と密接して上記第1のフランツ部材とともに上
記ブラシ部を挾持する第2のフランツ部材とから構成し
たことを特徴とするブラシ装置。[Scope of Claims] A brush device comprising a disk-shaped brush body configured by arranging brush parts and a brush support body, and the brush bodies are arranged in multiple stages along the axial direction on a rotating shaft. a first Franz member that brings the brush support constituting the brush body into close contact with one widthwise side portion of the brush portion and defines a pitch distance between the brush bodies provided in multiple stages; A brush device comprising: a second Franz member that is engaged with the Franz member and tightly grips the brush portion together with the first Franz member.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4362283A JPS59168809A (en) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Brush apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4362283A JPS59168809A (en) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Brush apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59168809A true JPS59168809A (en) | 1984-09-22 |
Family
ID=12668939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4362283A Pending JPS59168809A (en) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Brush apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59168809A (en) |
-
1983
- 1983-03-16 JP JP4362283A patent/JPS59168809A/en active Pending
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