JPS59154426A - Entirely solid electrochromic element - Google Patents

Entirely solid electrochromic element

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JPS59154426A
JPS59154426A JP58028134A JP2813483A JPS59154426A JP S59154426 A JPS59154426 A JP S59154426A JP 58028134 A JP58028134 A JP 58028134A JP 2813483 A JP2813483 A JP 2813483A JP S59154426 A JPS59154426 A JP S59154426A
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JP
Japan
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layer
electrochromic
electrode
film
manganese oxide
Prior art date
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JP58028134A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuya Ishiwatari
和也 石渡
Shigeji Iijima
飯島 繁治
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Canon Inc
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Canon Inc
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • G02F1/1524Transition metal compounds

Abstract

PURPOSE:To develop color of high density at a high response speed by using manganese oxide as the material of an electrochromic layer as a color developing layer at the anode side. CONSTITUTION:The 1st electrode 2 made of a transparent electric conductor film, an electrochromic layer 3 as a color developing layer at the anode side, an insulating layer 4 made of a dielectric film, and the 2nd electrode 5 made of an electric conductor film are successively laminated on a transparent substrate 1 to obtain an entirely solid electrochromic element. The 2nd electrochromic layer 6 as a color developing layer at the cathode side may be further laminated. At this time, the electrochromic layer 3 is made of manganese oxide. The manganese oxide film is formed by reactive ion plating in an atmosphere of gaseous O2 using manganese or manganese oxide as an evaporating material.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電気化学的発消色現象すなわちエレクトロクロ
ミック現象を利用したエレクトロクロミック素子に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electrochromic device that utilizes an electrochemical coloring/decoloring phenomenon, that is, an electrochromic phenomenon.

エレクトロクロミック現象とは、電圧を加えた時に酸化
還元反応により物質に色が付く現&1指す。このような
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクコミック素子は、例えば、数
字表示素子、X−Yマトリクスディスプレイ、光学シャ
ッタ、絞り機構等に応用できるもので、その材料で分類
すると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全
固体型のエレクトロクロミック素子に関するものである
Electrochromic phenomenon refers to the phenomenon in which substances change color due to redox reactions when voltage is applied. Electrochemical quenching dye elements, that is, electrochromic elements that utilize such electrochromic phenomena, can be applied to, for example, numeric display elements, X-Y matrix displays, optical shutters, aperture mechanisms, etc. Although they are classified into liquid type and solid type, the present invention particularly relates to an all-solid type electrochromic element.

エレクトロクロミック現象を利用した全固体型エレクト
ロクロミック素子の2つの構造例を第1図および第2図
に示す。
Two structural examples of all-solid-state electrochromic devices utilizing electrochromic phenomena are shown in FIGS. 1 and 2.

第1図に示すエレクトロクロミック素子は、透明な基板
1の上に、透明導電体膜よりなる第1電極2、陽極側発
色層であるエレクトロクロミック層3、誘電体膜からな
る絶縁層4、導電体膜よシ成る第2′i6.極5を順次
積層してなるものである。
The electrochromic element shown in FIG. 1 consists of a transparent substrate 1, a first electrode 2 made of a transparent conductive film, an electrochromic layer 3 which is a coloring layer on the anode side, an insulating layer 4 made of a dielectric film, and a conductive layer 4. 2'i6, which consists of body membranes. It is formed by sequentially stacking poles 5.

また、第2図に示すエレクトロクロミック索子(r:i
、第1図に示す構造における絶縁層4と第2電(鳩Y5
との間に、さらに、陰極側発色層である第2のエレクト
ロクロミック層6をt?t Jeしたものである。
In addition, the electrochromic cord (r:i
, the insulating layer 4 and the second electrode (pigeon Y5) in the structure shown in FIG.
In addition, a second electrochromic layer 6, which is a coloring layer on the cathode side, is placed between t? This is what I did.

上記の構造において、基板1は一般的にガラス板によっ
て形成されるが、これは力゛ラス板に限らず、プラスチ
ック板またはアクリル板等の透明な板ならばよく、また
、その位桁に関しても、第1電極2の下ではなく、第2
電極5の上にあってもよ込し、目的に応じて(例えば、
保護カバーとするなどの目的で)両側に設けてもよい。
In the above structure, the substrate 1 is generally formed of a glass plate, but this is not limited to a glass plate, and may be any transparent plate such as a plastic plate or an acrylic plate. , not under the first electrode 2, but under the second electrode.
Depending on the purpose (for example,
They may be provided on both sides (for purposes such as serving as a protective cover).

ただし、こ九らの場合に応じて、第2電極5を透明導′
屯膜にしたシ、両側の電極とも透明導電膜にする必要が
ある。両方の電極を透明電極とすれば、素子を透明型と
して使用できる。この様な透明導電膜としては、ITO
IP (酸化インソウムエn2o5中に酸化錫S nO
2を5%前後含む)やネサ膜等が用いられる。
However, depending on the case, the second electrode 5 may be a transparent conductor.
If a thin film is used, both electrodes on both sides must be made of transparent conductive film. If both electrodes are transparent electrodes, the element can be used as a transparent type. As such a transparent conductive film, ITO
IP (tin oxide S nO in insium oxide n2o5
2), Nesa membrane, etc. are used.

上記の構造において、陽極側発色層であるエレクトロク
ロミック層3は、従来、三酸化クロム(Cr20g )
、水酸化イリソウム(Ir(OH)2 )、水酸化ニッ
ケル(N1(oH)2 )等によりて形成されている。
In the above structure, the electrochromic layer 3, which is the coloring layer on the anode side, is conventionally made of chromium trioxide (Cr20g).
, irisium hydroxide (Ir(OH)2), nickel hydroxide (N1(oH)2), etc.

誘電体からなる絶縁層4ば、二酸化ノルコン(Z r 
O2) 、酸化ケイ素(SiO) 、 二酸化’y (
−A(5102)、五酸化タンタル(Ta2o5)等に
代表される酸化物、あるいはフッ化リチウム(LiF’
 )、フッ化マグネシウム(MgF2)等に代表される
フッ化物を用いて形成する。また、胸極側発色層である
エレクトロクロミック層6は、二酸化タングステン(W
O2)、三酸化タングステン(WO6)、二酸化モリブ
デン(MoC2)、三酸化モリブデン(Mo Os )
、五酸化バナゾウム(v205)等を用いて形成する。
The insulating layer 4 made of dielectric material is made of norcon dioxide (Z r
O2), silicon oxide (SiO), dioxide'y (
-A (5102), oxides such as tantalum pentoxide (Ta2o5), or lithium fluoride (LiF')
), magnesium fluoride (MgF2), etc. In addition, the electrochromic layer 6, which is the coloring layer on the thoracic pole side, is made of tungsten dioxide (W).
O2), tungsten trioxide (WO6), molybdenum dioxide (MoC2), molybdenum trioxide (MoOs)
, vanazium pentoxide (v205), etc.

この様な構造をもつ全固体型エレクトロクロミック素子
は、第1電極2と第2電極5の間に電圧を印加すること
によシミ気化学的反応が起き、着色、消色をする。この
着色盪構ば、例えば、エレクトロクロミ、り層6へのカ
チオンとI、を子のダブルインジェクションによるブロ
ンズ形成にあると一般的に8われでいる。例えば、エレ
クトロクロミック物質として、WO5を用いる場合には
、次の(1)式で表わされる酸化還元反応が起き着色す
る。
In an all-solid-state electrochromic device having such a structure, a vapor chemical reaction occurs when a voltage is applied between the first electrode 2 and the second electrode 5, and the stain is colored or decolored. This coloring process is generally thought to involve bronze formation by double injection of cations and I into the layer 6, such as electrochromic. For example, when WO5 is used as an electrochromic substance, an oxidation-reduction reaction represented by the following formula (1) occurs, resulting in coloration.

WO3+XH” 十xe ; HxV7v705   
    (1)(1) 弐K 従って、タングスデンブ
ロンス)Lx*03が形成され着色するが、ここで印加
電圧を逆転すれば消色状態となる。(1)式のこの様な
反応は、全1体型エレクトロクロミ、り素子においては
、素子内部の絶縁層によってプロトン■(−4−が供給
され着色する。
WO3+XH"1xe; HxV7v705
(1) (1) 2K Therefore, tungsten bronze) Lx*03 is formed and colored, but if the applied voltage is reversed at this point, the color becomes decolored. In an all-one-type electrochromic element, such a reaction of formula (1) is caused by the supply of protons (-4-) by the insulating layer inside the element, resulting in coloring.

上述のエレクトロクロミック素子におりては、従来、隔
極夕]1発色層であるエレクトロクロミック層3は水酸
化イリノウム(Ir(OH)2 )、水酸化ニッケル(
N1(on)2)等の羽村を反応性ス・ぐ、夕′或いは
陽極酸化膜法によって形成している。
In the above-mentioned electrochromic device, the electrochromic layer 3, which is a color-developing layer, is conventionally made of irinium hydroxide (Ir(OH)2), nickel hydroxide (
Hamura such as N1 (on) 2) is formed by a reactive film, film or anodic oxidation film method.

本発明は、このようなエレクトロクロミック素子におい
て、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層を、従
来のものとは異なる全く新しい拐料によって構成しで、
従来の陰極側発消色のみのタイプのものに比して優れた
応答速度および着色濃度の発色を得ることのできる全固
体型エレクト・ロクロミ、り素子を提供しようとするも
のである。
The present invention provides such an electrochromic device in which the electrochromic layer, which is the coloring layer on the anode side, is composed of a completely new coating material different from conventional ones.
It is an object of the present invention to provide an all-solid-state electrochromic element that can obtain color development with superior response speed and coloring density compared to the conventional type that only develops and fades on the cathode side.

本発明による全固体型工1/クトロクロミンク素子の特
徴とするところは、第1図に示すように導電体膜より成
る第1電悼と、陽極側発色層であるエレクトロクロミッ
ク層と、誘電体膜からなる絶縁層と、導電体膜よシなる
第2電極をj順次積層した全固体型エレクトロタ・ロミ
ック素子、あるいは、第2図に示すように、上記の絶縁
層と第2電極の間にさらに陰極側発色層である第2のエ
レクトロクロミック層を積層してなる全固体型エレクト
ロクロミ、り素子において、陽極側発色層であるエレク
トロクロミック層が酸化マンガンより成ることにある。
The features of the all-solid-state mold 1/chrochromic device according to the present invention are as shown in FIG. An all-solid-state electrothermic device in which an insulating layer made of a body film and a second electrode made of a conductive film are sequentially laminated, or as shown in FIG. In an all-solid-state electrochromic element in which a second electrochromic layer, which is a coloring layer on the cathode side, is laminated in between, the electrochromic layer, which is the coloring layer on the anode side, is made of manganese oxide.

この酸化−ンガンの膜は、反応性イオンブレーティング
によって形成することができ、′蒸発材としてマンガン
(、’An)あるいはその酸化物(Mn011VIn0
2.Mn2O3,Mn304)’を用い、雰囲気に、0
2ガスヲ尋人することによって所望のエレクトロクロミ
ック層の膜を得ることができる。
This oxidized cancer film can be formed by reactive ion blating, using manganese (,'An) or its oxide (Mn011VIn0) as the evaporator.
2. Mn2O3, Mn304)' was used, and the atmosphere was 0
A desired electrochromic layer can be obtained by adding two gases.

本発明による全固体型エレクトロクロミック素子を製↓
1にするのに使用される反応性イオンブレーティング装
f〜、の−例を第3図に示す。図中、10はイオンブレ
ーティング装置の本体、11は拡散ポンフ0.12は電
子銃(EBガン)、13は傘(基板ホルダー)、14は
DCバイアスを印加するDCバイアス源、15は高周波
コイル(RFコイル)、イ6は02ガスを供給する02
ガスボンベ、17はニードルバルブ、18は基板(被蒸
着体)を示す。
Manufacture all-solid-state electrochromic device according to the present invention↓
An example of a reactive ion brating device f~ used to make a 1. In the figure, 10 is the main body of the ion blating device, 11 is a diffusion pump, 12 is an electron gun (EB gun), 13 is an umbrella (substrate holder), 14 is a DC bias source that applies DC bias, and 15 is a high frequency coil. (RF coil), A6 supplies 02 gas
A gas cylinder, 17 a needle valve, and 18 a substrate (object to be evaporated).

第3図に示す装置によってエレクトロクロミック素子を
製造する工程は次の通りである。
The steps for manufacturing an electrochromic device using the apparatus shown in FIG. 3 are as follows.

先ず、基板1の上に適当な引出し電極部およびリード部
を備えた第1電極2を形成し、これを第3図の装置内に
18で示す如く設宣し蒸発材として−y 7カ゛ン(M
n )あるいはその酸化物(Mn−0,MnO2。
First, a first electrode 2 having a suitable extraction electrode part and a lead part is formed on a substrate 1, and this is installed in the apparatus shown in FIG. 3 as shown at 18, and -y7 electrodes ( M
n) or its oxide (Mn-0, MnO2.

Mn2031Mn203lヲ用い、0□ガスボンベ16
から0□ガスを導入し、反応性イオンシレーティング方
法によシ陽極側発色層であるエレクトロクロミック層3
を上記の第1電栖2の上に形成する。次に、この膜の上
に、真空蒸着方法によシ絶縁層4を形成し、次に、該絶
縁層4の上に第2電極5の膜を形成しく第1図に示すエ
レクトロクロミック素子の場合)、或いは該絶縁層4の
上に、陰極側発色層であるエレクトロクロミック層6を
真空蒸着法で形成した上、第2電懐5の膜を形成する(
第2図に示すエレクトロクロミック素子の場合)。
Using Mn2031Mn203l, 0□ gas cylinder 16
0□ gas is introduced from the electrochromic layer 3, which is a coloring layer on the anode side, by a reactive ion silating method.
is formed on the first electrode 2 described above. Next, an insulating layer 4 is formed on this film by a vacuum evaporation method, and then a second electrode 5 is formed on the insulating layer 4. (case), or on the insulating layer 4, an electrochromic layer 6, which is a coloring layer on the cathode side, is formed by vacuum evaporation, and then a film of the second flash 5 is formed (
In the case of the electrochromic device shown in FIG. 2).

本発明によれば、従来の陰極側発色層のみのタイプのエ
レクトロクロミック素子と較べて応答速度、発色効率お
よび寿命を改善することができる。
According to the present invention, response speed, coloring efficiency and lifespan can be improved compared to conventional electrochromic elements having only a coloring layer on the cathode side.

以下、本発明の実施例につき説明する。Examples of the present invention will be described below.

実施例1 厚み0.8 amのガラス(Corning 7059
 )の基板1上に、適当な引き出し電極部及びリード部
を備えたITO膜より成る第1電極2を形成し、蒸着材
料にMnヲ用い、反応性イオンゾl/−ティング方法に
よシ、上記の第1電極2上に、陽極側発色層であるエレ
クトロクロミック層3を形成した。
Example 1 Glass 0.8 am thick (Corning 7059
) A first electrode 2 made of an ITO film having a suitable extraction electrode part and lead part is formed on the substrate 1 of An electrochromic layer 3, which is a coloring layer on the anode side, was formed on the first electrode 2.

条件としては、(0□ガス)を3−OX 10 ’To
rr ’1で導入し、蒸着速度を2.5 X/aec 
、!: した。膜厚はi 000 Xであった。このエ
レクトロクロミック層3は酸化マンガン(Mn0z )
より成るものであった。
The conditions are (0□ gas) as 3-OX 10'To
rr '1, and the deposition rate was 2.5 X/aec.
,! : did. The film thickness was i 000×. This electrochromic layer 3 is made of manganese oxide (Mn0z)
It consisted of:

この膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁体層4として
Ta2o5の層を3000 X付けた。この時の真空度
は2.OX 10 ’Torr 、蒸着速度は、8に/
8eeであった。さらに、これらの膜の上に、第2電極
5として半透明導電Au膜を300X付けた。
On this film, a layer of Ta2O5 of 3000X was deposited as an insulator layer 4 by vacuum evaporation. The degree of vacuum at this time is 2. OX 10'Torr, deposition rate 8/
It was 8ee. Further, on top of these films, a 300X semi-transparent conductive Au film was attached as the second electrode 5.

この様に1〜で製作した全固体型エレクトロクロミック
素子を第1及び第2電極間に、22Vの電圧を印加し駆
動したところ、着色濃度がΔ0.0で03に達するまで
に9607nsecで6つだ・実施例2 厚み0.8朋のガラス(Corning 7059 )
の基板1上に、適当な引き出・し電極部及びリード部を
備えたITO膜よシ成る第1電極2を形成し、蒸着材料
にMn OZを用い、反応性イオンシレーティング方法
により、上記の第1電極2上に、陽極側発色層であるエ
レクトロクロミック層3を形成した。
When the all-solid-state electrochromic device fabricated in steps 1 to 1 was driven by applying a voltage of 22V between the first and second electrodes, the coloring density reached 0.3 at Δ0.0, and 6 pulses were generated in 9607 nsec.・Example 2 Glass with a thickness of 0.8 mm (Corning 7059)
A first electrode 2 made of an ITO film having appropriate extraction/extraction electrode parts and lead parts is formed on a substrate 1, and the above-described process is performed using MnOZ as a vapor deposition material by a reactive ion silating method. An electrochromic layer 3, which is a coloring layer on the anode side, was formed on the first electrode 2.

条件としては、02ガスを2.0 X 10  Tor
rまで導入し、蒸着速度を13. OX//’secと
した。膜厚は2000Xであった。このエレクトロクロ
ミック層は酸化マンガン(MnO2)よシ成るものであ
った。この膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁体層4
としてTa205の層を3000久付けだ。この、時の
真空度は2.OX 10−5Torr 、蒸着速度は8
X/secであった。さらに、これらの膜の上に、陰極
側発色層であるエレクトロクロミック層6として、WO
の膜を、真空蒸着方法によp4oooi付け、さらに、
第2電極5として半透明導電Au膜を300X付けだ。
The conditions are 02 gas at 2.0 x 10 Torr.
r, and the deposition rate was increased to 13. OX//'sec. The film thickness was 2000X. This electrochromic layer consisted of manganese oxide (MnO2). An insulator layer 4 is deposited on this film by a vacuum evaporation method.
As a result, the Ta205 layer is 3000 years old. The degree of vacuum at this time is 2. OX 10-5 Torr, deposition rate 8
It was X/sec. Further, on these films, WO is formed as an electrochromic layer 6 which is a coloring layer on the cathode side.
A film of p4oooi is attached by a vacuum evaporation method, and further,
A semi-transparent conductive Au film of 300X was attached as the second electrode 5.

この様にして製作した全固体型エレクトロクロミック素
子を第1及び第2電極間に、22■の電圧を印加し駆動
したところ、着色濃度がΔQ、Dで04に達するまでに
700m5ecであった。
When the thus manufactured all-solid-state electrochromic device was driven by applying a voltage of 22 μ between the first and second electrodes, it took 700 m5 ec until the coloring density reached 04 in ΔQ,D.

実施例3 厚み0.8 mmのガラス(Corning 7059
 )の基板1上に、適当な引き出し電極部及びリード部
を備えたITO膜よシ成る第1電極2を形成し、蒸着材
料にMuO2f用い、反応性イオンブレーティング方法
により、陽極側発色層である。エレクトロクロミック層
3金形成した。
Example 3 Glass with a thickness of 0.8 mm (Corning 7059
), a first electrode 2 made of an ITO film with appropriate extraction electrode parts and lead parts is formed, and using MuO2f as the evaporation material, a color forming layer on the anode side is formed by a reactive ion blating method. be. An electrochromic layer of 3 gold was formed.

条件としては、02ガスを3. OX ]、 OTor
r壕で尋人し、蒸着速度を2.o久/Fl e Cとし
た。膜厚は2000Xであった。このエレクトロクロミ
2り層は酸化マンガン(Mn0z )より成るものであ
った。
The conditions are 02 gas and 3. OX ], OTor
The deposition rate was set to 2. oku/Fle C. The film thickness was 2000X. This electrochromic double layer was composed of manganese oxide (Mn0z).

この膜の上に、真空蒸着方法によシ、絶縁体層4として
Ta 205の層を3000X付けた。この時の真空度
は2.0 X 10.5Torr、蒸着速度は8X/s
eeであった。さらに、これらの膜の上に、第2電極5
として半透明導電Au膜を300X付けた。
On top of this film, a 3000X layer of Ta 205 was applied as an insulator layer 4 by a vacuum evaporation method. The degree of vacuum at this time was 2.0 x 10.5 Torr, and the deposition rate was 8X/s.
It was ee. Furthermore, a second electrode 5 is placed on top of these films.
A translucent conductive Au film of 300X was attached as a layer.

この様にしで製作した全固体型エレクトロクロミック素
子を第1及び第2電極間に、2.2Vの電LLを印加し
駆動したところ、着色濃度がΔ0.Dで0.3に達する
までに98.Otn seeであった。
When the all-solid-state electrochromic device manufactured in this manner was driven by applying a voltage LL of 2.2 V between the first and second electrodes, the coloring density was Δ0. 98. by the time D reaches 0.3. It was Otn see.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は、本発明に係る全固体型エレクト
ロクロミック玉子の2つの例を示す断面図、第3図は、
本発明素子を製造するのに使用されるイオンシレーティ
ング装置を示す概略図である。 l−・・基板      2・・第1電極;3・・・エ
レクトロクロミック層 4・・・絶縁層     5・・・第2電極6・・・エ
レクトロクロミック層 10・・・イオンシレーティング装置本体11・・・拡
散ポンプ  12・・電子銃(EB力ゝン)13・・・
傘(基板ホルダー)
FIGS. 1 and 2 are cross-sectional views showing two examples of all-solid-state electrochromic eggs according to the present invention, and FIG.
FIG. 1 is a schematic diagram showing an ion silating apparatus used to manufacture the device of the present invention. l-... Substrate 2... First electrode; 3... Electrochromic layer 4... Insulating layer 5... Second electrode 6... Electrochromic layer 10... Ion silating device main body 11.・・Diffusion pump 12・・Electron gun (EB power gun) 13・・・
Umbrella (board holder)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 導電体膜より成る第1電極と、陽極側発色層であるエレ
クトロクロミック層と、誘電体膜から々る絶縁層と、導
電体膜よシなる第2電極を順?′に積層し、或いは上記
の絶縁層と第2電極の間にさらに陰極側発色層である第
2のエレクトロクロミック層を積層してなる全固体型エ
レクトロクロミ。 り素子において、陽極側発色層であるエレクトロクロミ
ック層は酸化マンガンよりなることを特徴とする全固体
型エレクトロクロミック索子。
[Claims] A first electrode made of a conductive film, an electrochromic layer which is a coloring layer on the anode side, an insulating layer made of a dielectric film, and a second electrode made of a conductive film, in this order? ', or a second electrochromic layer, which is a coloring layer on the cathode side, is further laminated between the above insulating layer and the second electrode. An all-solid-state electrochromic element characterized in that the electrochromic layer, which is a coloring layer on the anode side, is made of manganese oxide.
JP58028134A 1983-02-22 1983-02-22 Entirely solid electrochromic element Pending JPS59154426A (en)

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JP58028134A JPS59154426A (en) 1983-02-22 1983-02-22 Entirely solid electrochromic element

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