JPS59145067U - 赤外線連続加熱炉 - Google Patents

赤外線連続加熱炉

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JPS59145067U
JPS59145067U JP3930083U JP3930083U JPS59145067U JP S59145067 U JPS59145067 U JP S59145067U JP 3930083 U JP3930083 U JP 3930083U JP 3930083 U JP3930083 U JP 3930083U JP S59145067 U JPS59145067 U JP S59145067U
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JP
Japan
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heater
infrared
belt conveyor
continuous heating
heating furnace
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Application number
JP3930083U
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English (en)
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JPH0132762Y2 (ja
Inventor
山崎 良雄
久保 哲郎
Original Assignee
山崎電機工業株式会社
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Publication date
Application filed by 山崎電機工業株式会社 filed Critical 山崎電機工業株式会社
Priority to JP3930083U priority Critical patent/JPS59145067U/ja
Publication of JPS59145067U publication Critical patent/JPS59145067U/ja
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  • Tunnel Furnaces (AREA)
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  • Furnace Details (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Control Of Resistance Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による赤外線連続加熱炉の一実   ゛
雄側を示す縦断側面図、第2図は同じくその縦断正面図
、第3図は本考案における赤外線ヒータ及び加熱ヒータ
の制御系を例示するブロック図である。 1・・・トンネル状炉体、2・・・加熱室、9・・・ベ
ルトコンベア、10・・・赤外線ヒータ、13・・・耐
熱内張り、14・・・加熱ヒータ、16・・・定電流又
は定電力装置、22・・・制御装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 内面に耐熱内張り13を施して加熱室2を形成したトン
    ネル状炉体1にベルトコンベア9を通し、前記加熱室2
    のベルトコンベア上部域に赤外線ヒータ10を、ベルト
    コンベアの下部域に加熱ヒータ14を夫々配設し、かつ
    前記赤外線ヒータ10を定電流又は定電力装置16と接
    続して常に被処理物に応じた一定波長の赤外線を、照射
    するように構成すると共に、加熱ヒータ14を前記赤外
    線ヒータ10と独立した制御装置22と接続して炉温制
    御を行うように構成したことを特徴とする赤外線連続加
    熱炉。
JP3930083U 1983-03-18 1983-03-18 赤外線連続加熱炉 Granted JPS59145067U (ja)

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JP3930083U JPS59145067U (ja) 1983-03-18 1983-03-18 赤外線連続加熱炉

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JP3930083U JPS59145067U (ja) 1983-03-18 1983-03-18 赤外線連続加熱炉

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JPS59145067U true JPS59145067U (ja) 1984-09-28
JPH0132762Y2 JPH0132762Y2 (ja) 1989-10-05

Family

ID=30169951

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016522581A (ja) * 2013-06-07 2016-07-28 ヘレーウス ノーブルライト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングHeraeus Noblelight GmbH 基板に照射するための動作方法および装置
JP2020027919A (ja) * 2018-08-17 2020-02-20 東京応化工業株式会社 基板加熱装置および基板処理システム
JP2020129648A (ja) * 2019-02-12 2020-08-27 東京応化工業株式会社 基板加熱装置および基板処理システム

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58197526A (ja) * 1982-05-13 1983-11-17 Toshiba Corp 温度制御装置

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JPH0132762Y2 (ja) 1989-10-05

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