JPS59142228A - Surface treatment of resin molding - Google Patents
Surface treatment of resin moldingInfo
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- JPS59142228A JPS59142228A JP1620883A JP1620883A JPS59142228A JP S59142228 A JPS59142228 A JP S59142228A JP 1620883 A JP1620883 A JP 1620883A JP 1620883 A JP1620883 A JP 1620883A JP S59142228 A JPS59142228 A JP S59142228A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、耐熱性に優れ、しかも成形加工性の優れた芳
香族ポリエステル樹脂から得られた成形品に塗装性、印
刷性、メッキ性、接着性を付与するための表面処理方法
に関する。Detailed Description of the Invention The present invention provides a method for imparting paintability, printability, plating performance, and adhesiveness to molded products obtained from aromatic polyester resins that have excellent heat resistance and moldability. It relates to a surface treatment method.
テレフタル酸、イソフタル酸またはこれらの誘導体と、
2,2−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)プロパンま
たはその誘導体との重縮合により製造される芳香族ポリ
エステルは、引張り強度、曲げ強度などの機械的性質、
熱変形温度、熱分解温度などの熱的性質、その他電気的
性質などにおいて、優れた性能を有する樹脂であること
が知られている。しかしながら、ポリエチレンテレフタ
レートのような芳香族脂肪族ポリエステルとの比較では
熱的性質は改善されているものの、近年、高性能樹脂に
要求される耐熱性能を考慮すれば、上記の芳香族ポリエ
ステルの熱的性質は、まだ必らずしも満足の行くもので
はない。−
特に、これらの高性能樹脂は、電気、電子分野に使用さ
れることも多く、例えば、半田浴中での耐熱性などが要
求されるまでになっている。実用分野におけるこのよう
な要求を満足させるためにはミ在来公知の上記した如き
芳香族ポリニスデルでは、明らかに性能的に不十分であ
り、樹脂の可使用温匪範囲をさらに向上させることが必
要である。Terephthalic acid, isophthalic acid or derivatives thereof;
Aromatic polyesters produced by polycondensation with 2,2-bis(4'-hydroxyphenyl)propane or its derivatives have mechanical properties such as tensile strength and flexural strength,
It is known that this resin has excellent performance in terms of thermal properties such as heat distortion temperature and thermal decomposition temperature, and other electrical properties. However, although the thermal properties have been improved compared to aromatic aliphatic polyesters such as polyethylene terephthalate, in recent years, considering the heat resistance required for high-performance resins, the thermal properties of the above aromatic polyesters have improved. The properties are still not necessarily satisfactory. - In particular, these high-performance resins are often used in the electrical and electronic fields, and are now required to have heat resistance in solder baths, for example. In order to satisfy such demands in the practical field, the conventionally known aromatic polynisdels as described above are clearly insufficient in terms of performance, and it is necessary to further improve the usable temperature range of the resin. It is.
本発明者らは、先に芳香族ポリエステルの優れた機械的
性質、電気的性質を犠性にすることなく、熱的性能がさ
らに向上した芳香族ポリエステルとして下記の式A、B
及びCで表わされる構造単位からなり、構造単位Aの数
と構造単位Bの数との比が工:0136〜1.06であ
り構造単位Aの数と構造単位Cの数との比が1 : 0
.04〜0.66であり、構造単位への数と構造単位B
プラスCの合計との比が1 : 0.90〜110であ
りかつ重合体の対数粘度が0.2〜20である芳香族ポ
リエステル〔但し上式中、弐Aにおいて、カルボニル基
は互いにメタまたはパラ位にあり、弐Bにおいて、酸素
原子は80.基に対しメタまたはパラ位にあり、式Cに
おいて、酸素原子はXに対してメタまたはパラ位にある
。弐〇におけるXは、炭素数1〜10の2価の炭化水素
基、0’、 Co 、 S 、 Soまたは80゜を示
し、aは0またはlである。R,〜R4はそれぞれ水素
、炭素数1〜8の炭化水素基またはハロゲン原子を示し
、互に同一でも異ってもよいが、XがSO8のとき1シ
、〜R4のすべてが同時に水素ではない〕
を見出した。この芳香族ポリエステルは耐熱性、機械特
性、成形性に優れており、機械部品、航空部品、自動車
部品、電子、電気部品分野における使用が見込まれて(
・る。特に電子・電気部品分野では優れた電気特性を活
がし、各種絶縁拐、プリント回路基板等への適用が検討
されている。これ等への適用に際し、上記芳香族ポリエ
ステルは極性ポリマーではあるが、成形品表面が未処理
のままでは塗装性、接着性、メッキ性は不充分であり、
なんらかの表面処理を施こす必要かある。The present inventors first discovered the following formulas A and B as aromatic polyesters with further improved thermal performance without sacrificing the excellent mechanical properties and electrical properties of aromatic polyesters.
and C, the ratio of the number of structural units A to the number of structural units B is 0136 to 1.06, and the ratio of the number of structural units A to the number of structural units C is 1. : 0
.. 04 to 0.66, the number to the structural unit and the structural unit B
An aromatic polyester having a ratio to the sum of plus C of 1:0.90 to 110 and a polymer logarithmic viscosity of 0.2 to 20 [However, in the above formula, in A, the carbonyl groups are mutually meta or At the para position, the oxygen atom is 80. In formula C, the oxygen atom is in meta or para position to X. X in 20 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, 0', Co, S, So, or 80°, and a is 0 or l. R and ~R4 each represent hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, or a halogen atom, and may be the same or different, but when X is SO8, 1 and ~R4 are all hydrogen at the same time. I found that there is no. This aromatic polyester has excellent heat resistance, mechanical properties, and moldability, and is expected to be used in the fields of mechanical parts, aircraft parts, automobile parts, electronics, and electrical parts (
・Ru. Particularly in the field of electronic and electrical components, its excellent electrical properties are being exploited, and its application to various types of insulation, printed circuit boards, etc. is being considered. When applied to these applications, although the aromatic polyester is a polar polymer, if the surface of the molded product is left untreated, the paintability, adhesion, and plating properties are insufficient.
Is it necessary to perform some kind of surface treatment?
従来、熱可塑性樹脂成形品の表面処理方法としては、コ
ロナ処理、火焔処理、クロム酸と濃硫酸との混液等によ
る酸処理、トリクロルエチレン等による有機溶剤処理が
用いられている。これ等の処理方法のうちコロナ処理、
火焔処理は複雑な形状の成形品には適していない。Conventionally, methods for surface treatment of thermoplastic resin molded articles include corona treatment, flame treatment, acid treatment with a mixture of chromic acid and concentrated sulfuric acid, and organic solvent treatment with trichlorethylene and the like. Among these treatment methods, corona treatment,
Flame treatment is not suitable for molded products with complex shapes.
本発明における芳香族ポリエステルは優れた特性を数多
く有してはいるが、濃硫酸には溶解する、トリクロロベ
ンゼン、トリクロルエチレン等では白化する等薬品処理
に用いる薬品に対する耐性が劣り、一般に用℃・もれて
いる酸処理、有機溶剤処理は適用出来ない。このため本
発明者らは上記芳香族ポリエステル樹脂から得られる成
形品の表面処理方法を種々検討した結果、低温プラズマ
処理方法が有効であることを見出し、本発明を完成した
。すなわち本発明は、耐熱性に優れ、しかも成形加工性
の優れた芳香族ポリエステル樹脂から得られた成形品の
表面を、低温プラズマで処理することを特徴とする樹脂
成形品の表面処理方法を提供するものである。Although the aromatic polyester used in the present invention has many excellent properties, it has poor resistance to chemicals used in chemical treatments, such as being soluble in concentrated sulfuric acid and whitening in trichlorobenzene, trichloroethylene, etc. Acid treatment and organic solvent treatment cannot be applied. For this reason, the present inventors investigated various methods for surface treatment of molded articles obtained from the above-mentioned aromatic polyester resin, and as a result, found that a low-temperature plasma treatment method was effective, and completed the present invention. That is, the present invention provides a method for surface treatment of a resin molded article, which is characterized in that the surface of a molded article obtained from an aromatic polyester resin having excellent heat resistance and moldability is treated with low-temperature plasma. It is something to do.
本発明において用いられる芳香族ポリエステルは下記の
式A、B及びCで表わされる構造単位からなり、構造単
位への数と構造単位Bの数との比が1:036〜106
であり構造単位Aの数と構造単位Cの数との比が1:0
.04〜066であり、構造単位Aの数と構造単位Bプ
ラスCの合計との比が1:0.90〜1.10でありか
つ重合体の対数粘匿が02〜20である芳香族ポリエス
テルである。The aromatic polyester used in the present invention consists of structural units represented by the following formulas A, B, and C, and the ratio of the number of structural units to the number of structural units B is 1:036 to 106.
and the ratio of the number of structural units A to the number of structural units C is 1:0
.. 04 to 066, the ratio of the number of structural units A to the sum of structural units B plus C is 1:0.90 to 1.10, and the logarithmic viscosity of the polymer is 02 to 20. It is.
〔但し上式中、弐Aにおいて、カルボニル基は互いにメ
タまたはパラ位にあり、弐Bにおいて、酸素原子はSO
1基に対しメタまたはパラ位にあり、式CVcおいて、
酸素原子はXに対してメタまたは゛パラ位にある。式C
におけるXは、炭素数1〜1゜の2価の炭化水素基、0
、Co、 S、 SoまたはSo。[However, in the above formula, in 2A, the carbonyl groups are in the meta or para position to each other, and in 2B, the oxygen atom is SO
in the meta or para position to one group, in the formula CVc,
The oxygen atom is in the meta or para position to X. Formula C
X in is a divalent hydrocarbon group having 1 to 1° of carbon atoms, 0
, Co, S, So or So.
を示し、aはOまたは1である。1も1〜1七、はそれ
ぞれ水素、炭素数1〜8の炭化水素基または)・ロゲン
原子を示し、互に同一でも異ってもよいが、XがSO7
のときR,〜Jモ、のすべてか同時に水素ではない〕
本発明のポリエステルに使用される、弐Aの構造単位に
相当するジカルボン酸成分としてイソフタル酸、テレフ
タル酸またはそれらの誘導体が挙げ°られる。これらは
単独で又は2種以上の混合物として用いら」する。and a is O or 1. 1 and 1 to 17 each represent hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, or a rogen atom, and may be the same or different, but when X is SO7
When R, ~J, are not all hydrogen at the same time] Isophthalic acid, terephthalic acid, or derivatives thereof are mentioned as the dicarboxylic acid component corresponding to the structural unit 2A used in the polyester of the present invention. . These may be used alone or as a mixture of two or more.
イソフタル酸成分とテレフタル酸成分ヶ混合使用する場
合は、前者と後者のモル比は5:95から95.5の範
囲が好ましく、特に好ましくは30.70〜70:30
の範囲である。When a mixture of isophthalic acid and terephthalic acid components is used, the molar ratio of the former to the latter is preferably in the range of 5:95 to 95.5, particularly preferably 30.70 to 70:30.
is within the range of
上記ジカルボン酸の誘導体としてはジクロライド及びジ
エステルが例示される。ジエステルを使用する際のエス
テルを構成する原料としては、炭素数1〜10の低級脂
肪族アルコール、炭素数6〜18のフェノール類が含ま
れる。具体的なジエステルの例としては、ジメチルテレ
フタレート、ジメチルイソフタレート、ジエチルイソフ
タレート、ジエチルテレフタレート、ジイソプロ・ビル
イソフタレート、ジロープロピルテレフタレート、ジイ
ソブチルイソフタレート、ジフェニルイソフタレート、
ジフェニルテレフタレート、ジベンジルイソフタレート
、ジベンジルテレフタレートなどがあげられる。また、
2種のアルコールでエステル化された混合ジエステルや
モノエステルC半エステル)をも使用することができる
。Examples of the dicarboxylic acid derivatives include dichloride and diester. When a diester is used, raw materials constituting the ester include lower aliphatic alcohols having 1 to 10 carbon atoms and phenols having 6 to 18 carbon atoms. Specific examples of diesters include dimethyl terephthalate, dimethyl isophthalate, diethyl isophthalate, diethyl terephthalate, diisoprobilisophthalate, diropropyl terephthalate, diisobutyl isophthalate, diphenyl isophthalate,
Examples include diphenyl terephthalate, dibenzyl isophthalate, and dibenzyl terephthalate. Also,
Mixed diesters and monoesters (C half esters) esterified with two types of alcohols can also be used.
本発明の弐Bの構造単位に相当てるビスフェノール成分
としては、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン類が用
いられる。ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン類とし
てはビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(
3−ヒドロキンフェニル)スルホン、3−ヒドロキシフ
ェニル4−ヒドロキシフェニルスルホンが含まれる。ビ
ス(ヒドロキンフェニル)スルホン類は、単独構造のも
のでもまた異性体の混合物としても使用することができ
る。As the bisphenol component corresponding to the structural unit 2B of the present invention, bis(hydroxyphenyl)sulfones are used. Bis(hydroxyphenyl)sulfones include bis(4-hydroxyphenyl)sulfone, bis(
3-hydroxyphenyl) sulfone, 3-hydroxyphenyl 4-hydroxyphenyl sulfone. Bis(hydroquinphenyl)sulfones can be used either individually or as a mixture of isomers.
特に好ましいの(工、ビス(4−ヒドロキシフェニル)
スルホンである。Particularly preferred is (technique, bis(4-hydroxyphenyl))
It is a sulfone.
上記ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン類は、水酸基
を有したまま、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属との塩や脂肪族もしくは芳香族カルボン酸とのエ
ステルなどの各刺誘導体として反応に供される場合もあ
る。重合反応の方法、形態により最適なものが選択され
る。When the above-mentioned bis(hydroxyphenyl) sulfones are subjected to the reaction with a hydroxyl group or as various derivatives such as salts with alkali metals or alkaline earth metals or esters with aliphatic or aromatic carboxylic acids. There is also. The most suitable one is selected depending on the method and form of the polymerization reaction.
本発明において式Cの構造単位に相当するビスフェノー
ル成分としては、次の一般式I1
(式中X 、 a 、 R,、R,、R,、R4は前述
のとおり)で表わされるビスフェノール類が使用される
。In the present invention, as the bisphenol component corresponding to the structural unit of formula C, bisphenols represented by the following general formula I1 (in the formula, X, a, R,, R,, R,, R4 are as described above) are used. be done.
式Iで示されるビスフェノール類の具体的な例としては
、2,2−ビス(47−ヒドロキシフェニル)プロパン
、ビス〔4−ヒドロキシフェニル〕メタン、2,2−ビ
ス(4′−ヒドロキン3′−メチルフェニル)、プロパ
ン、2,2〜ビス(3′−クロル4′−ヒドロキンフェ
ニル)プロパ/、1,1−ビス(4′−ヒドロキシフェ
ニル)ンクロヘキサン1.1−ヒス(4′−ヒドロキン
フェニル)イソフ゛タン、1.1−ビス(4′−ヒドロ
キノフェニル)ジフェニルメタン、2,2−ビス(3′
、 5/−ジメチル4′−ヒドロキンフェニル)プロパ
ン、ビス(3,5−ジメチル4−ヒドロキシフェニル)
メタン、ビス(4−ヒドロギンフェニル)エーテ、ル、
ビス(4−ヒドロキンフェニル)スルフィド、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルホギノド、ビス(3,5−
ツメチル4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(
3,5−ジメチル4−ヒドロキンフェニル)スルホン、
4 、4’−ジヒドロキンビフェニル、3 、3’、
5.5’−テトラメチル4゜4′−ジヒドロキンビフェ
ニル、2,2−ビス(3′。Specific examples of bisphenols of formula I include 2,2-bis(47-hydroxyphenyl)propane, bis[4-hydroxyphenyl]methane, 2,2-bis(4'-hydroquine 3'- methylphenyl), propane, 2,2-bis(3'-chloro4'-hydroquinphenyl)propa/, 1,1-bis(4'-hydroxyphenyl)chlorohexane 1,1-his(4'-hydroquine) phenyl) isophutane, 1,1-bis(4'-hydroquinophenyl)diphenylmethane, 2,2-bis(3'
, 5/-dimethyl4'-hydroquinphenyl)propane, bis(3,5-dimethyl4-hydroxyphenyl)
Methane, bis(4-hydroginphenyl)ether,
Bis(4-hydroquinphenyl) sulfide, bis(4
-hydroxyphenyl) sulfoginode, bis(3,5-
methyl 4-hydroxyphenyl) sulfide, bis(
3,5-dimethyl 4-hydroquinphenyl) sulfone,
4,4'-dihydroquinbiphenyl, 3,3',
5.5'-tetramethyl 4°4'-dihydroquinbiphenyl, 2,2-bis(3'.
5′−ジブロモ4′−ヒドロキシフェニル)プロパン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、2,2−ビス
(3′、5’−ジフェニル4′−ヒドロキンフェニル)
プロパン、l、1−ビス(4′−ヒドロキンフェニル)
1−フェニルエタン、ビス(3,−ヒドロキンフェニル
)スルフィド、ビス(3−ヒドロキシフェニル)スルホ
7.3 ’+ 3’−ジヒドロキシビフェニル、ビス(
3−ヒドロキシフェニル)エーテル、3−ヒドロキンフ
ェニル4−ヒドロキシフェニルエーテルなどを挙げるこ
と力1でき、コh。5'-dibromo4'-hydroxyphenyl)propane,
Bis(4-hydroxyphenyl)ketone, 2,2-bis(3',5'-diphenyl 4'-hydroquinphenyl)
Propane, l, 1-bis(4'-hydroquinphenyl)
1-phenylethane, bis(3,-hydroquinphenyl) sulfide, bis(3-hydroxyphenyl)sulfo7.3'+ 3'-dihydroxybiphenyl, bis(
Examples include 3-hydroxyphenyl) ether, 3-hydroxyphenyl 4-hydroxyphenyl ether, and the like.
らは単独でも2種類以上の混合物としてもイ吏用1−る
ことができる。They can be used alone or as a mixture of two or more.
好ましくは、2,2−ビス(4′−ヒドロキンフェニル
)プロパン、ビス(4−ヒドロキンフェニル)メタン、
2,2−ビス(3’−5’−ジメチル4′−ヒドロキシ
フェニル)ブロノくン、ビス(4−ヒドロキシフェニル
)エーテル、ビス(4−ヒドロキンフェニル)スルフィ
ド、ビス(3,5−ジメチル4−ヒドロキシフェニル)
スルホン、4I4′−ジヒドロキシビフエニル、313
’+515’−テトラメチル4.4′−ジヒドロキシビ
フェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトンが挙
げら、lする。Preferably, 2,2-bis(4'-hydroquinphenyl)propane, bis(4-hydroquinphenyl)methane,
2,2-bis(3'-5'-dimethyl4'-hydroxyphenyl)bronokun, bis(4-hydroxyphenyl)ether, bis(4-hydroquinphenyl)sulfide, bis(3,5-dimethyl4) -hydroxyphenyl)
Sulfone, 4I4'-dihydroxybiphenyl, 313
Examples include '+515'-tetramethyl 4,4'-dihydroxybiphenyl and bis(4-hydroxyphenyl)ketone.
本発明の重合体を製造するため、前記のようなビス〔ヒ
ドロキンフェニル)スルホン類および式Iのビスフェノ
ール類を使用するが、こ9.lLらの使用量は次の通り
である。To prepare the polymers of the present invention, bis[hydroquinphenyl)sulfones and bisphenols of formula I as described above are used, but 9. The amounts used by IL et al. are as follows.
ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン類のジカルボン酸
成分に対する使用量は、ジカルボン酸1モルに対して0
36〜1.06モル、好ましくは040〜10モル、と
くに好ましくは0.45〜096モルの範囲である。The amount of bis(hydroxyphenyl)sulfones used for the dicarboxylic acid component is 0 per mole of dicarboxylic acid.
The range is from 36 to 1.06 mol, preferably from 0.40 to 10 mol, particularly preferably from 0.45 to 096 mol.
また、式lのビスフェノール類のジカルボン酸成分に対
する使用量はジカルボン1亥1モルに対して、004〜
066モル、好ましくは008〜062モルの範囲であ
る。Further, the amount of bisphenols of formula I to be used with respect to the dicarboxylic acid component is 0.04 to 0.04 to 1 mole of dicarboxylic acid.
066 moles, preferably in the range of 008 to 062 moles.
さらに、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホノ類と式I
のビスフェノール類の合計蚤は、ジカルボン酸成分1モ
ルに対して090〜110モノしσ)範囲である。Furthermore, bis(hydroxyphenyl)sulfonos and formula I
The total amount of bisphenols in the dicarboxylic acid component ranges from 090 to 110 monos(σ) per mole of the dicarboxylic acid component.
ビス(ヒドロキシフェニル)スルホノ類および式Iのビ
スフェノール類の使用量が前記の範囲外であると、得ら
れたポリマ〜の性質が低下する。If the amounts of bis(hydroxyphenyl)sulfonos and bisphenols of formula I are used outside the above ranges, the properties of the resulting polymer will be impaired.
ビス(ヒドロキシフェニル)スルホンについては、ポリ
マー中のジカルボン酸残基1個当りのビス(ヒドロキン
フェニル)スルホン残基が、0.36個未満であると、
耐熱性が劣りがちであり、逆に106個を越えて存在す
ると、ポリマーの成形性、成形物の透明性、強じん性等
で問題を生じ易い。For bis(hydroxyphenyl)sulfone, the number of bis(hydroquinphenyl)sulfone residues per dicarboxylic acid residue in the polymer is less than 0.36;
Heat resistance tends to be poor, and conversely, when more than 10 6 are present, problems tend to occur in the moldability of the polymer, the transparency and toughness of the molded product, etc.
また、式Iのビスフェノール類については、ポリマー中
のジカルボン酸残基1個当りの、ビスフェノール残基が
、004個未満であるとポリマーは成形性、成形物の強
じん性、透明性などが不十分となり易(、逆に066個
ケ越えると熱に対する性質が落ちる。Regarding bisphenols of formula I, if the number of bisphenol residues per dicarboxylic acid residue in the polymer is less than 004, the polymer will have poor moldability, molded product toughness, transparency, etc. It is easy to get enough (on the contrary, if it exceeds 066, the property against heat deteriorates.
本発明において用いられる芳香族ポリエステルは後述の
測定方法で求められる対数粘度ηinhが02〜2.0
、好ましくは03〜08の範囲にある。The aromatic polyester used in the present invention has a logarithmic viscosity ηinh of 02 to 2.0 as determined by the measuring method described below.
, preferably in the range of 03-08.
本発明に用いられる芳香族ポリエステルの製造方法に特
に制約はなく、公知の方法がいずれも適用できるが、代
表的な重合法の例としては、下記の方法を挙げることが
できる。There are no particular restrictions on the method for producing the aromatic polyester used in the present invention, and any known method can be applied, but typical polymerization methods include the following method.
即ち、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン類および式
■のビスフェノール類をアルカリ金属水酸化物とともに
水相に溶解し、水に不溶な有機溶剤中にインフタロイル
クロライドおよび/またはテレフタロイルクロライドを
溶解し、両相を混合反応させる界面重合法;ビス(ヒド
ロキシフェニル)スルホン類、式■のビスフェノール類
、インフタロイルクロライドおよび/またはテレフタロ
イルクロライドを均一な有機溶剤溶液とし、脱塩酸剤と
して第3級アミン類等を共存させて実施する溶液重合法
;イソフタル酸および/またはテレフタル酸のジエステ
ルと、ビス(ヒドロキンフェニル)スルホン類および式
Iのビスフェノール類を溶融反応させる溶融重合法など
が代表的な方法である。That is, bis(hydroxyphenyl) sulfones and bisphenols of formula (2) are dissolved in an aqueous phase together with an alkali metal hydroxide, and inphthaloyl chloride and/or terephthaloyl chloride are dissolved in a water-insoluble organic solvent. , an interfacial polymerization method in which both phases are mixed and reacted; bis(hydroxyphenyl) sulfones, bisphenols of the formula (■), inphthaloyl chloride and/or terephthaloyl chloride are made into a homogeneous organic solvent solution, and the third is used as a dehydrochlorination agent. Typical examples include solution polymerization in which a diester of isophthalic acid and/or terephthalic acid is melt-reacted with bis(hydroquinphenyl)sulfones and bisphenols of formula I. This is a great method.
本発明において用いられる芳香族ポリエステルの成形品
は、射出成形、押出成形、圧縮成形、回転成形等任意の
成形方法を用いて得ることが出来る。また本発明におい
ては、芳香族ポリエステルにタルク、炭酸カルンウム、
ガラス繊維、炭素繊維等の各種充てん材を混入した芳香
族ポリエステル樹脂成形品も用いることが出来る。The aromatic polyester molded article used in the present invention can be obtained using any molding method such as injection molding, extrusion molding, compression molding, and rotational molding. In addition, in the present invention, talc, carunium carbonate,
Aromatic polyester resin molded products mixed with various fillers such as glass fiber and carbon fiber can also be used.
本発明において言うところの低温プラズマとは高周波放
電、マイクロ波放電等によって気体分子が活性化されて
得られる非平衡プラズマである。In the present invention, low-temperature plasma is non-equilibrium plasma obtained by activating gas molecules by high-frequency discharge, microwave discharge, or the like.
一般にプラズマは、電子が持つエネルギーとイオンや未
電離の中性気体粒子が持つエネルギーとの関係により、
平衡プラズマと非平衡プラズマとに分類される。前者は
アーク放電にみられるように比較的気体圧力の1−6い
場合のプラズマであり、電子とイオンや気体粒子との衝
突が激しいため十分なエネルギー交換が行なわれ、はぼ
同じエネルギーを持つ平衡状態となっており熱プラズマ
とも呼ばれる。一方、後者は気体圧力の低い場合のプラ
ズマであり、衝突が少ないため質量の小さい電子が外部
からの電場による加速を主に受け、イオンや気体粒子に
比べて電子のエネルギーの方が大きいような非平衡状態
となっている。この非平衡プラズマが、本発明で用いる
低温プラズマであり、気体粒子やイオンの温度は室温〜
800°に8度と低いが、電子のエネルギーすなわち温
贋は高く数万度以上にも達している。In general, plasma is generated due to the relationship between the energy of electrons and the energy of ions and unionized neutral gas particles.
It is classified into equilibrium plasma and non-equilibrium plasma. The former is plasma when the gas pressure is relatively low, as seen in arc discharge, and the collisions between electrons and ions and gas particles are intense, so sufficient energy exchange occurs, and the two have approximately the same energy. It is in an equilibrium state and is also called a thermal plasma. On the other hand, the latter is a plasma when the gas pressure is low, and because there are few collisions, the electrons with small mass are mainly accelerated by the external electric field, and the energy of the electrons is greater than that of ions or gas particles. It is in a non-equilibrium state. This nonequilibrium plasma is the low-temperature plasma used in the present invention, and the temperature of gas particles and ions is between room temperature and
Although it is as low as 8 degrees at 800 degrees, the energy of the electrons, or temperature, is high, reaching tens of thousands of degrees or more.
低温プラズマ処理は01〜1.0 ’J、’orr程度
のガス圧力下で生じた酸素等のプラズマ雰囲気中に成形
品を置くことによりなされる。プラズマを発生させるた
めのガス体としては、酸素か好ましいが、経済的には空
気でも良い。プラズマ処理時間は、本発明の実施におい
ては5秒から1分程度が好ましく、余りに処理時間を長
くしても改質効果は向上せず不経済である。The low-temperature plasma treatment is performed by placing the molded article in a plasma atmosphere of oxygen or the like generated under a gas pressure of about 01 to 1.0'J,'orr. Oxygen is preferable as the gas for generating plasma, but air may also be used economically. In carrying out the present invention, the plasma treatment time is preferably about 5 seconds to 1 minute; if the treatment time is too long, the reforming effect will not improve and it will be uneconomical.
本発明の処理方法によって処理された芳香族ポリエステ
ル樹脂成形品の表面は親水性が増し、塗料、印刷インク
、接着剤等との親和性か向上し、そのまま塗装、印刷、
接着、化学メッキ、金属蒸着、スパッタリング等の二次
加工を行なうことが出来る。The surface of the aromatic polyester resin molded product treated by the treatment method of the present invention has increased hydrophilicity and has improved affinity with paints, printing inks, adhesives, etc., and can be used for painting, printing, etc. as is.
Secondary processing such as adhesion, chemical plating, metal vapor deposition, and sputtering can be performed.
以下に実施例により本発明を具体的に説明する。The present invention will be specifically explained below using Examples.
なお以下の実施例における対数粘1岐η工浦は“、フェ
ノール/テトラクロルエタン(重量比6/4)の混合溶
媒を用い、0.5f/d7溶液とし次式で求められるも
のである。In the following examples, the logarithmic viscosity 1-branch η Koura is determined by the following formula using a mixed solvent of phenol/tetrachloroethane (weight ratio 6/4) and a 0.5 f/d7 solution.
tl ηinhニーtone − Ct。tl ηinh knee tone - Ct.
(上式中、t□はポリマー溶液の流れ時間、tlは溶剤
のみの流れ時間であり、Cは、ポリマー溶液濃度(9/
dt )である。(In the above formula, t□ is the flow time of the polymer solution, tl is the flow time of only the solvent, and C is the polymer solution concentration (9/
dt).
実施例1〜3、及び比較例1
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルボッ3.5Kg(
14モル)、2,2−ビス(4′−ヒドロキシフェニル
)フ”ロバン1.37 Ky (6モル)および〇−フ
ェニルフェノール238 ? (1,4モル)ヲ反応器
にとり、2%水酸化す) IJウム水溶液88tを加え
て溶解し、10℃に冷却した。N2気流をこの溶液中に
30分通じ、セチルトリメチルアンモニウムフロマイト
1o1を加えた。インフタロイルクロライドとテレフタ
ロイルクロライド(1:1)の混合物4.、20 N9
(20,7モル) ’rジクロルメタン601に溶解し
た溶液を、10’Cに保たれ攪拌されている上記反応器
中の溶液に一度に加え、10℃に保ちつつ1時間攪拌を
続けた。反応液をサンプリングして低分子用ゲルE過ク
ロマトグラ・フイにて分析した結果未反応のモレマーは
認められなかった。次いでIN塩酸水溶液3tを加えた
後、30tの水を加え、攪拌してから静置して下層を分
離し、さらに30tの水で2回洗浄した。Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 Bis(4-hydroxyphenyl)surbot 3.5Kg (
14 mol), 2,2-bis(4'-hydroxyphenyl)furobane 1.37 Ky (6 mol) and 0-phenylphenol 238? (1.4 mol) were placed in a reactor, and 2% hydroxylated ) 88 t of IJium aqueous solution was added and dissolved, and the mixture was cooled to 10°C. A stream of N2 was passed through the solution for 30 minutes, and 1:1 of cetyltrimethylammonium furomite was added. Inphthaloyl chloride and terephthaloyl chloride (1: 1) mixture 4., 20 N9
(20.7 mol) 'r A solution dissolved in dichloromethane 601 was added all at once to the solution in the above-mentioned reactor which was kept at 10'C and stirred, and stirring was continued for 1 hour while keeping it at 10'C. A sample of the reaction solution was analyzed using Gel E perchromatography for low molecules, and no unreacted molemer was found. Next, 3 tons of IN hydrochloric acid aqueous solution was added, followed by 30 tons of water, stirred and left to stand to separate the lower layer, which was further washed twice with 30 tons of water.
洗浄後のジクロルメタン層を、ホモミキサーで高速攪拌
下の120tのメタノール中に加え、ポリマーを析出さ
ぜた。析出した無色のポリマーをp別し、さらにメタノ
ールで洗浄し乾燥して7431<gのポリマー粉末を得
た。The washed dichloromethane layer was added to 120 tons of methanol under high speed stirring using a homomixer to precipitate a polymer. The precipitated colorless polymer was separated, further washed with methanol, and dried to obtain a polymer powder weighing 7431<g.
得られたポリマーの対数粘度は、054でありNMR,
スペクトルより、ポリマー中のビス(/I−ヒドロキシ
フェニル)スルホン、残基と2,2−ビス(4′−ヒド
ロキシフェニル)プロパン残基の存在比は約7:3であ
った。The logarithmic viscosity of the obtained polymer was 054, and NMR,
From the spectrum, the abundance ratio of bis(/I-hydroxyphenyl) sulfone residue and 2,2-bis(4'-hydroxyphenyl)propane residue in the polymer was approximately 7:3.
このようにして得られた芳香族ポリエステル樹脂を、射
出成形機により80X50mm、厚さ2 mmの平板に
成形した。この平板を次に示す条件にて低温プラズマ処
理を行/工った。The aromatic polyester resin thus obtained was molded into a flat plate of 80 x 50 mm and 2 mm thick using an injection molding machine. This flat plate was subjected to low temperature plasma treatment under the following conditions.
(1)プラズマ処理装置
東京芝浦電気株式会社製マイクロ波プラズマ処理装置
TMW−0407B−VPG
(2)プラズマ処理条件
マイクロ波出力 800 W
ガス体 酸素
ガス圧力 I Torr
処理時間 0,5.30.60秒処理品表面の
親水性を調べるため、ぬれ指数をぬれ試験用ぬれ指数標
準液を用いて測定した。その結果を表−1に示したが、
低温プラズマ処理品のぬれ指数は高くなっており、親水
性が改善されたことがわかる。なお当試験は18T1>
1−D−2578に準じて行なった。(1) Plasma processing equipment Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. Microwave plasma processing equipment TMW-0407B-VPG (2) Plasma processing conditions Microwave output 800 W Gas body Oxygen gas pressure I Torr Processing time 0.5.30.60 seconds In order to examine the hydrophilicity of the surface of the treated product, the wettability index was measured using a wettability index standard solution for wetness tests. The results are shown in Table 1.
The wettability index of the low-temperature plasma treated product is higher, indicating that the hydrophilicity has been improved. This exam is 18T1>
1-D-2578.
表 1
丈施例4及び比較例2
実施例1で得られた芳香族ポリエステル樹脂を、射出成
形機により成形した80×50mm、厚さ2鰭の平板を
、処理時間は0秒、30秒とした他は実施例1と同じ榮
件で低温プラズマ処理を施した後、藤倉化成製導電性塗
料商品゛名ドータ()−D−500を20μ厚に塗付し
た。十分に乾燥後、カッターで塗膜面[1瓢角の升目を
100個切り込み、セロテープによる塗膜面の升目のは
く離を行ない、はがれた升目を測定した。その結果を表
−2に示したが、低温プラズマ処理品は升目σ)はがれ
がなく塗膜密着性が改良されたことが明らかである。Table 1 Length Example 4 and Comparative Example 2 A flat plate of 80 x 50 mm and 2 fins thick was molded using an injection molding machine from the aromatic polyester resin obtained in Example 1, and the processing times were 0 seconds and 30 seconds. After performing low-temperature plasma treatment under the same conditions as in Example 1, a conductive paint product manufactured by Fujikura Kasei (named Daughter()-D-500) was applied to a thickness of 20 μm. After sufficiently drying, the coated film surface was cut into 100 squares of 1 square inch, and the squares on the coated film surface were peeled off using Sellotape, and the peeled squares were measured. The results are shown in Table 2, and it is clear that the low-temperature plasma-treated product had no peeling of squares σ), and that the coating film adhesion was improved.
Claims (1)
らなり、構造単位Aの数と構造単位Bの数との比が1:
0.36〜1.06であり構造単位Aの数と構造単位C
の数との比が1:0.04〜0.66であり、構造単位
Aの数と構造単位BプラスCの合計との比が1 : 0
.90〜1.10でありかつ重合体の対数粘度が02〜
2.0である芳香族ポリエステル 〔但し上式中、武人において、カルボニル基は互いにメ
タまたはパラ位にあり、弐Bにおいて、酸素原子はSO
!基に対しメタまたはパラ位にあり、弐〇において、酸
素原子はXに対してメタまたはパラ位にある。式Cにお
けるXは、炭素数1〜10の2価の炭化水素基、0、C
O,S、SOまたはso。 を示し、aはOまたは1である。R1−R4はそれぞれ
水素、炭素数1〜8の炭化水素基またはハロゲン原子を
示し、互に同一でも異ってもよいが、XがSO,のとき
几、〜R,のすべてが同時に水素ではない〕 から得られた成形品の表面を低温プラズマで処理するこ
とを特徴とする樹脂成形品の表面処理法。(1) Is it a structural unit represented by the following formulas A, B, and C?
Therefore, the ratio of the number of structural units A to the number of structural units B is 1:
0.36 to 1.06, and the number of structural units A and structural unit C
The ratio to the number of structural units A is 1:0.04 to 0.66, and the ratio of the number of structural units A to the sum of structural units B plus C is 1:0.
.. 90-1.10 and the logarithmic viscosity of the polymer is 02-1.10.
2.0 [However, in the above formula, in Takejin, the carbonyl groups are in the meta or para position to each other, and in 2B, the oxygen atom is SO
! The oxygen atom is in the meta or para position relative to the group; X in formula C is a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, 0, C
O, S, SO or so. and a is O or 1. R1 to R4 each represent hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, or a halogen atom, and may be the same or different, but when X is SO, all of ~R, are hydrogen at the same time. A method for surface treatment of resin molded articles, characterized by treating the surface of the molded article obtained from [1] with low-temperature plasma.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1620883A JPS59142228A (en) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | Surface treatment of resin molding |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP1620883A JPS59142228A (en) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | Surface treatment of resin molding |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPS59142228A true JPS59142228A (en) | 1984-08-15 |
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ID=11910093
Family Applications (1)
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JP1620883A Pending JPS59142228A (en) | 1983-02-04 | 1983-02-04 | Surface treatment of resin molding |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59142228A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6158127U (en) * | 1985-05-15 | 1986-04-18 | ||
JPS6158126U (en) * | 1985-05-15 | 1986-04-18 | ||
JPS6158128U (en) * | 1985-05-15 | 1986-04-18 |
-
1983
- 1983-02-04 JP JP1620883A patent/JPS59142228A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6158127U (en) * | 1985-05-15 | 1986-04-18 | ||
JPS6158126U (en) * | 1985-05-15 | 1986-04-18 | ||
JPS6158128U (en) * | 1985-05-15 | 1986-04-18 |
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