JPS59132508A - Conductive highly molecular material and method of producingsame - Google Patents

Conductive highly molecular material and method of producingsame

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JPS59132508A
JPS59132508A JP773383A JP773383A JPS59132508A JP S59132508 A JPS59132508 A JP S59132508A JP 773383 A JP773383 A JP 773383A JP 773383 A JP773383 A JP 773383A JP S59132508 A JPS59132508 A JP S59132508A
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JP
Japan
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conductive
copper
concentration
cupric
conductive layer
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JP773383A
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Japanese (ja)
Inventor
智 滝沢
恒彰 田辺
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Asahi Kasei Corp
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Asahi Kasei Kogyo KK
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Publication date
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Publication of JPS59132508A publication Critical patent/JPS59132508A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は導電性高分子材料求5よびその製造法に関する
。さらに詳しくは、堅牢な高導電性を有する高分子材料
を安価に製造する方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a conductive polymer material and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a robust and highly conductive polymer material at low cost.

二) IJル基を含有する高分子材料を銅塩と還元性(
%i黄化合物を含む水溶液中で処理することにより、該
昼分子相打表面上に強固に密畠した硫化第一銅薄膜が形
成され、高い導電性を持つ高分子材料が得られることは
公知である(特開昭!7−J/!;70号、特願昭Sク
ーggtso号、st−qogiq号、/jt9’19
9号)。この方法は、他の導電性高分子材料、即ち真空
蒸着、スパッタリングやメッキなどにより高分子利料表
面に導電性被膜を形成したものや導電性フィラーをポリ
マー中に分散混入し複合材としたものに比べ゛て優れた
ものである。例えば、前者よりは価格、密着性、材料の
大きさや形状をより自由に選べる点などで優れており、
また後者よりは、成形物の強度や成形性保持、透明性な
どの点で優れている。しかし、電卓接点、コネクタガス
ウッド、印刷回路、電極取出などに用いる場合には、導
電性がなお不足しており、またフィルムなとの場合に高
導電性にしようとすると透明性が失なわれたり表面の平
滑性が失なわれる。ざらにニトリル基含有量が少ない場
合には、導電層の密着性、均、−性が不十分である。さ
らに一部の有機溶剤や酸などに対する耐性が不足してい
る等の欠点がある。
2) A polymeric material containing an IJ group is treated with a copper salt and reducible (
It is known that by processing in an aqueous solution containing a yellow compound, a strongly dense cuprous sulfide thin film is formed on the surface of the day molecular phase interaction, and a polymeric material with high conductivity can be obtained. (Japanese Patent Publication No. 7-J/!; No. 70, No. 70, No. st-qogiq, /jt9'19
No. 9). This method can be applied to other conductive polymer materials, such as those in which a conductive film is formed on the surface of the polymer by vacuum evaporation, sputtering, plating, etc., or conductive fillers are dispersed and mixed into the polymer to create a composite material. It is better than . For example, it is superior to the former in terms of price, adhesion, and the ability to choose the size and shape of the material more freely.
Moreover, it is superior to the latter in terms of strength, moldability retention, transparency, etc. of molded products. However, when used for calculator contacts, connector gas wood, printed circuits, electrode extraction, etc., the conductivity is still insufficient, and when using films, attempts to make them highly conductive result in loss of transparency. or the surface smoothness is lost. If the nitrile group content is low, the adhesion, uniformity, and properties of the conductive layer will be insufficient. Furthermore, it has drawbacks such as insufficient resistance to some organic solvents and acids.

本発明者らtよいこれらの欠点を改良し、いっそう堅牢
で安定な高導電性とフィルム・シートなどの場合には高
い透明性を有する導電性材料を得るべく鋭意研究を71
iねた結果、ニトリル基を含有する1t47分子4イ料
を銅塩と還元性ω(C黄化合物を含む水浴液中で処理し
て、この高分子材料の表面または表面および内部に強固
に密着した実質的にω1を化第二銅から成るjム’Fa
 /―を形成させることによって前記硫化第一銅の場合
に認められるいくつかの問題点が大幅に改善された極め
て優れた導電性材料が得られることを見出し、この知見
に基づいて本発明を完成するに至った。
The present inventors have conducted extensive research in order to improve these shortcomings and obtain conductive materials that are more robust, stable, highly conductive, and highly transparent in the case of films and sheets.
As a result of the incubation, the nitrile group-containing 1t47 molecules were treated in a water bath solution containing a copper salt and a reducing ω(C yellow compound) to firmly adhere to the surface or surface and interior of this polymeric material. Substantially ω1 is composed of cupric oxide.
It has been discovered that by forming /-, an extremely excellent conductive material can be obtained in which several of the problems observed in the case of cuprous sulfide are significantly improved, and based on this knowledge, the present invention was completed. I ended up doing it.

以Fに本発明をざらに詳しく説明する。The present invention will now be described in more detail.

本発明において用いられるニトリル基含有ま合体はニト
リル基を含有していればその種類を問わない。汐11え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、シアン化ビ
ニリデン、α−シアノアクリル隘エステル類の単独ある
いは共重合体、シアノエチルセルロース等が好都合に用
いられる。共重合体の場合、共重合形式はランダム共重
合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等のいずれ
でもさしつかえない。さらに、これらニトリル基を含む
ポリマーと他のポリマーとのブレンド物を用いることも
できる。また、ニトリル基を含まない重合体あるいはそ
の成形物に化学処理、プラズマ処理、表面グラフト重合
等の処理によりニトリル基を導入したものも用いられる
The nitrile group-containing polymer used in the present invention may be of any type as long as it contains a nitrile group. For example, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinylidene cyanide, single or copolymers of α-cyanoacrylic esters, cyanoethyl cellulose, and the like are conveniently used. In the case of a copolymer, the copolymerization type may be a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, or the like. Furthermore, blends of these nitrile group-containing polymers and other polymers can also be used. Also used are polymers that do not contain nitrile groups or molded products thereof into which nitrile groups are introduced by chemical treatment, plasma treatment, surface graft polymerization, or other treatments.

二) IJル基の含有率が筒いほどm導度が高く均一・
性の良いものが得られるが、例えば帯電防止用途のよう
に高い導電性を必要としない場合には、沖合体中の該官
能基の重量割合が/%程度のものでも用いることができ
る。
2) The higher the IJ group content, the higher the m conductivity and the more uniform.
Although a product with good conductivity can be obtained, in cases where high conductivity is not required, such as in antistatic applications, a product in which the weight ratio of the functional group in the offshore body is about 1% can also be used.

本発明において用いられる高分子材料については、その
形状を問わない。粉末、繊維、フィルム、多孔膜、シー
ト、塗膜、その他各種形状の成形物に応用可能である。
The shape of the polymeric material used in the present invention does not matter. It can be applied to powders, fibers, films, porous membranes, sheets, coatings, and other molded products of various shapes.

また、該高分子材料の成形方法も問わない。例夫ばフィ
ルム、繊細の場合は溶融法、乾式法、湿式法等、公知の
いかなる方法で作られたものでもよく、他の基材の上に
プラズマ重合によりニトリル基含有重合体の薄膜を形成
させたものでもよい。
Furthermore, the method of molding the polymer material is not limited. For example, if the film is delicate, it may be made by any known method such as a melting method, dry method, wet method, etc., and a thin film of a nitrile group-containing polymer is formed on another base material by plasma polymerization. It may also be something that has been done.

機械的、熱的性質を改良するため、延伸、熱固定等を行
なうことも好ましい。
In order to improve mechanical and thermal properties, it is also preferable to perform stretching, heat setting, etc.

多孔膜の場合にも、湿式キャスト法、溶出法、発泡剤法
等の公知の多孔膜の製造方法のうち、そのポリマーに適
したいがなる方法で作られたものでも用いうる。
In the case of porous membranes, any method suitable for the polymer among known porous membrane manufacturing methods such as wet casting, elution, and blowing agent methods may be used.

堕膜の場合にもその塗布方法は、ポリマーの性質、形状
に応じてバーコーター、グラビアロール」−ター、カー
テンコーク−、ナイフコーター、スピナーなど公知の塗
工模様を用いる塗布法、スプレー法、浸漬法などが用い
られる。
In the case of fallen film, the coating method can be a coating method using a known coating pattern such as a bar coater, gravure roll coater, curtain coater, knife coater, or spinner, depending on the properties and shape of the polymer, a spray method, A method such as immersion is used.

その他各種成形物の場合でも、射出成形、押し出し成形
等公知のいかなる方法で作られたものでも適用可能であ
る。
Even in the case of various other molded products, those made by any known method such as injection molding, extrusion molding, etc. can be applied.

本発明において用いられる銅塩としては、塩化第二銅、
硫酸銅、硝酸態、酢酸第二銅、シュウ酸銀等の2価の銅
塩、塩化第一銅、ヨウ化第−銅、シアン化第−銅、チオ
シアン酸fM等の7価の銅塩が用いられる。7価の銅塩
を用いる場合には溶解性を増加させるため、塩酸、ヨウ
化カリウム、アンモニア等を添加するとよい。
The copper salts used in the present invention include cupric chloride,
Divalent copper salts such as copper sulfate, nitrate, cupric acetate, silver oxalate, heptavalent copper salts such as cuprous chloride, cupric iodide, cupric cyanide, fM thiocyanate, etc. used. When using a heptavalent copper salt, hydrochloric acid, potassium iodide, ammonia, etc. may be added to increase solubility.

還元性硫黄化合物としては、スルボギシル酸塩、亜ニチ
オン酸塩、チオ硫酸塩、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、ピロ
亜(Ml、酸塩、チオ尿素等を用いることができる。
As the reducing sulfur compound, sulboformic acid salt, dithionite, thiosulfate, sulfite, bisulfite, pyromite (Ml, acid salt, thiourea, etc.) can be used.

本発明における実質的に硫化第二銅から成る導電層の形
成は、これらニトリル基を持つ高分子材料を銅塩と還元
性硫黄化合物な含む水溶液中で処Jliすることにより
なされるが、この導電層を形成させるための最も代表的
な条件は、反応水溶液中の銅塩と還元性硫黄化合物のモ
ル比と濃度である。
In the present invention, the conductive layer consisting essentially of cupric sulfide is formed by treating these nitrile group-containing polymeric materials in an aqueous solution containing a copper salt and a reducing sulfur compound. The most typical conditions for forming a layer are the molar ratio and concentration of the copper salt and the reducing sulfur compound in the reaction aqueous solution.

一般的には濃度がある程度間<、がっ、銅塩に対する貸
元性硫黄化合物の割合がある程度高いことが必要である
。実質的に硫化第二銅がら成る導電層の形成に適した濃
度と比は、銅塩や還元性硫黄化合物の種類およびポリマ
ーの種類とその形状により変化する。また、これらは温
度や反応時間、反応溶液のpHなどにも影響される。場
合によっては、酸化剤や還元剤などの添加によっても変
化することかある。銅PA濃度と邂元性硫黄化合物U度
の和が低ずぎたり、還元性硫黄化合物濃度の銅塩8度に
対する割合が低すぎる場合には実質的に硫化第二銅から
成る導電層の形成は起こらない。例えば、銅塩を還元性
硫黄化合物に対して多くしていくと、ある娘度比より大
きな範囲では実質的に(1,1f化第−・銅から成る導
電層が形成される(特開昭、5−7二、2 / 、5−
 ’/ 0号、特願昭jクーgg乙左0号、左7−70
1:/7号、/!;9’199弓“)。また、銅塩濃度
と還元性(61r黄化合物濃度の和を徐々に低くしてい
くと、ある濃度以下では導電化されないが、たとえ導電
化されてもきわめて剥離しやすい。
In general, it is necessary that the concentration be within a certain range, and that the ratio of the lending sulfur compound to the copper salt be high to a certain extent. Concentrations and ratios suitable for forming a conductive layer consisting essentially of cupric sulfide vary depending on the type of copper salt or reducible sulfur compound and the type and shape of the polymer. Moreover, these are influenced by temperature, reaction time, pH of the reaction solution, etc. In some cases, it may also change by adding oxidizing agents, reducing agents, etc. If the sum of the copper PA concentration and the sulfur compound U degree is too low, or if the ratio of the reducing sulfur compound concentration to the copper salt 8 degree is too low, a conductive layer consisting essentially of cupric sulfide may be formed. doesn't happen. For example, when the amount of copper salt is increased relative to the reducing sulfur compound, a conductive layer consisting essentially of (1,1f di-copper) is formed in a range larger than a certain daughterness ratio. ,5-72,2/,5-
'/No. 0, Tokuhan Shoj Kugg Otsusa No. 0, left 7-70
1:/No.7,/! ;9'199'').Also, if the sum of copper salt concentration and reducing property (61r yellow compound concentration) is gradually lowered, it will not become conductive below a certain concentration, but even if it becomes conductive, it will peel off extremely. Cheap.

このように、本発明において均一、堅牢な導電性を付与
するためには、銅塩濃度と還元性硫黄化合物濃度を適当
な範囲にすることがMtgである。
As described above, in order to provide uniform and robust conductivity in the present invention, Mtg is determined by adjusting the copper salt concentration and the reducing sulfur compound concentration to appropriate ranges.

例えば、Qil塩として硫酸銅、還元性硫黄化合物とし
てチオ硫酸ナトリウムを用いてポリアクリロニ) IJ
ルフイルム上に硫化第二銅層が形成される条件は、反応
時間を70分、反応温度を91I’Cとした場合には、
銅塩とL元性硫黄化合物の比が、λ、sニア、!rから
θθ/:タタタ、かつ旋度が両者を合わせて0. / 
!; mol/l以」−である。好ましくは、比が、!
、!;ニア5から03 : 93 、かつ両者を合わせ
た濃度がo、、2omovl! から0.95 mol
/lである。比がユSニア5を越えて銅塩濃度がドjく
なると実質的に硫化第一銅から成る導電層が形成される
か、または導電層が形成されない。また、たとえ比がユ
sニアsからθθ/:999であっても、感度の和がC
1/ !; moV1未満では導電化されない。
For example, using copper sulfate as the Qil salt and sodium thiosulfate as the reducing sulfur compound (polyacryloni) IJ
The conditions for forming a cupric sulfide layer on the film are as follows: reaction time is 70 minutes, reaction temperature is 91I'C.
The ratio of copper salt to L-based sulfur compound is λ, s near,! r to θθ/: tatata, and the rotation of both is 0. /
! ; mol/l or more. Preferably, the ratio is!
,! ; Near 5 to 03: 93, and the combined density of both is o,, 2omovl! 0.95 mol from
/l. When the ratio exceeds 5 and the copper salt concentration becomes 0, either a conductive layer consisting essentially of cuprous sulfide or no conductive layer is formed. In addition, even if the ratio is from Yusnias to θθ/:999, the sum of the sensitivities is C
1/! ; It is not conductive below moV1.

(6:i: iff銅の代りに硝酸銅、酢酸銅、塩化銅
などを用いた場合にも実質的に硫化第二銅から成る導電
J<2’が形成される範囲は、ω11酸銅の場合と同じ
結果であった。
(6:i: if copper nitrate, copper acetate, copper chloride, etc. are used instead of copper, the range where conductive J<2' consisting essentially of cupric sulfide is formed is ω11 of copper oxide. The results were the same as in the case.

こうして得られた’zQ ’を性高分子材料は、そのま
までも十分便用できるものであるが、導電化処理後に、
ダO″C以上の湿度で乾熱処理を行なったり、10θり
/cJ程度の荷重で摩擦したりすると、導電性が70%
から300%程度向上する。
The 'zQ' polymer material obtained in this way can be conveniently used as it is, but after being treated to make it conductive,
Conductivity decreases by 70% when dry heat treatment is performed at a humidity higher than 10°C or when friction is applied with a load of about 10θ/cJ.
This will improve by about 300%.

本発明で得られた導電性高分子材料は、淡緑色から緑色
に着、色し、硫化第二銅層が形成さtまたことがX線回
折、螢光X線、垂蓋分析、ESCA等で確認された。(
X線回折による主な回折線の面間隔はコ、79A、ig
gA、、3.θ/Aで、硫化第二銅であることを示し、
ダイジエナイト(硫化第−IM>とけ明らかに異なる。
The conductive polymer material obtained by the present invention is colored from light green to green, and a cupric sulfide layer is formed.It can also be used for X-ray diffraction, fluorescent X-ray, opercular analysis, ESCA, etc. It was confirmed. (
The interplanar spacing of the main diffraction lines by X-ray diffraction is ko, 79A, ig
gA,,3. θ/A indicates that it is cupric sulfide,
Daigenite (sulfurized No.-IM>) is clearly different.

) かかる処理により得られた等電性高分子材料の導電層の
密着性、均一性は該ポリマーの種類とその形状により異
なる。材料の形状については、同一ポリマーで同一処理
条件にした場合、多孔膜や繊維のほうがフィルムやベレ
ットなどより均一性、密着性が良い傾向がある。
) The adhesion and uniformity of the conductive layer of the isoelectric polymer material obtained by such treatment vary depending on the type and shape of the polymer. Regarding the shape of the material, when using the same polymer under the same processing conditions, porous membranes and fibers tend to have better uniformity and adhesion than films and pellets.

本発明によって得られる硫化第二銅−二) IJル基含
有亜合体の導電性材料は、従来知られていたNfj化第
−銅−二) ジル基含有重合体導電性材料に比べ、■硫
化銅付着重量が同じ場合の導電性、■特に高分子材料の
二) IJル基含有社が小さい時の導電層形成の均一性
、■特に高分子材料の二) IJル基含有薇が小さい時
の導電層と高分子材料の密着強度、■硫酸、塩酸、硝酸
などの無機酸や酢酸、蟻酸、フハク酸などの有機酸およ
び一部の有機溶剤に対する耐性、■透明フィルムに適用
した場合の透明導電性などの点において優れている。ま
た活性種の寿命が長いので、連続処理のためのコントロ
ールが容品である。例えば、銅塩として硫酸銅、還元性
硫黄化合物としてチオ硫酸ナトリウムを用いた場合、両
者のモル比がl;/、両者の濃度の和がθsrn o 
1/lの水溶液から成る処理液は90°Cでは、20秒
以内にその活性を失なうのに対し、両者のモル比が/:
?の場合には20分以上活性を持続する。
The electrically conductive material of the cupric sulfide-2) IJ group-containing subassembly obtained by the present invention has a higher conductive material than the conventional cupric-2) IJ group-containing polymer conductive material. Conductivity when the weight of copper deposited is the same, (2) Especially for polymeric materials, Uniformity of conductive layer formation when the IJ group-containing layer is small, ■Especially for polymeric materials (2) When the IJ group-containing layer is small Adhesion strength between the conductive layer and polymer material, ■Resistance to inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, organic acids such as acetic acid, formic acid, and succinic acid, and some organic solvents, and ■Transparency when applied to transparent films. It is excellent in terms of conductivity, etc. Also, since the active species have a long lifespan, they are a control item for continuous processing. For example, when copper sulfate is used as the copper salt and sodium thiosulfate is used as the reducing sulfur compound, the molar ratio of the two is l;/, and the sum of their concentrations is θsrn o
A treatment solution consisting of a 1/l aqueous solution loses its activity within 20 seconds at 90°C, whereas the molar ratio of the two is /:
? In this case, the activity lasts for 20 minutes or more.

本発明の導電性高分子材料には形状ごとに種々の用途が
考えられる。例えば、導電性フィルム、シートには/I
¥晶表不表示電極L発光体用透明電極、電子写真、帯電
防止フィルムなどへの応用が考えられる。導電性粉末に
は導電性ゴムや導電性プラスチック材料の導電性フィラ
ー、41電性塗料および導電性接着剤などへの応用が考
えられる。導電性多孔膜にはガス拡散電極やその他の電
極および荷電粒子の分離フィルター等の用途が期待され
る。
The conductive polymer material of the present invention can be used in various ways depending on its shape. For example, conductive films and sheets include /I
Potential applications include transparent electrodes for light emitters, electrophotography, and antistatic films. Conceivable applications of the conductive powder include conductive fillers for conductive rubber and conductive plastic materials, 41 conductive paints, and conductive adhesives. Conductive porous membranes are expected to have applications such as gas diffusion electrodes, other electrodes, and charged particle separation filters.

導電性繊細からは混紡などにより糸、織物、編物、フェ
ルト、不繊布などあらゆる分野の制電性繊維製品が製造
でき、カーペット、静電防止用、婦人用下着などに応用
可能である。
Conductive fine fibers can be used to produce antistatic fiber products in all fields such as yarn, woven fabrics, knitted fabrics, felts, and nonwoven fabrics by blending, etc., and can be applied to carpets, antistatic products, women's underwear, etc.

以F1実施例によりさらに本発明を具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail using Example F1.

実施例/ ASi脂(アクリロニトリル含Htxo−B量%)30
重蓋部、融点70″Cのパラフィン70重斂部の溶融ブ
レンド物をクリアランス 02THXll/)Tダイか
ら冷水中に押出し、シート状物を得た。これを室温で石
油エーテル中に7時間浸漬し、さらに石油エーテルで洗
浄して厚み/コθ71、空隙率65%の多孔膜を得た。
Example / ASi fat (acrylonitrile-containing Htxo-B amount %) 30
A molten blend of paraffin 70 parts with a melting point of 70"C was extruded into cold water through a clearance 02TH The membrane was further washed with petroleum ether to obtain a porous membrane having a thickness of 71 and a porosity of 65%.

この多孔膜をNa25204 (θ+mol/l。This porous membrane was coated with Na25204 (θ+mol/l.

qOCC’)とCuC1の塩酸水溶液(CuC1O,e
4fに//%塩酸水浴g!i/θ頷を加えて調整)の混
合溶液(塩化第一銅の潤度とチオ硫酸ナトリウムの濃度
の比は/ニア?)に浸漬し、室温よりqOoCまで徐々
に昇温し、qOoCで50分間処理する。このフィルム
を水洗後枠に固定しグO℃で10分間乾燥した。
qOCC') and aqueous hydrochloric acid solution of CuC1 (CuC1O,e
4f//% hydrochloric acid water bath g! (adjusted by adding i/θ nod) (the ratio of the moisture content of cuprous chloride to the concentration of sodium thiosulfate is /near?), and gradually raised the temperature from room temperature to qOoC, and at qOoC of 50 Process for minutes. After washing with water, this film was fixed on a frame and dried at 0° C. for 10 minutes.

こうして得られた多孔yF!v緑色で、表面抵抗は7.
2oW口であった。なお、X線回折により導電層が実質
的に硫化第二銅であることを確認した。
Porous yF thus obtained! vGreen, surface resistance is 7.
It was 2oW mouth. Note that it was confirmed by X-ray diffraction that the conductive layer was substantially made of cupric sulfide.

実施例λ アクロニトリルざ0 (1−ht%、アクリル酸メチル
Ω0重量%を含む共重合体の70重量%の硝酸溶液(2
2m kn % )を湿式製膜した後、二軸延伸機で縦
横それぞれ2.5倍に二軸延伸して厚さ25μの透明延
伸フィルムを得た。このフィルムを硫酸銅(0θ、? 
mol/l)とチオ硫酸ナトリウム(0,27mol/
j )を含む水溶液(硫酸銅濃度とチオ硫酸す) IJ
ウム濃度の比は/:t)中に浸漬し、室温よりg5°C
まで徐々に昇渇し、g5°CでttS分間処理した。
Example 70 wt% nitric acid solution of a copolymer containing λ acronitrile (1-ht%) and methyl acrylate (Ω0 wt%).
2 m kn %) was formed into a wet film, and then biaxially stretched by a factor of 2.5 in both length and width using a biaxial stretching machine to obtain a transparent stretched film with a thickness of 25 μm. Copper sulfate (0θ, ?
mol/l) and sodium thiosulfate (0.27 mol/l)
Aqueous solution containing (copper sulfate concentration and thiosulfate) IJ
The ratio of the concentration of
The temperature was gradually increased to 5°C and treated at 5°C for ttS.

このフィルムを枠に固定し、/ A 0℃で3分間定長
乾熱固定した。得られたフィルムは緑色で可視光線透過
率5.2%、表面抵抗7(1) Q10であった。X線
回折により導電層は実質的に硫化第二銅であることを確
認した。
This film was fixed on a frame and dry heat fixed for 3 minutes at /A 0°C. The obtained film was green, had a visible light transmittance of 5.2%, and a surface resistance of 7(1) Q10. It was confirmed by X-ray diffraction that the conductive layer was essentially cupric sulfide.

比較例1 実施例−の反応を硫酸銀譲度とチオ硫酸す) IJウム
濃度の和を003 mol// (その他の条件は一定
)にして行なったが、フィルムは導電化できなかった。
Comparative Example 1 The reaction of Example 1 was carried out with the sum of the concentrations of silver sulfate and thiosulfate being 0.03 mol// (other conditions being constant), but the film could not be made conductive.

比較例コ 実施例−と同様に湿式製膜、延伸をして得られた透明延
伸フィルムを硫酸銅(θ04LOmoI/l )とチオ
(Af kllナトリウム(θ0 ’I Omol/j
 )をよむ水溶液(硫酸銅濃度とチオ硫酸ナトリウム濃
度の比は/:/)中に浸漬し、室温よりg−s″Cまで
昇温しgsoCで93分間処理した。このフィルムを枠
に固定゛し、/30″Cで3分間定長乾熱固定した。得
られたフィルムは黄金色で可視光線透過率37%、表面
抵抗70Ωめであった。なお、X線回折により導電層が
実質的に硫化第、−銅であることを確認し7た。
Comparative Example A transparent stretched film obtained by wet film forming and stretching in the same manner as in Example was mixed with copper sulfate (θ04LOmol/l) and thio(Af kll sodium (θ0'I Omol/j).
) was immersed in an aqueous solution (ratio of copper sulfate concentration and sodium thiosulfate concentration is /:/), heated from room temperature to g-s"C, and treated at gsoC for 93 minutes. This film was fixed on a frame. Then, it was fixed by dry heat for 3 minutes at /30''C. The obtained film was golden in color, had a visible light transmittance of 37%, and a surface resistance of 70Ω. In addition, it was confirmed by X-ray diffraction that the conductive layer was essentially copper sulfide.

実施例3 実施例λで得られた導電性フィルム(7007口)と、
比較例コで得られた導電性フィルム(?0Ω10)の内
j薬品性を比較すると表/のようになり、いずれの薬品
に対17ても実施例コの導電性フィルムのほうが侵れて
いることがわかった。
Example 3 The conductive film (7007 openings) obtained in Example λ,
Comparing the chemical resistance of the conductive film (?0Ω10) obtained in Comparative Example C, the results are as shown in Table 1. The conductive film of Example C is more eroded by any chemical. I understand.

実施例q アクリロニトリ、ルS重量%、スチレンタs%の共重合
体ペレットを圧縮成形機で厚さ270μのシートに成形
した。このシートを塊化第二銅(ooざmol/l)と
チオ硫酸ナトリウム(0,60mol/l)を含む水溶
液(塩化第二銅濃度とチオ硫酸す) IJウム濃度の比
は/:2.1)中に浸漬し、室温から徐々にざ3℃まで
昇渇し、gs”cでtits分間処理した。このジー 
トを水洗後、枠に固定し、ダO″Cで70分間乾燥した
。得られたシートは緑色で、可視光線透過率73%、表
面抵抗2g×/θ4Ω冷であった。なお、X線回折によ
り、導電層は実質的に硫化第二銅であることを確認した
Example q A copolymer pellet containing acrylonitrile, S% by weight, and styrene by S% was molded into a sheet having a thickness of 270 μm using a compression molding machine. This sheet was agglomerated into an aqueous solution containing cupric chloride (ooza mol/l) and sodium thiosulfate (0.60 mol/l) (cupric chloride concentration and thiosulfate concentration). 1) The water was immersed in water, heated gradually from room temperature to 3°C, and treated with gs"c for tits.
After washing the sheet with water, it was fixed on a frame and dried at O''C for 70 minutes.The obtained sheet was green, had a visible light transmittance of 73%, and a surface resistance of 2 g×/θ4Ω. Diffraction confirmed that the conductive layer was essentially cupric sulfide.

比較)ν1]グ 実施例3の反応を塩化第二銅濃度を0.J mo l 
/l %チオ硫酸ナトリウム濃度を0.Jmol/l(
他の条件は一定)どして行なったところ、導電化できな
かった。
Comparison) ν1] The reaction of Example 3 was carried out at a cupric chloride concentration of 0. J mol
/l % Sodium thiosulfate concentration 0. Jmol/l(
(other conditions being constant), conductivity could not be achieved.

実施例S スラリーX<合で得られたアクリロニトリルq4(重祈
%、アクリル酸メチル6重量%から成るかさ密度0/り
の共重合体粒子ioyをCa SO4・j H2O(1
0,2?)の水溶液50ωに加え、捕拌しながら93°
Cまで室温より昇渇する。そこにNa2S2へ・5H2
0(<z3r)の水溶液(50cc)を加え93℃ニオ
いて60分間反応させた(硫酸銅濃度とチオ硫酸す) 
IJウム漉度の比は/:1As)。反応後、ろ過、水洗
、洗浄後十分に乾燥してis:byの黒縁色の粉末を得
た。この粉末をS分間/ 50 kg、/r)、Jの圧
力で直径、2ctnのディスクに成形して、その導電性
を測定したところ、/4tΩ・口であった。また、X線
回折により導電物質は実質的に硫化第二銅であることを
確認した。
Example S Slurry
0,2? ) to an aqueous solution of 50Ω and heated at 93° while stirring.
Raise the temperature from room temperature to C. There to Na2S2・5H2
0 (<z3r) aqueous solution (50 cc) was added and reacted at 93°C for 60 minutes (copper sulfate concentration and thiosulfate concentration)
The ratio of IJum concentration is /:1As). After the reaction, it was filtered, washed with water, and thoroughly dried to obtain an is:by black-rimmed powder. This powder was molded into a disk with a diameter of 2 ctn at a pressure of J for S minutes/50 kg/r), and its conductivity was measured to be /4 tΩ. Furthermore, it was confirmed by X-ray diffraction that the conductive material was essentially cupric sulfide.

なお、共重合体の粉末70部と5x部の硫化第iX 0
1粉末をよく混合して同様のディスクを成形したが、導
電性を付与することはできなかった。
In addition, 70 parts of copolymer powder and 5x parts of sulfurized No.
Although a similar disk was molded by thoroughly mixing the 1 powder, conductivity could not be imparted.

実 Mlンリ A  ′ アクリロニトリル70重量%とアクリル酸メチル、70
重量%の共1合体の粉末およびポリプロピレンの粉末を
重蓋比で7=3に均一に混合した。
70% by weight of acrylonitrile and methyl acrylate, 70
Weight percent of comonomer powder and polypropylene powder were uniformly mixed at a weight ratio of 7=3.

その混合物を用いて圧縮成型機で厚さダOOμのシート
を作成した。このシートを臭化第二銅(Oθqmol/
7 )、Na2S20J (0,、? / mol/j
 ’)を含む水溶液(臭化第二銅濃度とチオ硫酸ナトリ
ウム濃度の比は/’:’Zg)中に浸漬し、室温よりざ
S′Cまで徐々に昇温し、gs′cにおいてlIs分間
処理した。このシートを水洗後グO℃で70分間定長乾
燥した。得られたシートは緑色で、可視光線透過率67
%、表面抵抗はl g X / 030冷であった。な
お、X線回折により導電層は実質的に硫化第二銅である
ことを確認した。
Using the mixture, a sheet having a thickness of 00μ was produced using a compression molding machine. This sheet was mixed with cupric bromide (Oθqmol/
7), Na2S20J (0,,? / mol/j
') (ratio of cupric bromide concentration and sodium thiosulfate concentration is /':'Zg), and the temperature was gradually raised from room temperature to S'C, and at gs'C for lIs minutes. Processed. After washing this sheet with water, it was dried at a constant temperature of 70 minutes at 0°C. The resulting sheet was green in color and had a visible light transmittance of 67.
%, the surface resistance was l g X/030 cold. Note that it was confirmed by X-ray diffraction that the conductive layer was substantially made of cupric sulfide.

実施例7 アクリ1.jニトリルq&重門%、アクリル酸メチル6
重t%を含む共重合体の70重量%の硝酸溶液(/ 5
 lb目)を湿式紡糸し、Sデニールのアクリル繊組を
得た。この糸o、’ogoyを硝酸銅(0,0Q mo
l/7 )とNa2 S20’3 (θλ乙mol/l
)を倉−む水溶液(硝酸銅開度とチオ硫酸ナトリウム濃
度の比tま/:ム5)中に浸漬し室温よりg5°Cまで
徐々に昇温’L、、、gs°Cにおいて95分間処理し
た。この糸を水洗後、tio′cで75分間乾燥した。
Example 7 Acrylic 1. j Nitrile q & Jumon%, Methyl acrylate 6
70% by weight nitric acid solution of the copolymer containing t% (/5
lb) was wet-spun to obtain an S denier acrylic fiber. Copper nitrate (0,0Q mo
l/7) and Na2 S20'3 (θλmol/l
) was immersed in an aqueous solution (ratio of copper nitrate opening to sodium thiosulfate concentration: 5°C), and the temperature was gradually raised from room temperature to 5°C for 95 minutes at 5°C. Processed. After washing the yarn with water, it was dried with tio'c for 75 minutes.

得られた糸は緑色でモノフィラメントにおいて3 an
 kiすれたコ点間の抵抗はg/×/θ4Ωであった。
The thread obtained is green in color and has a monofilament size of 3 an
The resistance between the two points was g/×/θ4Ω.

なお、X線回折により導電層は実質的に硫化第二銅であ
ること?確認し7た。
Furthermore, X-ray diffraction reveals that the conductive layer is essentially cupric sulfide? I confirmed it.

実施例g ポリエチレンテレフタレートフィルム(IFXII−x
sμ )をCe(SO4)2 (、?mmol)  、
  アクリ T’1.=  トリル/θml 、ジオク
チルコハク酸ソーダ/θOl+19 、水、+ 00 
mlの混合溶液に浸漬しgo”cで7時間処理した。こ
のフィルムをチオ硫酸ナトリウム(03りmol/l)
と硝酸銅(00g mo1/l )を含む水浴液(61
’1m銅濃度と吐硫酸ナトリウム渓度の比+f/:lI
4’)中に浸漬し寧湛より徐々にgO′Cまで昇渇し、
go″Cにおいて13分間処理し、た。このフィルムを
水洗後グO°Cで10分間定長乾燥した。得られたシー
トは緑色で可視光線透過率79%、表面抵抗、2900
めであった。なお、X線回折により導電層は実質的に硫
化第二銅であることを確認した。
Example g Polyethylene terephthalate film (IFXII-x
sμ ) to Ce(SO4)2 (,?mmol),
Acry T'1. = tolyl/θml, dioctyl sodium succinate/θOl+19, water, +00
ml of the mixed solution and treated with go''c for 7 hours.The film was soaked in sodium thiosulfate (03 mol/l).
and copper nitrate (00 g mo1/l) (61
'Ratio of 1m copper concentration to sodium sulfate concentration +f/:lI
4') immersed in water and gradually raised to gO'C from Ningtan,
The film was washed with water and then dried for 10 minutes at a constant temperature of 50°C.The resulting sheet was green in color with a visible light transmittance of 79% and a surface resistance of 2900.
It was a pleasure. Note that it was confirmed by X-ray diffraction that the conductive layer was substantially made of cupric sulfide.

特許出願人 旭化成工柴株式会社 代理人弁理士  星   野      透手続補正書
(自発) 特許庁長官若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和58年 !侍 許  願第 773352 発明の
名称 導電=14+−高分子材料およびその製造法3、
 補正をする者 41件との関係  特許出願人 4、代理人 住 所東京都新宿区四谷3丁目7番地かつ新ヒル5B6
、 補正により増加する発明の数 なし7、補正の対象 補正の内容 明細書の記載を次のとおり補正する。
Patent Applicant: Asahi Kasei Koshiba Co., Ltd. Representative Patent Attorney Toru Hoshino Procedural Amendment (Voluntary) Commissioner of the Japan Patent Office Kazuo Wakasugi 1. Indication of the case 1988! Samurai Permit No. 773352 Title of the invention Conductivity = 14+- Polymer material and its manufacturing method 3,
Relationship with the 41 amendments Patent applicant 4, agent address: 3-7 Yotsuya, Shinjuku-ku, Tokyo, 5B6 Shin Hill
, Number of inventions increased by amendment None 7. The statement in the description of the contents of the amendment subject to amendment shall be amended as follows.

(1)第15頁第14行目 「CaSO4」をr Cu5O+ Jと訂正する。(1) Page 15, line 14 Correct "CaSO4" to rCu5O+J.

(2)  第17頁第8行目 「硝酸銅」を「酢酸銅」と訂正する。(2) Page 17, line 8 Correct "copper nitrate" to "copper acetate".

(3)第18頁第3行目 「チオ硫酸ナトリウム」を「亜硫酸ナトリウム」と訂正
する。
(3) On page 18, line 3, "sodium thiosulfate" is corrected to "sodium sulfite."

特許出願人  旭化成工業株式会社Patent applicant: Asahi Kasei Industries, Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)、ニトリル基をa有する高分子材料の表面または
表面および内部に実質的に硫化第−二銅から成る導電層
を形成せしめてなる導電性高分子材料。
(1) A conductive polymer material comprising a conductive layer consisting essentially of cupric sulfide formed on or inside a polymer material having a nitrile group a.
(2)、ニトリル基を含有する高分子材料を銅塩と復元
性儲、黄化合物を含む水溶液中で処理することにより該
高分子材料の表面または表面および内部に実質的に硫化
第二鋼から成る導電層を形成せしめることを特徴とする
ヘメ電性゛高易子利料の製造法。
(2) By treating a polymeric material containing a nitrile group in an aqueous solution containing a copper salt, a restoring agent, and a yellow compound, the surface or surface and interior of the polymeric material is substantially freed from secondary sulfide steel. 1. A method for producing a heme-conductive high-conductivity material, which comprises forming a conductive layer consisting of:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60118702A (en) * 1983-11-30 1985-06-26 Bridgestone Corp Production of electrically conductive material
JPS62143306A (en) * 1985-12-11 1987-06-26 山本 隆一 Metal sulfide

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