JPS59132345A - 磁界発生装置 - Google Patents
磁界発生装置Info
- Publication number
- JPS59132345A JPS59132345A JP58008272A JP827283A JPS59132345A JP S59132345 A JPS59132345 A JP S59132345A JP 58008272 A JP58008272 A JP 58008272A JP 827283 A JP827283 A JP 827283A JP S59132345 A JPS59132345 A JP S59132345A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- magnetic field
- coils
- shim
- winding frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
- G01R33/3875—Compensation of inhomogeneities using correction coil assemblies, e.g. active shimming
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は主コイルと補正コイルとを使い要求された空
間頭載で高い均一度の磁界を発生させる磁界発生装置、
とくにその補正コイルの構成に関するものである。
間頭載で高い均一度の磁界を発生させる磁界発生装置、
とくにその補正コイルの構成に関するものである。
この種の磁界発生装置は、例えばＮ Ｍ Ｒ−ｅ Ｔ（
核磁気共鳴を用いた断層像撮影装置）に使用される場合
、その磁界の均、一度の要求が高いことから磁界分布の
補正技術がとくに重要となる。
核磁気共鳴を用いた断層像撮影装置）に使用される場合
、その磁界の均、一度の要求が高いことから磁界分布の
補正技術がとくに重要となる。
この種従来の磁界発生装置として第１図ないし１４４図
に示すようなものがあった。第１図は磁界発生装置の全
体を示す断面図で、（１）は両端にツバ部を有する円筒
状の巻枠、（２）は巻枠（１）の外周に巻回され巻枠（
１）内軸方向に磁界を発生させる主コイル、（３）は主
コイル（２）による磁界の軸方向成分の分布を均一化す
るため主コイル（２）の外周に配設された補正コイルで
、後述のように磁界の補正内容により一定形状一定間隔
に配設された復改のコイルから構成される。（４）は上
記磁界分布につき所定の均一性が要求される空間領域で
、通常主コイル（２）の中心軸上中央点（０）を中心点
とする球状領域となる。（４・（Ｖ）は以下の説明の便
宜上用いるノ坐標軸で、それぞれ主コイル（２）の中心
軸及びそれと直用の径方向を茨わす。第２図ないし第４
図は＠ａ記補正コイル（３）の−例で、図に示すように
ｒ方向をＸ１ＹｃＤ直角座イ票で表わした場合、第２図
は磁界の２軸方自戒分（以下ＢＺと称す）がＸ軸座標に
比例して発生する補正コイル（通常Ｘシムコイルと称さ
□ れており、以下この呼称を使用する）の配置を概念
的に示す斜視図、第３図は上記Ｘシムコイルを２軸方向
からみた側面図である。図において、（５ａ）、（５ｂ
）、（５す、（５ｄ）はそれぞれｚ軸を中心軸とする円
筒面上に配設され円周方向に開き角（θ）を有する鞍型
コイルで、壁間領域（４）内で上記の所定の両弁補正出
力が得られるように、互いに中央点（０）及びｚ軸に対
称にかつ所定の形状・大きさ及びｚ軸方向の間隔を有す
るように配置され励磁電源（図示せず）によりアンペア
ターンの絶対１直が等しい電流がそれぞれ矢印（６）の
向きに供給される。そして４個の鞍型コイル（５ａ）（
５ｂ）（５Ｃ）（５ｄ）によりＸシムコイル（５）を構
成する。第４図はＢＺがＸ軸座標に比例して発生する補
正コイル（以下、Ｘシムコイルと称す）を２軸方向から
みた側面図で、Ｘシムコイル（５）を２軸のまわりに９
０’回伝した位置に配設された鞍型コイル（７ａＸ７１
）Ｘ７Ｃ）（７ｄ）によりＸシムコイル（７）全構成す
る。なお、開き角（θ）は通常１２０°又は５０°が採
用され、１２０°の場合には円周方向に一部電なるので
Ｘシムコイル（５）とＹシムコイル（７）とは、径方向
位置がコイル厚さ寸法に対応した分だけ異なるように自
己設される。
に示すようなものがあった。第１図は磁界発生装置の全
体を示す断面図で、（１）は両端にツバ部を有する円筒
状の巻枠、（２）は巻枠（１）の外周に巻回され巻枠（
１）内軸方向に磁界を発生させる主コイル、（３）は主
コイル（２）による磁界の軸方向成分の分布を均一化す
るため主コイル（２）の外周に配設された補正コイルで
、後述のように磁界の補正内容により一定形状一定間隔
に配設された復改のコイルから構成される。（４）は上
記磁界分布につき所定の均一性が要求される空間領域で
、通常主コイル（２）の中心軸上中央点（０）を中心点
とする球状領域となる。（４・（Ｖ）は以下の説明の便
宜上用いるノ坐標軸で、それぞれ主コイル（２）の中心
軸及びそれと直用の径方向を茨わす。第２図ないし第４
図は＠ａ記補正コイル（３）の−例で、図に示すように
ｒ方向をＸ１ＹｃＤ直角座イ票で表わした場合、第２図
は磁界の２軸方自戒分（以下ＢＺと称す）がＸ軸座標に
比例して発生する補正コイル（通常Ｘシムコイルと称さ
□ れており、以下この呼称を使用する）の配置を概念
的に示す斜視図、第３図は上記Ｘシムコイルを２軸方向
からみた側面図である。図において、（５ａ）、（５ｂ
）、（５す、（５ｄ）はそれぞれｚ軸を中心軸とする円
筒面上に配設され円周方向に開き角（θ）を有する鞍型
コイルで、壁間領域（４）内で上記の所定の両弁補正出
力が得られるように、互いに中央点（０）及びｚ軸に対
称にかつ所定の形状・大きさ及びｚ軸方向の間隔を有す
るように配置され励磁電源（図示せず）によりアンペア
ターンの絶対１直が等しい電流がそれぞれ矢印（６）の
向きに供給される。そして４個の鞍型コイル（５ａ）（
５ｂ）（５Ｃ）（５ｄ）によりＸシムコイル（５）を構
成する。第４図はＢＺがＸ軸座標に比例して発生する補
正コイル（以下、Ｘシムコイルと称す）を２軸方向から
みた側面図で、Ｘシムコイル（５）を２軸のまわりに９
０’回伝した位置に配設された鞍型コイル（７ａＸ７１
）Ｘ７Ｃ）（７ｄ）によりＸシムコイル（７）全構成す
る。なお、開き角（θ）は通常１２０°又は５０°が採
用され、１２０°の場合には円周方向に一部電なるので
Ｘシムコイル（５）とＹシムコイル（７）とは、径方向
位置がコイル厚さ寸法に対応した分だけ異なるように自
己設される。
次に、上記のように構成された従来の磁界発生装置にお
ける磁界補正の方法について説明する。
ける磁界補正の方法について説明する。
先ず、主コイル（２）による壁間領域（４）内のＢＺの
分布Ｂｚ 状況を梢督に測定する。これからτγ酸成分び導層成分
を算出し、それぞれに応じた励磁用電流をＸシムコイル
（５）及びＸシムコイル（７）に供給することにより、
Ｂｚの不拘−分のうちＸ及びＹの比例成分の補正がなさ
れる。なお、ここで上記各成分の正負は上記励磁用電流
の向きの正負で対応させる。しかし、夷１派のｆｉｚに
は上記のほか例えばＺＸ。
分布Ｂｚ 状況を梢督に測定する。これからτγ酸成分び導層成分
を算出し、それぞれに応じた励磁用電流をＸシムコイル
（５）及びＸシムコイル（７）に供給することにより、
Ｂｚの不拘−分のうちＸ及びＹの比例成分の補正がなさ
れる。なお、ここで上記各成分の正負は上記励磁用電流
の向きの正負で対応させる。しかし、夷１派のｆｉｚに
は上記のほか例えばＺＸ。
ＺＹＸＸ、 Ｘ２−Ｙ２等の成分も存在しうるので、そ
れθ２ＢＺ σ２ＢＺ ａｚＢｚ ａｚＢｚ
ぞれ１票ひ７Ｚバフ・７π１す（Ｘ２−Ｙｚ）に対応し
た磁界出力を有するｚＸシムコイル、ｚＹＸシムコイル
ｘＹＸシムコイルＸ２−Ｙ２シムコイル等も備えＢＺの
精密補正がなされる。これら各補正コイルの諸えＨｘＸ
シムコイル５）、Ｘシムコイル（７）とは異なるが、い
ずれも中央点Ｃｏ） Ｋ対しｚ軸方向に対称に配設され
Ｚ軸に対称な少くとも一対の鞍型コイルからなり、また
ＺＸ、ＺＹ両クシムコイルびＸＹ−Ｘ２−Ｙ２ 両シム
コイルはそれぞれＺ軸のまわりに９０°及び４５°の間
隔に配置された同一・一対のコイル群から構成される。
れθ２ＢＺ σ２ＢＺ ａｚＢｚ ａｚＢｚ
ぞれ１票ひ７Ｚバフ・７π１す（Ｘ２−Ｙｚ）に対応し
た磁界出力を有するｚＸシムコイル、ｚＹＸシムコイル
ｘＹＸシムコイルＸ２−Ｙ２シムコイル等も備えＢＺの
精密補正がなされる。これら各補正コイルの諸えＨｘＸ
シムコイル５）、Ｘシムコイル（７）とは異なるが、い
ずれも中央点Ｃｏ） Ｋ対しｚ軸方向に対称に配設され
Ｚ軸に対称な少くとも一対の鞍型コイルからなり、また
ＺＸ、ＺＹ両クシムコイルびＸＹ−Ｘ２−Ｙ２ 両シム
コイルはそれぞれＺ軸のまわりに９０°及び４５°の間
隔に配置された同一・一対のコイル群から構成される。
しかるに、上記のような従来の磁界発生装置においては
、補正コイルは鞍型コイルの形状・大きさ及び相互位置
・接続が全く同一で円周方向に一部間Ｉ＃Ｊを有して百
己設される一対・２櫨頌のシムコイルの組合せから構成
されるので、補正コイルのｇ枚及びこれに付属する励磁
電源の緒故が非常に多く装置全体として複雑かつ高１ｉ
ｍ Ｋなるという欠点があった。
、補正コイルは鞍型コイルの形状・大きさ及び相互位置
・接続が全く同一で円周方向に一部間Ｉ＃Ｊを有して百
己設される一対・２櫨頌のシムコイルの組合せから構成
されるので、補正コイルのｇ枚及びこれに付属する励磁
電源の緒故が非常に多く装置全体として複雑かつ高１ｉ
ｍ Ｋなるという欠点があった。
この発明はこのような従来のものの欠点を解消するため
になされたもので、補正コイルを主コイルと同軸円筒面
上であってかつその円周方向に移動可能に配設すること
により、従来の各一対２橿頑の補正コイルを１葎頑の補
正コイルで代用０１′能とし、補正コイル及び励磁電源
の総数を半減することができる磁界発生装置を提供する
ことを目的とするものである。
になされたもので、補正コイルを主コイルと同軸円筒面
上であってかつその円周方向に移動可能に配設すること
により、従来の各一対２橿頑の補正コイルを１葎頑の補
正コイルで代用０１′能とし、補正コイル及び励磁電源
の総数を半減することができる磁界発生装置を提供する
ことを目的とするものである。
以下、この発明の一実施例における均一磁界発生装置を
図面について説明する。
図面について説明する。
第５図は従来のＸシムコイル（５）及びＸシムコイル（
７）Ｋ替わる補正コイルＣ以下Ｘシムコイルと称す）の
構成を示す斜視図、４６図はその主巽部の側面図である
。−において、（８）は主コイル（２）と同軸に配設さ
れた円筒状の巻枠、（９ａＸ９ ｂＸ９ｃＸ９ｄ）は巻
枠（８）上に所定の間隔に配設された鞍型コイルで、従
来のＸシムコイル（５）又はＸシムコイル（７）と同一
諸元を有しＸシムコイル（１０）を構成する。（１１）
は谷鞍型コイル（９ａＸ９ｂＸ９ｃＸ９ｄ）相互間及び
励磁電源（１２）とのｌｌ１ｉ［Ｉの電流流路を形成す
る渡り線で、この部分からの発生磁界を十分低い値に抑
えるため、電流が往復する電線を十分近接させて構成さ
れる。（１３）は制御部（１４）によって制御される駆
前源Ｃ１５）により駆動され巻枠（８）を中心軸のまわ
りに回転させる。・駆動ローラ、（１６＞１’：を巻枠
（８）を回転可能に支持する自伝ローラである。
７）Ｋ替わる補正コイルＣ以下Ｘシムコイルと称す）の
構成を示す斜視図、４６図はその主巽部の側面図である
。−において、（８）は主コイル（２）と同軸に配設さ
れた円筒状の巻枠、（９ａＸ９ ｂＸ９ｃＸ９ｄ）は巻
枠（８）上に所定の間隔に配設された鞍型コイルで、従
来のＸシムコイル（５）又はＸシムコイル（７）と同一
諸元を有しＸシムコイル（１０）を構成する。（１１）
は谷鞍型コイル（９ａＸ９ｂＸ９ｃＸ９ｄ）相互間及び
励磁電源（１２）とのｌｌ１ｉ［Ｉの電流流路を形成す
る渡り線で、この部分からの発生磁界を十分低い値に抑
えるため、電流が往復する電線を十分近接させて構成さ
れる。（１３）は制御部（１４）によって制御される駆
前源Ｃ１５）により駆動され巻枠（８）を中心軸のまわ
りに回転させる。・駆動ローラ、（１６＞１’：を巻枠
（８）を回転可能に支持する自伝ローラである。
次に、上記のように構成されたこの発明の一実施例とし
ての磁界発生装置における磁界補正の方法について説明
する。先ず、従来の場合と同様にθＢＺ δＢＺ める。今、この磁界の勾配−万二−万一をそれぞれａ、
ｂと２くと、従来方式におけるＸシムコイル及びＸシム
コイルに必要な磁界出力ｆｉｘ及び’Ｅｚｙはそれぞれ
以下の式で表わされる。
ての磁界発生装置における磁界補正の方法について説明
する。先ず、従来の場合と同様にθＢＺ δＢＺ める。今、この磁界の勾配−万二−万一をそれぞれａ、
ｂと２くと、従来方式におけるＸシムコイル及びＸシム
コイルに必要な磁界出力ｆｉｘ及び’Ｅｚｙはそれぞれ
以下の式で表わされる。
ＢＺＸ ＝ａ −Ｘ −ｉ Ｚ
・−（１） ’ＥＺ７ ＝ｂ −
Ｙ ・ ＩＺ
−（２）ここに、ｉｚはｚ軸
方向の単位ベクトルである。従って、ＸシムコイルとＸ
シムコイルとのｌａ 界出力の和ＢＺＴｕ欠式で衣わさ
れる。
・−（１） ’ＥＺ７ ＝ｂ −
Ｙ ・ ＩＺ
−（２）ここに、ｉｚはｚ軸
方向の単位ベクトルである。従って、ＸシムコイルとＸ
シムコイルとのｌａ 界出力の和ＢＺＴｕ欠式で衣わさ
れる。
Ｂｚｒ ＝ 、ＢＺＸ ＋ＢＺＹ＝＝ （ａＸ＋ｂＹ）
−ｉｚ：Ｖ［再ＪＴ（Ｘ−ｃｏｓａ＋＋Ｙ−ｓｉｎＱり
・ｉｚ ・＝用−（３）座標を第６図のように２軸を
中心に角度αだけ回転させた場合、座標変換の関係から ｒ＝ｘ −ｃｏｓａ＋＋ｙ−ｓｉｎａ
−−（５）が成立し、（５）式を（３）式に
代入すると、Ｂｚ Ｔ ＝遅ππ、ｒ −ｉｚ
−−（６）が得られる。即ち、ｒシムコイル
（１０）を第６図に示すようにＸ軸から２軸を中心に（
４）式で衣わされる角度αだけ回転させたｒ軸に移動さ
せ磁界出力の勾配をｆπ■ とすることにより、従来Ｘ
シムコイルＣ５） トＹシムコイル（７）とで行ってい
たと同等の磁界補正機能をｌｉのｒシムコイル（１０）
で達成することができ、これに伴い励磁電源（１２）も
１台で通む。
−ｉｚ：Ｖ［再ＪＴ（Ｘ−ｃｏｓａ＋＋Ｙ−ｓｉｎＱり
・ｉｚ ・＝用−（３）座標を第６図のように２軸を
中心に角度αだけ回転させた場合、座標変換の関係から ｒ＝ｘ −ｃｏｓａ＋＋ｙ−ｓｉｎａ
−−（５）が成立し、（５）式を（３）式に
代入すると、Ｂｚ Ｔ ＝遅ππ、ｒ −ｉｚ
−−（６）が得られる。即ち、ｒシムコイル
（１０）を第６図に示すようにＸ軸から２軸を中心に（
４）式で衣わされる角度αだけ回転させたｒ軸に移動さ
せ磁界出力の勾配をｆπ■ とすることにより、従来Ｘ
シムコイルＣ５） トＹシムコイル（７）とで行ってい
たと同等の磁界補正機能をｌｉのｒシムコイル（１０）
で達成することができ、これに伴い励磁電源（１２）も
１台で通む。
一般的に、可動部分をもつ装置ではその取付り青変の低
下が問題となるが、本発明の適用例である前掲Ｎ Ｍ
Ｒ−ｅ Ｔの場合、主コイル（２）の軸と巻枠（８）の
軸とのずれ、即ち偏心の程度として±ＩＭ程度は十分許
容できることが判っている。そして、この程度の關心禮
度は通常の回転ｇ＃機構により容易に実現することが可
能であり、従って補正コイルの回転移動にともなう出力
磁界の精度低下は問題にならないと言える。
下が問題となるが、本発明の適用例である前掲Ｎ Ｍ
Ｒ−ｅ Ｔの場合、主コイル（２）の軸と巻枠（８）の
軸とのずれ、即ち偏心の程度として±ＩＭ程度は十分許
容できることが判っている。そして、この程度の關心禮
度は通常の回転ｇ＃機構により容易に実現することが可
能であり、従って補正コイルの回転移動にともなう出力
磁界の精度低下は問題にならないと言える。
なお、上記−実施ρ１においては、巻枠（８）を回転さ
せる機構を採用しているが、ｍｌ定した巻枠を使用しそ
の外周面に円周方向所定範囲内で移動可能な取付機構を
設け、主コイル（２）による磁界分布に応じてｒシムコ
イル（１０）を必安な位置に取り付ける方式を採用して
もよい。また、Ｘシムコイル（５）とＸシムコイル（７
）とを１組のｒシムコイル（１０）で代用できることを
説明したが、前述のＺＸシムコイルとＺＹＸシムコイル
ｘＹシムコイルトＸ２−Ｙ２シムコイル等一般的にそれ
ぞれｚ！ＩＩＩＩｃＤ−！わりに所定の間隔に配設され
た同一・一対のコイル群から係 なり通電鴫流の向きの相対開田が等しい２櫨頑のシムコ
イルは、上記一実施例の・場合と同様、主コイル（２）
と同軸円周方向に移ｄＪ町自巳な１組のシムコイルで代
用することができる。
せる機構を採用しているが、ｍｌ定した巻枠を使用しそ
の外周面に円周方向所定範囲内で移動可能な取付機構を
設け、主コイル（２）による磁界分布に応じてｒシムコ
イル（１０）を必安な位置に取り付ける方式を採用して
もよい。また、Ｘシムコイル（５）とＸシムコイル（７
）とを１組のｒシムコイル（１０）で代用できることを
説明したが、前述のＺＸシムコイルとＺＹＸシムコイル
ｘＹシムコイルトＸ２−Ｙ２シムコイル等一般的にそれ
ぞれｚ！ＩＩＩＩｃＤ−！わりに所定の間隔に配設され
た同一・一対のコイル群から係 なり通電鴫流の向きの相対開田が等しい２櫨頑のシムコ
イルは、上記一実施例の・場合と同様、主コイル（２）
と同軸円周方向に移ｄＪ町自巳な１組のシムコイルで代
用することができる。
この発明は以上説明したように、補正コイルを主コイル
と同軸円筒面上であってかつその円周方向に移ｇＩＪ町
目目に配設することにより、従来それぞれ中心軸のまわ
りに所定の間隔をもって配設された同一・一対の２燻類
の補正コイルを１櫨頑の補正コイルで代用で亀、補正コ
イル及び励Ｉｌａ市ｓの１飴故が半減し装置全体として
簡単かつ安圃になるという効果がある。
と同軸円筒面上であってかつその円周方向に移ｇＩＪ町
目目に配設することにより、従来それぞれ中心軸のまわ
りに所定の間隔をもって配設された同一・一対の２燻類
の補正コイルを１櫨頑の補正コイルで代用で亀、補正コ
イル及び励Ｉｌａ市ｓの１飴故が半減し装置全体として
簡単かつ安圃になるという効果がある。
第１図は従来の磁界発生装置の全体を示す所面図、第２
図は従来のＸシムコイルの配置をｇ芯的に示す斜視図、
第３図・％４図は従来のＸシムコイル・Ｘシムコイルを
それぞれ示す側面図、第５図はこの発明の一実施例にお
ける補正コ′イルの構成を示す斜視図、第６図はその主
妥部の側面図である。 図において、（２）Ｉ″ｉ主コイル、（８）は巻枠、（
１０）ｒＩ′補正コイルとしてのｒシムコイル、（１３
）は駆動ローラ、（１５）は駆動源、（１６）は自伝ロ
ーラである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代 理 人 葛 野 信 −第１図 第２図 第３図 第４図 第６図 Ｘ 手続補正書（自発） ５葦４２２ 昭和 月 日 特許庁長官殿 １、事件の表示 特願昭５８−８２７２号２、発明
の名称 磁界発生装置 ３、補正をする者 代表者片山仁へ部 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、 補正の内容 ＋１）明細書の第２頁第１行にｒＮＭＲ−ｅ ＴＪとあ
るのをｒＮＭＲ−ＣＴＪに訂正する。 （２）同上の第２頁第８行に「均、一度」とあるのを「
均一度」に訂正する。 （３）同上の第２頁第１７行にｒ（ＶＬＩとあるのを「
（γ）」に訂正する。 」 に訂正する。 （５）同上の第４頁第２０行に「諸之は」とあるのを「
諸元」に訂正する。 （６）同上の第７頁式（３）および式（４）中に「ｌ可
Ｔ亙」とあるのを７４ｆ」に訂正する。 （７）同上の第８頁式（６） ニｒ ＢＺＴ ＝ Ｉｒ
フｂ、、ｒ・ｉｚ」とあるのをｒ ８ｒ ＝ ｒ ｒ
−ｉ Ｚ Ｊに訂正する。 （８）同上の第８頁第９行に＄Ｊとあるのを１７ｉ’ｉ
７６可」に訂正する。 （９）同上の＠８８頁第１６にｎＪＭＲ−ｅＴＪとある
のをｒＮＭＲ−ＣＴＪに訂正する。 α０同上の第９頁第１１行に「Ｘ２−Ｙ２」とあるのを
ｒｘ２− Ｙ２Ｊに訂正する。
図は従来のＸシムコイルの配置をｇ芯的に示す斜視図、
第３図・％４図は従来のＸシムコイル・Ｘシムコイルを
それぞれ示す側面図、第５図はこの発明の一実施例にお
ける補正コ′イルの構成を示す斜視図、第６図はその主
妥部の側面図である。 図において、（２）Ｉ″ｉ主コイル、（８）は巻枠、（
１０）ｒＩ′補正コイルとしてのｒシムコイル、（１３
）は駆動ローラ、（１５）は駆動源、（１６）は自伝ロ
ーラである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代 理 人 葛 野 信 −第１図 第２図 第３図 第４図 第６図 Ｘ 手続補正書（自発） ５葦４２２ 昭和 月 日 特許庁長官殿 １、事件の表示 特願昭５８−８２７２号２、発明
の名称 磁界発生装置 ３、補正をする者 代表者片山仁へ部 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、 補正の内容 ＋１）明細書の第２頁第１行にｒＮＭＲ−ｅ ＴＪとあ
るのをｒＮＭＲ−ＣＴＪに訂正する。 （２）同上の第２頁第８行に「均、一度」とあるのを「
均一度」に訂正する。 （３）同上の第２頁第１７行にｒ（ＶＬＩとあるのを「
（γ）」に訂正する。 」 に訂正する。 （５）同上の第４頁第２０行に「諸之は」とあるのを「
諸元」に訂正する。 （６）同上の第７頁式（３）および式（４）中に「ｌ可
Ｔ亙」とあるのを７４ｆ」に訂正する。 （７）同上の第８頁式（６） ニｒ ＢＺＴ ＝ Ｉｒ
フｂ、、ｒ・ｉｚ」とあるのをｒ ８ｒ ＝ ｒ ｒ
−ｉ Ｚ Ｊに訂正する。 （８）同上の第８頁第９行に＄Ｊとあるのを１７ｉ’ｉ
７６可」に訂正する。 （９）同上の＠８８頁第１６にｎＪＭＲ−ｅＴＪとある
のをｒＮＭＲ−ＣＴＪに訂正する。 α０同上の第９頁第１１行に「Ｘ２−Ｙ２」とあるのを
ｒｘ２− Ｙ２Ｊに訂正する。
Claims (2)
- （１）中心軸方向に磁界を発生させる主コイル、この主
コイルと同軸円筒面上であってかつその円周方向に移動
可能に配設され上記円周方向所定位置において上記主コ
イルによる磁界分布を均一分布に補正する補正コイルを
備えたことを特徴とする磁界発生装置。 - （２）補正コイルは主コイルの中心軸上の中央点に対し
上記中心軸方向に対称に配設され上記中心軸に対称な少
なくとも一対の鞍型コイルからなることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の磁界発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58008272A JPS59132345A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | 磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58008272A JPS59132345A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | 磁界発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59132345A true JPS59132345A (ja) | 1984-07-30 |
Family
ID=11688530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58008272A Pending JPS59132345A (ja) | 1983-01-19 | 1983-01-19 | 磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59132345A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188907A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 磁場発生装置 |
| JPS6226802A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-04 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 一様性の高い磁界を発生する磁石 |
| JPS62271493A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-25 | 日立マクセル株式会社 | 半導体装置 |
-
1983
- 1983-01-19 JP JP58008272A patent/JPS59132345A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188907A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 磁場発生装置 |
| JPS6226802A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-04 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 一様性の高い磁界を発生する磁石 |
| JPS62271493A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-25 | 日立マクセル株式会社 | 半導体装置 |
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