JPS5912940A - Antistatic manuscript-supporting plastic board - Google Patents

Antistatic manuscript-supporting plastic board

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JPS5912940A
JPS5912940A JP57121493A JP12149382A JPS5912940A JP S5912940 A JPS5912940 A JP S5912940A JP 57121493 A JP57121493 A JP 57121493A JP 12149382 A JP12149382 A JP 12149382A JP S5912940 A JPS5912940 A JP S5912940A
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JP
Japan
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group
general formula
support plate
plate according
document support
Prior art date
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Pending
Application number
JP57121493A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
「よし」田 元昭
Motoaki Yoshida
Akio Takigawa
滝川 章雄
Yuichi Aoki
裕一 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority to JP57121493A priority Critical patent/JPS5912940A/en
Publication of JPS5912940A publication Critical patent/JPS5912940A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain titled board of high antistatic potential and wear resistance, by coating on a plastic board a curable resin composition containing a specific silicon compound, a polydimethyl siloxy group- and polyethylene oxide unit- contg. nonionic surface active agent, etc., followed by curing. CONSTITUTION:The objective board can be obtained by coating on a plastic board a curable resin composition containing (A) (i) a silicon compound of formula I (R<1> is epoxy-contg. organic group; R<2> is H, 1-6C hydrocarbon, or vinyl; R<3> is 1-5C hydrocarbon alkoxyalkyl, or 1-4C acyl; a is 1-3; b is 0-2; a+b<= 3) and/or its hydrolyzate, or (ii) the component (i) and a powdered metallic oxide of a size 1-100mmu, or (iii) the component (i) and a compound of formula II (M is an element belonging to the IV-group, except carbon; R<4> is 1-10C hydrocarbon; m is 1-20), or (iv) the component (ii) and the compound of the formula II and (B) (i) a polydimethylsiloxy group- and polyethylene oxide unit-contg. nonionic surface active agent and/or (ii) a perfluoroalkyl group- and polyethylene oxide unit-contg. one, followed by curing.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、良好な帯電防止性を有するプラスチック製原
稿支持板に関するものである。上記プラスチックとは例
えば、PMMA、ポリカーボネート。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a plastic document support plate having good antistatic properties. Examples of the above plastic include PMMA and polycarbonate.

ポリスチレン、ポリオレフィン、 0R−39、PET
などの通常用いられている高分子材料を謂う。
Polystyrene, polyolefin, 0R-39, PET
Commonly used polymer materials such as

上記原稿支持板とは例えば、複写機、ファクシミリなど
の情報機器に於いて被写体となる原稿を支持する為にそ
の原稿に直接接触している透明な板を謂う。
The document support plate is, for example, a transparent plate that is in direct contact with a document in order to support the document as a subject in an information device such as a copying machine or a facsimile machine.

この様な原稿支持板に於いては、帯電してはこりを吸着
することは伝送される情報のフイスを増大させることに
なり、余り良い影響を与えない。
In such a document support plate, charging and attracting dust increases the amount of information to be transmitted, and does not have a very good effect.

また、帯電した原稿支持板が原稿自体を静電力により吸
着しても、操作性の点で極めて悪い影響を及ぼす。原稿
を自動的に送り出す機構にした場合などは特に大きな欠
点となる。プラスチックをこの支持板に使用した場合な
どは特に問題となる。
Furthermore, even if the charged document support plate attracts the document itself by electrostatic force, it will have a very negative effect on the operability. This is a particularly big drawback when a mechanism is used to automatically feed out the original. This is particularly problematic when plastic is used for this support plate.

この様にプラスチック製品の機能を害する帯電性を低下
させる方法としては一般に、多価アルコール脂肪酸エス
テルの様な界面活性剤を帯電防止剤として表面に塗布す
るか、あるいはプラスチツタの基体内部に含浸させる方
法が用いられている。
Generally speaking, methods for reducing the static charge that impairs the functionality of plastic products include applying a surfactant such as polyhydric alcohol fatty acid ester to the surface as an antistatic agent, or impregnating the inside of the base of plastic ivy. is used.

しかし帯電防止剤を塗布する方法は表面がベタベタした
り、使用中に除去されて効果の持続性がないなどの欠点
を有しており、あまり効果的でない。
However, the method of applying an antistatic agent has drawbacks such as the surface becoming sticky and the effect not lasting as it is removed during use, and is not very effective.

一方、帯電防止剤をプラスチック基体中に含浸させる方
法に於いては、プラスチック基体が変色したり、相溶性
の悪さがらブルーミングを起こしたりすることがあると
いう欠点を有している。
On the other hand, the method of impregnating an antistatic agent into a plastic substrate has the disadvantage that the plastic substrate may change color or blooming may occur due to poor compatibility.

最近、プラスチック製品のもうひとつの大きな欠点であ
る傷つきやすさを改善する為に耐擦傷性の保護被覆を施
すことが行われはじめているが、これらの被覆にもまた
、帯電性の高いものが多い。
Recently, scratch-resistant protective coatings have begun to be applied to improve the fragility of plastic products, which is another major drawback, but many of these coatings are also highly electrostatic. .

本発明者等は、鋭意研究の結果、次の様な成分A及びB
を含有してなる硬化性樹脂組成物に塗布し、硬化させた
塗膜を被覆すれば、これまでに用いられていた帯電防止
法の有する欠点を全て改善しうろことを見出した。
As a result of intensive research, the present inventors found the following components A and B.
It has been found that all the drawbacks of the antistatic methods used hitherto can be improved by coating a curable resin composition containing the above-mentioned antistatic method with a cured coating film.

すなわち、これらの成分A及びBとは、A、下記aまた
はbまたはCまたはdまたはea、下記(イ) b、下記(イ)及び(ロ) C1下記(イ)及び(ハ) d、下記(イ)及び(ロ)及び(ハ) e、下記(ハ)及び、(ニ) (イ)下記一般式(1)で表わすことのできる構造を有
した珪素化合物より選ばれる7種もしくは2種以上およ
び/またはその加水分解物。
That is, these components A and B are A, the following a or b or C or d or ea, the following (a) b, the following (a) and (b), C1 the following (a) and (c) d, the following (a) and (b) and (c) e. Seven or two silicon compounds selected from the following (c) and (d) (i) silicon compounds having a structure that can be represented by the following general formula (1). and/or a hydrolyzate thereof.

21 Rla−8i −(OR3) 44−1)    (/
 )(式中R1はエポキシ基を有する有機基、R2は水
素、炭素数/〜乙の炭化水素基またはビニル基、R3は
炭素数/〜Sの炭化水素基。
21 Rla-8i -(OR3) 44-1) (/
) (In the formula, R1 is an organic group having an epoxy group, R2 is hydrogen, a hydrocarbon group or vinyl group having a carbon number of /~S, and R3 is a hydrocarbon group having a carbon number of /~S.

アルコキシアルキル基または炭素数/〜lのアシル基、
aは/〜J、bはO−一であってa+b≦3である) (ロ)粒径/〜100mμの金属酸化物微粉末より選ば
れる7種もしくは一種以上。
an alkoxyalkyl group or an acyl group having carbon number/~l,
(a is /~J, b is O-1, and a+b≦3) (b) Seven or more types selected from metal oxide fine powders having a particle size of /~100 mμ.

(ハ)下記一般式(2)で表わすことのできる構造を有
した化合物より選ばれる7種もしくは一種以上および/
またはその加水分解物。
(c) Seven or more compounds selected from compounds having a structure represented by the following general formula (2) and/
or its hydrolyzate.

R404−M−0↓R4(J) 。“R4 (式中Mは炭素以外のオ■族元素より選ばれる1種もし
くは2種以上、R’は炭素数/〜10の炭化水素基1m
は/〜、20の整数)(ニ) 下記一般式(3)で表わ
すことのできる構造を有した珪素化合物より選ばれる1
種もしくは一種以上および/またはその加水分解物。
R404-M-0↓R4(J). "R4 (In the formula, M is one or more selected from group O elements other than carbon, and R' is a hydrocarbon group having carbon number/~10 m
is/~, an integer of 20) (d) 1 selected from silicon compounds having a structure that can be represented by the following general formula (3)
Species or species and/or hydrolysates thereof.

R5nSi (OR6)4−n    (3)(式中、
R5は水素原子又はエポキシ基を持たない有機原子団、
 R6は炭素数/〜10の炭化水素基、アルフキジアル
キル基、アシル基、nは/〜3の整数) B、下記a及び/またはb a、ポリジメチルシロキシ単位及びポリエチレンオキシ
ド単位を含むノニオン系界面活性剤より選ばれる1種あ
るいは2種以上。
R5nSi (OR6)4-n (3) (wherein,
R5 is an organic atomic group having no hydrogen atom or epoxy group,
R6 is a hydrocarbon group having a carbon number of 10 to 10, an alfukidialkyl group, an acyl group, n is an integer of 3 to 3) B, the following a and/or b a, a nonionic group containing a polydimethylsiloxy unit and a polyethylene oxide unit One or more surfactants selected from surfactants.

b、パー70ロアルキル基及びポリエチレンオキシド単
位を含むノニオン系界面活性剤より選ばれる7種あるい
は2種以上。
b, seven or more nonionic surfactants containing a per-70-roalkyl group and a polyethylene oxide unit;

(イ)の一般式(1)で表わすことのできる構造を有し
た珪素化合物としては、下記の様なものが挙げられる。
Examples of the silicon compound having a structure represented by the general formula (1) in (a) include the following.

グリシドキシ基、を/ケ有する珪素化合物の具体例とし
ては、 グリシドキシメチルトリメトキシシラン。
A specific example of a silicon compound having a glycidoxy group is glycidoxymethyltrimethoxysilane.

グリシドキシメチルトリエトキシシラン。Glycidoxymethyltriethoxysilane.

β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン。β-glycidoxyethyltrimethoxysilane.

β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン。β-glycidoxyethyltriethoxysilane.

r−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン。r-glycidoxypropyltrimethoxysilane.

r−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン。r-glycidoxypropyltriethoxysilane.

r−グリシドキシプロピルトリ (メトキシエトキシ)
シラン。
r-glycidoxypropyl tri(methoxyethoxy)
Silane.

r−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン。r-glycidoxypropyltriacetoxysilane.

δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン。δ-Glycidoxybutyltrimethoxysilane.

δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン。δ-Glycidoxybutyltriethoxysilane.

グリシドキシメチルジメトキシシラン。Glycidoxymethyldimethoxysilane.

グリシドキシメチル(メチル)ジメトキシシラン。Glycidoxymethyl(methyl)dimethoxysilane.

グリシドキシメチル(エチル)ジメトキシシラン。Glycidoxymethyl(ethyl)dimethoxysilane.

グリシドキシメチル(フェニル)ジメトキシシラン。Glycidoxymethyl(phenyl)dimethoxysilane.

グリシドキシメチル(ビニル)ジメトキシシラン。Glycidoxymethyl(vinyl)dimethoxysilane.

グリシドキシメチル(ジメチル)メトキシシラン。Glycidoxymethyl(dimethyl)methoxysilane.

β−グリシドキシエチル(メチル)ジメトキシシラン。β-Glycidoxyethyl(methyl)dimethoxysilane.

β−グリシドキシエチル(エチル)ジメトキシシラン。β-glycidoxyethyl(ethyl)dimethoxysilane.

β−グリシドキシエチル(ジメチル)メトキシシラン。β-glycidoxyethyl(dimethyl)methoxysilane.

r−グリシドキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン
r-glycidoxypropyl(methyl)dimethoxysilane.

r−グリシドキシプロピル(エチル)ジメトキシシラン
r-glycidoxypropyl(ethyl)dimethoxysilane.

r−グリシドキシプロピル(ジメチル)メトキシシラン
r-glycidoxypropyl(dimethyl)methoxysilane.

δ−グリシドキシブチル(メチル)ジメトキシシラン。δ-glycidoxybutyl(methyl)dimethoxysilane.

δ−グリシドキシブチル(エチル)ジメトキシシラン。δ-glycidoxybutyl(ethyl)dimethoxysilane.

δ−グリシドキシブチル(ジメチル)メトキシシラン。δ-glycidoxybutyl(dimethyl)methoxysilane.

グリシドキシ基をコケまたは3ケ有する珪素化合物の具
体例としては、 ビス(グリシドキシメチル)ジメトキシシラン。
A specific example of a silicon compound having moss or three glycidoxy groups is bis(glycidoxymethyl)dimethoxysilane.

ビス(グリシドキシメチル)ジェトキシシラン。Bis(glycidoxymethyl)jethoxysilane.

ビス(グリシドキシエチル)ジメトキシシラン。Bis(glycidoxyethyl)dimethoxysilane.

ビス(グリシドキシプロピル)ジェトキシシラン。Bis(glycidoxypropyl)jethoxysilane.

トリス(グリシドキシメチル)メトキシシラン。Tris(glycidoxymethyl)methoxysilane.

トリス(グリシドキシメチル)エトキシシラン。Tris(glycidoxymethyl)ethoxysilane.

トリス(グリシドキシエチル)メトキシシラン。Tris(glycidoxyethyl)methoxysilane.

トリス(グリシドキシエチル)エトキシシラン。Tris(glycidoxyethyl)ethoxysilane.

トリス(グリシドキシプロピル)メトキシシラン。Tris(glycidoxypropyl)methoxysilane.

トリス(グリシドキシプロピル)エトキシシラン。Tris(glycidoxypropyl)ethoxysilane.

グリシジル基を有する珪素化合物の具体例としては、 グリシジルメチルトリメトキシシラン。Specific examples of silicon compounds having glycidyl groups include: Glycidylmethyltrimethoxysilane.

グリシジルメチルトリエトキシシラン。Glycidylmethyltriethoxysilane.

β−グリシジルエチルトリメトキシシラン。β-glycidylethyltrimethoxysilane.

β−グリシジルエチルトリエトキシシラン。β-Glycidylethyltriethoxysilane.

r−グリシジルプロビルトリメトキシシラン。r-glycidylprobyltrimethoxysilane.

r−グリシジルプロピルトリエトキシシラン。r-glycidylpropyltriethoxysilane.

r−グリシジルプロビルトリ(メトキシエトキシ)シラ
ン。
r-glycidylprobyltri(methoxyethoxy)silane.

r−グリシジルプロピルトリアセトキシシラン。r-glycidylpropyltriacetoxysilane.

これらは単独で使用しても良く、また2種以上併用して
も良い。
These may be used alone or in combination of two or more.

(ロ)の粒径/〜100mμの金属酸化物微粉末とは、
分散媒、たとえば水またはアルコール系分散媒に、シリ
カ、アルミナ、チタニア、ジルコニアなどの上記粒径の
超微粒子を分散せしめたコロイド溶液であり、周知の方
法で製造されているものであり、シリカゾル、及びアル
ミナゾルは市販されている。この内、シリカゾルが最も
好ましい。
(b) Metal oxide fine powder with a particle size of ~100 mμ is:
It is a colloidal solution in which ultrafine particles of the above particle size, such as silica, alumina, titania, and zirconia, are dispersed in a dispersion medium, such as water or an alcohol-based dispersion medium, and is produced by a well-known method.Silica sol, and alumina sol are commercially available. Among these, silica sol is most preferred.

また、(ハ)の一般式(2)で表わすことのできる構造
を有した化合物には、次に述べる様なものが挙げられる
Furthermore, examples of the compound (c) having a structure that can be represented by general formula (2) include those described below.

すなわち、一般式(コ)の中に示すMとは、炭素以外の
オ■族元素より選ばれる7種もしくは2種以上であり、
好ましくは、珪素あるいはチタンが用いられる。Mが珪
素である場合のこの様な化合物には、 テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン。
That is, M shown in the general formula (k) is 7 or 2 or more selected from group O elements other than carbon,
Preferably, silicon or titanium is used. Such compounds when M is silicon include: tetramethoxysilane, tetraethoxysilane.

テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン
、テトラブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、
テトラt−ブトキシシラン、テトラヘキシロキシシラン
、テトラエトキシシラン。
Tetrapropoxysilane, Tetraisopropoxysilane, Tetrabutoxysilane, Tetraisobutoxysilane,
Tetra t-butoxysilane, tetrahexyloxysilane, tetraethoxysilane.

テトラオクチロキシシラン、などのアルキルシリケート
類、ヘキサエトキシジシロキサン、ヘキサプロポキシジ
シロキサン、ヘキサイソプロポキシジシロキサン、ヘキ
サブトキシジシロキサン、ヘキサメトキシジシロキサン
、ヘキサイソブトキシジシロキサン、ヘキサt−ブトキ
シジシロキサン。
Alkyl silicates such as tetraoctyloxysilane, hexaethoxydisiloxane, hexapropoxydisiloxane, hexaisopropoxydisiloxane, hexabutoxydisiloxane, hexamethoxydisiloxane, hexaisobutoxydisiloxane, hexat-butoxydisiloxane.

ヘキサヘキシロキシジシロキサン、ヘキサペンチロキシ
ジシロキサン、オクタメトキシトリシロキサン、オクタ
エトキシトリシロキサン、オクタプロポキシトリシロキ
サン、オクタイソプロポキシトリシロキサン、オクタブ
トキシトリシロキサン。
Hexahexyloxydisiloxane, hexapentyloxydisiloxane, octamethoxytrisiloxane, octaethoxytrisiloxane, octapropoxytrisiloxane, octaisopropoxytrisiloxane, octabutoxytrisiloxane.

ごオクタイソブトキシトリシロキサン、オクタt −ブ
トキシトリシロキサン、オクタヘキシロキシトリシロキ
サン、オクタペンチロキシトリシロキサン、オクタオク
チロキシトリシロキサン、オクタオクチロキシトリシロ
キサンなどのアルコキシシロキサン類などが挙げられる
。Mがチタンである場合には、テトラブチルチタネート
、テトライソプロピルチタネート、テトラキス(,2−
エチルヘキシル)チタネートの様なアルコキシチタン及
びそれらの縮合体であるアルコキシチタンポリマーが挙
げられる。これらの内、アルキルシリケート類を用いる
ことが最も好ましい。
Examples include alkoxysiloxanes such as octaisobutoxytrisiloxane, octat-butoxytrisiloxane, octahexyloxytrisiloxane, octapentyloxytrisiloxane, octaoctyloxytrisiloxane, and octaoctyloxytrisiloxane. When M is titanium, tetrabutyl titanate, tetraisopropyl titanate, tetrakis(,2-
Examples include alkoxytitaniums such as ethylhexyl) titanate and alkoxytitanium polymers that are condensates thereof. Among these, it is most preferable to use alkyl silicates.

(ニ)の一般式(3)で表わすことのできる構造を有し
た珪素化合物としては価、下記の様なものが挙げられる
。すなわち、ジメトキシメチルシラン。
Examples of the silicon compound having the structure represented by the general formula (3) (d) include the following compounds. i.e. dimethoxymethylsilane.

トリメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン。trimethoxysilane, dimethylethoxysilane.

メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン
、メチルトリメトキシシラン、クロロメチルジメチルエ
トキシシラン、エトキシクロロメチルジメチルシラン、
トリメトキシビニルシラン。
Methoxytrimethylsilane, dimethoxydimethylsilane, methyltrimethoxysilane, chloromethyldimethylethoxysilane, ethoxychloromethyldimethylsilane,
trimethoxyvinylsilane.

クロロメチルジメチルエトキシシラン、エトキシトリメ
チルシラン、ジェトキシメチルシラン、エチルトリメト
キシシラン、ジメチルエトキシエチニルシラン、ジアセ
トキシジメチルシラン、ジメトキシメチル−3,3,3
−)リフロロプロピルシラン、3.3.3−トリフロロ
プロピルトリメトキシシラン、エトキシジメチルビニル
シラン、3−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、
クロロメチルジェトキシメチルシラン、3−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、ジェトキシジメチルシラン、
ジメトキシ−3−メルカプトプロピルメチルシラン、ト
リエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、プロポキシトリメチルシラン、3−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、ジアセトキシメチルビニル
シラン、メチルトリアセトキシシラン、ジェトキシメチ
ルビニルシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、t
−ブトキシトリメチルシラン、/−メチルプロポキシト
リメチルシラン、イソブトキシトリメチルシラン、ブト
キシトリメチルシラン、ブチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルジメチル
エトキシシラン、3−(N−メチルアミノブロピル)ト
リメトキシシラン。
Chloromethyldimethylethoxysilane, ethoxytrimethylsilane, jetoxymethylsilane, ethyltrimethoxysilane, dimethylethoxyethynylsilane, diacetoxydimethylsilane, dimethoxymethyl-3,3,3
-) Lifluoropropylsilane, 3.3.3-trifluoropropyltrimethoxysilane, ethoxydimethylvinylsilane, 3-chloropropyldimethoxymethylsilane,
Chloromethyljethoxymethylsilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, jetoxydimethylsilane,
Dimethoxy-3-mercaptopropylmethylsilane, triethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, propoxytrimethylsilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, diacetoxymethylvinylsilane, methyltriacetoxysilane, jetoxymethylvinylsilane, chloromethyl triethoxysilane, t
-butoxytrimethylsilane, /-methylpropoxytrimethylsilane, isobutoxytrimethylsilane, butoxytrimethylsilane, butyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, 3-aminopropyldimethylethoxysilane, 3-(N-methylaminopropyl)trimethylsilane, Methoxysilane.

ビニルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシ
ラン、トリフ0ロアセトキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ジェトキシジビニルシラン、エチェルトリエトキシ
シラン、ジメチルイソブトキシビニルシラン、アセトキ
シトリエチルシラン。
Vinyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, trifluoroacetoxypropyltrimethoxysilane, jetoxydivinylsilane, ethyltriethoxysilane, dimethylisobutoxyvinylsilane, acetoxytriethylsilane.

トリエトキシビニルシラン、イソペンチロキシトリメチ
ルシラン、ジェトキシジエチルシラン、エチルトリエト
キシシラン、コーメルカブトエチルトリエトキシシラン
、3−アミノプロピルジェトキシメチルシラン、3−(
J−アミノエチルアミノプロビル)ジメトキシメチルシ
ラン、3−(J−アミノエチルアミノプロビル)トリメ
トキシシラン、クロロメチルジメチルフェノキシシラン
Triethoxyvinylsilane, isopentyloxytrimethylsilane, jetoxydiethylsilane, ethyltriethoxysilane, Komelkabutethyltriethoxysilane, 3-aminopropyljethoxymethylsilane, 3-(
J-aminoethylaminopropyl)dimethoxymethylsilane, 3-(J-aminoethylaminopropyl)trimethoxysilane, chloromethyldimethylphenoxysilane.

p−クロロフェニルトリメトキシシラン、フェノキシト
リメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、1−シクロへキセニロキシ
トリメチルシラン、クロロメチルシクロヘキシロキシジ
メチルシラン、−−シアノエチルトリエトキシシラン、
シクロへキシロキシトリメチルシラン、ジメチルイソペ
ンチロキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、
3−アリルチオプロビルトリメトキシシラン、3−クロ
ロプロビルトリエトキシシラン、3−アリルアミノプロ
ピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン
、ヘキシルトリメトキシシラン。
p-chlorophenyltrimethoxysilane, phenoxytrimethylsilane, dimethoxymethylphenylsilane, phenyltrimethoxysilane, 1-cyclohexenyloxytrimethylsilane, chloromethylcyclohexyloxydimethylsilane, --cyanoethyltriethoxysilane,
Cyclohexyloxytrimethylsilane, dimethylisopentyloxyvinylsilane, allyltriethoxysilane,
3-allylthiopropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-allylaminopropyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane.

3−アミノプロピルトリエトキシシラン、○、○l−ジ
エチルS−(,2−トリメトキシシリルエチル)ジチオ
ホスフェート、ベンジロキシクロロメチルジメチルシラ
ン、ジメチルエトキシフェニルシラン、ベンジロキシト
リメチルシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメト
キシンラン、ジメトキシメチルーコービペリジノエチル
シラン、3−モル7オリノプロビルトリメトキ′ジシラ
ン、○、○/−゛ジエチルー2−ジメチルエトキシシリ
ルビニルジチオホスフェート、ジメトキシメチル−3−
ピペラジノプロピルシラン、3−ピペラジノプロビルト
リメトキシシラン、N−(3−)リエトキシシリルブロ
ビル)ユリアメトキシトリブロピルシラン、 、2− 
(J−アミノエチルチオエチル)トリエトキシシラン、
メチルトリス(,2−メトキシエトキシ)シラン、ジメ
トキシ−3−(−一エトキシエチルチオプロビル)メチ
ルシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルト
リプロポキシシラン、 3− [,2−(J−アミノエ
チルアミノエチルアミノ)プロピルトリエトキシシラン
、ジアセトキシメチルフェニルシラン、クロロメチルジ
メチルーコーフェニルエトキシシラン、ベンジルジメチ
ルエトキシシラン、ジェトキシメチルフェニルシラン、
ジメトキシメチル−3−ピペリジノプロピルシラン、ト
リス−(−一メトキシエトキシ)ビニルシラン、J−(
3−アセトキシプロピルチオ)プロピルジメトキシメチ
ルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、3−ピペ
リジノプロビルトリメトキシシラン、2−エチルへキシ
ロキシトリメチルンラン、オクチロキシトリメチルシラ
ン、ペンチルトリエトキシシラン、p−クロロフェニル
トリエトキシシラン、フJニルトリエトキシシラン、3
−7エニルアミノプロビルトリメトキシシラン1.2−
アミノエチルアミ/メチルベンジロキシジメチルシラン
、N−(3−ジェトキシメチルシリルプロビル)スクシ
ニミド、ジメトキシメチル−3−(&−メチルピペリジ
ノブロビル)シラン、3−(+2−メチルピペリジノプ
ロビル)トリメトキシシラン、o、o’−ジエチル5−
(2−トリエトキシシリルエチル)ジチオホスフェート
、ベンジルトリエトキシシラン、乙−トリエトキシシリ
ルーコーノルボルネン、ジメトキシジフェニルシラン、
オクチルトリエトキシシラン、ジフェニルエトキシメチ
ルシラン、R−N−α−7エネチルーN’−トリメトキ
シシリルブロピルユリア、5−N−α−7エネチルーN
/  )リメトキシシリルゾロピルユリア、ジメトキシ
メチル−、?−(3−フェノキシプロピルチオプロピル
)シラン、フェニルトリス(2−メトキシエトキシ)シ
ラン、デシロキシトリメチルシラン、トリペンチロキシ
シラン、ジアセトキシジフェニルシラン。
3-aminopropyltriethoxysilane, ○,○l-diethyl S-(,2-trimethoxysilylethyl)dithiophosphate, benzyloxychloromethyldimethylsilane, dimethylethoxyphenylsilane, benzyloxytrimethylsilane, 3-methacryloxypropyl Trimethoxinelan, dimethoxymethyl-cobiperidinoethylsilane, 3-mol 7 olinoprobyl trimethoxy'disilane, ○, ○/-゛diethyl-2-dimethylethoxysilyl vinyl dithiophosphate, dimethoxymethyl-3-
Piperazinopropylsilane, 3-piperazinopropyltrimethoxysilane, N-(3-)ethoxysilylbrobyl)ureamethoxytribropylsilane, , 2-
(J-aminoethylthioethyl)triethoxysilane,
Methyltris(,2-methoxyethoxy)silane, dimethoxy-3-(-monoethoxyethylthiopropyl)methylsilane, methyltriisopropoxysilane, methyltripropoxysilane, 3-[,2-(J-aminoethylaminoethylamino) ) Propyltriethoxysilane, diacetoxymethylphenylsilane, chloromethyldimethyl-cophenylethoxysilane, benzyldimethylethoxysilane, jetoxymethylphenylsilane,
Dimethoxymethyl-3-piperidinopropylsilane, tris-(-1methoxyethoxy)vinylsilane, J-(
3-acetoxypropylthio)propyldimethoxymethylsilane, triisopropoxyvinylsilane, 3-piperidinopropyltrimethoxysilane, 2-ethylhexyloxytrimethylsilane, octyloxytrimethylsilane, pentyltriethoxysilane, p-chlorophenyltrimethylsilane Ethoxysilane, FJNyltriethoxysilane, 3
-7enylaminopropyltrimethoxysilane 1.2-
Aminoethylamine/methylbenzyloxydimethylsilane, N-(3-jethoxymethylsilylprobyl)succinimide, dimethoxymethyl-3-(&-methylpiperidinobrovir)silane, 3-(+2-methylpiperidino) proyl)trimethoxysilane, o,o'-diethyl 5-
(2-triethoxysilylethyl) dithiophosphate, benzyltriethoxysilane, o-triethoxysilylconorbornene, dimethoxydiphenylsilane,
Octyltriethoxysilane, diphenylethoxymethylsilane, R-N-α-7enethyl-N'-trimethoxysilylpropyl urea, 5-N-α-7enethyl-N
/ ) Rimethoxysilylzolopyl urea, dimethoxymethyl, ? -(3-phenoxypropylthiopropyl)silane, phenyltris(2-methoxyethoxy)silane, decyloxytrimethylsilane, tripentyloxysilane, diacetoxydiphenylsilane.

ジフェニルエトキシビニルシラン、ジェトキシジフェニ
ルシラン、N−(3−トリエトキシシリルブロヒ゛ル>
−p−二トロベンザミト、ヒス(へ/−ジメチルーコー
プロビニロキシ)メチルフェニルシラン、ジェトキシド
デシルメチルシラン、ドデシルトリエトキンシラン、ト
リフエノキシビニルシラン、エトキシトリフェニルシラ
ン、オクタデシルトリエトキンシラン、ジェトキシメチ
ルオクタデシルシランなどである。
Diphenylethoxyvinylsilane, jetoxydiphenylsilane, N-(3-triethoxysilylbrothyl)
-p-nitrobenzamito, his(he/-dimethyl-coprovinyloxy)methylphenylsilane, jetoxydodecylmethylsilane, dodecyltriethquinsilane, triphenoxyvinylsilane, ethoxytriphenylsilane, octadecyltriethquinsilane, jetoxy Examples include methyloctadecylsilane.

(イ)、(ハ)及び(ニ)は、そのまま用いても良いが
加水分解物として用いることが好ましい。
Although (a), (c) and (d) may be used as they are, it is preferable to use them as hydrolysates.

これらの加水分解は、公知の様にたとえば水とアルコー
ルの如き混合溶媒中、酸の存在下で加水分解することに
依って得られたものであり、これらの化合物中のアルコ
キシ基、アシロキシ基などの一部または全部が水酸基に
置換されたものおよび置換された水酸基同志が一部自然
に縮合したものを含んでいる。これらを加水分解して用
いる場合には、各成分を別々に加水分解してから用いて
もまたあらかじめ混合しておいてから加水分解して用い
ても、また成る成分のみを加水分解した後に他の成分を
併用しても良いが、あらかじめ混合しておいた方が良好
な結果を与える場合が多い。
These hydrolyses are obtained by hydrolyzing in the presence of an acid in a mixed solvent such as water and alcohol, as is well known, and the alkoxy groups, acyloxy groups, etc. in these compounds are This includes those in which part or all of the hydroxyl groups are substituted with hydroxyl groups, and those in which the substituted hydroxyl groups are partially naturally condensed with each other. When these are used after being hydrolyzed, each component may be hydrolyzed separately before use, or they may be mixed in advance and then hydrolyzed before use. Although these components may be used in combination, better results are often obtained if they are mixed in advance.

(ロ)は、他の成分を加水分解する前に加えておいても
、また、加水分解以後に加えてもかまわないが、加水分
解以前に加えた方が良好な結果を与える場合が多い。
(B) may be added before or after the other components are hydrolyzed, but it often gives better results when added before the hydrolysis.

上記(ロ)、(ハ)成分は膜の硬さ、耐久性を増すため
に(イ)成分に添加される。成分Aとして上記(イ)お
よび(ロ)を用いる場合、(イ)成分の量は(イ)と(
ロ)の合泪量に対して20重量%以上であることが好ま
しく、より好ましくは50重量%以上である。また成分
Aとして上記(イ)および(ハ)を用いる場合の(イ)
成分の好ましい量は(イ)と(ハ)の合計に対して20
重量%以上、より好ましくはSO重量%以上である。同
様に成分Aとして上記(イ)、(ロ)、(ハ)成分を用
いる場合の(イ)成分の好ましい量は(イ)、(ロ)、
(ハ)の合計量に対して20重量%以上、より好ましく
は50重量%以上である。(イ)成分の量が小さ過ぎる
ときには所望の帯電防止性能が得られなくなる。成分A
として上記(ハ)及び(ニ)を用いる場合には、(ハ)
成分量が過小のときには帯電防止性能が悪くなり、過大
のときには膜が脆くなる。従って(ハ)成分の好ましい
量の範囲は(ハ)成分と(ニ)成分の合譜に対してよ−
ざ0重量%、より好ましくは3o−乙。重量%である。
The above components (b) and (c) are added to component (a) to increase the hardness and durability of the film. When using (a) and (b) above as component A, the amount of component (a) is the same as (i) and (b).
It is preferably 20% by weight or more, more preferably 50% by weight or more based on the total amount of (b). In addition, (a) when using (a) and (c) above as component A
The preferred amount of the component is 20% of the total of (a) and (c).
It is at least % by weight, more preferably at least % by weight SO. Similarly, when using the above components (a), (b), and (c) as component A, the preferred amounts of component (a) are (a), (b),
It is 20% by weight or more, more preferably 50% by weight or more based on the total amount of (c). (a) When the amount of the component is too small, the desired antistatic performance cannot be obtained. Component A
When using (c) and (d) above, (c)
When the amount of the component is too small, the antistatic performance deteriorates, and when the amount is too large, the film becomes brittle. Therefore, the preferred range of the amount of component (C) is based on the combination of component (C) and component (D).
0% by weight, more preferably 30% by weight. Weight%.

成分Bのa成分であるポリジメチルシロキシ単位および
ポリエチレンオキシド単位を含ムノニオン系界面活性剤
とは通常用いられているシリコーン系界面活性剤であり
、好ましくはブロック共重合体となっているもの、たと
えば日本ユニカー社製NU(E シリコンY−7006
(商品名)の様なものである。また、成分Bのb成分の
パーフロロアルキル基およびポリエチレンオキシド単位
を含むノニオン系界面活性剤とは、通常のフン素界面活
性剤の内ノニオン系のものであり、たとえば、住友スリ
ーエム■製FO−113/の様なものが好ましい。
The munonionic surfactant containing polydimethylsiloxy units and polyethylene oxide units, which is component a of component B, is a commonly used silicone surfactant, preferably a block copolymer, e.g. Nippon Unicar Co., Ltd. NU (E Silicon Y-7006
It is something like (product name). In addition, the nonionic surfactant containing a perfluoroalkyl group and a polyethylene oxide unit, which is component b of component B, is a nonionic type of ordinary fluorine surfactants, such as FO- 113/ is preferable.

これらBの添加量は少量で充分であり、該組成物全体に
対し0.07〜3重量%、より好ましくは0.03〜3
重量%である。これらは平滑剤としての役割も果たすの
で、該樹脂組成物中には特にレベリング剤を添加する必
要がない。
A small amount of B is sufficient, and 0.07 to 3% by weight, more preferably 0.03 to 3% by weight based on the entire composition.
Weight%. Since these also serve as a leveling agent, there is no need to add a leveling agent to the resin composition.

上記A、Bの他に1必要に応じて硬化触媒を添加するこ
とができる。
In addition to the above A and B, a curing catalyst may be added if necessary.

すなわち、該硬化性樹脂組成物の硬化触媒としては、過
塩素酸、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸、スルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸、三フッ化ホウ素及びその電子供与
体との錯体。S nCr 14 + Z nC113。
That is, examples of curing catalysts for the curable resin composition include perchloric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, sulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, boron trifluoride, and complexes thereof with electron donors. S nCr 14 + Z nC113.

FeCl3+ A7C13,5bO15+ Ti014
などのルイス酸及びその錯体。酢酸す) IJウム、ナ
フテン!亜鉛。
FeCl3+ A7C13,5bO15+ Ti014
Lewis acids such as and their complexes. Acetic acid) IJum, naphthene! zinc.

ナフテン酸コバルト、オクチル酸、亜鉛、オクチル酸ス
ズ等の有機酸金属塩。ホウフッ化亜鉛、ホウフッ化スズ
等のホウフッ化金属塩類。ホウ酸エチル、ホウ酸メチル
等のホウ酸有機エステル類。
Organic acid metal salts such as cobalt naphthenate, octylic acid, zinc, and tin octylate. Borofluoride metal salts such as zinc borofluoride and tin borofluoride. Boric acid organic esters such as ethyl borate and methyl borate.

水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ類。テ
トラブトキシチタン、テトライソプ白ボキシチタン等の
チタネートエステル類。クロムアセチルアセトネート、
チタニルアセチルアセトネート、アルミニウムアセチル
アセトネート、コバル、ドアセチルアセトネート、ニッ
ケルアセチルアセトネート等の金属アセチルアセトネー
ト類。n −ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ト
リーn−ブチルアミン、グアニジン、ビグアニド、イミ
ダゾール等のアミン類などが挙げられや。
Alkali such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. Titanate esters such as tetrabutoxytitanium and tetraisoprop white boxytitanium. chromium acetylacetonate,
Metal acetylacetonates such as titanyl acetylacetonate, aluminum acetylacetonate, kobal, doacetylacetonate, and nickel acetylacetonate. Examples include amines such as n-butylamine, di-n-butylamine, tri-n-butylamine, guanidine, biguanide, and imidazole.

これら硬化触媒の添加量は、硬化性樹脂組成物の固形分
に対して0.0!;−10重量%、より好ましくは0.
/−!;重量%である。
The amount of these curing catalysts added is 0.0! based on the solid content of the curable resin composition! ;-10% by weight, more preferably 0.
/-! ;% by weight.

該硬化性樹脂組成物に含ませてよい溶剤としてハアルコ
ール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、セロソル
ブ類、ハロゲン化物、カルボン酸類、芳香族化合物等を
あげることができ、これらのうち7種または2種以上の
混合溶剤として用いることができる。特にメタノール、
エタノール。
Examples of solvents that may be included in the curable resin composition include alcohols, ketones, esters, ethers, cellosolves, halides, carboxylic acids, aromatic compounds, etc. Seven of these solvents may be included in the curable resin composition. Alternatively, it can be used as a mixed solvent of two or more kinds. Especially methanol,
ethanol.

プロパ/−ルアインプロパツール、ブタノール等の低級
アルコール。メチルセロソルブ、エチル七ロソルブ、ブ
チルセロソルブ等のセロソルブ類。
Lower alcohols such as propa/-luain propatool and butanol. Cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl heptarosolve, butyl cellosolve.

ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の低級アルキルカルボン酸
類。トルエン、キシレン等の芳香族化合物。
Lower alkyl carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, and propionic acid. Aromatic compounds such as toluene and xylene.

および酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類等を単独
もしくは混合溶剤として用いることが好ましい。
It is preferable to use esters such as ethyl acetate and butyl acetate alone or as a mixed solvent.

また、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を少量添加すること
もできる。
Further, small amounts of antioxidants, ultraviolet absorbers, etc. can also be added.

該硬化性樹脂組成物のコーティングは通常おこなわれて
いる浸漬法、噴霧法、ローラコーティング法またはフロ
ーコート法等のコーティング方法によって片面または両
面にコーテイング後、プラスチック基材の変形温度(た
とえば/ 30 ’C)以下の温度で、20分〜j時間
焼付け、硬化させることにより帯電防止性のみならず、
塗膜の耐摩耗性や付着性及び耐久性にも優れたプラスチ
ック製原稿支持板を得ることができる。
The curable resin composition is coated on one or both sides by a commonly used coating method such as a dipping method, a spraying method, a roller coating method, or a flow coating method. C) By baking and curing at the following temperature for 20 minutes to j hours, it not only has antistatic properties but also
It is possible to obtain a plastic document support plate with excellent abrasion resistance, adhesion, and durability of the coating film.

本発明の適用プラスチック基材としてポリカーボネート
、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエス
テルおよびポリ塩化ビニル等をあげることができる。そ
れらのうち特に付着性が問題となる場合は、プライマー
処理をすれば充分効果的な付着性を有する塗膜を得るこ
とができる。
Plastic substrates to which the present invention can be applied include polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyester, and polyvinyl chloride. If adhesion is a particular problem, a primer treatment can provide a coating film with sufficiently effective adhesion.

以下実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発
明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below, but the present invention is not limited by these Examples.

なお実施例中の部、%はそれぞれ重量部9重量%を示す
Note that parts and percentages in the examples each represent 9% by weight.

帯電特性の評価は次の様にして行なった0測定する試料
片は、水で洗浄後アセトンで清浄にして、24”C−#
0%R,H,の恒温恒湿室内に/昼夜放置し、そのまま
■八戸商会製のオネストメーターに装填し、10KVの
電圧を30秒間印加し、実施例1 r−グリシドキシプロビルトリメトキシシランioo部
<−エチレングリコールモノエチルエーテル74部を加
え、攪拌しなから0.IN塩酸水溶液乙9部を滴下し、
さらに5時間攪拌を続けてから/昼夜放置して熟成させ
た。これに日本ユニカー■製のシリコーンブロック コ
ポリマーY−7001゜をO11部、過塩素酸アンモニ
ウムLt部を添加し、更ニエチレングリフールモノエチ
ルエーテル’& JJuえて全体量をS66部にした。
The charging characteristics were evaluated as follows.The sample piece to be measured was washed with water and then cleaned with acetone.
It was left in a constant temperature and humidity room with 0% R, H, day and night, then loaded into a Honest meter manufactured by Hachinohe Shokai, and a voltage of 10 KV was applied for 30 seconds. Add 74 parts of ethylene glycol monoethyl ether (ioo parts of silane) and add 0.0 parts of silane without stirring. Add 9 parts of IN hydrochloric acid aqueous solution Otsu,
After continuing stirring for another 5 hours, the mixture was left to mature day and night. To this were added silicone block copolymer Y-7001° manufactured by Nippon Unicar ■, 11 parts of O, and Lt parts of ammonium perchlorate, and further diethylene glycol monoethyl ether'&JJu was added to make the total amount 66 parts of S.

こうして得られた組成物を復写機用原稿支持板に用いら
れる厚さjmm 、H)cmxsocmのポリ(ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート)製の平板の両
面に浸漬塗布し、/ / O’Cで30分間焼付けた。
The composition thus obtained was dip-coated on both sides of a flat plate made of poly(diethylene glycol bisallyl carbonate) with a thickness of jmm, H) cm x socm used for a document support plate for a copying machine, and then heated at / / O'C for 30 minutes. Burnt.

得られた試料片の半減期は0.を秒であった。The half-life of the sample piece obtained is 0. was in seconds.

実施例2 r−グリシドキシプロピルトリメトキシシランq、ti
q、p m 、コロイダルシリカ (日産化学工業■製
スノーテックス−C、固形分20%)ざ33..2部及
び八−規定塩酸水溶液ざ、0部を混合し、ざ0°Cで5
時間還流後、tag mの溶媒を溜出温度ざ0〜90°
Cで溜出した。得られた溶液は、れたr−グリシドキシ
プロビルトリメトキシシラン加水分解物Il/%および
SiO2として計算されたコロイダルシリカIO%を含
んでいた。
Example 2 r-glycidoxypropyltrimethoxysilane q,ti
q, p m, colloidal silica (Snowtex-C manufactured by Nissan Chemical Industries ■, solid content 20%) 33. .. Mix 2 parts and 0 parts of 8-N aqueous hydrochloric acid solution and heat at 0°C for 5 minutes.
After refluxing for a period of time, the solvent of tag m is distilled at a temperature of 0 to 90°.
It was collected at C. The resulting solution contained 1/% r-glycidoxypropyltrimethoxysilane hydrolyzate and IO% colloidal silica calculated as SiO2.

この様にして得られたコロイダルシリカを含むr−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランの加水分m物溶液
/’l/、0部に、エチルセロソルブ/lI9部、過塩
素酸アンモニウム0.7!;部、住人スリーエム■製の
70ラードFC−4/3/ 0.29部を添加し塗料と
した。あらかじめ洗浄したジエチレングリコールビスア
リルカーボネート重合体(商品名CR−39)平板に前
記塗料を塗布し、熱風乾燥炉で/20’C,/時間加熱
乾燥し硬化させた。次にこの様にして得られた試料片の
半減期を測定したところ、0.7秒であった。
A hydrolyzed solution of r-glycidoxypropyltrimethoxysilane containing the colloidal silica thus obtained /'l/, 0 parts, ethyl cellosolve/lI 9 parts, and ammonium perchlorate 0.7! 0.29 parts of 70 Lard FC-4/3/manufactured by Jujutsu 3M was added to prepare a paint. The above coating material was applied to a plate of diethylene glycol bisallyl carbonate polymer (trade name: CR-39) which had been washed in advance, and was cured by heating and drying in a hot air drying oven at 20'C/hour. Next, the half-life of the sample piece thus obtained was measured and found to be 0.7 seconds.

実施例3 メチルトリメトキシシランqoomにエチレンクリコー
ルモノエチルエーテル79部を加え、冷却Fで攪拌しな
から0.I N塩酸水溶液/’10部を加え、更に7時
間攪拌を続けた。得られた溶液はCH35i01.5と
して計算されたメチルトリメトキシシランの加水分解物
を3j%含んでいた。これにエチルシリケート522部
を加えて更に7時間冷却下で攪拌し、過塩素酸アンモニ
ウム3゜3部1日本ユニカー■製シリコーンブロックコ
ポリマーY−700乙/、3 部及びエチレングリコー
ルモノエチルエーテルを添加した。この様にして得られ
た硬化fi 41 脂組成物をポリ (ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート)板上に塗布し、720
′Cで7時間加熱して硬化させた。この試料片の半減期
を測定したところ、013秒であった。
Example 3 79 parts of ethylene glycol monoethyl ether was added to methyltrimethoxysilane qoom, and the mixture was stirred in a cooling F. 10 parts of IN aqueous hydrochloric acid solution was added, and stirring was continued for an additional 7 hours. The resulting solution contained 3j% of hydrolyzate of methyltrimethoxysilane, calculated as CH35i01.5. To this was added 522 parts of ethyl silicate, and the mixture was further stirred under cooling for 7 hours, and 3 parts of ammonium perchlorate, 1 part of silicone block copolymer Y-700 manufactured by Nippon Unicar, and 3 parts of ethylene glycol monoethyl ether were added. did. The cured fi 41 fat composition thus obtained was applied onto a poly(diethylene glycol bisallyl carbonate) plate, and
It was cured by heating for 7 hours at 'C. When the half-life of this sample piece was measured, it was 0.13 seconds.

実施例1 r−グリシドキシプロビルトリメトキンシラン9g。9
2部とエチルシリケー) 1ott、oo部及びエチレ
ングリコールモノエチルエーテル/33.75部をよく
混合し、攪拌しなから0.I NのHGI!を、II9
.63部滴下した。これに過塩素酸アンモニウム/、O
m及ヒ日本ユニカー■製シリコーンブロンクコポリマー
Y−700t 0.11部を添加し、塗料とした。あら
かじめ洗浄したジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート重合体(商品名OR−、、?ワ)平板に前記塗料
を塗布し、熱風乾燥炉で/20°C1/時間加熱乾燥し
硬化させた。次にこの様にして得られた試料片の半減期
を測定したところ、7.0秒であった。
Example 1 9 g of r-glycidoxyprobyltrimethquine silane. 9
2 parts of ethyl silica), 1 ott, 0 parts of ethylene glycol monoethyl ether and 33.75 parts of ethylene glycol monoethyl ether were mixed well, and 0.0 parts was mixed without stirring. IN's HGI! , II9
.. 63 parts were dropped. To this ammonium perchlorate/, O
0.11 part of silicone bronc copolymer Y-700t manufactured by Nippon Unicar was added to prepare a paint. The above coating material was applied to a previously washed diethylene glycol bisallyl carbonate polymer (trade name: OR-,...?Wa) flat plate and cured by heating and drying in a hot air drying oven at 20 DEG C. for 1 hour. Next, the half-life of the sample piece thus obtained was measured and found to be 7.0 seconds.

比較例 メチルトリメトキシシラン410O部にエチレングリフ
ールモノエチルエーテル/9 st=加、t、冷却下で
攪拌しなから0.IN塩酸水溶液iqo部を加え、更に
7時間攪拌を続けた。得られた溶液はCH35i01.
5として計算されたメチルトリメトキシシランの加水分
解物を35%含んでいた。これにコロイダルシリカ(日
量化学工業■製スノーテックスーC2固形分20%)を
乙5.2部加え、過塩素酸アンモニウム3.3部及び日
本ユニカー■製シリコーンブロックコポリマー/、3部
を添加し、エチレングリフールモノエチルエーテルざざ
、11部を加えた。これをポリ (ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート)板上に塗布し、/20’C
で7時間加熱乾燥し硬化させた。次にこの様にして得ら
れた試料片の半減期を測定しようとしたところ、70分
間経過しても電荷が半減しなかったので測定を中止した
Comparative Example To 410 parts of methyltrimethoxysilane was added ethylene glyfur monoethyl ether/9 st, t, while stirring under cooling. Iqo parts of IN aqueous hydrochloric acid solution was added, and stirring was continued for an additional 7 hours. The resulting solution was CH35i01.
It contained 35% hydrolyzate of methyltrimethoxysilane calculated as 5. To this, add 5.2 parts of colloidal silica (20% solid content of Snowtech Soo C2 manufactured by Nichichi Kagaku Kogyo ■), 3.3 parts of ammonium perchlorate, and 3 parts of silicone block copolymer manufactured by Nippon Unicar ■. Then, 11 parts of ethylene glyfur monoethyl ether was added. This was applied on a poly(diethylene glycol bisallyl carbonate) board and
It was heated and dried for 7 hours to harden it. Next, when an attempt was made to measure the half-life of the sample piece obtained in this manner, the charge was not reduced by half even after 70 minutes had passed, so the measurement was discontinued.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、 下記A及びBを含有してなる硬化性樹脂組成物を
表面に塗布し、硬化させた、帯電防止性能を有するプラ
スチック製原稿支持板。 A、下記a、b、c、dまたはe a、下記(イ) b、下記(イ)及び(ロ) C1下記(イ)及び(ハ) d、下記(イ)及び(ロ)及び(ハ) e、下記(ハ)及び(ニ) (イ)下記一般式(1)で表わすことのできる構造を有
した珪素化合物より選ばれる1種もしくけ一種以上およ
び/またはその加水分解物。 2b ■ Rla −Si −(OR3) 4−a−b    (
/ )(式中R1はエポキシ基を有する有機基、R2は
水素、炭素数/−4の炭化水素基またはビニル基、 R
3は炭素数/〜Sの炭化水素基。 アルコキシアルキル基または炭素数/〜lのアシル基、
aは1〜3.bは0−jであってa+’b≦3である。 ) (ロ)粒径/〜toomμの金属酸化物微粉末より選ば
れる1種もしくは2種以上。 (ハ)下記一般式(2)で表わすことのできる構造を有
した化合物より選ばれる7種もしくは2種以上および/
またはその加水分解物。 R4 R40−;M−0−揄R4(コ) R4 (式中Mは炭素以外のオ■族元素より選ばれる7種もし
くは2種以上、R4は炭素数/〜10の炭化水素基9m
は/〜、20の整数)(ニ)下記二般式(3)で表わす
ことのできる構造を有した珪素化合物より選ばれる7種
もしくは2種以上および/またはその加水分解物。 R5nSi<0R6)4−4      (3)(式中
、R5は水素原子またはエポキシ基を持たない有機原子
団+ R6は炭素数/〜IOの炭化水素基、アルコキシ
アルキル基、アシル基、nは/〜3の整数) B、下記a及び/またはb a、ポリジメチルシロキシ単位及びポリエチレンオキシ
ド単位を含むノニオン系界面活性剤より選ばれる7種あ
るいは一種以上。 b、パー70ロアルキル基及びポリエチレンオキシド単
位を含むノニオン系界面活性剤より選ばれる7種あるい
は一種以上。 2、 前記一般式(2)のMが珪素及び/またはチタン
である特許請求の範囲オ/項記載の原稿支持板。 3、 前記一般式(1)のR1がグリシドキシ基を含む
原子団である特許請求の範囲オ/項記載の原稿支持板。 4、 前記一般式(1)で表わすことのできる構造を有
した珪素化合iが下記一般式(4’)で表わすことので
きる構造を有している特許請求の範囲オ1gA(式中R
7r R8は炭素/〜ダの炭化水素基、Sは/〜lの整
数、tはθ〜3の整数) 50、前記一般式(3)で表わすことのできる構造を有
した珪素化合物がメチルトリアルフキジシランである特
許請求の範囲オ/項記載の原稿支持板。 6、 前記一般式(コ)で表わすことのできる構造を有
した化合物がアルキルシリケートである特許請求の範囲
オ/項記載の原稿支持板。 7、 前記一般式(4’)で表わすことのできる構造を
有した珪素化合物力げ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシランである特許請求の範囲オ1項記載の原稿支持
板。 8、 前記金属酸化物微粉末がシリカ微粉末である特許
請求の範囲オ/項記載の原稿支持板。
[Scope of Claims] 1. A plastic document support plate having antistatic properties, the surface of which is coated with a curable resin composition containing the following A and B and cured. A, below a, b, c, d or e a, below (a) b, below (a) and (b) C1 below (a) and (c) d, below (a), (b) and (c) ) e, one or more silicon compounds selected from the following (c) and (d) (i) having a structure that can be represented by the following general formula (1) and/or a hydrolyzate thereof. 2b ■ Rla -Si -(OR3) 4-a-b (
/ ) (in the formula, R1 is an organic group having an epoxy group, R2 is hydrogen, a hydrocarbon group having carbon number/-4 or a vinyl group, R
3 is a hydrocarbon group having carbon number/~S. an alkoxyalkyl group or an acyl group having carbon number/~l,
a is 1-3. b is 0-j and a+'b≦3. ) (b) One or more types selected from metal oxide fine powders having a particle size of /~toomμ. (c) Seven or more compounds selected from compounds having a structure represented by the following general formula (2) and/
or its hydrolyzate. R4 R40-; M-0-R4 (co) R4 (In the formula, M is 7 or 2 or more selected from group O elements other than carbon, and R4 is a hydrocarbon group having carbon number/~10 9m
is an integer of 20) (d) Seven or more silicon compounds having a structure represented by the following general formula (3) and/or a hydrolyzate thereof. R5nSi<0R6) 4-4 (3) (wherein, R5 is a hydrogen atom or an organic atomic group not having an epoxy group + R6 is a hydrocarbon group, alkoxyalkyl group, or acyl group with carbon number /~IO, n is / (Integer of ~3) B, 7 or more types selected from the following a and/or b a, nonionic surfactants containing polydimethylsiloxy units and polyethylene oxide units. b. Seven or more nonionic surfactants containing a per-70-roalkyl group and a polyethylene oxide unit. 2. The document support plate according to claim 5, wherein M in the general formula (2) is silicon and/or titanium. 3. The manuscript support plate according to claim 1, wherein R1 in the general formula (1) is an atomic group containing a glycidoxy group. 4. Claim O1gA (wherein R
7r R8 is a carbon/~da hydrocarbon group, S is an integer of /~l, t is an integer of θ~3) 50, a silicon compound having a structure that can be represented by the above general formula (3) is methyltrial A document support plate according to claim 5, which is fukijisilane. 6. The document support plate according to claim 5, wherein the compound having a structure represented by the general formula (7) is an alkyl silicate. 7. The document support plate according to claim 1, which is a silicon compound glycidoxypropyltrimethoxysilane having a structure represented by the general formula (4'). 8. The document support plate according to claim 5, wherein the metal oxide fine powder is silica fine powder.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59155437A (en) * 1983-02-22 1984-09-04 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Coating composition for plastic
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