JPS59126632A - X-ray exposing device - Google Patents

X-ray exposing device

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Publication number
JPS59126632A
JPS59126632A JP58002656A JP265683A JPS59126632A JP S59126632 A JPS59126632 A JP S59126632A JP 58002656 A JP58002656 A JP 58002656A JP 265683 A JP265683 A JP 265683A JP S59126632 A JPS59126632 A JP S59126632A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
ray
gas
pipe
drawer
Prior art date
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Pending
Application number
JP58002656A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukio Kakizaki
幸雄 柿崎
Yutaka Hayashi
豊 林
Junji Hazama
間 潤治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp, Nippon Kogaku KK filed Critical Nikon Corp
Priority to JP58002656A priority Critical patent/JPS59126632A/en
Publication of JPS59126632A publication Critical patent/JPS59126632A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the durability of the titled device by a method wherein the fluctuation of pressure generating from the shifting of an alignment scope is obserbed by an auxiliary chamber and a shifting member. CONSTITUTION:When the alignment scope 9 is advanced to the point located above a mask 6 and a wafer 7, the third valve 22 is opened. Thereupon, the alignment scope 9 advances, and a float 23 is shifted to the right-hand direction in a cylinder 20 in the amount of reduction of the volume of an X-ray lead-out chamber 5. As a result, the abnormal increase of the internal pressure of the X- ray lead-out chamber 5 for the outside air pressure can be prevented, thereby enabling to prevent the damage and deformation of the second X-ray lead-out window 8.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、X#を用いてマスク上の微細なパターンなウ
ェハ上に転写するためのX線蕗元装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an X-ray generator for transferring fine patterns on a mask onto a wafer using X#.

(従来技術) LSl、VLSIの製造に応用できる軟X脚11ツクラ
フの方法及びその装置は特公昭51−41551号に開
示されている。このものは、1ミクロン以下の分解能を
もつパターン転写技術に道を開いたものとして評価され
ている、というのは。
(Prior Art) A method and apparatus for a soft X-leg 11 trough that can be applied to the manufacture of LSI and VLSI are disclosed in Japanese Patent Publication No. 41551/1983. This product is considered to have paved the way for pattern transfer technology with a resolution of 1 micron or less.

このX@リソクラフィーは従来のフォトリンクラフイー
に較べて、波長が短いので回折及びごみやほこりによる
散乱が少ないためにサブミクロン単位の微細なパターン
の転写に適しているからである。これt−歩進めて、大
気中に置かれたマスク及びウェハへ軟X線照射を可能な
らしめ、もってマスク及びウェハの取扱いを簡単にした
軟X[@射装置が特公昭53−47666号に開示され
ている。この装置は、軟X@を発生するターゲットと′
iに予成を収納するとともに、軟X線を透過しやすい材
質から成る第1の軟X@引出し窓を有する高真空チェン
バと、この第1の軟X線引出し窓の外側に配置されるき
ともに前記躯1の軟X線引出し窓からの軟X@を大気中
に引出すための第2の軟X線引出し窓を有し、更に軟X
SV吸収しにくい気体(例えばヘリウムガス)を充填し
た軟X線引出しチェンバとから構成される。このものは
、マスク及びウェハを大気中で取扱い可能番こした点で
非常に優れている。また1%開昭57−169242号
は、前記軟X線引出しチェンバ内にマスクとウェハを位
置合せするためのアライメントスコープを移動可能−こ
配置するとともに、該アライメント人コープの移動時に
生ずる前記軟X11M引出しチェンバ内外の気圧差(該
引出しチャンバの容積変化に伴なって生ずる)を吸収す
るためのタイヤフラム膜や給排気手段を設ける技術を開
示する。
This is because this X@ lithography has a shorter wavelength than the conventional photolink roughy, so there is less diffraction and scattering due to dirt and dust, so it is suitable for transferring fine patterns on the submicron scale. Taking this a step further, a soft Disclosed. This device has a target that generates soft
a high-vacuum chamber which houses a preparatory material in i and has a first soft X@drawing window made of a material that easily transmits soft X-rays; Both have a second soft X-ray extraction window for extracting the soft X@ from the soft X-ray extraction window of the body 1 into the atmosphere, and
It consists of a soft X-ray extraction chamber filled with a gas that is difficult to absorb SV (for example, helium gas). This method is very superior in that the mask and wafer can be handled in the atmosphere. Further, 1% Japanese Patent Publication No. 57-169242 movably arranges an alignment scope for aligning the mask and the wafer in the soft X-ray extraction chamber, and the soft A technique is disclosed in which a tire flam membrane and air supply/exhaust means are provided to absorb the pressure difference between the inside and outside of the drawer chamber (which occurs as the volume of the drawer chamber changes).

この技術はアライメントスコープの配置に関する着想は
優れているものの、該軟X線引出しチェンバ内外の気圧
差を吸収する手段については次のような欠点がある。先
ず、ダイヤフラム膜はアライメントスコープの移動のた
びに変形するのでその耐久性が問題となる。またアライ
メントスコープが2本あるいは3本用意されているよう
な場合には変形量の大きなダイヤフラム膜を使用する必
要があるので、このダイヤフラム膜が前記軟X線引出し
チャンバの外方へ迫り部して他の機構と干渉する8そn
がある、次に、給排気手段は圧力差検出器、ポンプ及び
バルブ等を必要とするので構造が大きくなるとともに、
アライメントスコープの移動のたひ1こヘリウムのよう
な高価な気体を排気してしまうので不経済である。、特
Gこ、アライメントスコープが値数用意さイ9.ている
よろな場合や、ステップ・アンド・リピート露光時にア
ライメントスコープを移動してタイ−バイ・タイ・アラ
イメント(die by die a目gnment 
) ’l:行う場合にはヘリウムガス等の損失が著しい
、、従って、両者とも実用的ではない。
Although this technique has an excellent idea regarding the arrangement of the alignment scope, it has the following drawbacks regarding the means for absorbing the pressure difference between the inside and outside of the soft X-ray extraction chamber. First, the diaphragm membrane deforms each time the alignment scope is moved, so its durability becomes a problem. In addition, when two or three alignment scopes are prepared, it is necessary to use a diaphragm membrane with a large amount of deformation. 8son that interferes with other mechanisms
Next, the supply/exhaust means requires a pressure difference detector, a pump, a valve, etc., so the structure becomes larger and
This is uneconomical because an expensive gas such as helium is exhausted when the alignment scope is moved. 9. A special alignment scope is prepared. In various cases, such as when moving the alignment scope during step-and-repeat exposure, it is possible to perform tie-by-tie alignment (die by die alignment).
)'l: If this is done, there will be a significant loss of helium gas, etc. Therefore, both are not practical.

(本発明の目的) 本発明の目的は1以上のような欠点を除去したX線露光
装置を提供することである。
OBJECTS OF THE INVENTION It is an object of the invention to provide an X-ray exposure apparatus that eliminates one or more of the drawbacks.

(本発明の構成) 本発明によれば、X勝源と;マスク及びウェハにxHを
導くためにX線を吸収しにくい気体が充填されるXWM
引出しチェンバと;前記気体の供給手段と;該X線引出
しチェンバ内で移動可能tこ配置されたアライメントス
コープと;排気管を介して前記X@引出しチェンバと接
続され・だ補助チェンバと;前記補助チェンバ内に前記
X線引出しチェンバ内外の圧力差によって摺動する如く
配置されると♂もに、前記了ライメントスコープの移動
による前記X線引出しチェンバの接種変化を補償するた
めに前記X線引出しチェンバと接続された空間を変化さ
せる移動手段と1前記学体の充填時に前記排気管を介し
て前記X線引出しチェンバ内の気体を排気する排気手段
とを備え、前記移動部材は該排気番こよって初期位置に
設定されることを特徴とするXが嬉光装■6が提供され
る。前記補助チェンバとしてガラス製シリンダを採用し
、また前記移動部材として炭素材のフロートを採用する
とXll1lJ引出しチェンバ内外の微小な圧力差にも
追従できる。また、前記排気手段としては真空ポンプを
採用することができる、 (実施例) 以下、本発明を実施例に基づいて説明する。図は本発明
の実施例を概略的に示す説明図である。
(Structure of the present invention) According to the present invention, an X-ray source;
an extraction chamber; the gas supply means; an alignment scope movably disposed within the X-ray extraction chamber; an auxiliary chamber connected to the X extraction chamber via an exhaust pipe; The X-ray extraction chamber is arranged in a chamber so as to be slidable due to the pressure difference between the inside and outside of the X-ray extraction chamber, and the X-ray extraction chamber is arranged to slide due to the pressure difference between the inside and outside of the X-ray extraction chamber. (1) a moving means for changing a space connected to the X-ray extraction chamber; and (1) an evacuation means for evacuation of the gas in the X-ray extraction chamber via the evacuation pipe when filling with the scientific body; There is provided an X-enjoyable device 6, which is characterized in that it is set at an initial position. By employing a glass cylinder as the auxiliary chamber and a carbon material float as the moving member, it is possible to follow minute pressure differences inside and outside the Xll11J drawer chamber. Further, a vacuum pump can be employed as the evacuation means. (Examples) The present invention will be described below based on examples. The figure is an explanatory diagram schematically showing an embodiment of the present invention.

真空チェンバ1には電子銃2及びターゲット3が収納さ
れている。ターゲット3は電子銃2からの電子の照射に
よって軟X線を発生する。ターゲット3は軟Xiを図中
下方に向けて輻射する。ターゲ、ノド3から軟X線が放
射される側の真空チーンバ1の側壁の開口には第1のX
線引出し窓4が配置さn、ている。この第10)X線引
出し窓4としては軟X線の吸収が少なく、かつ機械的強
要が比較的高いベリリウム品を採用することができる、
X線引出しチェンバ5は第1のX線引出し窓4を透過し
た軟X線をマスク6及びウニノー7へと導くためのもの
である。X峠引出しチェンノ<5は基本的には箱形の形
状を成しており、その上側壁は#101XH引出し窓4
が該引出しチェンバ5の内部に露出する7口く真壁チェ
ンバ1と接続されている。第1のXIvI!引出し窓4
−と対向するX線引出しチェンバ5の下側壁の直口には
第2のX線引出し窓8が配置されている。このw、2の
X@引出し窓8としては軟X#の吸収が少なく、かつ透
明なポリイミドフィルム又はポリエステルフィルム(マ
イラー)などを採用することができる。
A vacuum chamber 1 houses an electron gun 2 and a target 3. The target 3 generates soft X-rays by being irradiated with electrons from the electron gun 2. Target 3 radiates soft Xi downward in the figure. The opening in the side wall of the vacuum chamber 1 on the side from which soft
Line drawing windows 4 are arranged. 10) As the X-ray extraction window 4, a beryllium product that absorbs little soft X-rays and has relatively high mechanical stress can be used.
The X-ray extraction chamber 5 is for guiding the soft X-rays transmitted through the first X-ray extraction window 4 to the mask 6 and the uninot 7. The X-touge drawer chenno <5 is basically box-shaped, and its upper wall is #101XH drawer window 4.
The seven openings exposed inside the drawer chamber 5 are connected to the wall chamber 1. 1st XIvI! drawer window 4
A second X-ray extraction window 8 is disposed directly at the lower wall of the X-ray extraction chamber 5 opposite to -. As the x@drawer window 8 of w, 2, a transparent polyimide film or polyester film (mylar), which absorbs little soft X#, can be used.

マスク6とウェハ7とのアライメント用のアライメント
スコープ9はX線引出しチェンバ5の中を移動可能に配
置されている。図中ではアライメントスコープ9の先端
部がX線引出しチェンバ5に突出して36、その中間部
付近がベローズ10を介してX@引出しチェンバ5と接
続さnている。
An alignment scope 9 for aligning the mask 6 and the wafer 7 is movably arranged in the X-ray extraction chamber 5. In the figure, the distal end of the alignment scope 9 protrudes into the X-ray extraction chamber 5 36, and the vicinity of its intermediate portion is connected to the X-ray extraction chamber 5 via a bellows 10.

このアライメントスコープ9は露光時にマスク6及びウ
ェハ7上から退避した#1位置に位置し。
This alignment scope 9 is located at position #1, where it is retracted from above the mask 6 and wafer 7 during exposure.

アライメント時にマスク6及びウェハ7のアライメント
マークを整合するためlここれらの上方に進出する、マ
スク6及びウェハ7上に、x −y座標軸の整合用や回
転方向の整合用に泡散のアライメントマークフlS形成
され、そしてそれを同時に観察(目視又は充電的(こ)
するような場合にはアライメントスコープは4数用意さ
れる。
In order to align the alignment marks on the mask 6 and wafer 7 during alignment, bubble alignment marks are provided on the mask 6 and wafer 7, which are advanced above these, for aligning the x-y coordinate axes and for alignment in the rotational direction. Full S is formed, and it can be observed simultaneously (visually or electrically).
In such cases, four alignment scopes are prepared.

ヘリウムガスポンベ11からの^圧ヘリウムガスHeは
減圧バルブ(レギュレータ)12を介してヘリウムカス
供給用の供給管13に送り込まれる。このときの減圧後
の圧力はある大気圧Paに対してPo+に’n/100
位に手動調節される、供給管13は減圧バルブ12とX
線引出しチェンバ5との間に配管さ眉、ており、途中に
ヘリウム供給用の第1バルブ14が設けらイ1.ている
、直径0.2〜0.5闘位の第111−り管15はへ1
1ウムガスをX線引出しチェンバ5へとリークするため
ζこ#1バルブ14をバイパスするように供給管13に
配管されている。X線引出しチェンバ5中の気体を排出
するための排串管16は第2バルブ17を介して真空ポ
ンプ18へと配管されている。排出管16から分岐され
た1119はシリンダ20の一端に接続されている。シ
リンダ20の他端は管21及び第3バルブ22を介して
大気と接続さn、ている。シリンダ20内にはフロート
23が摺動自在に設けられている。シリンダ20はガラ
ス(こよって形成されて2す、フロートは炭素を含む物
質によって形成されている。こうするとシリンダ20と
フロート23とを密着こ接繊させても両者間の摩擦は非
常に小さい。例えば、大気圧POとx11!引出しチェ
ンバ5の内圧P、との圧力差がP。/2000位でフロ
ートは移動可能となる、シリンダ20の一端側において
相対向して配置された発光素子24a及び受光素子24
bから成る第1のフォトカブラ及び同様にしてシリンダ
20の他端側に配置された発光素子25a及び受光素子
25bから成る第2のフォトカブラはそわ、ぞれフロー
ト23の位置を検市するためのものである、フロート2
3が発光素子24a又は25aと受光素子24b又は2
5bとを結ぶ第1及び算2i路中(こ恒匝している間の
受光素子は発光素子からの元馨退断される、棄1及び8
g2のフォトカブラはそれぞれフロート23の移動スト
ロークの左端及び右端(シ1jンタ20の左端及び右端
)から所定に;“内側に配置づ°さイ1ている、この所
定量はフロー ト23の幅よりも若干小さく定められて
いる。使って、フロート23がE側へ移動して兄元素子
24aと受光素子24bさの間の第1元路を遮断したと
−[ると、フロート23X+5右11111へ戻ってぞ
の圧油が#1光路外へ川るまでは、ft′、路遮断状態
が続くことになる。フロート23が右1則へ#動じたと
きも同様番こしてフロート23が左側1へ戻ってその右
端が発光素子25aと受光素子25bの第:lt絡路外
出るまでは光路遮断状態が続く、 直径0.2〜05龍位の第211−り管26はX線引出
しチェンバ5よりも下方に配=V Cc7”1.るとと
も((、杉ト出管160)X線引出しチェンバ5とチ2
バルフ17との間の部1v(こおいて大気に向けて分岐
されている〜この分岐5TI=°とXi引出しチェンバ
5までのυ[出・#16の長さは、誹2リーク−#26
から逆流してきた空気がすぐさま千二ンノ\5ζζ侃入
するのを防ぐ程度に長めに設定しである。酸素センサ2
7はX@引出しチェンバ5内の酸素濃度を測定する、こ
の測定の結果、酸素濃度が所定値以下ならX線引出しチ
ェンバ5にヘリウムガスが充満したものとする。圧力セ
ンサ28はX#il引出しチェンバ5内の圧力を検出す
る、これは圧力が所定の限界(高圧側及び低圧側)を越
えるような異常状態を検出するたぬのものである。第2
バルブ17とX全ポンプ18との間の拶F出管にはバキ
ュームリーク管が設けらイ1ている・ 次に動作を説明する。
Pressure helium gas He from the helium gas pump 11 is sent through a pressure reducing valve (regulator) 12 to a supply pipe 13 for supplying helium scum. At this time, the pressure after decompression is 'n/100 to Po+ for a certain atmospheric pressure Pa.
The supply pipe 13 is connected to the pressure reducing valve 12 and
There is a pipe between the wire drawing chamber 5 and the line drawing chamber 5, and a first valve 14 for helium supply is provided in the middle.1. The 111th pipe 15 with a diameter of 0.2 to 0.5 is
In order to leak 1 um gas into the X-ray extraction chamber 5, the #1 valve 14 is bypassed and connected to the supply pipe 13. A drain pipe 16 for discharging the gas in the X-ray extraction chamber 5 is connected to a vacuum pump 18 via a second valve 17. A branch 1119 from the discharge pipe 16 is connected to one end of the cylinder 20. The other end of the cylinder 20 is connected to the atmosphere via a pipe 21 and a third valve 22. A float 23 is slidably provided within the cylinder 20. The cylinder 20 is made of glass (2), and the float is made of a substance containing carbon.In this way, even if the cylinder 20 and float 23 are closely welded together, the friction between them is very small. For example, when the pressure difference between the atmospheric pressure PO and the internal pressure P of the x11!drawer chamber 5 is about P./2000, the float becomes movable. Light receiving element 24
A first photocoupler consisting of b and a second photocoupler consisting of a light emitting element 25a and a light receiving element 25b similarly arranged on the other end side of the cylinder 20 are moved in order to inspect the position of the float 23. Float 2
3 is the light emitting element 24a or 25a and the light receiving element 24b or 2
In the 1st and 2i paths connecting
The photocouplers g2 are arranged inward from the left and right ends of the movement stroke of the float 23 (the left and right ends of the printer 20), respectively, and this predetermined amount is equal to the width of the float 23. When the float 23 moves to the E side and blocks the first path between the older element element 24a and the light receiving element 24b, the float 23X+5 right 11111 Until the pressure oil returns to #1 and flows out of the #1 optical path, the path will remain blocked for ft'.When the float 23 moves to the right, the float 23 moves to the left. The optical path continues to be blocked until the right end goes out of the connecting path between the light-emitting element 25a and the light-receiving element 25b. Placed below 5=V Cc7”1. ((, Cedar exit pipe 160) X-ray extraction chamber 5 and chi 2
The part 1v between the valve 17 (where it is branched towards the atmosphere ~ this branch 5TI = ° and the length of the Xi drawer chamber 5 υ
It is set to be long enough to prevent the air flowing backwards from entering immediately. oxygen sensor 2
7 measures the oxygen concentration in the X-ray extraction chamber 5. If the oxygen concentration is below a predetermined value as a result of this measurement, it is assumed that the X-ray extraction chamber 5 is filled with helium gas. A pressure sensor 28 detects the pressure within the X#il drawer chamber 5, which is indispensable for detecting abnormal conditions such as pressure exceeding predetermined limits (high pressure side and low pressure side). Second
A vacuum leak pipe is provided in the inlet F pipe between the valve 17 and the X pump 18.Next, the operation will be explained.

(11イニシャルセット動作、先ず、姐]〜第3バルブ
14.17,22を開放するときもに、^全ポンプ18
を作動してX+Ii!j!引出しチェンバ5内の気体を
引抜く。すると、X線引出しチーソバ5内に空気が存在
していれはこれがIメト出されることになる。このとき
、極吹きの原理と同様に、排出管16内の気体の流れに
よって看19の内圧は低下するから1図中(at位置に
あるフロートは同(b1位置(初期位置)へ移動する、
ぞして、X酸引出し、チェンバ5の排気か進んで、酸素
センサ27にヨつて検出さイ1.る顔累疑度が9r定値
以下((なるきアライメントスコープ9を第1位置へと
退避させる。
(11 Initial set operation, firstly) ~ When opening the third valve 14, 17, 22, all pumps 18
Activate X+Ii! j! The gas in the drawer chamber 5 is extracted. Then, if air exists in the X-ray drawer 5, it will be extracted. At this time, similar to the principle of pole blowing, the internal pressure at 19 decreases due to the flow of gas in the exhaust pipe 16, so the float at position 1 (at) moves to position b1 (initial position) in Figure 1.
Next, proceed to the X acid drawer, exhaust the chamber 5, and connect it to the oxygen sensor 27 to detect it.1. When the degree of suspiciousness of the face is less than the fixed value of 9r ((The alignment scope 9 is retracted to the first position.

こi7)退避終了を検出すると謝1〜牟3ハルフ】4゜
】7.22は冴)取さ71.る、その後、鄭3バルブ2
2を開放する(:JJA避長了検出に応じて牟1及び第
2バルブ14.17を閉成するようにし7ておいてもよ
い)。1−ると、X線引出しチェンバ5の内圧が減圧バ
ルブ】2の作用によってPo +)’e /100位C
(なってい4)のでフロート23は(b1位賃カ1ら右
方へと移動する、そして、フロート23ズバ発元素子2
4aと受光素子24b間の第1元路から抜は出したこと
が横用さI7ると、纂3バルブ22は閉成さ石、る、従
って、フロート23は縫1光路の近傍で停止した状態C
(なる。このときのフロート23の位置を作動開始泣i
という2以上でイニシャルセット動作が終了する、 (2)  了ライメントスコープ移動時の動作;アライ
メントスコープ9を′#1位厘からマスク・ウェハ上へ
進出させるとき、これ6c同期して纂3バルブ22を開
放する。すると、アライメントスコープ9が進出してX
線引出しチェンバ5の容積を減じた分だけフロート23
がシリフタ2o内を右方へ移動する。これによって、X
線引出しチェンバ5の内圧が圧気圧に対して異常に尚く
なるのか防止され、その結果第2のX@引出し窓8の破
損や変形が防止できる。そして、アライメントスコープ
9の進出が停止すると#3バルブ22は閉成される、こ
のようにして、以後マスクとウェハのアライメントのた
めにアライメントスコープ9が進(支)又は後退しても
、それによるX線引出しチェンバ5の内圧変動はフロー
ト23の移動により抑制される。ここで、第1及び第2
11−り管15.26の作用について説明する。X線引
出しチェンバ5は気密状態にすることが理想的であるが
、アライメントスコープ9を移動可能にするためにベロ
ーズ10を使用するなどしているために実際には空気が
該チェンバ5に流入する可能性がある。
i7) When the end of evacuation is detected, Xie 1 ~ Mu 3 Half] 4゜] 7.22 is Sae) taken 71. Then, Zheng 3 valve 2
2 (it is also possible to close the valve 1 and the second valve 14, 17 in response to the JJA evacuation completion detection). 1-, the internal pressure of the X-ray extraction chamber 5 becomes Po +)'e / 100 C due to the action of the pressure reducing valve ]2.
(becomes 4), so the float 23 moves to the right from the (b1 position), and the float 23 moves directly to the emitting element 2.
4a and the light-receiving element 24b, the float 23 stopped near the first optical path. Condition C
(The position of the float 23 at this time is
The initial set operation is completed when the alignment scope 9 is moved from position 1 to the mask wafer. to open. Then, alignment scope 9 advances and
The float 23 is increased by the amount that the volume of the drawing chamber 5 is reduced.
moves to the right inside the shifter 2o. By this,
The internal pressure of the wire drawing chamber 5 is prevented from becoming abnormally high compared to the pressure pressure, and as a result, damage or deformation of the second X@drawing window 8 can be prevented. Then, when the advance of the alignment scope 9 is stopped, the #3 valve 22 is closed.In this way, even if the alignment scope 9 advances (supports) or retreats for mask and wafer alignment from now on, the Fluctuations in the internal pressure of the X-ray extraction chamber 5 are suppressed by the movement of the float 23. Here, the first and second
11 - The function of the pipes 15 and 26 will be explained. Ideally, the X-ray extraction chamber 5 should be airtight, but because a bellows 10 is used to make the alignment scope 9 movable, air actually flows into the chamber 5. there is a possibility.

そこで、第1及び142+1−り管15,26を弁して
ヘリウムガスをリークさせて8けばx!引出しチェンバ
5の内圧は大気圧よりも高くなるので該チェンバ内への
空気の流入を阻止できる。また、X線引出しチェンバ5
を算2リーク管26を介して大気圧に開放して2くこと
lこより、大気圧が若干(P・7100以内)変動して
も第211−り管26内のヘリウムガスの流量が変化す
ることによりX1lilJ引出しチェンバ5の内圧は一
足番こ維持される、尚、このリーク蓄は大きくする必要
はなく、微少量でよい、 次に、 第21+−り’l#26の分岐位置番こついて
説明する。アライメントスコープ9がアライメント終了
後に第1位置へと退避するときに、何らかの理由でX#
I引出しチェンバ5の容積変動に対するフロート23の
追従性が低下したとする。このときX線引出しチェンバ
5の内圧は低下するので第2リーク管26がら空気が逆
流する可能性がある。
Therefore, if the first and 142+1-thread pipes 15 and 26 are valved to leak helium gas, 8x! Since the internal pressure of the drawer chamber 5 is higher than atmospheric pressure, air can be prevented from flowing into the chamber. In addition, the X-ray extraction chamber 5
By opening it to atmospheric pressure through the leak pipe 26, the flow rate of helium gas in the 211th leak pipe 26 changes even if the atmospheric pressure changes slightly (within P7100). As a result, the internal pressure of the X1lilJ drawer chamber 5 is maintained for a while.It should be noted that this leakage accumulation does not need to be large, and only a small amount is sufficient.Next, regarding the branch position number of #21, explain. When the alignment scope 9 retreats to the first position after alignment, for some reason
It is assumed that the ability of the float 23 to follow changes in the volume of the I-drawer chamber 5 has decreased. At this time, the internal pressure of the X-ray extraction chamber 5 decreases, so there is a possibility that air will flow back through the second leak pipe 26.

そこで、X線引出しチェンバ5から$2リーク管26に
至る才での排出管16の長さを、逆流してきた空気が該
チェンバ5に入らない程度に長めに設足しておく。こう
すること番こよりて、逆流してきた空気は排出管16に
溜められるので逆流してきた空気がチェンバ5に拡散す
ることが防止されるし、また排出が容易になる。
Therefore, the length of the exhaust pipe 16 from the X-ray extraction chamber 5 to the $2 leak pipe 26 is set to be long enough to prevent the air flowing backward from entering the chamber 5. By doing this, the air that has flowed back is collected in the discharge pipe 16, so that the air that has flowed back is prevented from diffusing into the chamber 5, and it can be easily discharged.

(3)  異常時の動作;先ず、イニシャルセット動作
時以外のときに発光素子24aと受光素子24bとの間
の第1元路中lこ70−ト23が入り込んだ場合には、
アライメントスコープ9の移動を停止状態にして算3バ
ルブ22を開放してフロート23を右側に移動させる。
(3) Operation in the event of an abnormality: First, if the lug 70-23 enters the first path between the light-emitting element 24a and the light-receiving element 24b at a time other than during the initial set operation,
The movement of the alignment scope 9 is stopped, the valve 22 is opened, and the float 23 is moved to the right.

そしてフロート23が第1元路から退避したことを光電
的に検出すると第3バルブ22を閉成する、そのNi来
、はぼフロート23(7)体積分のヘリウムガスがシリ
ンダ20内に充填される。その後了ライメントスコープ
9を移動可能にする。そして、アライメントスコープ9
の移動によって再びフロート23が第1元路中に入り込
んだならば上記と同様の動作を繰り返す。この動作中に
おけるフロート23の体積分のヘリウムガスがシリンダ
20内に充填動作は、アライメントスコープ9とフロー
ト23の移動4作の位相ず、わを補償するため曇ご行わ
れるものである。
When it is photoelectrically detected that the float 23 has evacuated from the first source path, the third valve 22 is closed.As a result, the cylinder 20 is filled with helium gas equivalent to the volume of the float 23 (7). Ru. Thereafter, the alignment scope 9 is made movable. And alignment scope 9
If the float 23 enters the first path again due to the movement of , the same operation as described above is repeated. The operation of filling the cylinder 20 with helium gas corresponding to the volume of the float 23 during this operation is performed to compensate for the phase difference between the four movements of the alignment scope 9 and the float 23.

次に1発光素子25aと受光素子25bとの間の第2元
路中にフロート23が入り込んだ場合(図中の(c)位
置)には、アライメントスコープ9を停止状態にして、
第1〜第3バルブ14.17.22を開放する。これに
よってフロート23は左方へ移動する。フロート23が
第2元路から退避したことを光電的に検出するとtJ!
L1〜第3バルブ14.17.22を閉成する。その結
果、はぼフロート23の体積分のヘリウムガスがシリン
ダ20から排出される。その後アライメントスコープ9
の移動を可能にする。そしてアライメントスコープ9の
移動によって再びフロート23が第2光路中に入り込ん
だならば以上の動作を繰り返す。
Next, when the float 23 enters the second path between the first light emitting element 25a and the light receiving element 25b (position (c) in the figure), the alignment scope 9 is stopped,
Open the first to third valves 14.17.22. This moves the float 23 to the left. When it is photoelectrically detected that the float 23 has retreated from the second source path, tJ!
Close L1 to third valves 14.17.22. As a result, helium gas corresponding to the volume of the float 23 is discharged from the cylinder 20. Then alignment scope 9
allows for the movement of If the float 23 enters the second optical path again due to the movement of the alignment scope 9, the above operation is repeated.

これによって、アライメントスコープ9とフロート23
の移動4作の位相ずれは補償される。このときにはフロ
ート23の体積分のヘリウムガスの排出が役立っている
By this, alignment scope 9 and float 23
The phase shift of the four movements is compensated for. At this time, discharging helium gas by the volume of the float 23 is useful.

また、アライメントスコープ9とフロート23がX線引
出しチェンバ5の内圧を上昇又は下降する方向に暴走し
たような場合や、pill−り管15又は第211−り
管26がつまってxH引出しチェンバ5の内圧が下降又
は上昇したような場合には、圧力センサ28がこれを検
出する。その結果、アライメントスコープ9の移動が禁
止される。
In addition, if the alignment scope 9 and float 23 run out of control in the direction of increasing or decreasing the internal pressure of the X-ray extraction chamber 5, or if the pill tube 15 or the 211th tube 26 is clogged and the When the internal pressure decreases or increases, the pressure sensor 28 detects this. As a result, movement of the alignment scope 9 is prohibited.

これによっても内圧の上昇又は下降が終息しないときに
は菓2バルブlデを開放するとともに真空ポンプ18を
作動させる。そして、上記イニシャルセット動作に移行
するか、又は装置の点検を指示(表示)する。
If the rise or fall of the internal pressure does not end even with this, the second valve 1 is opened and the vacuum pump 18 is operated. Then, the process moves to the above-mentioned initial setting operation or instructs (displays) inspection of the device.

以上の実施例において、シリンダ2oは1本用意してあ
ったが、必要に応じて複数本用意してもよい、また%X
線源としてはマスクの材質やフォトレジストによっては
軟X線源に限られるものではないし、またX線引出しチ
ェンバ5に充填されるガスとしてはX線を吸収しにくい
気体であれば何でもよい。また、第2のX線引出し窓と
してマスクを兼用させてもよい。更に、真空ポンプ18
は真空チェンバの排気にも使用することができる。
In the above embodiment, one cylinder 2o was prepared, but multiple cylinders may be prepared as necessary.
The ray source is not limited to a soft X-ray source depending on the material of the mask and the photoresist, and any gas may be used to fill the X-ray extraction chamber 5 as long as it is difficult to absorb X-rays. Further, a mask may also be used as the second X-ray extraction window. Furthermore, the vacuum pump 18
can also be used to evacuate a vacuum chamber.

(本発明の効果) 以上のような本発明によれば次のような効果が得られる
。(11補助チエンバと移動部材とによってアライメン
トスコープ移動に伴う圧力変化を吸収するようGn L
だので、耐久性が向上する6(21X線引出しチェンバ
内のガスはアライメントスコープの移動に応じて補助チ
ェンバとの間を移動するようになるのでガスの損失を非
常に少なくできる。
(Effects of the present invention) According to the present invention as described above, the following effects can be obtained. (Gn L so as to absorb the pressure change accompanying the movement of the alignment scope by the 11 auxiliary chamber and the moving member.
Therefore, durability is improved. 6 (21) Since the gas in the X-ray extraction chamber moves between the auxiliary chamber and the auxiliary chamber in accordance with the movement of the alignment scope, gas loss can be extremely reduced.

(3)移動部材の初期設定をガス充填時の排気動作を利
用して行うので特別な駆動源を必要としない。
(3) Since the initial setting of the moving member is performed using the exhaust operation during gas filling, no special driving source is required.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明の実施例を示す説明図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・真空チェンバ、   2・・・・・・電子
銃、3・・・・・ターゲット、 4・・・・・・第1のX線引出し窓、 5・・・・・・X線引出しチェンバ。 8・・・・・・#2のX線引出し窓。 9・・・・・・アライメントスコープ。 11・・・・・・ヘリウムガスボンベ、12・・・・・
・減圧バルブ、   13・・・・・・供給管。 14・・・・・・#1バルブ、   15・・・・・・
第111−り管。 16・・・・・・排出管、    17・・・・・・第
2バルブ、18・・・・・・真空ポンプ、  20・・
・・・・シリンダ、22・・・・・・第3バルブ、  
23・・・・・・フロート、24a、24b・・・・・
・算1フォトカプラ、25a、25b・・・・・・第2
フオトカプラ。 26・・・・・・第2リーク管。 出願人 日本元学工業株式会社 代理人 渡辺隆男
The figure is an explanatory diagram showing an embodiment of the present invention. Explanation of symbols of main parts 1...Vacuum chamber, 2...Electron gun, 3...Target, 4...First X-ray extraction window, 5. ...X-ray drawer chamber. 8...#2 X-ray drawer window. 9... Alignment scope. 11... Helium gas cylinder, 12...
・Pressure reducing valve, 13... Supply pipe. 14...#1 valve, 15...
No. 111-ri pipe. 16...Discharge pipe, 17...Second valve, 18...Vacuum pump, 20...
...Cylinder, 22...Third valve,
23...Float, 24a, 24b...
- Arithmetic 1 photo coupler, 25a, 25b...2nd
Photocoupler. 26...Second leak pipe. Applicant: Takao Watanabe, Agent of Nippon Gengaku Kogyo Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、  X瞭諒と;マヌク及びウェハ番こX線を碑くた
めζこXiを吸収し1こくい気体が充填されるX線引出
しチェンバと;前記気体の供給手段と;該X線引出しチ
ェンバ内で移動可能番こ配置さイ9たアライメントスコ
ープと:排気管を介して前記X鞭引出しチーンバき接続
さ石た補助チーンノ1と、前記神助チェンバ内に前記X
a引出しチェンバ内外の圧力差によって摺動′fろ如く
配置さ、T′lあとともに、前記アライメントスコープ
の移動による前記X線引出しチェンバの容M変化を補償
−towために前記Xi引出しチェンバと接続された空
間を変化させる移動手段と;前記気体の充填時(こ前記
排気管を介して前記X#引出しチェンバ内の気体を排気
する排気手段々を備え、前記移動部相は該排気によって
初期位置番こ設定さイtろことを特徴とするXW!1露
51t1.装置。 2、前記供給手段は大気圧よりも肋定値高い圧力のヘリ
ウムカス源 給するとともに、ヘリウムカス源から前記X#l引出し
チェンパケ介して大気中にヘリウムガスの漏洩路乞形成
てることを特徴とする請求の範囲第1項記載のX線露光
装置。 3 前記供給手段は、前記へりラムカス諒と前記X線引
出チェンバとの間lこ設けらnたヘリウム供給管と、へ
11ウムガスの供給?制御てろために前記ヘリウム供給
管に設けられた算1バルブと。 前記算1バルブと並設されてへ11ウムカスを前記X線
引出しチェンバに漏洩する第1リーク管と、前記排出管
から大気へ向けて配設された第2 II −り管とから
成ることを特徴(!:する特許請求の範囲第2項記載の
X線露光装置。 4、前記第2 II−り管の配役位置は、該リーク管か
ら逆流した空気が前記X線引出しチェンバへ拡散するこ
とを防止する如く該X線引出しチェンバから所定量離れ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のX
#!蕗元装置−05、前記補助チェンバは、前記排気時
に大気に開放するためのツ3バルブと接続さイ1.てい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のX耐露
元装置。
[Scope of Claims] 1. An X-ray extraction chamber filled with a gas that absorbs ζXi to record X-rays and wafer numbers; means for supplying the gas; an alignment scope that is movable within the X-ray drawer chamber; an auxiliary chimney 1 connected to the X-ray drawer chamber through an exhaust pipe;
(a) is arranged so as to slide due to the pressure difference between the inside and outside of the drawer chamber, and is connected to the Xi drawer chamber in order to compensate for the change in the volume (M) of the X-ray drawer chamber due to the movement of the alignment scope. a moving means for changing the space in which the gas is filled; and an evacuation means for evacuating the gas in the X# drawer chamber through the exhaust pipe; XW!1 dew 51t1. device characterized by a number setting slot. 2. The supply means supplies a helium gas source at a pressure higher than atmospheric pressure by a fixed value, and the The X-ray exposure apparatus according to claim 1, characterized in that a leakage path for helium gas is formed in the atmosphere through a drawer chamber.3. A helium supply pipe was provided between the two, and a valve was installed in the helium supply pipe to control the supply of helium gas. The invention is characterized in that it comprises a first leak pipe that leaks into the X-ray extraction chamber, and a second leak pipe that is arranged from the discharge pipe toward the atmosphere. X-ray exposure apparatus. 4. The second II-reduction tube is placed at a predetermined distance from the X-ray extraction chamber so as to prevent air flowing back from the leakage tube from diffusing into the X-ray extraction chamber. X according to claim 3, characterized in that
#! Fukigen device-05, the auxiliary chamber is connected to 3 valves for opening to the atmosphere during the exhaust.1. The X dew-proof device according to claim 1, characterized in that:
JP58002656A 1983-01-11 1983-01-11 X-ray exposing device Pending JPS59126632A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62291028A (en) * 1986-06-10 1987-12-17 Nec Corp X-ray exposure device
EP0424181A2 (en) * 1989-10-20 1991-04-24 Canon Kabushiki Kaisha X-ray exposure apparatus

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