JPS59113433A - Photosensitive resin composition - Google Patents
Photosensitive resin compositionInfo
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- JPS59113433A JPS59113433A JP22296582A JP22296582A JPS59113433A JP S59113433 A JPS59113433 A JP S59113433A JP 22296582 A JP22296582 A JP 22296582A JP 22296582 A JP22296582 A JP 22296582A JP S59113433 A JPS59113433 A JP S59113433A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0384—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属への密着性の改良された感光性ポリエステ
ル樹脂を皮膜形成成分として含む感光性樹脂組成物に関
し、特に印刷版の感1−に層の材料として有用な組成物
に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photosensitive resin composition containing a photosensitive polyester resin with improved adhesion to metal as a film-forming component, and is particularly useful as a material for a layer in the printing plate. The present invention relates to a composition.
ろ〕は、特異な光二檜化反応?するため、従来より桂皮
酸骨格を分子の側鎖ないし玉鎖rC導入した種々の感光
性樹脂の検討が行なわれている。例えば、側鎖に桂皮酸
骨格を有スルポリビニルアルコールーポリエピクロルヒ
ドリン、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂及
び主鎖に桂皮酸骨格を有するポリエステル、ポリアミド
などがあり、そのいくつかは実用化されている。例えは
、ポリビニルアルコールと桂皮ばクロライドの反応によ
り製造されるポリ桂皮酸ビニルエステル、フェニレンジ
アクリル酸ジエチルと1.4−ジ−β−ヒドロキジシク
ロヘキサンとの縮合により製造されるポリエステルがあ
り、これらは印刷版、LSI素子などの画像形成材料と
して一利用されている。Is ro] a unique kojiki reaction? To this end, various photosensitive resins have been studied in which a cinnamic acid skeleton is introduced into the side chain or chain rC of the molecule. Examples include sulpolyvinyl alcohol-polyepichlorohydrin, polystyrene, acrylic resin, epoxy resin, and polyesters and polyamides having a cinnamic acid skeleton in the main chain, some of which have been put into practical use. Examples include polycinnamic acid vinyl ester produced by the reaction of polyvinyl alcohol and cinnamate chloride, and polyester produced by the condensation of diethyl phenylene diacrylate and 1,4-di-β-hydroxydicyclohexane. is used as an image forming material for printing plates, LSI devices, etc.
前atの如き光二量化型感光性樹脂の中で、フェニレン
ジアクリル酸もしくはそのアルキルエステルとグリコー
ルとの縮合により↓遺された分子主知中に桂皮酸骨格を
有する感光性ポリエステル樹脂は、比較的高い光感度を
示すオ;」点を有するが、その反面、金属への密着性に
劣る欠点を有するものである。例えば、この種の樹脂を
含む浴液を、物理的、化学的又は電気化学的方法で表面
を研摩し、場合により更にその表面を陽極酸化したアル
ミニウム板の上に塗布乾燥して印刷用原版CF2版)を
作製すると、その研摩及び陽極酸化処理を特殊な方法及
び条件の下で行ったアルミニウム板に対しては樹脂皮膜
は良く接着するが、他の一般的な方法及び条件の下で上
=b表面処理を施したアルミニウム板に対しては便j旨
皮膜は良く接着しないものである。このため、上記の如
き感光性ポリエステル樹脂を用いて作製した28版は、
現像時に画線部の皮)換が現像液の作用でしばしば剥離
する欠点をもっている。Among photodimerizable photosensitive resins such as those mentioned above, photosensitive polyester resins having a cinnamic acid skeleton in the molecular structure left behind by the condensation of phenylene diacrylic acid or its alkyl ester with glycol are relatively popular. It has a high photosensitivity, but on the other hand, it has the disadvantage of poor adhesion to metals. For example, a bath solution containing this type of resin is applied onto an aluminum plate whose surface has been polished by a physical, chemical or electrochemical method, and where the surface has been further anodized, and then dried. When a plate) is produced, the resin film adheres well to an aluminum plate that has been polished and anodized using special methods and conditions, but it does not adhere well to aluminum plates that have been polished and anodized using special methods and conditions. Unfortunately, the film does not adhere well to surface-treated aluminum plates. For this reason, the 28th edition made using the photosensitive polyester resin as described above,
It has the disadvantage that the skin in the image area often peels off due to the action of the developer during development.
従って、本発明の目的は金属への密着性の改良された感
光性樹脂組成物、特に印刷版の基板として使用されるア
ルミニウム板への密着性の改良された感光性樹脂組成物
を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition that has improved adhesion to metals, particularly to aluminum plates used as substrates for printing plates. It is in.
本発明のこのような目的は、芳香核に隣接した感光性不
飽和二重結合を有するジカルボン酸(以下感光性不飽和
ジカルボン酸という)又はそのエステル誘導体を含むジ
カルボン酸成分と多価アルコール成分を反応させて得ら
れる、ジカルボン酸単位の11固に対して平均して0.
6〜2個の水酸基を有する感光性ポリエステル樹脂を皮
j戻形成成分として含有1゛る感光性樹脂組成物によっ
て連成される。Such an object of the present invention is to combine a dicarboxylic acid component containing a dicarboxylic acid having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus (hereinafter referred to as photosensitive unsaturated dicarboxylic acid) or an ester derivative thereof and a polyhydric alcohol component. The average number of dicarboxylic acid units obtained by the reaction is 0.
It is coupled with a photosensitive resin composition containing a photosensitive polyester resin having 6 to 2 hydroxyl groups as a skin restoration component.
不発明で使用する感光性不飽牙ロジカルボン酸としては
、例えば下記一般式(11〜(7)で表わされるジカル
ボン酸を挙げることができ、これらジカルボン酸のエス
テル誘導体としては、これらジカルボン酸のジメチルエ
ステル、ジエチルエステルの如キシアルキルエステル、
ジ(エチレングリコール)エステル、ジ(プロピレング
リコール)エステルの如きジ(アルキレングリコール)
エステル等を霜げることができる。Examples of photosensitive unsaturated dicarboxylic acids used in the invention include dicarboxylic acids represented by the following general formulas (11 to (7)), and ester derivatives of these dicarboxylic acids include Dimethyl ester, diethyl ester, and similar alkyl esters;
Di(alkylene glycol) such as di(ethylene glycol) ester and di(propylene glycol) ester
Can frost esters, etc.
(R1)m
・・・・・・(4)
(上記一般式(1)〜(7)中、R1及び朗はそれぞれ
水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4の
アルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わし、
R2は炭素数2〜4のアルキレン基を表わし、mは1〜
5の整数を表わし、h及びn′は夫々1〜4の整数を表
わす。)上記のジカルボン酸又はそのエステル誘導体の
好適例としてp−フェニレンジアクリルf9、m−フェ
ニレンジアクリルe、2.5−ジメトキシ−p−フェニ
レンジアクリル1i、2−=)ローp−フェニレンジア
クリル酸、α、α′−ジニトローp−フェニレンジアク
リル酸、α、α′−ジメチルーp−フェニレンジアクリ
ル酸、p−カルボキシ桂皮酸、シンナミリデンマロン4
ビス(p −桂FIWji )ジエチレンクリコールエ
ーテル、ビスCP−カルボキシベンザル)ゾクロヘキブ
ノン、ビス<p−カルボキシベンザル)シクロペンタノ
ン−p、p’−カルコンジカルボン酸、 5.5’−p
−フェニレンジペンタジェン酸等のジカルボン酸又ハソ
ノエステル誘導体を挙げることができる、ジカルボン岐
成分としては、上記の感光性不飽和ジカルボン酸又はそ
のエステル誘導体と共に他の多価カルボン酸又はその誘
導体を併用することができ、このような化合物として、
コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セパチン酸、フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフ
タル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブロムフタル酸
、テトラクロルフタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸等のジカル
ボンは又はその無水物又はそのエステル誘導体を使用で
きる。(R1)m...(4) (In the above general formulas (1) to (7), R1 and R are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms. represents a group, a halogen atom or a nitro group,
R2 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and m is 1 to 4.
represents an integer of 5, and h and n' each represent an integer of 1 to 4. ) Suitable examples of the above dicarboxylic acids or ester derivatives thereof include p-phenylene diacryl f9, m-phenylene diacryl e, 2,5-dimethoxy-p-phenylene diacryl 1i, 2-=) rho p-phenylene diacryl Acid, α,α′-dinitro p-phenylene diacrylic acid, α,α′-dimethyl-p-phenylene diacrylic acid, p-carboxycinnamic acid, cinnamylidenemalone 4
Bis(p-KatsuraFIWji) diethylene glycol ether, bisCP-carboxybenzal)zoclohexibunone, bis<p-carboxybenzal)cyclopentanone-p, p'-chalcone dicarboxylic acid, 5.5'-p
- Dicarboxylic acids such as phenylene dipentadienoic acid or hasonoester derivatives can be mentioned.As the dicarboxylic branch component, other polyhydric carboxylic acids or derivatives thereof are used in combination with the above photosensitive unsaturated dicarboxylic acids or ester derivatives thereof. Such compounds can be,
Succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sepatic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, 5 - Dicarboxylic acids such as sodium sulfoisophthalic acid or its anhydrides or ester derivatives thereof can be used.
しかしながら、これら他のジカルボン酸又はその誘導体
の多量の使用は樹脂の光感度の低下を惹起するから避け
るベきであり、充分に高い光感度を得るためには、感光
性不飽和ジカルボン酸またはそのエステル誘導体の使用
量をジカルボン酸成分の全体の60〜100モル%とす
ることが望ましい。However, the use of large amounts of these other dicarboxylic acids or their derivatives should be avoided as it will cause a decrease in the photosensitivity of the resin. It is desirable that the amount of the ester derivative used be 60 to 100 mol% of the total dicarboxylic acid component.
一方、多価アルコール成分としては、特に制限なく各種
のものを使用でき、例えはエチレングリコール、ジェチ
レ7 りIJ コール、トリエチレングリコール、プロ
ピレンクリコール、ジグロビレングリコール、ポリエチ
レングリコール、ホリフロピレングリコール、ネオペン
チルグリコール、1.5−フチレンゲリコール、1.6
−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、
2..2.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオール
% 1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキ
サン、シクロヘキサンジメタツール、水添ビスフェノー
ルA5水添ビスフエノールF、ビスフェノールAのエチ
レンオキサイド付加体、ビスフェノ−/L/Aのプロピ
レンオキサイド付加体、ビスフェノールFのエチレンオ
キサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサ
イド付加体、トリシクロデカンジメタツールの如き2価
アルコール:6−メチルペンタン−1,3,5−トリオ
ール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン
、グリセリン、ジグリセリン、ペンタエリスリトール、
ジペンタエリスリトール、ンルビトールの如き6価以上
のアルコールが使用できる。On the other hand, as the polyhydric alcohol component, various types can be used without any particular restrictions, such as ethylene glycol, gelatin glycol, triethylene glycol, propylene glycol, diglobylene glycol, polyethylene glycol, holiflopylene glycol, Neopentyl glycol, 1.5-phthylene gelicol, 1.6
-hexanediol, 2-butene-1,4-diol,
2. .. 2.4-Trimethyl-1,3-bentanediol% 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexane dimetatool, hydrogenated bisphenol A5 hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A, bispheno- /L/A propylene oxide adduct, bisphenol F ethylene oxide adduct, bisphenol F propylene oxide adduct, dihydric alcohol such as tricyclodecane dimetatool: 6-methylpentane-1,3,5-triol , trimethylolpropane, trimethylolethane, glycerin, diglycerin, pentaerythritol,
Alcohols having a valence of 6 or more such as dipentaerythritol and nrubitol can be used.
上記の多価カルボン酸成分と多価アルコール成分の反応
に際しては、分子中に多価カルボン酸単位の1個に対し
て平均0.3〜2個の水酸基を含有する樹脂が得られる
ように酸、アルコール成分の配合比を選ぶ。多価カルボ
ン酸単位の1個に対して水酸基の個数が平均o、3より
少ないと、金属に対する充分な密薄注をもつ樹脂を得る
ことが難しく、平均2より多いと印刷版の感f、層に利
用する際に必要な充分なインキ受理性(感脂性)をもつ
樹脂を得ることが難しく1゜
上記のジカルボン酸成分と多価アルコール成分とを反応
させて得られる本発明の感光性ポリエステル樹脂は、分
子量に関する特別の制限をもたないが、印刷版の感光層
への用途に使用する場合には、3,000〜70.0’
ODの重量平均分子量をもつものが好適である。When reacting the polyhydric carboxylic acid component with the polyhydric alcohol component, the acidic acid is , select the mixing ratio of alcohol components. If the number of hydroxyl groups per polyvalent carboxylic acid unit is less than the average o.3, it is difficult to obtain a resin with sufficient density and thinness for metals, and if it is more than the average number of hydroxyl groups, the printing plate's sensitivity f, It is difficult to obtain a resin with sufficient ink receptivity (liposensitivity) necessary for use in a layer. The resin has no particular restrictions on molecular weight, but when used in the photosensitive layer of a printing plate, it has a molecular weight of 3,000 to 70.0'.
Those having a weight average molecular weight of OD are preferred.
このような感光性ポリエステル(支)脂は通常のポリエ
ステル合成の分野で知られている手段、たとえは、放置
1講座重合反応論9、重縮合”緒方著、化学同人社発行
、あるいは、米特許第6.<S22.320号公報に記
載されている方法により容易に製造することができる。Such photosensitive polyester (sub) resins can be produced by means known in the field of ordinary polyester synthesis, for example, "Lesson 1 Course on Polymerization Reactions 9, Polycondensation" by Ogata, published by Kagaku Dojinsha, or by US patents. It can be easily produced by the method described in No. 6.<S22.320.
即ち、前記多価カルボン酸成分と多価アルコール成分を
必皆に応じて加えられる触媒又び禁止剤の存在下で反応
(エステル化反応又はエステル交換反応)させた後、徐
々に反応器内の圧力を減じて過剰のグリコールを留出さ
せることにより製造できる。That is, after the polyhydric carboxylic acid component and the polyhydric alcohol component are reacted (esterification reaction or transesterification reaction) in the presence of a catalyst and an inhibitor that are necessarily added, the amount of water in the reactor is gradually increased. It can be produced by reducing the pressure and distilling off excess glycol.
反応温度としては、150〜250Cか好ましく、減圧
は3 HIM )1g以下が好ましい。触媒としては、
例えばジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ラウレート、
ジブチル錫ジアセテート。リチウムエトキシド、テトラ
イソプロピルチタネート、テトラブトキシチタネートの
如き有機金属化合物:二酸化チタン、酢酸亜鉛、三酸化
アンチモン、酸化カルシウムの如き無機金属化合物等を
使用でき、特にジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ラウ
レートなどの有機錫化合物が好ましい。使用量は、金属
成分として50〜10,000ppmが好ましい。The reaction temperature is preferably 150 to 250C, and the reduced pressure is preferably 3 HIM) 1 g or less. As a catalyst,
For example, dibutyltin oxide, dibutyltin laurate,
Dibutyltin diacetate. Organometallic compounds such as lithium ethoxide, tetraisopropyl titanate, tetrabutoxytitanate; inorganic metal compounds such as titanium dioxide, zinc acetate, antimony trioxide, calcium oxide, etc. can be used, especially organic metal compounds such as dibutyltin oxide, dibutyltin laurate, etc. Tin compounds are preferred. The amount used is preferably 50 to 10,000 ppm as a metal component.
禁止剤は重縮合反応時に併発して起こりやすい感光性不
飽和二重結合の架橋、枝分れをできるだけ少なく抑える
ために使用するものであり、例えばフェノチアジン、ハ
イドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2
.6−ジーtert−ブチルーp−クレゾール、p−ベ
ンゾキノン等を使用できる。その使用量は、50〜2,
000 ppmが好ましい。Inhibitors are used to minimize crosslinking and branching of photosensitive unsaturated double bonds that tend to occur during polycondensation reactions, and include, for example, phenothiazine, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2
.. 6-di-tert-butyl-p-cresol, p-benzoquinone, etc. can be used. The amount used is 50 to 2,
000 ppm is preferred.
本発明の感光性樹脂組成物は、上記の如くして製造され
る感光性ポリエステル樹脂を適当な溶媒に鹸解すること
により調製され、必要に応じて増感剤、顔料、染料、可
塑剤等の添加剤を加えられる。The photosensitive resin composition of the present invention is prepared by dissolving the photosensitive polyester resin produced as described above in an appropriate solvent, and optionally contains a sensitizer, pigment, dye, plasticizer, etc. Additives can be added.
好適な溶媒は樹脂の組成および分子惟により異なるが、
普通、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン
、トリクロロエチレン、クロルベンゼン、シクロルベン
ゼノ、四塩化炭素等の塩素系溶媒;テトラヒドロフルフ
リルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール、
lli;、P)ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒ニゲリコールモノメチルエーテル、グリコール
モノエチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテ
ル系溶媒ニゲリコールメチルエーテルアセテート、グリ
コールエチルエーテルアセテート、酢酸エチル等のエス
テル糸溶媒:メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、4−メチル−4−メトキシ−
2−ペンタノン等のケトン糸溶媒ニジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ニ
トロベンゼン等の含窒素化合物等があり、上記の溶媒は
単独または2種以上混合して使用できる。Suitable solvents vary depending on the composition and molecular weight of the resin, but
Usually, chlorinated solvents such as methylene chloride, chloroform, trichloroethane, trichloroethylene, chlorobenzene, cyclobenzene, carbon tetrachloride; alcohols such as tetrahydrofurfuryl alcohol and benzyl alcohol;
P) Ether solvents such as lahydrofuran and dioxane Glycol monoalkyl ether solvents such as nigericol monomethyl ether and glycol monoethyl ether Ester thread solvents such as nigericol methyl ether acetate, glycol ethyl ether acetate, and ethyl acetate Solvent: methyl ethyl ketone , methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-methyl-4-methoxy-
Examples include ketone thread solvents such as 2-pentanone, nitrogen-containing compounds such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and nitrobenzene, and the above solvents can be used alone or in combination of two or more.
増感剤としては、この分野で使用できるものが、いずれ
モ使用でき、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン
誘導体、ナフトチアゾリン誘導体、キノン類等の芳香族
カルボ0ル化合物、芳香族ニトロ化合物、あるいは、ビ
IJ IJウム虐、チアピリリウム塩類等が使用できる
。このような増感剤として例えば、ミヒラーケトン、ジ
エチルアミンエチルベンゾフェノン、ベンズアンスロン
、(3−メチル−1゜3−ジアザ−1,9−ベンズ)ア
ンスロンピクラミド、2−ジベンゾイルメチレン−3−
メチルナフトチアゾリン、2−ベンゾイルメチレン−1
−メチルナフトチアゾリン、1.8−ジメトキシアント
ラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、5−ニトロ
アセナフテン、2−ニトロフルオレン、2.7−シニト
ロフルオレン、1−ニトロナフタレン、1.5−ジニト
ロナフタレン、2.4.6−)リフェニルチアピリリウ
ムバークロレート、2.6−ビス(p−エトキシフェニ
ル) −4−(p −n−アミロキシフェニル)−チア
ビリリウムバークロレート等がある。Any sensitizer that can be used in this field may be used, including benzophenone derivatives, benzanthrone derivatives, naphthothiazoline derivatives, aromatic carboxyl compounds such as quinones, aromatic nitro compounds, or bi-IJ. IJumo, Thiapyrylium salts, etc. can be used. Examples of such sensitizers include Michler's ketone, diethylamine ethylbenzophenone, benzanthrone, (3-methyl-1°3-diaza-1,9-benz)anthrone picramide, and 2-dibenzoylmethylene-3-
Methylnaphthothiazoline, 2-benzoylmethylene-1
-Methylnaphthothiazoline, 1,8-dimethoxyanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 5-nitroacenaphthene, 2-nitrofluorene, 2,7-sinitrofluorene, 1-nitronaphthalene, 1,5-dinitronaphthalene, 2.4.6-)liphenylthiapyrylium verchlorate, 2.6-bis(p-ethoxyphenyl)-4-(p-n-amyloxyphenyl)-thiavirylium verchlorate, and the like.
本発明の感光性樹脂組成物は、従来一般に行なわれてい
る塗布技術に適用されるように適度の粘度に調合され、
ディップ塗布、カーテン塗布、ロール塗布、スプレー塗
布、エアナイフ塗布、ドクターナイフ塗布、スピナー塗
布等、周知の塗布方法によって支持体に塗布される。The photosensitive resin composition of the present invention is formulated to have an appropriate viscosity so that it can be applied to conventional coating techniques,
The coating is applied to the support by a well-known coating method such as dip coating, curtain coating, roll coating, spray coating, air knife coating, doctor knife coating, spinner coating, etc.
被塗布材料の具体例としては、アルミニウム板、亜鉛板
、銅板、ステンレス鋼板、その他の金属板:合成樹脂フ
ィルムに金属層を真空蒸着、ラミネートなどの技術によ
り設けた複合材料等が挙げられる。Specific examples of the material to be coated include aluminum plates, zinc plates, copper plates, stainless steel plates, other metal plates, and composite materials in which a metal layer is provided on a synthetic resin film by techniques such as vacuum deposition and lamination.
塗布後、周知の方法により塗布液を乾固せしてれば、支
持体上に感光層を設けた印刷原版が得られる。この印刷
原版の感光層にネガ画像による像露光を行なって感光層
の露光部分を硬化させ不溶化せしめた後、現像して未露
光部分な磐解除去すれは、支持体上に対応する画像を形
成させることができる。After coating, if the coating solution is dried and solidified by a well-known method, a printing original plate having a photosensitive layer provided on a support can be obtained. The photosensitive layer of this printing original plate is subjected to imagewise exposure using a negative image to harden and insolubilize the exposed portions of the photosensitive layer, and then developed to remove the unexposed portions to form a corresponding image on the support. can be done.
露光に使用される適当な光源としては、カーボンアーク
灯、水銀灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、レー
ザー等が挙げられる。Suitable light sources used for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, lasers, and the like.
以上述べた如く、本発明の感光性樹脂組成物は、印刷版
の感光層の形成に極めて有効なものであるが、本発明の
組酸物の用途は必ずしも印刷版の感光層に限定されるも
のでな(、例えは各種の微細加工のためのフォトレジス
トとしても使用し得るものである。As described above, the photosensitive resin composition of the present invention is extremely effective for forming the photosensitive layer of a printing plate, but the use of the composite acid of the present invention is not necessarily limited to the photosensitive layer of a printing plate. For example, it can also be used as a photoresist for various types of microfabrication.
以下、本発明な実施例により具体的に説明するが、本発
明はそり安旨を越えない限り、以下の実施例に限定され
るものではない。Hereinafter, the present invention will be specifically explained using examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as it does not exceed the purpose of reducing warpage.
合成例 1
ジエチル−p−フェニレンジアクリレート274.9(
1,0モル)、3−メチルペンタン−1,3,5−)リ
オール161,9(1,2モル)、ジブチル錫オキサイ
ド5gおよびフェノチアジンD、 5.9を攪拌装置、
屋素導入管、温度計および滴量管を備えた反応器内に仕
込み、窒素雰囲気下で攪拌し、180Cに加温して反応
を開始した。6時間後、ジブチル錫オキサイドを21追
加し、更に6時間反応させた。その後、同温度で反応器
内の圧力を徐々に減じて1jI富Hfとし、この減圧下
で2時間に亘り滴量液を除去した。Synthesis Example 1 Diethyl-p-phenylene diacrylate 274.9 (
1,0 mol), 3-methylpentane-1,3,5-)liol 161,9 (1,2 mol), 5 g of dibutyltin oxide and phenothiazine D, 5.9 in a stirrer,
The mixture was charged into a reactor equipped with an nitrogen inlet tube, a thermometer, and a dripping tube, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 180C to start the reaction. After 6 hours, 21 additional portions of dibutyltin oxide were added, and the reaction was further continued for 6 hours. Thereafter, the pressure inside the reactor was gradually reduced at the same temperature to make it 1jI-rich Hf, and the dripping liquid was removed under this reduced pressure over 2 hours.
かくして固有粘度0.18(テトラヒドロフランm??
!、25C)、Tf46C,重量平均分子量16,00
0、分子量分布分散度6.4のフェニレンジアクリル酸
単位1個に対して約1個の懸垂水酸基をもつ感光性ポリ
エステル商脂(Nを得た。Thus, the intrinsic viscosity is 0.18 (tetrahydrofuran m??
! , 25C), Tf46C, weight average molecular weight 16,00
A photosensitive polyester commercial resin (N) having approximately one pendant hydroxyl group per one phenylene diacrylic acid unit with a molecular weight distribution dispersity of 6.4 was obtained.
合成例 2
ジエチル−p−フェニレンジアクリレ−)274.9(
1,0モル)、6−メチルペンタン−1,3,5−)ジ
オール6フ、0,10.5モル)、1.4−ジ−β−ヒ
ドロキシエトキシシクロヘキサン142g(0,7モル
)、ジブチル錫オキサイド5.!I’およびフェノチア
ジン0.5 gを反応器内に仕込み、実施fi1′1と
同様な操作を行なった。かくして、固有粘度0.2[]
(]デトラヒドロフラン済液25C)、T#43C,重
量平均分子H1s、5oO5分子量分布分散度6.2の
フェニレンジアクリル酸単位1個に対して約0.5個の
懸垂水酸基をもつ感光性ポリニスデル樹脂(Blを得た
。Synthesis Example 2 Diethyl-p-phenylene diacryle) 274.9 (
1,0 mol), 6-methylpentane-1,3,5-)diol 6F, 0,10.5 mol), 1,4-di-β-hydroxyethoxycyclohexane 142 g (0,7 mol), dibutyl Tin oxide 5. ! I' and 0.5 g of phenothiazine were charged into a reactor, and the same operation as in Example fi1'1 was carried out. Thus, the intrinsic viscosity is 0.2[]
(] Detrahydrofuran solution 25C), T#43C, weight average molecule H1s, 5oO5 molecular weight distribution, photosensitive with approximately 0.5 pendant hydroxyl groups per phenylene diacrylic acid unit with dispersity of 6.2. Polynisder resin (Bl) was obtained.
合成例 6
ジエチル−p−フェニレンジアクリレ−)2749(1
0モル)、トリメチロールプロノくン134.!i’(
1,0モル)、エチレングリコール6411.0モル)
、ジブチル錫オキサイド5gおよびフェノチアジン0.
5gを実施例1と向保の反応器内に仕込み、窒素雰囲気
下で攪拌し、180Cに加温して反応を開始した。6時
間後、エタノールの滴量が止まった後、同温度で反応器
内の圧力を徐々に減じて1s+mH,として滴量液を除
去した。6時間後に滴量液は止まり、64.9のエチレ
ングリコールを回収した。かくして水酸基価172 K
OH1l+1g/、!i+のフェニレンジアクリル酸単
位1個に対して約1個の水酸基をもつ感光性ポリエステ
ル樹脂(C1を得た。Synthesis Example 6 Diethyl-p-phenylene diacrylate) 2749 (1
0 mol), trimethylolpronokone 134. ! i'(
1.0 mol), ethylene glycol 6411.0 mol)
, 5 g of dibutyltin oxide and 0.0 g of phenothiazine.
5 g was charged into the reactor of Example 1 and Mukaho, stirred under a nitrogen atmosphere, and heated to 180C to start the reaction. After 6 hours, after the dropwise amount of ethanol stopped, the pressure inside the reactor was gradually reduced to 1 s+mH at the same temperature, and the dropped liquid was removed. After 6 hours, the dripping stopped and 64.9 grams of ethylene glycol was recovered. Thus, the hydroxyl value is 172 K.
OH1l+1g/,! A photosensitive polyester resin (C1) having about one hydroxyl group per one phenylene diacrylic acid unit of i+ was obtained.
合成例 4
ジエチル−p−フェニレンジアクIJL’−ト271(
1,0モル)、ペンタエリスリトール102,10.7
5モル)、1.4−ジ−β−ヒドロキシシクロヘキサン
91.8、lO,45モル)、ジブチル錫オキサイド5
gおよびフェノチアジン0.5.9を反応器内に仕込み
、実施例1と同様な操作を行なった。かくして水酸基1
曲261 KOHil?/!i、フェニレンジアクリル
酸単位1個に対し、約1.5個の水酸基をもつ感光性ポ
リエステル樹脂(Dlを得た。Synthesis Example 4 Diethyl-p-phenylene diac IJL'-t271 (
1,0 mol), pentaerythritol 102,10.7
5 mol), 1,4-di-β-hydroxycyclohexane 91.8, 1O, 45 mol), dibutyltin oxide 5
g and 0.5.9 g of phenothiazine were charged into the reactor, and the same operation as in Example 1 was performed. Thus hydroxyl group 1
Song 261 KOHil? /! i. A photosensitive polyester resin (Dl) having about 1.5 hydroxyl groups per 1 phenylene diacrylic acid unit was obtained.
合成例 5
ジエチル−2−ニトロ−p−フェニレンジアクリレート
31911.0モル)、6−メチルペンタン−1,3,
5−トリオール161.9 (1,2モル)、ジブチル
錫オキサイド5yおよびフェノチアジン0.5gを仕込
み、実施例1と同様な操作を行なつfムそして、重量平
均分子量13,500、分子量分布分散度39の2−ニ
トロ−フェニレンジアクリル酸単位1個に対して約1個
の懸垂水酸基をもつ感光性ポリエステル樹脂(Elを得
た。Synthesis Example 5 Diethyl-2-nitro-p-phenylene diacrylate (31911.0 mol), 6-methylpentane-1,3,
5-triol 161.9 (1.2 mol), dibutyltin oxide 5y, and phenothiazine 0.5 g were charged, and the same operation as in Example 1 was carried out, and the weight average molecular weight was 13,500, and the molecular weight distribution dispersity was obtained. A photosensitive polyester resin (El) having approximately one pendant hydroxyl group per one 2-nitro-phenylene diacrylic acid unit of 39 was obtained.
合成例 6
ジエチル−p−カルボキシシンナメート248.9(1
,0モル)、6−メチルペンタン−1,3,5−トリオ
ール161g(1,2モル)、ジブチル錫オキサイド5
yおよびフェノチアジン0.5gを反応器内に仕込み、
実施例1とli1様な操作を行なった。かくしてMR平
均分子量14,000、分子量分布分散度6.4のp−
カルボキシ桂皮酸単位1個に対して約1個の懸垂水酸基
をもつ感光性ポリエステル樹脂CF+を得た。Synthesis Example 6 Diethyl-p-carboxycinnamate 248.9 (1
,0 mol), 6-methylpentane-1,3,5-triol 161 g (1,2 mol), dibutyltin oxide 5
y and 0.5 g of phenothiazine into the reactor,
The same procedure as in Example 1 and li1 was carried out. Thus, p-
A photosensitive polyester resin CF+ having approximately one pendant hydroxyl group per carboxycinnamic acid unit was obtained.
合成例 7
ビス(o −桂皮酸)ジエチレングリコールエーテルの
ジエチルエステル454.9(1,0モル)、6−メチ
ルペンタン−1,3,5−)ジオール134.11.0
モル)、エチレングリコール32g(0,5モル)、ジ
ブチル錫オキサイド5Iおよびフェノチアジン0.5I
を反応器内に仕込み、実施例6と同様な操作を行なった
。かくしてN量平均分子量19. OD O1分子量分
布分散度3.9のジカルボン酸単位1個に対して約1個
の)゛ヌ垂水酸基をもつ感光性ポリエステル樹脂(Gl
を得た。Synthesis Example 7 Diethyl ester of bis(o-cinnamic acid) diethylene glycol ether 454.9 (1,0 mol), 6-methylpentane-1,3,5-) diol 134.11.0
mol), ethylene glycol 32 g (0.5 mol), dibutyltin oxide 5I and phenothiazine 0.5I
was charged into the reactor, and the same operation as in Example 6 was performed. Thus, the N weight average molecular weight is 19. A photosensitive polyester resin (Gl
I got it.
合成例 8
ジエチル−p−フェニレンジアクリル酸ト274M(1
0艷ル)、2,2.4−)ジメチルベンタン−1,6−
ジオール17511.2モル)、ジブチル錫オキサイド
5Iおよびフェノチアジン0.5 gを反応器内に仕込
み、反応温度を210Cとした以外は実施例1と向様な
操作を行った。かくして、重量平均分子量14,000
、分子量分布分散度6,6のフェニレンジアクリル酸単
位1個に対して約0.1の末端水酸基をもつ感光性ポリ
エステル樹脂(Hlを得た。Synthesis Example 8 Diethyl-p-phenylene diacrylate 274M (1
0), 2,2,4-)dimethylbentane-1,6-
The same procedure as in Example 1 was carried out, except that 17511.2 mol of diol (17511.2 mol), dibutyltin oxide 5I and 0.5 g of phenothiazine were charged into the reactor and the reaction temperature was set at 210C. Thus, the weight average molecular weight of 14,000
A photosensitive polyester resin (Hl) having a terminal hydroxyl group of about 0.1 per phenylene diacrylic acid unit with a molecular weight distribution dispersity of 6.6 was obtained.
実施例 1〜7
4gの上記の各感光性ポリエステル樹脂とり、d9の5
−ニトロ−アセナフテンを96.9のジクロロエタンに
俗解した感光性樹脂組成物を調製した。この組成物を、
砂目立てしたアルミニウム板(「印刷用アルミ板」、大
日本インキ化学工業社製)にホワラーで厚さ1.5μと
なるように塗布乾燥して感光板を作製した。Examples 1 to 7 Take 4g of each of the above photosensitive polyester resins, d9-5
A photosensitive resin composition was prepared in which -nitro-acenaphthene was converted into 96.9% dichloroethane. This composition,
A photosensitive plate was prepared by coating a grained aluminum plate ("printing aluminum plate", manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) with a whirler to a thickness of 1.5 μm and drying.
このようにして得られた感光板に段差0.15のステッ
プウェッジを密着させ、これから1rrL離れた位置に
設けた出力1蹟のメタルハライドランプを用いて上記感
元板に60秒間露光した。その後この感光板をγ−ブチ
ロラクトンー85%リン酸(98/2容量比)混合液で
現像した。不酸化した段差の最高の数をもって光感度と
した。また、現像の際の画線部皮膜の剥離の有無をもっ
てアルミニウム板・\の皮膜の密着性の良、不良を示し
た。上記の結果を次表に示した。A step wedge with a step difference of 0.15 was brought into close contact with the thus obtained photosensitive plate, and the photosensitive plate was exposed for 60 seconds using a metal halide lamp with an output of 1 level, which was placed 1 rrL away from the step wedge. Thereafter, this photosensitive plate was developed with a mixed solution of γ-butyrolactone and 85% phosphoric acid (98/2 volume ratio). The highest number of unoxidized steps was defined as photosensitivity. In addition, the adhesion of the film to the aluminum plate was determined by the presence or absence of peeling of the image area film during development. The above results are shown in the table below.
Claims (1)
カルボン酸又はそのエステル誘導体を含むジカルボン酸
成分と多価アルコール成分を反応させて得られるジカル
ボン酸単位の1個に対して平均して0.3〜2個の水酸
基を有する感光性ポリエステル樹脂を皮膜形#:#:分
として含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 2、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体が、下記一般式(1
)〜(7)で表わされるジカルボン酸又はそのエステル
誘導体である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 (R1)n ・・・・・・(4) 上記一般式(1)〜(7)中、R1及び呵はそれぞれ水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のア
ルコキンル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わし、R
7は炭素数2〜4のアルキレン基乞表わし、mは1〜5
の整数ケ表わし、n及びn′は夫々1〜4の整数を表わ
す。 6、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体の使用葉なジカルボ
ン酸成分全体の60〜100モル%とした特許請求の範
囲第1項又は第2項記載の組成物。 4 感光性ポリエステル樹脂の重量平均分子址が3,0
00〜70.000である特許請求の範囲第1項ないし
第6項記載の組成物。[Claims] 1. One dicarboxylic acid unit obtained by reacting a polyhydric alcohol component with a dicarboxylic acid component containing a dicarboxylic acid or its ester derivative having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus. 1. A photosensitive resin composition comprising a photosensitive polyester resin having an average of 0.3 to 2 hydroxyl groups in film form #:#:min. 2. A dicarboxylic acid or its ester derivative having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus has the following general formula (1
The composition according to claim 1, which is a dicarboxylic acid represented by (7) or an ester derivative thereof. (R1)n...(4) In the above general formulas (1) to (7), R1 and A are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , represents a halogen atom or a nitro group, R
7 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, m is 1 to 5
n and n' each represent an integer from 1 to 4. 6. The use of a dicarboxylic acid or its ester derivative having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus is used in an amount of 60 to 100 mol% of the total dicarboxylic acid component as described in claim 1 or 2. Composition of. 4 The weight average molecular weight of the photosensitive polyester resin is 3.0
00 to 70,000.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22296582A JPS59113433A (en) | 1982-12-21 | 1982-12-21 | Photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22296582A JPS59113433A (en) | 1982-12-21 | 1982-12-21 | Photosensitive resin composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59113433A true JPS59113433A (en) | 1984-06-30 |
Family
ID=16790654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22296582A Pending JPS59113433A (en) | 1982-12-21 | 1982-12-21 | Photosensitive resin composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59113433A (en) |
-
1982
- 1982-12-21 JP JP22296582A patent/JPS59113433A/en active Pending
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