JPS59111905A - 窒化珪素またはサイアロンの製造方法およびその装置 - Google Patents

窒化珪素またはサイアロンの製造方法およびその装置

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JPS59111905A
JPS59111905A JP21946382A JP21946382A JPS59111905A JP S59111905 A JPS59111905 A JP S59111905A JP 21946382 A JP21946382 A JP 21946382A JP 21946382 A JP21946382 A JP 21946382A JP S59111905 A JPS59111905 A JP S59111905A
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JP
Japan
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sialon
reaction chamber
gas
sio2
microwaves
Prior art date
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Pending
Application number
JP21946382A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Fukuda
福田 利明
Hirotaka Shintani
新谷 宏隆
Yasuo Yoshida
吉田 保夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
JFE Refractories Corp
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Kawasaki Refractories Co Ltd
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
Application filed by Showa Denko KK, Kawasaki Refractories Co Ltd, Kawasaki Steel Corp filed Critical Showa Denko KK
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Publication of JPS59111905A publication Critical patent/JPS59111905A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/08Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
    • B01J8/12Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、粘土、ろう石、けい石等のアルミノ珪酩塩、
炭素および窒素ガスからマイクロ波加熱により窒化珪素
またはサイアロン系物質を製造する方法およびその製造
装置に関する。
粘土と炭素との混合造粒体を窒素雰囲気中で高温で反応
させることによりサイアロンが得られることは周知であ
り、その製造方法として簡単な実験室的製法と2〜3の
工業的な製造方法とが知られている。
上記の実験室的な製造法およびその装置は第1図に示す
如く、J、G、Lee  らによるものであるCAm、
Ceram、 Sac、 Bull、、58,889〜
’871  (Is?i3)、)。このサイアロン製造
装置は竪形電気炉1を貫通して設けたムライト質磁製管
2の上方から粘土と炭素との混合造粒体3を装入し、磁
製管2の下方に設けた窒素ガス導入管4から窒素カスを
導入するものである。電気炉1は炭化珪素発熱体5によ
り1400〜1500℃に加熱される。
サイアロン化した製品は、磁製管2の下端に設けた取り
出し機構6によって貯蔵室7に排出される構造となって
いる。
しかるにこの方法は、次に説明するような欠点を有する
(1)ムライト磁製管は、サイアロン生成反応時に発生
するCOガスにより、下記の反応式に従って反応を起こ
し、ムライトが分解されてA L203主体となり5i
n2が減少した分だけ多孔質化し、脆化損傷を起こす。
3Ah03 112Si 02 +2COφ 3 A 
L203 + 2 S i O+ 2 CO2(2)磁
製管2の製作可能寸法には限界があり、工業的規模での
大量なサイアロンの製造に適するような大口径の磁製管
の製造は不可能に近い。
(3)たとえ大口径の磁製管の製作が可能であったとし
ても、磁製管外部からの加熱方式であるため管中心部の
温度と管内周部の温度との差が大きく、中心部と内周部
とでサイアロン化率の異なった製品が生成し好ましくな
い。
(4)抵抗発熱体の寸法には限界があり、長さの長いも
のは市販されておらず、このためサイアロン製造装置の
高さに限界を生じ、生産能力にも限界がある。
(5)加熱法が磁製管外部からの間接加熱であるため熱
効率が悪く、また発熱体を囲む外筒がらの熱損失も大き
い。
次に、サイアロンを工業的に製造する従来の方法として
は、隔壁を通してガス炎で原料を加熱する間接加熱法ま
たは反応室内へ窒素の熱風を吹込む方法などが知られて
いる。しかしながら、これらの方法はいずれも製造装置
が大規模となり、また熱効率も良くないという欠点を有
する。
本発明は上記のような、従来方法およびその製造装置の
欠点を解消し、特性の均質なサイアロンまたは窒化珪素
を工業的に製造する方法およびその製造装置を提供する
ことを目的とするものである。
本発明の製造方法は、5i02または5iOzA h 
O3系原料粉とカーボン粉末とを混合し、該混合物を窒
素含有ガス気流中においてマイクロ波により加熱するこ
とを特徴とする窒化珪素また゛はサイアロンの製造方法
である。
本発明方法は、マイクロ波が酸化物の加熱に有効である
こと、原料を選択的に加熱すること、均一加熱ができる
こと、伝熱損失が少ないことおよび金属やカーボン材料
に反射される性質を有することに着目し、完成されたも
のである。すなわち熱源を炭化珪素、黒鉛などの抵抗発
熱体またはガス炎等による加熱によらず、マイクロ波に
よる誘′屯加熱によることとした。
マイクロ波加熱は、被加熱体自身の激しい分子振動によ
る自己発熱すなわち誘電加熱原理を利用したものであり
、以下に述べるような特徴を有する。
(1)マイクロ波が瞬間的に被加熱物のなかに浸透し、
数秒から数分で加熱させることができる。
(2)誘電損失で発熱するので、損失の大きいものにマ
イクロ波が選択的に吸収され、必要部だけを加熱するこ
とができる。
(3)抵抗発熱体またはガス炎による加熱とは異なり熱
源と原料反応室との間に隔壁を設ける必要かないので隔
壁による伝熱損失がない。
(4)被加熱物自体が発熱するため、周囲の炉壁等の温
度は上昇し難く、これらからの熱損失が少なく、高い熱
効率が得られる。
(5)被加熱物の各部が同時に発熱するため、多孔質な
材料でも表面と内部の温度差を少なく均一に加熱するこ
とができる。
本発明におけるマイクロ波加熱の適用は」−記特徴を生
かしたものである。すなわち、原料は混合造粒体である
ため多孔質であり、また造粒体が反応室に装入された場
合、粒間の空隙が大きく、多孔な充填層を形成する。マ
イクロ波加熱でほこのような空隙に影響されずに原料を
均一に加熱することができる。また1本発明のように原
料として矢然原料を使用した場合、原料の保有している
わずかな結晶水のためマイクロ波の誘電損失が大きく発
熱が容易となる。さらに、マイクロ波は金属または炭素
のような電気伝導性のよいものには吸1収されず反射さ
れるため、反応室内張りをカーボン質耐大物とすること
により、原料のみにマイクロ波が選択吸収され効率よく
加熱することができる。
マイクロ、波発生装置は入力側の電力消費量の約90%
をマイクロ波に変換することができ、さらに原料のマイ
クロ波の吸I率は70〜80%であるため、消費電力に
対する熱効率としては約0.6〜0.7の高い範囲の効
率を得ることができる。
マイクロ波は物質の中を進んで行く過程で電波エネルギ
ーが物質に吸収されて熱に変るため、電波の強さは指数
関数的に減衰する。その減衰割合は電波の入射エネルギ
ーが半減する深yで決まり、本発明では、約1.5mの
深さの範囲まで加熱できる。また上面からの加熱による
ため、安定した均熱帯が得られる。従って均質な製品を
得ることができる。本発明の方法は以上のように極めて
効率よく均質な窒化珪素またはサイアロンを製造するこ
とができるものである。・ 次に本発明の製造装置を図面によって説明する。第2図
は、本発明の製造装置の実施例の縦断面図である。
本発明の製造装置は、カーボン質耐火物を内張すした竪
形の筒状反応室から成り、該反応室の上端には原料装入
機構と、マイクロ波発生導入機構と、ガス排出管とを備
え、該反応室下端にはカス導入管と、製品取り出し機構
とを備えたことを特徴とする窒化珪素またはサイアロン
の製造装置である。
反応室8は、カーボン質耐火物9からなる反応管が内張
すされ、その外周部は耐火断熱材10で構成されている
。造粒体3は、ホッパー11に貯えられて反応室へ装入
される。ホッパー11の−に部はフランジシール12が
取りつけられ、下部にはダンパー13が設けられている
。これらは任意に開閉でき、ホンパー内および反応室内
の気畜を保持する。
造粒体3は連続的にスクリューフィーター14によって
反応室へ装入される。この装入速度と排出側スクリュー
フィーダー23の回転速度の調整によって造粒体3の反
応室内滞留時間を任意に制御することができる。また、
造粒体の装入は徐々に連続的に行い、上面からの輻射熱
損失を防止する。
加熱はマイクロ波発生装置15で発生したマイクロ波を
導波管16を通して炉の頂部へ導き石英カラス板17を
通過させ、炉内の造粒体3を加熱する。
反応室8の上部および下部に、は、ガス導入管4および
ガス排出管21が設けられている。ガス導入量は調節コ
ック18および流量計19によって調整され、窒化させ
るための窒素ガスでは通常理論量の2〜15倍としてい
る。また、吹込カスはカス予熱炉20で予熱できるため
高温ガスの吹込みも可能である。カス排出管21をホッ
パー11に接続することによって造粒体3の予熱を可能
とし、熱効率の点で優れた結果が得られる。
反応室内の温度は反応室の壁面に設けた測温カップル2
4により測定する。
反応室の下部は斜め下方に傾斜しており、この部分に変
速駆動モータ22によって駆動されるスクリューフィー
ター23が設けられている。スクリューフィーター23
の出口には製品を受ける受装置25が取りつけられる。
受装置25はその上縁を反応室の下部出口に密着し、内
部に油圧シリンダー27によって上下する移動床26が
設けれられている。
この受装W25は、左右に移動可能となっており、移動
床26が上端にある状態で反応室の下部出口に取り伺け
られ、取り付けた後移動床26を下方に移動して受装置
内に製品を充填する。受装置25が製品によって満たさ
れると、これを横に移動するとともに、新しい受装置2
5を取り付ける。この操作によって製品は、高温の状態
で空気に接触することなくまた反応室内に導入したカス
が漏洩することなく取り出される。反応室のシール性は
、造粒体中の炭材の酸化、遵大したカスの漏洩、反応に
より生じたCOの漏洩、装置内に空気が入り爆発する危
険性等を防止するため重要である。なお図示した実施例
では反応室の下部は傾斜しているが、製品を取り出す時
のシール性がよければ如何なる形状でもよい。
本発明の装置の内張り耐火物をカーボン質耐火物にする
ことによってサイアロン生成時に発生するCOガスによ
る耐火物の損傷も防ぐことがでSる。
本発明の製造装置では、原料として粉末を造粒したペレ
ットを使用するため、粉塵発生は少なくまた処理後のペ
レットは比較的多孔質な状態で得られるため、微粉砕も
容易である。
本発明の製造装置により、磁製管等を用いず従ってCO
による反応室の脆化損傷を生ずることなく、また極めて
高い熱効率の直接加熱により、均質な窒化珪素またはサ
イアロンを連続的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のサイアロン製造装置の断面図、第2図は
本発明の製造装置の一実施例の縦断面図である。 l・・・竪形電気炉、2・・・磁製管、3・・・造粒体
、4・・・窒素ガス導入管、5・・・炭化珪素発熱体、
6・・・造粒体取り出し機構、7・・・貯蔵室、8・・
・反応室、9・・・カーボン質耐火物、lO・・・耐火
断熱材、11・・・ホンパー、14・・・装入側スクリ
ューフィーダー、15・・・マイクロ波発生装置、16
・・・導波管、17・・・石英ガラス板、18・・・調
節コック、19・・・流量計、20・・・カス予熱炉、
21・・・ガス排出管、22・・・変速駆動モータ、2
3・・・排出側スクリューフィーダー、24・・・測温
カップル、25・・・製品受装置、26・・・移動床、
27・・・油圧シリンダー 特許出願人  川崎製鉄株式会社 川崎炉材株式会社 昭和電工株式会社 代理人 弁理士  小杉佳男

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l  5i02 またはSi 02  AhOt系原料
    粉とカーボン粉末とを混合し、該混合物を窒素含有ガス
    気流中においてマイクロ波により加熱することを特徴と
    する窒化珪素またはサイアロンの製造方法。 2 カーボン質耐火物を内張すした竪形の筒状反応室か
    ら成り、該反応室の上端には原料装入機構とマイクロ波
    発生導入機構とガス排出管とを備え、該反応室下端には
    ガス導入管と製品取り出し機構とを備えたことを特徴と
    する窒化珪素またはサイアロンの製造装置。
JP21946382A 1982-12-15 1982-12-15 窒化珪素またはサイアロンの製造方法およびその装置 Pending JPS59111905A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0327401A2 (en) * 1988-02-05 1989-08-09 The Dow Chemical Company Apparatus and method for producing uniform, fine ceramic powders
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