JPS59111058A - Structural analysis method and device - Google Patents

Structural analysis method and device

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JPS59111058A
JPS59111058A JP57214093A JP21409382A JPS59111058A JP S59111058 A JPS59111058 A JP S59111058A JP 57214093 A JP57214093 A JP 57214093A JP 21409382 A JP21409382 A JP 21409382A JP S59111058 A JPS59111058 A JP S59111058A
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JP
Japan
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structural analysis
frequency
pulse
scanning
wave
Prior art date
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JP57214093A
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Japanese (ja)
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ジヨ−ジ・マ−キン
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Individual
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  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は固体物の非破壊的な構造解析方法および構造
解析装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method and device for non-destructive structural analysis of solid objects.

固体物にダメージを与えることのない非破壊的な構造解
析は材料の成分、構造、欠陥、均質性等を評べる上で重
要性が増している。
Non-destructive structural analysis that does not damage solid objects is becoming increasingly important in evaluating material composition, structure, defects, homogeneity, etc.

しかしながら、多くの非破壊検査技術は科学というより
はむしろ技能であり、しかも定性的情報が得られるにす
ぎないことが多い。
However, many nondestructive testing techniques are more art than science, and often provide only qualitative information.

超音波が材料中のキズと受波センサとの間の距離を移動
した後でもそのキズに関する情報を保持していることか
ら、キズを検出する手段としての超音波の使用に関する
多くの研究が集中して行われている。
Much research has focused on the use of ultrasound as a means of detecting flaws, as the ultrasound retains information about the flaw even after traveling the distance between the flaw in the material and the receiving sensor. It is being done.

初期には結果を定量化する試みは一連の既知反射撮幅を
与えるように設計された標準サンプルに対する較正技術
に本質的に基づいていた。標章の基準サンプルを憔備す
る上での困難性から、これらの試みはせいぜい部分的な
成功にとどまった。
Early attempts to quantify results were essentially based on calibration techniques against standard samples designed to provide a series of known reflection widths. These attempts were at best only partially successful because of the difficulties in preparing reference samples of the mark.

より多くの情報を得るためには、センサの組を用いたり
、散乱した超音波パターンを記録するための1つのセン
サによるスキャンニングを適用したりすることができた
。しかし、このことは固体中の弾性波が3つの可能な極
性を持っていることからさらに複雑な問題を招く。
To obtain more information, one could use a set of sensors or apply scanning with one sensor to record the scattered ultrasound pattern. However, this introduces further complications since elastic waves in solids have three possible polarities.

したがって、提起された問題は散乱パターンから物体の
構造を推定することである。散乱パターンから複雑な数
学上の問題を解(理論家によらずに構造の正確な視覚映
像を提供することが可能ならば、画像化はその解決に役
立つ。
Therefore, the problem posed is to estimate the structure of an object from the scattering pattern. Imaging can help solve complex mathematical problems from scattering patterns if it is possible to provide an accurate visual picture of a structure without requiring theorists to do so.

これらの方法は得られた情報が定量化できる範囲を制限
する多くの固有の問題を有している。特に、これらの問
題はピンの先端程度の十分な精度と整合性を持つ波のパ
ターンを発生すること、十分な分解能で波パターンを機
械的に検知すること、そして十分な精度と分解能で連続
的に!動している波パターンから波パターンを決定する
ことにおける困難さに基づいている。
These methods have a number of inherent problems that limit the extent to which the information obtained can be quantified. In particular, these problems include generating wave patterns with sufficient precision and consistency on the order of the tip of a pin, mechanically sensing wave patterns with sufficient resolution, and detecting wave patterns continuously with sufficient precision and resolution. To! It is based on the difficulty in determining wave patterns from moving wave patterns.

固体物の非破壊的な構造解析方法についての本発明は、
物体中に弾性的な波のパターンを発生するように物体の
入力表面に対し選択された周波数で波発生パルスを加え
ることと、出力信号を得るために波発生パルス周波数の
倍数である周波数において、発生した波パターンを真空
チャンバ内で電子ビームスキャン装置を用いて物体の出
力表面全体にわたってスキャンさせることと、波発生パ
ルスに関係してスキャン装置の動作を制御し、あらかじ
め選択された瞬間時間において波パターンを表示する表
示信号を発生する出力信号を処理することと、この表示
信号および波発生パルスに関係する基準信号から合成信
号を発生させることと、物体を表現する再構成のための
再構成手段を与えるように前記合成信号を処理すること
から成っている。
The present invention relates to a method for non-destructive structural analysis of solid objects,
applying a wave-generating pulse at a frequency selected to an input surface of the object to generate an elastic wave pattern in the object, and at a frequency that is a multiple of the wave-generating pulse frequency to obtain an output signal; The generated wave pattern is scanned in a vacuum chamber using an electron beam scanning device over the output surface of the object, and the operation of the scanning device is controlled in relation to the wave generation pulses to scan the wave pattern at preselected instantaneous times. processing the output signal to generate a display signal representing the pattern; generating a composite signal from the display signal and a reference signal related to the wave-generating pulse; and reconstruction means for reconstructing a representation of the object. processing said composite signal to give .

さら九本発明によれば、固体物の非破壊的な構造解析用
の装置が提供される。この装置は被解析物体中に弾性的
な波パターンを発生するようにその入力表面に選択され
た周波数で加えられるパルスを発生させるパルス発生器
と、出力信号を得るために、発生したパルス周波数の倍
数である周波数において、発生した波パターンを真空チ
ャンバ内で物体の出力表面全体にわたってスキャンする
電子ビームスキャン装置と、パルス発生装置に関係して
スキャン装置の動作を制御する制御装置およびあらかじ
め選択された瞬間時間に波パターン2表示する表示信号
を発生させる出力信号の処理を行う処理装置と、この表
示信号および発生したパルス周波数に関係する基準信号
から合成信号を発生する信号発生器と、物体を表現する
再構成手段を与えるように合成信号を処理する処理装置
とから成っている。
Further, according to the present invention, an apparatus for non-destructive structural analysis of solid objects is provided. The device includes a pulse generator that generates pulses that are applied at a selected frequency to its input surface to generate an elastic wave pattern in the object being analyzed, and a pulse generator that generates pulses at a selected frequency to obtain an output signal. an electron beam scanning device that scans the generated wave pattern over the output surface of the object in a vacuum chamber at frequencies that are multiples; a control device that controls the operation of the scanning device in conjunction with a pulse generator; A processing device that processes an output signal that generates a display signal that displays a wave pattern 2 in instantaneous time, a signal generator that generates a composite signal from this display signal and a reference signal related to the generated pulse frequency, and a signal generator that represents an object. and a processing unit for processing the composite signal to provide a means for reconstructing the signal.

この発明の一つの実施例においては、表示信号はスキャ
ン周波数と波発生パルス周波数との間の位相差を漸進的
に変化させることにより、また波発生パルスに関係した
一定の時間間隔で出力信号を周期的に処理することによ
り発生する。
In one embodiment of the invention, the display signal is generated by progressively changing the phase difference between the scan frequency and the wave generation pulse frequency and at regular time intervals relative to the wave generation pulse. Occurs due to periodic processing.

装置の発明についての対応する実施例においては、制御
装置はスキャン周波数とパルス周波数の位相差を漸進的
に変化させることによりパルス発生器に関係してスキャ
ン装置の制御動作に適合され、処理装置はパルス周波数
に関係した一定の時間間隔で定期的に出力信号を処理す
ることにより表示信号を発生するように適合される。
In a corresponding embodiment of the device invention, the control device is adapted to the control operation of the scanning device in relation to the pulse generator by progressively changing the phase difference between the scanning frequency and the pulse frequency, and the processing device is adapted to control operation of the scanning device in relation to the pulse generator. It is adapted to generate a display signal by processing the output signal periodically at regular time intervals related to the pulse frequency.

出力信号はスキャン周波数とパルス発生周波数との間の
位相差の漸進的変化とともに、波発生パルスに関係した
一定の時間間隔で周期的に処理されるので、表示信号は
スキャンされる連続的な出力表面を表示[7、スキャン
装置により供給される出力信号の各部から発生する。
The output signal is processed periodically at regular time intervals related to the wave generation pulses, with gradual changes in the phase difference between the scan frequency and the pulse generation frequency, so that the displayed signal is a continuous output that is scanned. Displaying the surface [7, generated from each part of the output signal provided by the scanning device.

このように表示信号はあらかじめ選択された出力表面上
の波パターンのサンプルとなる。
The display signal is thus a sample of the wave pattern on the preselected output surface.

位相差は連続的にまたはステップ状に変化しうろことお
よびステップ状の変化の割合または大きさは場合によっ
ては表示信号により与えられる分解能の程度を定めるこ
とが理解される。
It is understood that the phase difference may vary continuously or in steps, and that the rate or magnitude of the step change may determine the degree of resolution provided by the display signal.

さらにパルス周波数の倍数であるスキャン周波数はスキ
ャン装置によって取扱いやすい周波数を供給するように
容易に制御されうろことが理解される。
Furthermore, it will be appreciated that the scan frequency, which is a multiple of the pulse frequency, may be easily controlled by the scanning device to provide a manageable frequency.

あらかじめ選択された瞬間時間に波のパターンを表示す
る表示信号を発生する本発明の代りの実施例においては
スキャンの割合は同じ目的を達成するために漸進的に変
化しうる。しかし、このことは表示信号が発生した時点
で特別のスキャン割合に関係して発生する表示信号を調
整するように出力信号をさらに処理する必要があること
が理解される。
In an alternative embodiment of the invention that generates a display signal displaying a wave pattern at preselected instantaneous times, the rate of scan may be varied progressively to accomplish the same objective. However, it will be appreciated that this requires further processing of the output signal to adjust the generated display signal in relation to the particular scan rate at the time the display signal is generated.

この発明の一つの実施例では処理手段は光学的ホログラ
ムの形に再構成手段を提供する光学的な処理手段よりな
る。
In one embodiment of the invention, the processing means comprises optical processing means providing reconstruction means in the form of an optical hologram.

この発明の代りの実施例では処理手段はコンピュータホ
ログラムの形に再構成手段を提供するプログラムされた
コンピュータよりなる。
In an alternative embodiment of the invention, the processing means comprises a programmed computer providing reconstruction means in the form of a computer hologram.

このコンピュータは例えば外来ノイズや影響を与える妨
害などを有効にコンピュータが削除することを可能にし
ながらディジタルホログラムを提供するようプログラム
されていると便利である。
Conveniently, the computer is programmed to provide a digital hologram while allowing the computer to effectively cancel out extraneous noise, influencing disturbances, etc., for example.

適当なコンピュータは通常の入手可能な多くの形式のも
ののいずれかから選択することができる。
A suitable computer may be selected from any of the many types commonly available.

構造解析装置はホログラムからホログラフを提供するデ
ィスプレイモジュールを有している。
The structural analysis device has a display module that provides holograms from holograms.

もし望むならば作られた光学ホログラムまたはコンピュ
ータホログラムのいずれかの従来技術を用いて、被解析
物体の必要な断面を再構成することに利用することがで
きる。
If desired, conventional techniques, either optical holograms or computer holograms produced, can be used to reconstruct the required cross-section of the object to be analyzed.

通常の形式の超音波パルス発生装置のいずれがが物体中
の弾性的な波パターンを発生するのに使用されうるが、
この発明の一つの実施例ではパルス発生装置はレーザビ
ームパルスヲ発生するレーザにより構成されていれば便
利である。
Although any of the conventional types of ultrasonic pulse generators can be used to generate elastic wave patterns in objects,
Conveniently, in one embodiment of the invention, the pulse generator comprises a laser for generating laser beam pulses.

レーザは高分解能および正確で効率的な周波数制御能力
を向上させることによって正確でビンの先端状のパルス
照射を可能にする十分に細いビームパルスを提供できる
利点を有する。
Lasers have the advantage of providing sufficiently narrow beam pulses to enable precise, tip-of-the-line pulsed illumination by increasing high resolution and accurate and efficient frequency control capabilities.

電子ビームスキャン装置は被解析物体の表示の再構成に
有効な再構成手段を供給し適当な程度の分解能を供給す
る十分に細い電子ビームを有するいかなる通常の電子ビ
ームスキャン装置であってもよい。
The electron beam scanning device may be any conventional electron beam scanning device having a narrow enough electron beam to provide effective reconstruction means for reconstructing a representation of the object being analyzed and to provide a suitable degree of resolution.

例えば、スキャン装置はビジコン(Vldicon) 
電子管のような間接的スキャン装置の形式のものでもよ
い。このビジコン管は被解析物体と管の間に高真空また
は高電w4質を含む液体であるトランスジューサを通常
必要とする。
For example, the scanning device is Vldicon
It may also be in the form of an indirect scanning device such as an electron tube. The vidicon tube typically requires a transducer, either a high vacuum or a liquid containing a high electric current, between the object to be analyzed and the tube.

この発明の他の実施例ではスキャン装置は真空チャンバ
の中に収納された走査電子顕微鏡の形式%式% 走査電子顕微鏡は高分解能を与える非常に細い電子ビー
ムのスキャンニングを考えるという利点と外部からの妨
害を減少させながら物体の出力表面を直接スキャンでき
るという利点とを併せ持つものである。
In another embodiment of the invention, the scanning device is a type of scanning electron microscope housed in a vacuum chamber.A scanning electron microscope has the advantage of considering the scanning of a very narrow electron beam that gives high resolution and is externally This combination has the advantage of being able to directly scan the output surface of an object while reducing disturbances.

この発明のこの実施例の例では、真空チャンバは被解析
物を真空チャンバの中で支持する通常の形式の支持台を
有している。
In this example of this embodiment of the invention, the vacuum chamber has a conventional type of support for supporting the analyte within the vacuum chamber.

この発明のこの例では、そのような真空チャンバの中で
圧力と共に妨害の原因となる物体上のパルス発生を減少
させるために、パルス発生器はレーザビームパルスを発
生するレーザ、真空チャンバの輪郭をなしている壁をシ
ールされて突き抜はレーザビームパルスを被解析物に直
接導くビーム誘導ファイバを有している。
In this example of the invention, in order to reduce pulse generation on objects that cause disturbances as well as pressure in such vacuum chambers, the pulse generator uses a laser that generates laser beam pulses, contouring the vacuum chamber. A sealed wall punching has a beam guiding fiber that directs the laser beam pulses directly to the analyte.

この発明に使用するのに適した各種の形式の走査電子顕
微鏡が入手可能である。
Various types of scanning electron microscopes are available that are suitable for use with this invention.

同様に、この発明の制御装置、処理装置、発生手段はい
かなる通常形式のものでもよい。
Similarly, the control, processing, and generating means of the present invention may be of any conventional type.

パルス周波数に関係する基進信号は従来技術のいずれか
により発生されまたは得られる。
The base signal related to pulse frequency may be generated or obtained by any conventional technique.

したがって、例えば、暴悪信号は被解析物体に波発生パ
ルスが達する前にこのパルスを分割することにより得ら
れるものでも、被解析物体と波発生パルス間でエネルギ
ートランスジューサを用いて得られるものでも、またパ
ルス発生装置の電子制御を検知して得られるものでも、
その他のものでもよい。
Thus, for example, the violent signal may be obtained by splitting the wave-generating pulse before it reaches the object to be analyzed, or by using an energy transducer between the object to be analyzed and the wave-generating pulse. Also, even if it is obtained by detecting the electronic control of the pulse generator,
Other items may also be used.

本発明の方法は被解析物体の出力表面における不完全性
が原因で生じる干渉を減少させるためにその出力表面を
処理する工程を含んでいる。
The method of the present invention includes treating the output surface of the object to be analyzed to reduce interference caused by imperfections in the output surface.

したがって例えば対象物が研摩可能なものであるならば
、その表面は研摩される。
Thus, for example, if the object is capable of being polished, its surface will be polished.

代りに、または被解析物体が十分に磨くごとのできない
ものである場合は、物体の出力表面はコーテイング膜に
より被覆されるように処理される。
Alternatively, or if the object to be analyzed cannot be polished sufficiently, the output surface of the object is treated so as to be covered with a coating film.

このようなコーテイング膜は塗布された後に研摩される
ことが便利である。
Conveniently, such coatings are polished after being applied.

出力表面のコーティングには各種の材料が適しているが
、コーティング材料は金属および半金属により構成され
る群から選択されるのが都合がよ(10 したがって、例えば、コーティング材料はシリコン、カ
リウム、ケルマニウム、ビスマス等)適当な金属または
半金属のいずれがであればよい。
Although various materials are suitable for coating the output surface, it is advantageous for the coating material to be selected from the group consisting of metals and metalloids (10 Thus, for example, the coating material may be silicon, potassium, kermanium, etc.). , bismuth, etc.) or any suitable metalloid.

本発明の他の実施例においては、被解析物体の出力表面
はスキャン装置による波パターンの検知を容易にするよ
うな発生した波パターンに静電的に応答することのでき
る静電層を伴うように処理される。
In another embodiment of the invention, the output surface of the object to be analyzed is provided with an electrostatic layer capable of being electrostatically responsive to the generated wave pattern to facilitate detection of the wave pattern by the scanning device. will be processed.

静電層は金属層であることが都合が良い。Conveniently, the electrostatic layer is a metal layer.

静電層は発生した波パターンに応じて遅延なしに形状効
果の改良と分解能の改良を伴って急速に静電帯電が変化
しうるという利点を与える。
The electrostatic layer offers the advantage that the electrostatic charge can be changed rapidly in response to the generated wave pattern without delay, with improved shape effects and improved resolution.

本発明の方法と装置は固体物の定量的な構造解析に用い
られるものであるが、固体物の非破壊的な定量的構造解
析に特に適しているものである。
The method and apparatus of the present invention are used for quantitative structural analysis of solid objects, and are particularly suitable for non-destructive quantitative structural analysis of solid objects.

本発明の方法と装置は固体物の定量的構造解析に関して
種々の応用を有しうるものであるが、各種の物体すなわ
ち部品、構造部品等の地質学上の解析に関する特別の応
用が可能である。
Although the method and apparatus of the present invention may have various applications in the quantitative structural analysis of solid objects, it has particular application in the geological analysis of various objects, components, structural components, etc. .

以下本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は固体物の非破壊的な定量的構造解析用の装置1
0を説明するものである。
Figure 1 shows equipment 1 for non-destructive quantitative structural analysis of solid objects.
0.

装置10は物体12の内部における弾性波20を物体1
2の出力表面24上で弾性波パターン22として得るた
めに、選択された周波数で物体120人力表面18に加
えられるレーザビームパルス16を発生するレーザ14
の形をとったパルス発生装置を有している。
A device 10 converts elastic waves 20 inside an object 12 into an object 1.
a laser 14 that generates laser beam pulses 16 that are applied to an object 120 and a force surface 18 at a selected frequency to obtain as an acoustic wave pattern 22 on an output surface 24 of 2;
It has a pulse generator in the form of a.

装置10は波パターン22をスキャンする電子ビームス
キャン装置26をさらに有している。電子ビーム装置の
ための通常の真空チャンバは図面を明確にするため省略
しである。
The apparatus 10 further includes an electron beam scanning device 26 for scanning the wave pattern 22. A conventional vacuum chamber for an electron beam device has been omitted for clarity of the drawing.

電子ビームスキャン装置26は電子ビーム30を発生し
てこれをレーザビームパルス16の周波数の倍数である
スキャン周波数で出力表面24を走査するようにする電
子ビーム発生装置路を有している。
Electron beam scanning device 26 has an electron beam generator path that generates an electron beam 30 and causes it to scan output surface 24 at a scan frequency that is a multiple of the frequency of laser beam pulses 16.

電子ビームスキャン装置26は電子ビーム30によって
波パターン22に対応して出力表面U上に生じる静電応
答を検出し、出力線34を通じて出力電気信号を発生す
るセンサ装置32をさらに有している。
The electron beam scanning device 26 further includes a sensor device 32 for detecting the electrostatic response produced by the electron beam 30 on the output surface U in response to the wave pattern 22 and generating an output electrical signal via an output line 34.

物体12を通過する発生した弾性波20は出力表面24
に地形図のようなものまたは弾性波パターン22を作り
出す。出力表面列において作り出されたすべての電子の
集中は弾性波20により作り出された表面の地形図と直
接関係し、センサ装置32により作り出された出力信号
の大きさを定める。
The generated elastic wave 20 passing through the object 12 is transmitted to the output surface 24
A topographical map or elastic wave pattern 22 is created. The concentration of all electrons created at the output surface array is directly related to the topography of the surface created by the acoustic waves 20 and determines the magnitude of the output signal created by the sensor device 32.

装910はさらに、スキャン周波数とパルス周波数間の
位相差を漸進的に変化させることによってレーザ14に
関係してスキャン装置26の動作を制御するのに適用さ
れる制御装置36、あらかじめ選択された瞬間時間にお
いて波のパターンを表示する表示信号を発生させる処理
装置38、表示信号と発生したパルス周波数に関係した
基草信号とから合成信号42を発生する発生手段40を
有している。制御装置36、処理装置38、発生手段4
0は通常のものであり、当業者には良く知られているシ
ステムである。し、たがってこれらのシステムは各当業
者によって入手可能なシステムから容易に選択されうる
し、本発明にしたがって動作するように通常の方法で適
用し組合わせることができる。
The device 910 further includes a control device 36 adapted to control the operation of the scanning device 26 in relation to the laser 14 by progressively changing the phase difference between the scan frequency and the pulse frequency at preselected instants. It comprises a processing device 38 for generating a display signal representing a wave pattern in time, and generating means 40 for generating a composite signal 42 from the display signal and a substrate signal related to the generated pulse frequency. Control device 36, processing device 38, generation means 4
0 is conventional and is a system well known to those skilled in the art. These systems can therefore be readily selected from those available by each person skilled in the art and adapted and combined in a conventional manner to operate in accordance with the invention.

制御装置36はスキャン周波数をパルス周波数に同期さ
せ、またあらかじめ選択された瞬間時間で発生した波パ
ターンを表示する表示信号を発生させる位相差を変える
ように働く。したがってその動作は例えば従来の走査電
子顕微鏡におけるスキャンニングコイルを制御するため
の従来の制御装置と容易に比較できる。
The controller 36 serves to synchronize the scanning frequency to the pulse frequency and to vary the phase difference that produces a display signal representing the wave pattern occurring at a preselected instantaneous time. Its operation can therefore be easily compared with conventional control devices for controlling scanning coils in conventional scanning electron microscopes, for example.

基準信号は線43を通じて発生手段40に与えられる電
気信号であることが便利であり、必要な一定の周波数の
レーザビームパルス16を発生するレーザ14の電子的
制御に応じて発生する。
The reference signal is conveniently an electrical signal applied to the generating means 40 via line 43 and is generated in response to electronic control of the laser 14 which generates laser beam pulses 16 of the required constant frequency.

合成信号42はコンピュータホログラムを発生するコン
ピュータ44または光学ホログラムを発生する光学処理
装置46のいずれかに送られる。
The composite signal 42 is sent to either a computer 44 that generates a computer hologram or an optical processing device 46 that generates an optical hologram.

コンピュータホログラムまたは光学ホログラムは場合に
よっては物体12のホログラフを与えるような従来技術
によって再構成が可能である。さらに、場合によっては
従来の誹整または焦点調整手段により物体12のいかな
る所望断面のホログラフも得られる。
Computer holograms or optical holograms can be reconstructed by conventional techniques to provide a hologram of object 12, as the case may be. Additionally, a hologram of any desired cross-section of object 12 may be obtained, optionally by conventional refining or focusing means.

制御装置36は位相差を連続的に変えるのに適用され、
位相差を連続するスキャン動作問または連続するスキャ
ン動作の選択された倍数間でステップ状に変更する上で
の適用に便利である。
The control device 36 is adapted to continuously vary the phase difference;
It is useful for applications in changing the phase difference in steps between successive scan operations or selected multiples of successive scan operations.

処理装置38の動作は制御装置36による位相差の変更
と同様であって、処理装置38はレーザビームパルス1
6の周波数に関係した一定の時間間隔でスキャン装置2
6のスキャン動作の量基準信号を発生する。
The operation of the processing device 38 is similar to changing the phase difference by the control device 36, and the processing device 38 changes the laser beam pulse 1.
scanning device 2 at regular time intervals related to the frequency of 6.
6. Generates a quantity reference signal for the scan operation.

位相差の漸進的変更とともに、電子ビーム30により特
別のスキャン走査の間、処理装置38により発生された
表示信号はその瞬間に電子ビーム30が示す表面領域を
表示する信号となる結果を生じる。
With the gradual change in phase difference, the display signal generated by the processing device 38 during a particular scan by the electron beam 30 results in a signal representing the surface area that the electron beam 30 is presenting at that moment.

したがって、位相差が漸進的に変化するにつれて、出力
信号から表示信号が発生した瞬間に電子ビーム30が示
す出力表面24の特別の領域は、レーザビームパルス周
波数に関係した一定の時間間隔で出力信号を定期的に処
理することによって表示信号が発生するため漸進的に変
化することが理解される。
Therefore, as the phase difference changes progressively, the particular area of the output surface 24 that the electron beam 30 represents at the moment when the display signal is generated from the output signal will change from the output signal to the output surface 24 at regular time intervals related to the laser beam pulse frequency. It is understood that the display signal is generated by periodically processing the data and therefore changes gradually.

このようにして、処理装置38により発生される表示信
号は、特別の瞬間時間波パターンを表示する。このとき
、全表示信号により表示される波は選択された時間間隔
の間あたかも不動状態または凍った状態であるように波
パターン22を表示する結果となる。
In this way, the display signal generated by processing device 38 displays a particular instantaneous time wave pattern. The waves displayed by the full display signal then result in the wave pattern 22 being displayed as if it were stationary or frozen during the selected time interval.

したがって、処理装置38は波スキャンパターンの座標
および深さにしたがったデータを分配する動作と、制御
装置36により制御される電子ビームスキャン装置26
により得られるセットポイントデータの蓄積を結合する
ことが理解される。したがって、処理装置は従来のもの
であり、例えばアナログシステムのように動作するもの
(例えばテレビの画面)でも、ディジタルシステムのよ
うに動作するもの(例えばコンピュータ)のいずれであ
ってもよい。
Accordingly, the processing unit 38 operates to distribute data according to the coordinates and depth of the wave scan pattern and the electron beam scanning unit 26 is controlled by the controller 36.
It is understood that combining the accumulation of set point data obtained by Accordingly, the processing device may be conventional, eg, operating like an analog system (eg a television screen) or operating like a digital system (eg a computer).

ある1間時間に発生したかのように出力光面別の全面に
わたって完全な波パターン22の表示信号を供給するこ
とにより、完全に削ることはできないにしても、波パタ
ーンの連続的な振動により提起される問題の複雑な解析
を減少させ、それによって波パターンの解析および物体
12の構造の定量的な解析を容易にするという重要な利
点をもたらす。
By supplying a display signal of a complete wave pattern 22 over the entire surface of the output light surface as if it had occurred in a certain period of time, the continuous vibration of the wave pattern can be This provides the important advantage of reducing the complexity of the analysis of the problem posed, thereby facilitating the analysis of the wave pattern and the quantitative analysis of the structure of the object 12.

発生手段40は物体12を表現する視覚または他の再構
成のためのホログラムを提供する従来のホログラフ技術
にしたがって表示信号と基準信号とを比較する。
Generating means 40 compares the display signal and the reference signal in accordance with conventional holographic techniques to provide a hologram for visual or other reconstruction representing object 12.

発生手段40は通常ヘテロダインと呼ばれている従来の
信号混合装置として純粋に機能することが理解される。
It will be appreciated that the generating means 40 functions purely as a conventional signal mixing device, commonly referred to as a heterodyne.

アナログシステムの場合、発生手段40は処理装置38
およびレーザ14の電子制御に接続されたヘテロダイン
として表現される。ディジタルシステムの場合には発生
手段40はスキャンパターンの座標アドレスにしたがっ
た基準データを分配するコンピュータプログラムのよう
に動作する。
In the case of an analog system, the generating means 40 is the processing unit 38
and a heterodyne connected to the electronic control of the laser 14. In the case of a digital system, the generating means 40 operates like a computer program which distributes the reference data according to the coordinate addresses of the scan pattern.

波パターン220分解能の詳細は位相差が漸進的に変化
する割合および程度に依存し、また効率的に制御される
The details of the wave pattern 220 resolution depend on the rate and extent to which the phase difference changes over time and is effectively controlled.

したがって、特別な物体12のために必要な分解能の程
度に依存して、位相差の割合や連続する位相差の程度は
スキャン装置26の動車的な能力に一致する最小の操作
で都合良く制御されており、したがってスキャン装置2
6の能力に依存した分解能を提供する。
Therefore, depending on the degree of resolution required for a particular object 12, the proportion of phase differences and the degree of successive phase differences may be advantageously controlled with a minimum of manipulation consistent with the dynamic capabilities of scanning device 26. Therefore, scanning device 2
It provides a resolution dependent on the ability of 6.

第1図に示された実施例においては物体12は例えば表
面の不完全性による波パターン22における干渉をさけ
るための研摩後においても十分に滑らかな出力表面を提
供することができない岩のような物体である。
In the embodiment shown in FIG. 1, the object 12 is, for example, a rock that cannot provide a sufficiently smooth output surface even after polishing to avoid interference in the wave pattern 22 due to surface imperfections. It is an object.

したがってこの実施例では出方表面冴は図示のように非
常に良く磨かれた表面を有する薄い金属または半金属の
コーティング層48により被覆されている。
In this embodiment, therefore, the exit surface is coated with a thin metal or metalloid coating layer 48 having a highly polished surface as shown.

コーティング層48は出力表面24において可能性のあ
る不完全性にともなう干渉を減少させるという利点を有
する。
Coating layer 48 has the advantage of reducing interference due to possible imperfections in output surface 24.

スキャン装置26の検知能力を向上させるためにコーテ
ィング層48の研暦面はその上に用意された静電層50
を有している。
The polished surface of coating layer 48 has an electrostatic layer 50 provided thereon to improve the sensing capabilities of scanning device 26.
have.

静電層50はコーティング層48の上に設けられた独立
の金縞層であるが、コーティング層48はコーティング
層48と静電層の双方を兼用する適当な金属であれば都
合が良い。
Although electrostatic layer 50 is a separate gold striped layer disposed over coating layer 48, coating layer 48 may conveniently be any suitable metal that serves as both coating layer 48 and an electrostatic layer.

静[#SOはそれが波パターン22に静電的に何らの慣
性を伴わずに反応することができ、それによって電子ビ
ーム30との静電的な交互作用を容易にし、検知装置に
よる波パターン22の検知能力を高めるという利点を与
える。
Electrostatic [#SO allows it to react electrostatically to the wave pattern 22 without any inertia, thereby facilitating electrostatic interaction with the electron beam 30 and detecting the wave pattern by the sensing device. This provides the advantage of increasing the detection ability of 22.

第2図に関しては、参照番号110は固体物112の非
破壊的な定量的構造解析用の他の実施例を示す。
With reference to FIG. 2, reference numeral 110 indicates another embodiment for non-destructive quantitative structural analysis of solid objects 112.

装置110は装置10と実質的に対応し、また対応部品
は参照番号が第2図では100番台となっていることを
除いて対応する番号で示されている。
Device 110 substantially corresponds to device 10, and corresponding parts are designated by corresponding numbers, except that reference numbers are in the 100s in FIG.

装置110においては、電子ビームスキャン装置26は
走査電子顕微鏡を有しており、装置t11oは物体11
2の所望断面または物体112自体の視覚的再構成を表
示するディスプレイモジュール52を有している。
In device 110, electron beam scanning device 26 comprises a scanning electron microscope, and device t11o scans object 11.
2 or a visual reconstruction of the object 112 itself.

走査電子顕微鏡126は真空チャンバ54を有している
Scanning electron microscope 126 has a vacuum chamber 54 .

真空チャンバ54はその中で物体112ヲ支持する支持
台56を有している。
Vacuum chamber 54 has a support platform 56 for supporting object 112 therein.

装置110はさらにレーザビームパルス116を導くレ
ーザビーム誘導ファイバ58を有している。
Device 110 further includes a laser beam guiding fiber 58 for guiding laser beam pulses 116.

誘導ファイバ58は従来のいかなる形式のものでもよく
、真空チャンバ54の輪郭をなす底板60をシールされ
て突き抜けている。
The guiding fiber 58 may be of any conventional type and extends in a sealed manner through a bottom plate 60 that defines the vacuum chamber 54.

シーリングはシーリングスリーブ62によりなされてい
る。
Sealing is provided by a sealing sleeve 62.

誘導ファイバ58は支持台56を突き抜けて物体112
の入力表面118に達している。
The guiding fiber 58 penetrates the support base 56 to the object 112.
has reached the input surface 118 of.

このことはレーザビームが真空室54で入力表面118
に直接照射でき、それによりレーザビームパルス116
の間接照射により、また使用中真空チャンバ54内の圧
力減少によりそれぞれ発生しうる干渉を減少させるとい
う利点を発揮する。
This means that the laser beam enters the input surface 118 in the vacuum chamber 54.
can be directly irradiated with the laser beam pulse 116.
This provides the advantage of reducing interferences that may occur due to indirect irradiation of the vacuum chamber 54 and due to pressure reduction within the vacuum chamber 54 during use.

物体112を真空室54内で位置合せすることにより、
他の従来の電子ビームスキャン装置と比べて、走査型電
子顕微鏡の高い解像力と効率的なスキャン能力を物体1
12の構造の効率的で詳細な定量的解析に特に動車的方
法で利用することができる。
By aligning object 112 within vacuum chamber 54,
Compared to other conventional electron beam scanning devices, scanning electron microscopes offer high resolution and efficient scanning ability for objects.
It can be used in a particularly dynamic manner for efficient and detailed quantitative analysis of 12 structures.

したがって、第2図に示されたこの発明の実施例は高分
解能の走査電子顕微鏡を効率的に利用すること、入力表
面118に直接照射されたレーザビームパルスのビンの
先端の精度と制御、それによって得られる物体112の
構造の正確で効率的な定量的な解析の利点をあわせて得
ることができる。
Accordingly, the embodiment of the invention illustrated in FIG. The advantages of accurate and efficient quantitative analysis of the structure of the object 112 obtained by the method can also be obtained.

装置110は装置10の場合と同じく、特別に選択され
た瞬間時間で波パターンを表示する表示信号を発生する
ことにより、発生した波パターンの連続的な撮動の動き
による干渉を最小にしながら物体112の表示の再構成
も行うので解像を容易にするという別の利点も有する。
The device 110, like the device 10, generates a display signal that displays a wave pattern at specially selected instantaneous times so that the generated wave pattern can be imaged with minimal interference from continuous imaging motion of the object. It also has the additional advantage of facilitating resolution since it also reconstructs the 112 display.

第3図を参照すると参照番号210は本発明にしたがっ
た装置のさらに別の実施例を示している。
Referring to FIG. 3, reference numeral 210 designates yet another embodiment of an apparatus according to the present invention.

装置210は一般的に装置110に対応する。したがっ
て対応する部品は100番台の11″の代りに12”が
使用された対応する参照番号で示されている。
Device 210 generally corresponds to device 110. Corresponding parts are therefore designated with corresponding reference numbers in the 100 series, with 12'' used instead of 11''.

装置210は電子ビームスキャン装置としてビジコン電
子管226を有している。
The device 210 has a vidicon electron tube 226 as an electron beam scanning device.

ビジコン管226は物体212の表面を直接スキャンす
ることはできないので、ビジコン管の真空室66と物体
212との間に適当なトランスジューサ64を有してい
る。
Since the vidicon tube 226 cannot directly scan the surface of the object 212, a suitable transducer 64 is included between the vidicon tube's vacuum chamber 66 and the object 212.

ビジコン管226はトランスジューサ64を封止状態で
所定位置に位置決めするためのハウジングスリーブ68
を有している。
The vidicon tube 226 is connected to a housing sleeve 68 for sealingly positioning the transducer 64 in place.
have.

装置210は物体212のような大きな物体の構造をそ
の物体の選択部分を解析することによって解析すること
に使用される。
Apparatus 210 is used to analyze the structure of a large object, such as object 212, by analyzing selected portions of the object.

第3図に図示されているこの発明の実施例は物体212
の特別な部分が解析された後、レーザ214とビジコン
管226が物体212の他の選択された部分を解析する
ために一緒に移動するという利点を与えることができる
The embodiment of the invention illustrated in FIG.
After a particular portion of the object 212 has been analyzed, the laser 214 and vidicon tube 226 can be advantageously moved together to analyze other selected portions of the object 212.

装置210は装置110と比べれば同程度の分解能や精
度を与えることができない不利を有するが、それにもか
かわらずそれほど厳密な解析を必要としないより大きな
物体212に関係した応用を持ちうる。
Device 210 has the disadvantage of not being able to provide the same degree of resolution or precision as device 110, but may nevertheless have applications involving larger objects 212 that do not require as rigorous an analysis.

この発明の装置の部品に関する限りにおいて、アメリカ
合衆国のスペクトロフィジクス社から供給される型式の
レーザを適当プLレーザとして使用することが便利であ
る。走査電子顕微鏡はコーツアンドゥェルタ社のカタロ
グ記載の型式のいずれかが便利である。(記録106A
 SIICM超高分解能、USA 75年4月1日) 制御装置は従来型式のいずれでもよい。特別のプログラ
ムで制御されるディジタルタイマであると便利である。
As far as the parts of the apparatus of the invention are concerned, it is convenient to use a laser of the type supplied by Spectrophysics of the United States of America as a suitable pre-L laser. As a scanning electron microscope, one of the models listed in the Catalog of Coats Anduelta is convenient. (Record 106A
SIICM Ultra High Resolution, USA April 1, 1975) The control device may be of any conventional type. Conveniently, it is a digital timer controlled by a special program.

上述め走査電子顕微鏡の型式については、使用するサン
プル範囲は直径約%インチのサンプルまで可変できると
便利である。
For the types of scanning electron microscopes described above, it is convenient to be able to vary the sample range used down to samples that are approximately % inches in diameter.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明にかかる装置の一実施例の構成を示す構
成図、第2図は本発明の他の実施例の構成を示す構成図
、第3図は本発明のさらに他の実施例の構成を示す構成
図である。 10 、110 、210・・・構造解析装置、12 
、112.212・・・被解析物体、14 、114 
、214・・・レーザ、16,116゜216・・・レ
ーザビームパルス、 18 、118・・・入力表面、
20・・・弾性波、22 、122・・・弾性波パター
ン、24 、124・・・出力表面、26 、126・
・・電子ビームスキャン装置、226・・・ビジコン管
、 28 、128 、228・・・電子ビーム発生装
置、30 、130 、230・・・電子ビーム、32
,132゜232°・・センサ装置、36 、136 
、236・・・制御装置、38 、138 、238・
・・処理装置、40 、140 、240・・・発生手
段、42 、142 、242・・・合成信号、44 
、144 。 244・・・コンピュータ、46・・・光学処理装置、
48・・・コーティング層、50 、150・・・静電
層、52 、152・・・ディスプレイモジュール、5
4・・・真空チャンバ、56・・・支持台、58・・・
誘導ファイバ、64・・・トランスジューサ。 出願人代理人   猪  股    清手続補正書(方
式) 昭和お年4月7日 特許庁長官  若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年特許願第214093号 2、発明の名称 構造解析方法および装置 3、補正をする者 事件との関係特許出願人 ジョージ、マーキン
FIG. 1 is a block diagram showing the structure of one embodiment of the apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing the structure of another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a block diagram showing the structure of another embodiment of the present invention. FIG. 2 is a configuration diagram showing the configuration of. 10, 110, 210... structural analysis device, 12
, 112.212... object to be analyzed, 14, 114
, 214... Laser, 16,116° 216... Laser beam pulse, 18, 118... Input surface,
20...Elastic wave, 22, 122...Elastic wave pattern, 24, 124...Output surface, 26, 126...
... Electron beam scanning device, 226 ... Vidicon tube, 28 , 128 , 228 ... Electron beam generator, 30 , 130 , 230 ... Electron beam, 32
, 132° 232°...sensor device, 36 , 136
, 236...control device, 38, 138, 238...
...Processing device, 40, 140, 240... Generation means, 42, 142, 242... Composite signal, 44
, 144. 244... Computer, 46... Optical processing device,
48... Coating layer, 50, 150... Electrostatic layer, 52, 152... Display module, 5
4... Vacuum chamber, 56... Support stand, 58...
Guiding fiber, 64...transducer. Applicant's agent Kiyoshi Inomata Procedural amendment (method) April 7, 1945 Director-General of the Patent Office Kazuo Wakasugi 1, Indication of the case 1982 Patent Application No. 214093 2, Invention name structure analysis method and Device 3, Relevance to the Amended Person Case Patent Applicant George Markin

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、固体物体を非破壊的に解析する構造解析方法におい
て、 物体中に弾性的な波パターンを発生するように前記物体
の入力表面に対し選択された周波数で波発生パルスを加
えることと、 出力信号を得るために、前記波発生パルスの周波数の倍
数である周波数において、発生した前記波パターンを真
空チャンバ内で電子ビームスキャン装置を用いて前記物
体の出力表面全体にわたってスキャンさせることと、 前記波発生パルスに関係して前記スキャン装置の動作を
制御し、あらかじめ選択された瞬間時間において前記波
パターンを表示する表示信号を発生する出力信号を処理
することと、この表示信号および前記波発生パルスに関
係する基準信号から合成信号を発生させることと、前記
物体を表現する再構成のための再構成手段を与えるよう
に前記合成信号を処理することからなる構造解析方法。 2、表示信号がスキャン周波数と波発生パルス周波数と
の間の位相差を漸進的に変えるこ七により、また前記波
発生パルス周波数に関係した一定の時間間隔で出力信号
を定期的に処理することにより発生されるものである特
許請求の範囲第1項記載の構造解析方法。 3、合成信号が物体のコンビーータホログラムの形で再
構成手段を提供するようにプログラムされているコンピ
ュータによって処理されるものである特許請求の範囲第
1項または第2項記載の構造解析方法。 4、コンピュータが物体のディジタルホログラムを与え
るようにプログラムされており、このディジタルホログ
ラムから物体のホログラフを与えるようなディスプレイ
モジュールがコンピュータに結合されているものである
特許請求の範囲第3項記載の構造解析方法。 5.出力表面における不完全性から生じる干渉を減少さ
せるように物体の出力表面にコーテイング膜を被罹する
工程をも含む特許請求の範囲第1項ないし第4項のいず
れかに記載の構造解析方法。 6、出力表面に、スキャン装置による波パターンの検知
を容易にするように波パターンに対する静電的応答を可
能にする静電層を導入する工程を含む特許請求の範囲第
1項ないし第4項のいずれかに記載の構造解析方法。 7、波発生パルスがレーザによって与えられ、スキャン
装置が真空チャンバ中に納められた走査電子顕微鏡の形
式であり、物体が前記真空チャンバ中に封入されている
ものである特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれ
かに記載の構造解析方法。 8、レーザビームパルスが真空チャンバの輪郭をなす壁
をシールされて突き抜けるビーム誘導ファイバにより入
力表面に伝達されるものである特許請求の範囲第7項記
載の構造解析方法。 9、固体物を非破壊的に解析する構造解析装置において
、 物体中に弾性的な波パターンを発生するように前記物体
の入力表面に対し選択された周波数で加えられるパルス
を発生させるパルス発生装置と、 出力信号を得るために前記波発生パルスの周波数の倍数
である周波数において、発生した前記波パターンを真空
チャンバ内で前記物体の出力表面全体にわたってスキャ
ンさせる電子ビームスキャン装置と、 前記パルス発生装置に関係して前記スキャン装置の動作
を制御する制御装置と、 あらかじめ選択された瞬間時間において前記波パターン
を表示する表示信号を発生させる出力信号を処理するた
めの処理装置と、 この出力信号および前記発生したパルス周波数から合成
信号を発生する発生手段と、前記物体の表現を再構成す
るための再構成手段を与えるように前記合成信号を処理
する処理手段 とを有する構造解析装置。 10、制御装置が、スキャン周波数およびパルス周波数
との間の位相差を漸進的に変化させることによってパル
ス発生装置に関係してスキャン装置の制御動作に適合さ
れており、処理装置がパルス周波数に関係した一定の時
間間隔で出力信号を定期的に処理することにより表示信
号を発生させるように適合されている特許請求の範囲第
9項記載の構造解析装置。 11、処理装置がコンピュータホログラムの形で再構成
手段を与えるようにプログラムされているコンピュータ
を有するものである特許請求の範囲第10項記載の構造
解析装置。 12、スキャン装置が真空チャンバ内に収納された走査
電子顕微鏡であり、真空チャンバが解析される物体を支
持する支持台をその中に含んでいるものである特許請求
の範囲第10項または第11項記載の構造解析装置。 13、パルス発生装置がレーザビームパルスを出力する
レーザを有し、装置が真空チャンバの輪郭をなす壁をシ
ールされて突き抜は前記支持台に達するビーム誘導ファ
イバを含むものである特許請求の範囲第12項記載の構
造解析装置。
[Claims] 1. A structural analysis method for non-destructively analyzing a solid object, comprising: applying a wave generating pulse at a frequency selected to an input surface of the object to generate an elastic wave pattern in the object; and scanning the generated wave pattern over the output surface of the object using an electron beam scanning device in a vacuum chamber at a frequency that is a multiple of the frequency of the wave generation pulse to obtain an output signal. controlling operation of the scanning device in relation to the wave generating pulses and processing an output signal to generate a display signal displaying the wave pattern at a preselected instantaneous time; and a structural analysis method comprising generating a composite signal from reference signals related to said wave generating pulses, and processing said composite signal so as to provide a reconstruction means for a reconstruction representing said object. 2. Periodically processing the output signal by means of which the display signal gradually changes the phase difference between the scan frequency and the wave generation pulse frequency and at regular time intervals related to said wave generation pulse frequency; A structural analysis method according to claim 1, which is generated by. 3. A structural analysis method according to claim 1 or 2, wherein the composite signal is processed by a computer programmed to provide reconstruction means in the form of a convector hologram of the object. . 4. The structure of claim 3, wherein the computer is programmed to provide a digital hologram of the object, and a display module is coupled to the computer to provide a hologram of the object from the digital hologram. analysis method. 5. 5. A structural analysis method as claimed in any one of claims 1 to 4, further comprising the step of applying a coating to the output surface of the object to reduce interferences resulting from imperfections in the output surface. 6. Introducing an electrostatic layer on the output surface to enable an electrostatic response to the wave pattern to facilitate detection of the wave pattern by a scanning device. The structural analysis method described in any of the above. 7. The wave-generating pulse is provided by a laser, the scanning device is in the form of a scanning electron microscope housed in a vacuum chamber, and the object is enclosed in the vacuum chamber, as claimed in claim 1. The structural analysis method according to any one of Items 1 to 6. 8. A structural analysis method according to claim 7, wherein the laser beam pulses are transmitted to the input surface by means of a beam-guiding fiber that penetrates the contoured wall of the vacuum chamber in a sealed manner. 9. In a structural analysis device for nondestructively analyzing a solid object, a pulse generator for generating pulses applied at a selected frequency to an input surface of the object to generate an elastic wave pattern in the object. an electron beam scanning device for scanning the generated wave pattern over the output surface of the object in a vacuum chamber at a frequency that is a multiple of the frequency of the wave generating pulse to obtain an output signal; and the pulse generating device. a control device for controlling the operation of said scanning device in relation to said scanning device; a processing device for processing an output signal to generate a display signal displaying said wave pattern at a preselected instantaneous time; A structural analysis apparatus comprising generating means for generating a composite signal from generated pulse frequencies and processing means for processing said composite signal to provide a reconstruction means for reconstructing a representation of said object. 10. The control device is adapted to control operation of the scanning device in relation to the pulse generator by progressively changing the phase difference between the scanning frequency and the pulse frequency, and the processing device is adapted to control operation of the scanning device in relation to the pulse generator. 10. A structural analysis device as claimed in claim 9, adapted to generate a display signal by periodically processing the output signal at regular time intervals. 11. Structural analysis apparatus according to claim 10, wherein the processing device comprises a computer programmed to provide reconstruction means in the form of a computer hologram. 12. Claim 10 or 11, wherein the scanning device is a scanning electron microscope housed in a vacuum chamber, and the vacuum chamber includes a support stand for supporting the object to be analyzed. Structural analysis device described in Section 1. 13. The pulse generator has a laser for outputting laser beam pulses, and the device is sealed in a wall defining the vacuum chamber and the piercing includes a beam-guiding fiber reaching the support base. Structural analysis device described in Section 1.
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