JPS59103396A - Circuit board with resistor and method of producing same - Google Patents

Circuit board with resistor and method of producing same

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JPS59103396A
JPS59103396A JP57212948A JP21294882A JPS59103396A JP S59103396 A JPS59103396 A JP S59103396A JP 57212948 A JP57212948 A JP 57212948A JP 21294882 A JP21294882 A JP 21294882A JP S59103396 A JPS59103396 A JP S59103396A
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resistor
circuit board
nickel
salt
copper
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JP57212948A
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柴垣 和芳
佳久 森
森内 孝彦
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Nitto Denko Corp
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Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は抵抗体付き回路基板とその製造法に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a circuit board with a resistor and a method for manufacturing the same.

従来、抵抗体を内蔵した回路基板は、一般に、電気絶縁
層、この層上(こ接合された抵抗体の層およびこの抵抗
体に接合された高導電体層からなる積層板の形態で提供
される。また、目的とする抵抗回路パターンの作製に際
しては、所定の回路パターンの形状にしたがって、絶縁
領域(絶縁層上の全層を除去)、抵抗領域(高導電体の
層のみ除去)、及び導体領域(各れの層も除去せず一通
常はこの高導電体上にさらに金などの貴金属の薄膜メ゛
ンキを力■す)が、サフ゛トラクティフ゛法(マスター
エツチツク法)により形成されるか、あるいは該抵抗体
部分などを所定のパターン形状をしたスクリーン印刷版
を介して印刷する直接形成法などにより形成される。
Conventionally, a circuit board with a built-in resistor is generally provided in the form of a laminate consisting of an electrically insulating layer, a layer of a resistor bonded to this layer, and a highly conductive layer bonded to the resistor. In addition, when fabricating the desired resistance circuit pattern, insulating areas (all layers on the insulating layer are removed), resistance areas (only the highly conductive layer is removed), and A conductive region (without removing any of the layers, usually a thin film of a noble metal such as gold is applied on top of this highly conductive material) is formed by a sapractic method (master etching method). Alternatively, it may be formed by a direct forming method in which the resistor portion or the like is printed through a screen printing plate having a predetermined pattern shape.

ところで、当該技術分野における抵抗体材料は一炭素系
、酸化金属物系、金属系及びこれらの混合体などからな
っている。かかる材料から抵抗体の層を形成する方法と
しては、ペースト状物たとえばカーボン粒子などを種々
の樹脂成分で混合したものを印刷する方法、各種の炭化
水素系化合物を種々の条件下で炭化し蒸着する方法、金
属ないし二元系以上の合金を蒸着、スパッタリンクする
方法などが知られている。
By the way, resistor materials in this technical field are composed of carbon-based materials, metal oxide materials, metal materials, and mixtures thereof. Methods for forming resistor layers from such materials include printing a paste-like material, such as carbon particles mixed with various resin components, and carbonizing various hydrocarbon compounds under various conditions and vapor deposition. A method of vapor-depositing a metal or an alloy of two or more elements, and a method of sputter-linking are known.

しかるに、ペースト状物の印刷の場合は抵抗値自体のコ
ントロールが困射[であり、しかも回路板全面にわたる
抵抗値のバラツキが大きく特性も悪い。また−蒸着及び
スパッタリンクによる方法でも抵抗値の管理が難しく−
その上設備的に高価となる。
However, in the case of printing paste-like materials, it is difficult to control the resistance value itself, and furthermore, the resistance value varies widely over the entire surface of the circuit board, resulting in poor characteristics. In addition, it is difficult to control the resistance value even with vapor deposition and sputter link methods.
Moreover, the equipment is expensive.

そこで、近年−低抗体の層をメッキによって、安価にか
つ大面積にして効率よく安定的に製造する方法か着目さ
れている。例えば特開昭48−73762号公報にはニ
ッケルーリン合金からなる抵抗体を電気メッキで製造す
る方法が、また特開昭50−7151.3号公報には上
記以外の各種の二元系合金よりなる抵抗体の層を電気メ
・ンキて形成する方法がそれぞれ提案されている。しか
しながら−上記合金類は目的とする抵抗体材料としては
特性上ならひに作業性の点で多くの欠点があることが判
明した。
Therefore, in recent years, attention has been paid to a method of producing a low-antibody layer efficiently and stably in a large area at low cost by plating. For example, JP-A-48-73762 discloses a method for manufacturing resistors made of nickel-phosphorus alloys by electroplating, and JP-A-50-7151.3 describes a method for manufacturing resistors made of nickel-phosphorus alloys by electroplating. Various methods have been proposed for forming resistor layers using electroplating. However, it has been found that the above-mentioned alloys have many drawbacks in terms of properties and workability as intended resistor materials.

一触に、かかる金属薄膜抵抗体からなる回路基板におい
ては−これらの膜厚を薄くすることによって目的に合っ
た面積抵抗値を有する抵抗体を得ることができる。しか
し、薄くするに従って金属皮膜自体のミクロ的な均一性
が得られ難く、おのずと膜厚に限度がある。たとえは前
述のニッケルー IJン合金での工業的に1吏用し得る
面積抵抗値としてはせいぜい100Ω/口以下であり、
更に高い面積抵抗値を有するものは得られ難い。その上
−サブトラクティブ法による加工工程中でも重大な欠陥
がある。
In short, in a circuit board made of such metal thin film resistors, by reducing the thickness of these metal films, a resistor having a sheet resistance value suitable for the purpose can be obtained. However, as the metal film becomes thinner, it becomes difficult to obtain microscopic uniformity of the metal film itself, and there is a natural limit to the film thickness. For example, the sheet resistance value of the above-mentioned nickel-IJ alloy that can be used industrially is at most 100 Ω/unit,
It is difficult to obtain a material with an even higher sheet resistance value. Moreover - even during the subtractive processing process there are serious defects.

サブトラクティブ法では、ます、回路基板の銅箔(高導
電体)表面全面にフォトレジストを塗布する。ついで、
目的とする抵抗部分及び導体部分にレジストが残るよう
なフォトマスクを介して露光後、現像する。絶縁領域を
形成するために不必要な銅及び抵抗体の層をそれぞれの
専用工゛ンチンク液にて順次エツチング除去する。引き
続き、今度は導体部分のみか残るフォトマスクを介して
露光後、現像する。これにより露出された銅箔をエツチ
ング除去(抵抗領域の形成)すれば目的とする回路板(
但し、導体領域にはレジストか残存している)を得るこ
とができる。
In the subtractive method, photoresist is applied to the entire surface of the copper foil (highly conductive material) of the circuit board. Then,
After exposure through a photomask that leaves resist on the intended resistor and conductor portions, the resist is developed. In order to form an insulating region, unnecessary copper and resistor layers are sequentially etched away using respective dedicated processing solutions. Subsequently, the film is exposed to light through a photomask that leaves only the conductor portion, and then developed. By etching away the exposed copper foil (forming a resistance area), the desired circuit board (
However, some resist remains in the conductor region.

上記工程においては一抵抗パターン領域に相当する部分
の銅箔をエツチング除去する際、このエツチング液に対
して抵抗体の材質が安定で、はとんどエツチングされな
いことが必須条件である。
In the above process, when a portion of the copper foil corresponding to one resistor pattern area is removed by etching, it is essential that the material of the resistor is stable to the etching solution and is hardly etched.

しかるに、上記のニッケルーリン合金からなる抵抗体は
銅箔とのエツチング選択性が悪く、銅箔のエツチング時
に抵抗体も部分的にエツチングされてしまい抵抗値が大
幅に増加してしまうことが判明した。つまり、所期の設
定値がそのまま加工後の抵抗値にならないという欠点を
有していた。
However, it was found that the resistor made of the above-mentioned nickel-phosphorus alloy had poor etching selectivity with the copper foil, and the resistor was also partially etched when the copper foil was etched, resulting in a significant increase in resistance value. . In other words, there was a drawback that the intended setting value did not directly correspond to the resistance value after processing.

また、上述の特開昭50−7151.3号公報に示され
る各種の二元系合金は、これらが単金属のメッキ膜より
一般に高い面積抵抗値が得られるものとして提案された
ものであるが、下記の理由により未だ工業的に採用され
るに至っていない。すなわち、前記薄膜化による抵抗値
の増大とエツチング選択性などの緒特性のバランスをと
りにくい問題があるほか一抵抗値のバラツキのない一定
組成の合金メッキ膜をこれらのメッキ浴から安定に製造
することが非常番こ難しいという問題があるためである
Furthermore, the various binary alloys shown in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-7151.3 were proposed as being able to generally obtain higher sheet resistance values than single metal plating films. However, it has not yet been industrially adopted for the following reasons. In other words, there is a problem in that it is difficult to balance the increase in resistance value due to the thinning of the film with other properties such as etching selectivity, and it is also difficult to stably produce an alloy plating film of a constant composition without variation in resistance value from these plating baths. This is because there is a problem that it is extremely difficult to do so.

このような事情に鑑み、この出願人は一前記提案番こ係
る各合金とは異なる抵抗体材料としてすでにスズ−ニッ
ケル合金を案出した。この合金(こよると、前記提案の
もの(こ比し簿膜化が可能でこれによって約300〜4
00Ω/口の面積抵抗値を得ることができ、またエツチ
ング選択性がよくなり−さらに電気メッキで形成する場
合の均−雫石性(こもすぐれたものとなることが見い出
された。
In view of these circumstances, the present applicant has already devised a tin-nickel alloy as a resistor material different from the above-mentioned proposed alloys. This alloy (accordingly, it is possible to form a film compared to the above-mentioned proposal), and this makes it possible to
It has been found that a sheet resistance value of 0.00 Ω/hole can be obtained, and that the etching selectivity is improved and the uniformity of dropstone properties when formed by electroplating is also excellent.

この発明者らは、」1記スズーニッケル合金からなる抵
抗体材料に関する引き続く研究において、スズ−ニッケ
ル合金中にさらに銅とイオウを含有させたときには面積
抵抗値が一段と大きな回路基板か得られることを知り−
この発明を完成するに至ったものである。
In subsequent research on resistor materials made from tin-nickel alloys, the inventors discovered that when copper and sulfur were further incorporated into tin-nickel alloys, circuit boards with even higher sheet resistance values could be obtained. −
This led to the completion of this invention.

すなわち−この発明は、電気絶縁層の少なくとも片面に
抵抗体の層を介して高導電体を接合した構造の回路基板
において、上記抵抗体がスズ−ニッケルー銅−イオウの
四元合金からなることを特徴とする抵抗体付き回路基板
に係るものである。
That is, the present invention provides a circuit board having a structure in which a highly conductive material is bonded to at least one side of an electrically insulating layer via a resistor layer, in which the resistor is made of a quaternary alloy of tin-nickel-copper-sulfur. The present invention relates to a characteristic circuit board with a resistor.

この発明における上記の四元合金によれは、前記スズ−
ニッケル合金の場合と同様の良好なエツチンク選択性や
電気メツキ時のすぐれた均一電着性が得られるほか、面
積抵抗値のきわめて高い回路基板を容易にかつ安定性良
好に製造することができる。
According to the above-mentioned quaternary alloy in this invention, the above-mentioned tin-
In addition to obtaining good etching selectivity and excellent uniform electrodeposition during electroplating similar to those obtained with nickel alloys, circuit boards with extremely high sheet resistance values can be manufactured easily and with good stability.

たとえは、前記スズ−ニッケル合金の場合、面積抵抗値
100Ω/口程度のものではその膜厚を数100A以下
4コ、また約300〜4ooΩ/口程度のものでは上記
よりもさらに薄くしなければならなかった。これに対し
、この発明の四元合金によると、合金中の銅およびイオ
ウ原子の含有量を適宜設定するだけで、その膜厚をそれ
ほど薄くしなくともたとえば200〜300A以上数千
Aの厚さでも500Ω/日程度の面積抵抗値を得ること
が可能となる。一方、膜厚を薄くすれは、上記の面積抵
抗値はさらに一段と大きくなり、1o4Ω/’D程度ま
での面積抵抗値を容易かつ安定に得ることができる。
For example, in the case of the tin-nickel alloy, if the sheet resistance is about 100 Ω/hole, the film thickness must be several 100A or less, and if it is about 300 to 4 ooΩ/hole, the film thickness must be made even thinner than the above. did not become. On the other hand, according to the quaternary alloy of the present invention, by simply setting the contents of copper and sulfur atoms in the alloy appropriately, the film thickness can be made from 200 to 300 Å or more to several thousand amps without reducing the thickness very much. However, it is possible to obtain a sheet resistance value of about 500Ω/day. On the other hand, when the film thickness is reduced, the above-mentioned sheet resistance value becomes even larger, and a sheet resistance value of up to about 104 Ω/'D can be easily and stably obtained.

また、この発明の回路基板は、上記四元合金を抵抗体材
料としたことによって抵抗安定性に非常にすぐれたもの
となり、高湿ないし高湿下に放置したときの抵抗値の変
化率が小さく、この点からも信頼性のきわめて高い回路
基板を提供できるという利点がある。
In addition, the circuit board of the present invention has excellent resistance stability by using the above-mentioned quaternary alloy as the resistor material, and the rate of change in resistance value is small when left in high humidity or high humidity conditions. Also from this point of view, there is an advantage that a highly reliable circuit board can be provided.

この発明の四元合金からなる抵抗体がいかなる理由で上
述の如き効果を奏しうるのかは、現在のところ必ずしも
明らかではない。推測では、上記合金の結晶粒子の微細
化、銅および非金肺成分としてのイオウ原子の混入によ
る結晶構造の変化などに起因するものと思われる。
At present, it is not necessarily clear why the resistor made of the quaternary alloy of the present invention is able to produce the above-mentioned effects. It is speculated that this is caused by the refinement of the crystal grains of the above-mentioned alloy and the change in the crystal structure due to the incorporation of copper and sulfur atoms as non-metallic components.

この全明番こおいて適用される高導電体としては、銅箔
が最も一般的であるが、その他ニッケル箔、スズメッキ
鋼箔及び亜鉛箔など従来公知の材料を広く適用できる。
Copper foil is most commonly used as a highly conductive material in this case, but other conventionally known materials such as nickel foil, tin-plated steel foil, and zinc foil can be widely used.

また、これら高導電体の製造法は特に限定されず、各種
方法でつくられるものがいずれも適用可能である。
Further, the manufacturing method of these highly conductive materials is not particularly limited, and materials manufactured by various methods can be applied.

この発明における前記四元合金からなる抵抗体の層は、
」1記高導電体に対して一般に電気メツキ手法により形
成されるが、その合金組成としては、スズ、ニッケルお
よび銅の合計量中スズ30〜80重量%、好適には35
〜75重量%、ニッケル20〜70重量%、好適には2
5〜65重量%及び銅0.1〜30重量%、好適には0
.5〜28重量%を含有し、かつこの含有ニッケルに対
しESCA測定による相対強度比で3〜80%、好適に
は4〜75%の範囲のイオウを含むものであることが望
ましい。スズ、ニッケルおよび銅の含有量が上記範囲か
らずれると回路基板の面積抵抗値か充分に高くならず、
回路特性上好結果を得にくい。とくに、銅の存在は、こ
れとイオウとの共存番こよって面積抵抗値の増大に大き
く寄与するものであるため、イオウ濃度を勘案した上で
上記最適範囲に設定すべきである。また、イオウ濃度が
低すきると面積抵抗値がそれ程高くならず、通番こ高く
なりすぎると回路特性上、とくに長期的な耐湿特性の面
で好結果が得られない。
The layer of the resistor made of the quaternary alloy in this invention is
1. It is generally formed by electroplating on the highly conductive material, and its alloy composition is 30 to 80% by weight of tin, preferably 35% by weight, based on the total amount of tin, nickel, and copper.
~75% by weight nickel, 20-70% by weight, preferably 2
5-65% by weight and 0.1-30% by weight of copper, preferably 0
.. It is desirable that the sulfur content is 5 to 28% by weight, and that the relative strength ratio of sulfur to the nickel contained is 3 to 80%, preferably 4 to 75%, as measured by ESCA. If the content of tin, nickel and copper deviates from the above range, the sheet resistance value of the circuit board will not be high enough.
It is difficult to obtain good results due to circuit characteristics. In particular, since the presence of copper greatly contributes to an increase in the sheet resistance value due to its coexistence with sulfur, it should be set within the above-mentioned optimum range, taking the sulfur concentration into consideration. Furthermore, if the sulfur concentration is too low, the sheet resistance value will not be so high, and if the serial number is too high, good results will not be obtained in terms of circuit characteristics, especially in terms of long-term moisture resistance.

なお、この明細書で記述するところのESCA測定とは
、Electron 5pect’roscopy f
orCllemical Analysis (化学分
析のための電子分光)の頭文字を取った略称であって、
実際にduP o nt−島津製作所のX−線光電子分
光装置ESCA 650 B ヲ用イX線ハMgKα線
Eテ、光%F子スペクトルを測定して実測したものであ
る。この種のE SCA測定はある特定金属に対する相
対強度比で以ってその相対含有量を表わすのによく採用
されているものである。
Note that the ESCA measurement described in this specification refers to Electron 5pect'roscopy f
It is an abbreviation that takes the initials of orClemitical Analysis (electron spectroscopy for chemical analysis),
The results were actually measured using an X-ray photoelectron spectrometer ESCA 650 B manufactured by Shimadzu Corporation. This type of ESCA measurement is often employed to express the relative content of a particular metal by its relative intensity ratio.

電気メツキ手法による前記抵抗体の層の形成は、スズ塩
、ニッケル塩および銅塩と共にポリリン酸のアルカリ金
属塩、水溶性の有機イオウ化合物またはその塩および好
ましくはα−アミノ酸またはその塩を含有するメッキ液
を使用し、このメッキ液から電気メッキ番こより高導電
体上に抵抗体の層を電着析出させるものである。
Formation of the layer of the resistor by electroplating techniques contains an alkali metal salt of polyphosphoric acid, a water-soluble organic sulfur compound or a salt thereof and preferably an α-amino acid or a salt thereof, together with a tin salt, a nickel salt and a copper salt. A plating solution is used, and a layer of a resistor is electrodeposited from the plating solution onto a highly conductive material by electroplating.

上記のスズ塩としては、塩化第一スズ、ピロリン酸第−
スズ、硫酸第一スズなどを例示でき、おのおの単独また
は2種以上の混合系で使用できる。
The above tin salts include stannous chloride and stannous pyrophosphate.
Examples include tin and stannous sulfate, each of which can be used alone or in a mixture of two or more.

使用量は金属換算で2〜45f!/l、好ましくは3〜
409/lである。
The amount used is 2 to 45 f in terms of metal! /l, preferably 3~
It is 409/l.

またニッケル塩としては、塩化ニッケル、ピロリン酸ニ
ッケル、硫酸ニッケル、スルファミン酸ニッケルなどを
例示でき、おのおの単独または2種以上の混合系で使用
できる。使用量は金属換算で2〜257/l、より好ま
しくは3〜20y/eである。
Further, examples of the nickel salt include nickel chloride, nickel pyrophosphate, nickel sulfate, and nickel sulfamate, and each can be used alone or in a mixture of two or more. The amount used is 2 to 257/l, more preferably 3 to 20 y/e in terms of metal.

さらに銅塩としては、塩化第二銅、ピロリン酸銅−硫酸
銅などを例示でき、おのおの単独または2種以上の混合
系で使用できる。使用量は金属換算で0.1〜3.59
/l、好ましくは0.2〜3.2y/eである。
Further, examples of the copper salt include cupric chloride, copper pyrophosphate-copper sulfate, etc., and each can be used alone or in a mixture of two or more. The amount used is 0.1 to 3.59 in terms of metal.
/l, preferably 0.2 to 3.2y/e.

またポリリン酸のアルカリ金属塩としては、そのカリウ
ム塩、ナトリウム塩などを例示でき、単独または2種以
上の混合系で使用できる。なお、ポリリン酸とは一般式 %式% を有°する化合物の総称であり、この発明においてはn
は1〜3の整数のものを用いるのか好ましい。
Examples of alkali metal salts of polyphosphoric acid include potassium salts and sodium salts thereof, which can be used alone or in a mixture of two or more. Note that polyphosphoric acid is a general term for compounds having the general formula %, and in this invention, n
It is preferable to use an integer of 1 to 3.

ポリリン酸のアルカリ金属塩の添加量としては上記スズ
、ニッケルおよび銅塩の総量添加量に鑑み100〜45
0 y/lrの範囲とする。
The amount of alkali metal salt of polyphosphoric acid to be added is 100 to 45, considering the total amount of tin, nickel, and copper salt added above.
The range is 0 y/lr.

水溶性の有機イオウ化合物またはその塩は一メッキ皮膜
合金中にイオウ原子を含有させるためのものである。有
機イオウ化合物が水溶性であるためには官能基としてア
ミノ基、水酸基、カルボキシル基などを有するものへま
たはそれらのカリウム塩、ナトリウム塩などであること
か望ましく一システィン、ホモシスティン、システィン
塩酸塩、チオール・ヒスチジン−グルタチオン、ホモシ
スティン・チオラフタン塩酸塩、シスメチオニン、メチ
オニン、エチオニン、シスチン、ホモシスチン−シスチ
ン・ジスルホキシド、システィン酸、チオグリコール酸
、チオグリコール酸ナトリウム、チオ乳酸、チオ乳酸ナ
トリウム、チオ乳酸カルシウム、チオサリチル酸ナトリ
ウム、ジチオサリチル酸、チオリンゴ酸、チオ酢酸−チ
オ酪酸、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム−エチ
ルキサントゲン酸カリウム、エチルキサントゲン酸ナト
リウム、イソプロピルキサントゲン酸ナトリウム、1−
チオソルビトール、チオグリセリン−2−メルカプトエ
タノール、2−アミノエタンチオール、チオモルホリン
、チオジグリコール、チオジグリコール酸−3・3′−
チオプロピオン酸、2−チオフェンカルボン酸、ジチオ
ジグリコール酸、3・3−ジチオジピリジン、サッカリ
ン、チアゾール、チオ尿素、チオセミカルバジド、アリ
ルチオ尿素−エチレンチオ尿素、チオホルムアミドなど
を例示でき、おのおの単独又は2種以上の混合系で使用
できる。その使用量は0,0597e以上飽和濃度まで
とされ、好ましくは0.1〜20y/lである。
The water-soluble organic sulfur compound or its salt is used to incorporate sulfur atoms into the single-plated alloy. In order for the organic sulfur compound to be water-soluble, it is preferably one having an amino group, hydroxyl group, carboxyl group, etc. as a functional group, or a potassium salt, a sodium salt thereof, etc. Cystine, homocystine, cystine hydrochloride, Thiol Histidine-Glutathione, Homocystine Thiolaftane Hydrochloride, Cysmethionine, Methionine, Ethionine, Cystine, Homocystine-Cystine Disulfoxide, Cystic Acid, Thioglycolic Acid, Sodium Thioglycolate, Thiolactic Acid, Sodium Thiolactic Acid, Thiolactic Acid Calcium, sodium thiosalicylate, dithiosalicylic acid, thiomalic acid, thioacetic acid-thiobutyric acid, sodium diethyldithiocarbamate-potassium ethylxanthate, sodium ethylxanthate, sodium isopropylxanthate, 1-
Thiosorbitol, thioglycerin-2-mercaptoethanol, 2-aminoethanethiol, thiomorpholine, thiodiglycol, thiodiglycolic acid-3,3'-
Examples include thiopropionic acid, 2-thiophenecarboxylic acid, dithiodiglycolic acid, 3,3-dithiodipyridine, saccharin, thiazole, thiourea, thiosemicarbazide, allylthiourea-ethylenethiourea, and thioformamide, each alone or in combination. Can be used in a mixed system of more than one species. The amount used is 0.0597e or more up to the saturation concentration, preferably 0.1 to 20 y/l.

また、必要に応じて添加されるα−アミノ酸としては、
グリシン、ヒスチジン塩酸塩、フェニルアラニン、ロイ
シン、アスパラギン酸、グルタミン酸などを例示できる
。その添加量はO〜50y/1!、好適には5〜301
ilの範囲で、おのおの単独又は2種以上の混合系で使
用できる。なおメッキ効率へ特性値開上等のために、メ
ッキ浴のptl調整剤とし才塩酸、硫酸、スルファミン
酸、ピロリン酸、アンモニア水、水酸化カリウムなどを
適量添加することもてきる。
In addition, as the α-amino acid added as necessary,
Examples include glycine, histidine hydrochloride, phenylalanine, leucine, aspartic acid, and glutamic acid. The amount added is O~50y/1! , preferably 5-301
Within the range of il, each can be used alone or in a mixed system of two or more. In order to improve the plating efficiency and improve the characteristic values, suitable amounts of hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfamic acid, pyrophosphoric acid, aqueous ammonia, potassium hydroxide, etc. may be added as a PTL adjuster to the plating bath.

上記のメッキ液を用いた電気メッキに当っては、そのメ
ッキ浴温度は20〜60°Cの範囲で、メッキ電流密度
としては0.0 ]、 A、/ dm”以上で、かつ3
〜1,000クーロン/drn”の総メツキ電気量の範
囲でメッキを行なうことが好ましい。とくに好適には、
メッキ作業性、コスト的問題を考慮して一第1図をこ示
したように、メッキ電流密度は0.05〜5. OA 
/ d rn2、メッキ電気量は5〜600ク一ロン/
dm の範囲がよい。メッキ浴温度か適当でなくまた電
流密度が低すぎると、メッキ浴の安定性が損なわれ、得
られる抵抗体の抵抗値のばらつきや各種特性値の低下の
原因となる。
In electroplating using the above plating solution, the plating bath temperature is in the range of 20 to 60°C, the plating current density is 0.0 A,/dm" or more, and 3
It is preferable to carry out plating with a total plating electrical quantity of 1,000 coulombs/drn''. Particularly preferably,
In consideration of plating workability and cost issues, the plating current density is set at 0.05 to 5.0 as shown in FIG. OA
/drn2, the amount of plating electricity is 5 to 600 corons/
dm range is good. If the plating bath temperature is not appropriate or the current density is too low, the stability of the plating bath will be impaired, causing variations in the resistance value of the resulting resistor and deterioration of various characteristic values.

陽極として用いられる材質としては、カーボン電極、白
金被覆チタン電極、ステンレス電極の如き不溶性電極や
、ニッケル電極、ニッケルースズ合金電極などの可溶性
電極のいずれもが適用できる。
As the material used as the anode, any of insoluble electrodes such as carbon electrodes, platinum-coated titanium electrodes, and stainless steel electrodes, and soluble electrodes such as nickel electrodes and nickel-tin alloy electrodes can be used.

このようにして抵抗体の層を形成したのち−さらにこの
層上に常法により電、気絶線層を設けることにより、こ
の発明の目的とする抵抗体付き回路基板が得られる。上
記電気絶縁層を形成するための材料としては、エポキシ
樹脂その他の熱硬化性樹脂が好適に用いられ、またこれ
らの樹脂をガラスクロスその他の繊維基材に含浸させて
なるプリプレグが用いられる。これら材料を抵抗体の層
上に加熱圧着(硬化)させることによって電気特性、耐
熱性にすぐれた絶縁層となすことができる。
After forming the resistor layer in this manner, an electrical insulation layer is further provided on this layer by a conventional method, thereby obtaining a circuit board with a resistor, which is the object of the present invention. Epoxy resins and other thermosetting resins are preferably used as materials for forming the electrical insulating layer, and prepregs made by impregnating glass cloth or other fiber base materials with these resins are used. By heat-pressing (curing) these materials onto the resistor layer, an insulating layer with excellent electrical properties and heat resistance can be obtained.

このように、この発明によれは、前記工業的有用な回路
基板の製造法として、金属換算て2〜45y/lのスズ
塩、2〜25!j/lのニッケル塩−〇、1〜3..5
g/lの銅塩と共に、100〜450 y/eのポIJ
 IJン酸のアルカリ金属塩、0.05y#以上飽和濃
度までの水溶性の有機イオウ化合物またはその塩および
O〜50 y/iのα−アミノ酸またはその塩を含有す
るメッキ液を使用し、このメッキ液から電気メッキ番こ
より高導電体上に抵抗体の層を形成することを特徴とす
る抵抗体付き回路基板の製造法を提供できるものである
As described above, according to the present invention, as a method for manufacturing the industrially useful circuit board, a tin salt of 2 to 45 y/l in terms of metal, 2 to 25! j/l nickel salt-〇, 1-3. .. 5
100-450 y/e with g/l copper salt
A plating solution containing an alkali metal salt of IJ acid, a water-soluble organic sulfur compound or its salt at a saturation concentration of 0.05 y/i or more, and an α-amino acid or its salt at O~50 y/i is used. It is possible to provide a method for manufacturing a circuit board with a resistor, which is characterized in that a resistor layer is formed on a highly conductive material by electroplating from a plating solution.

第2図は、上述の如くして得られるこの発明の回路基板
から回路板を作製するための工程図を示したもので、こ
の作製工程は従来と特に変るところはない。
FIG. 2 shows a process diagram for manufacturing a circuit board from the circuit board of the present invention obtained as described above, and this manufacturing process is not particularly different from the conventional circuit board.

すなわち、まず(A)工程において、高導電体1上にフ
ォトレジスト4を形成し−っきに(13)工程でフォト
マスクを介して露光し、現像して所定のパターンを形成
する。−しかるのち、(C)工程でレジスト除去部分に
ニッケルメッキ5および金メッキ口を施して一対二個の
電極7を複数形成する。ついで(I))工程で電極7.
7間のフォトレジスト4が残留するようなフォトマスク
を介して再び露光し、現像する。引き続き、(E)工程
において上記(D)工程でのレジスト除去部分に露出す
る高導電体1および抵抗体の層2をエッチンク除去して
電気絶縁層3を露出する。さらに(F)工程で電極7.
7間のフォトレジスト4を取り除き、これによって露出
する高導電、体1を(G)工程においてエッチンク除去
する。
That is, first, in step (A), a photoresist 4 is formed on the highly conductive material 1, and then in step (13), it is exposed to light through a photomask and developed to form a predetermined pattern. - Thereafter, in step (C), nickel plating 5 and gold plating holes are applied to the resist removed portions to form a plurality of one-to-two electrodes 7. Then, in step (I)) electrode 7.
The photoresist 4 is exposed again through a photomask such that the photoresist 4 remains between 7 and 7, and then developed. Subsequently, in the step (E), the high conductor layer 1 and the resistor layer 2 exposed in the portion where the resist was removed in the step (D) are etched away to expose the electrical insulating layer 3. Furthermore, in step (F), electrode 7.
The photoresist 4 between the photoresists 7 and 7 is removed, and the highly conductive body 1 exposed thereby is etched away in step (G).

かくして電極7.7間にまたがる抵抗体の層2を残j7
て抵抗素子となし、この上に(II)工程で保護皮膜8
を形成して、回路板を作製する。
This leaves a layer 2 of resistor spanning between the electrodes 7.
A protective film 8 is formed on the resistive element in step (II).
A circuit board is manufactured by forming a circuit board.

以上詳述したとおり、この発明の抵抗体付き回   □
路基板における大きな特色の−っは、100Ω/口以J
:、 ]、 OKΩ/口程度までの高い面積抵抗値を有
する抵抗体を任意の膜厚で自由に形成でき−しがも耐熱
性、耐湿性などが良好で抵抗体の信頼性に   jすぐ
れる回路基板を提供できることにある。
As detailed above, the circuit with resistor of this invention □
The major feature of the circuit board is 100Ω/J
:, ], It is possible to freely form a resistor with a high sheet resistance value of up to about OKΩ/mm with any film thickness, but it also has good heat resistance, moisture resistance, etc., and the reliability of the resistor is excellent. Our goal is to be able to provide circuit boards.

以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、この発明は以下の実施例にのみ限定される
ものではない。
EXAMPLES Below, examples of the present invention will be described in more detail. Note that this invention is not limited only to the following examples.

実施例1 0−ル状の電解銅箔(35μ厚)を所定大(20σ角)
に裁断した後、この銅箔製造時のドラム側の片面全面番
こマスキング用の接着保護シートを圧着し、これを洗浄
液(シラプレー社製ニュートラ・クリーン68の1容量
に対して水1容量の割合で希釈した水溶液)に、室温下
3分間浸漬した。
Example 1 0-L shaped electrolytic copper foil (35μ thickness) of a predetermined size (20σ angle)
After cutting this copper foil, an adhesive protective sheet for masking the entire surface of the drum on one side during production is crimped, and this is mixed with a cleaning solution (a ratio of 1 volume of Nutra Clean 68 manufactured by Silapray Co., Ltd. to 1 volume of water). (a diluted aqueous solution) for 3 minutes at room temperature.

その後、流水にて水洗し、さらにこれを脱イオン水に°
て水洗した。次に、過硫酸アンモニウム200y/I!
および濃硫酸15+++e/lからなる水溶液(以下、
単に過硫酸アンモン処理液という)に室温下2分間浸漬
し、水洗後すみゃかに電流密度0.5 A /d 〜2
゜浴温度25°Cの一定条件、所定時間スズ−ニッケル
ー銅−イオウ合金のメッキを施して抵抗体の層を形成し
た。なお、メッキ浴は下記の浴組成を適用した。
After that, rinse with running water, and then add it to deionized water.
I washed it with water. Next, ammonium persulfate 200y/I!
and an aqueous solution consisting of 15+++ e/l of concentrated sulfuric acid (hereinafter referred to as
(simply referred to as ammonium persulfate treatment solution) for 2 minutes at room temperature, and after washing with water, the current density was 0.5 A / d ~ 2.
A layer of a resistor was formed by plating a tin-nickel-copper-sulfur alloy for a predetermined period of time at a bath temperature of 25°C. In addition, the following bath composition was applied to the plating bath.

塩化第一スズ          30y/z(SnC
12・2F120) 塩化ニッケル          30y/I!(Ni
 c、2−611゜0) ピロリン酸銅             1.5y/1
(cu2P2o7.3I■2o) ピロリン酸カリウム       175’l/1(K
41)207) クリシン            20y/i(Nl−
12CI−12COOトI )シスチン       
       2. Oy/l(+100CCI−1(
N1−12) Cl−1゜S+2」1記のように抵抗体
の層を形成した後、充分に水洗し乾燥させた。ついで、
銅箔片面の前記保護シートを剥離した後、抵抗体の層」
−に、エポキシ樹脂含浸ガラスクロス(通称プリプレグ
)を市ね合わせ、積層用プレス機により加熱圧着するこ
とにより、抵抗体付き回路基板を得た。
Stannous chloride 30y/z (SnC
12・2F120) Nickel chloride 30y/I! (Ni
c, 2-611゜0) Copper pyrophosphate 1.5y/1
(cu2P2o7.3I■2o) Potassium pyrophosphate 175'l/1(K
41) 207) Chrysin 20y/i (Nl-
12CI-12COO I) Cystine
2. Oy/l(+100CCI-1(
N1-12) Cl-1°S+2 After forming a resistor layer as described in 1, it was thoroughly washed with water and dried. Then,
After peeling off the protective sheet on one side of the copper foil, remove the resistor layer.
- and an epoxy resin-impregnated glass cloth (commonly known as prepreg) were combined and heat-pressed using a lamination press to obtain a circuit board with a resistor.

上記の実施例1において、抵抗体形成のメッキ時間を1
.50秒に設定した回路基板を用いて、下記の方法番こ
より抵抗体を横幅する四元合金の組成を調べた。結果は
第1表に示されるとおりであった。
In Example 1 above, the plating time for forming the resistor is 1
.. Using a circuit board set at 50 seconds, the composition of the quaternary alloy that spans the resistor was investigated using the following method. The results were as shown in Table 1.

〈合金組成の測定〉 供試基板の銅箔全面を、ニュートラ エッチ■】(シラ
プレー社製の銅エツチング液;50°C11)H−7,
6〜7.8)によりエッチンク除去した。
<Measurement of alloy composition> The entire surface of the copper foil of the test board was etched with Nutra-etch (copper etching solution manufactured by Silapray; 50°C 11) H-7,
6 to 7.8).

充分に水洗したのち、中央部2 cm角を切断し、再度
充分に水洗したのち乾燥させ、、ESCASC相試料と
し、合金中に含まれるイオウ濃度を含有ニッケル原子に
対する相対強度比で測定した。一方、」1記試料の残部
を再度充分に水δLしたのち、儂硝酸30 meおよび
脱イオン水70meよりなる溶解液を用いて完全に溶解
させ、スズ、ニッケルおよび銅の濃度を原子吸光光度法
によりIIIJ定した。
After thoroughly rinsing with water, a 2 cm square piece was cut from the center, thoroughly rinsed again with water, and dried to obtain an ESCASC phase sample.The sulfur concentration contained in the alloy was measured by the relative intensity ratio to the nickel atoms contained. On the other hand, the remaining part of the sample in 1. was thoroughly dissolved in water δL again, and then completely dissolved using a solution consisting of 30 me of nitric acid and 70 me of deionized water, and the concentrations of tin, nickel, and copper were determined by atomic absorption spectrophotometry. IIIJ was determined by

第1表 つきに、上記の実施例11こおいて、メッキ時間f 4
0〜250秒間に設定して得た種々の基板を用いて下記
の方法で回路板を作製した。この回路板(メッキ時間の
設定によって所定の抵抗値とされたもの)の耐熱性およ
び耐湿性を調べた結果は、後記の第2表に示されるとお
りであった。なお、耐熱性は100°Cに100時間放
置したときの抵抗変化率(%)を示したものであり、ま
た耐湿性とは40°C190%RI−1下に100時間
放置したときの抵抗変化率(%)を示したものである。
According to the first table, in the above Example 11, the plating time f 4
Using various substrates obtained by setting the heating time to 0 to 250 seconds, circuit boards were produced in the following manner. The results of examining the heat resistance and moisture resistance of this circuit board (which had a predetermined resistance value by setting the plating time) were as shown in Table 2 below. Note that heat resistance indicates the rate of change in resistance (%) when left at 100°C for 100 hours, and humidity resistance indicates the change in resistance when left at 40°C for 100 hours under 190% RI-1. It shows the percentage (%).

また、」1記回路板の板面全体の平均抵抗値および抵抗
値の面分布(バラツキの範囲)と、メッキ時間との相関
性を調べた結果は、第3図に示されるとおりであった。
In addition, the results of investigating the correlation between the average resistance value of the entire board surface of the circuit board described in 1., the surface distribution (range of variation) of the resistance value, and the plating time are as shown in Figure 3. .

く抵抗体付き回路板の作製〉 抵抗体付き回路基板を前述の洗浄液に室温下3分間浸漬
した後、水洗し乾燥させた。その後、AZ−119(シ
ラプレー社製ポジ型フォトレジスト)をロールコータ−
で塗工し、水平状態のまま5〜10分間自然乾燥した後
、70°Cで15分間乾燥すること番こより、銅箔表面
にフォトレジスト膜を形成した。
Preparation of circuit board with resistor> The circuit board with resistor was immersed in the above-mentioned cleaning solution at room temperature for 3 minutes, then washed with water and dried. After that, AZ-119 (positive photoresist manufactured by Silapray) was applied using a roll coater.
The photoresist film was formed on the surface of the copper foil by coating the copper foil with water, naturally drying it in a horizontal state for 5 to 10 minutes, and then drying it at 70°C for 15 minutes.

つぎに、上記フォトレジスト膜上に3KWの超高圧水銀
灯(オーク製作所社製1−IMW−N 6−3、照射距
離65 cm )にて積算光量値で300 ml 7a
m”照射し、多数個の抵抗素子の各電、極部性にニッケ
ルメッキと金メッキとを施すための所定のパターンを焼
付けた。その後−AZ−303(シラプレー社製のアル
カリ現像液)を用いて室温下3分間現像し、上記各電極
部分のフォトレジスト膜を除去し、さらlこ流水および
脱イオン水で30〜60秒間洗浄した。その後、前記の
過硫酸アンモン処理液にて室温下30秒間処理した後、
水洗した。この除去部分に2 A / dm2.50 
”C−5分間(7) 条件下でニッケルメッキを施し、
さらにこのメッキ層」二に0、5 A / dm2.4
0°C115分間の条件下で金メッキを施したのち一水
洗し乾燥して一対二個の電極を複数形成した。
Next, a 3KW ultra-high pressure mercury lamp (1-IMW-N 6-3 manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd., irradiation distance 65 cm) was applied to the photoresist film to give an integrated light amount of 300 ml 7a.
A predetermined pattern for applying nickel plating and gold plating to each electrode and polarity of a large number of resistive elements was printed using AZ-303 (an alkaline developer manufactured by Silapray). The photoresist film on each electrode portion was removed and washed with running water and deionized water for 30 to 60 seconds.Then, the photoresist film was developed at room temperature for 3 minutes with the above ammonium persulfate treatment solution. After processing for seconds,
Washed with water. 2 A/dm2.50 in this removed part
``Nickel plating is applied under the conditions of ``C-5 minutes (7)'',
Furthermore, this plating layer is 0.5 A/dm2.4
Gold plating was performed at 0° C. for 115 minutes, followed by washing with water and drying to form a plurality of one-to-two electrodes.

ついで、各抵抗素子部分のフォトレジスト膜が残留する
ようなフォトマスクを介して、前記露光器にて前記同様
の条件下で露光し、さらに前記同様の現像および水洗処
理を行なって、各抵抗素子部分以外のフォトレジスト膜
を除去した。しかるのち、前述のニュートラ・エッチV
liこて、上記除去部分に露出する電解銅箔をエツチン
グ除去した。水洗後、濃硫酸335 me、濃硝酸15
 me、濃塩酸50 mp、過酸化水素水10 meお
よび脱イオン水590 meからなるエツチング液を用
いて、銅箔除去部分に露出する抵抗体の層をエツチング
除去した。
Next, each resistor element is exposed to light using the exposure device under the same conditions as described above through a photomask that leaves the photoresist film on each resistor element portion. The photoresist film other than the portion was removed. After that, the aforementioned Neutra Ecchi V
The electrolytic copper foil exposed in the removed portion was etched away using an Li trowel. After washing with water, add concentrated sulfuric acid 335 me, concentrated nitric acid 15
The layer of the resistor exposed in the area where the copper foil was removed was removed by etching using an etching solution consisting of 50 ml of concentrated hydrochloric acid, 10 ml of hydrogen peroxide solution, and 590 ml of deionized water.

引き続き、各抵抗素子部分に残留するフォトレジスト膜
をアセトンにて室温下10〜20秒間で除去したのち、
この除去部分に露出する銅箔を前記同様のエツチング液
にニュートラ・エッチv1)にてエツチング除去し、充
分に水洗した後乾燥した。かくして一対二個の電極間を
接続する各抵抗体の層を露出さぜ、この露出抵抗体を抵
抗素子として、この素子上及びこの素子に近接する電極
部分の一部にソルダーレジストインキをスクリーン印刷
により塗布した。これを所定の条件下加熱硬化させるこ
とにより、目的とする抵抗体付き回路板を作製した。
Subsequently, after removing the photoresist film remaining on each resistor element portion with acetone for 10 to 20 seconds at room temperature,
The copper foil exposed in this removed area was removed by etching using the same etching solution as described above using Nutra Etch v1), thoroughly washed with water, and then dried. In this way, the layer of each resistor that connects one pair of two electrodes is exposed, and this exposed resistor is used as a resistor element, and solder resist ink is screen printed on this element and a part of the electrode part near this element. It was applied by. By heating and curing this under predetermined conditions, the desired circuit board with a resistor was produced.

第2表 比較例1.2 抵抗体メッキ用のメッキ液としてシスチンを添加せず、
かっピロリン酸銅の添加量を7.Oy/I!(比較例1
)およびピロリン酸銅の代わりに硫酸銅(5水塩’) 
5.Oy/e (比較例2)を添加してなるメッキ液を
用いた以外は実施例1と全く同様にして抵抗体付き回路
基板を作製した。この基板の合金組成を前記第1表に併
記した。またこの基板から前記同様にして回路板を得、
メッキ時間(12〜150秒)と得られた回路板の抵抗
値との関係を求めた結果は第4および5図に示される通
りであった。これらの曲線形状から判断すれは、抵抗値
としてはせいせい100〜300Ω/口程度が限界であ
ろうことが判る。参考までに抵抗値か25〜170Ω/
口の範囲で各2個ずつのml熱性および耐湿性を調べた
結果を前記第2表に併記した。
Table 2 Comparative Example 1.2 No cystine added as a plating solution for resistor plating,
The amount of copper pyrophosphate added is 7. Oy/I! (Comparative example 1
) and copper sulfate (pentahydrate') instead of copper pyrophosphate
5. A circuit board with a resistor was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that a plating solution containing Oy/e (Comparative Example 2) was used. The alloy composition of this substrate is also listed in Table 1 above. Also, a circuit board was obtained from this board in the same manner as described above,
The results of determining the relationship between the plating time (12 to 150 seconds) and the resistance value of the obtained circuit board are as shown in FIGS. 4 and 5. Judging from the shapes of these curves, it can be seen that the maximum resistance value is about 100 to 300 Ω/port. For reference, the resistance value is 25-170Ω/
The results of examining the heat resistance and moisture resistance of two ml each in the mouth area are also listed in Table 2 above.

実施例2 抵抗体合金メッキ用のメッキ液中にグリシンを添加しな
かった以外は実施例1と全く同様にして抵抗体付き回路
基板を作製した。この基板の抵抗体の合金組成を実施例
1と同様にして調べた結果は、スズ68.9重量%、ニ
ッケル28.4重量%、銅2.7 iJj 世%で−イ
オウ含有量はESCA測定でのニッケルに対する相対強
度比で27.5%であった。
Example 2 A circuit board with a resistor was produced in the same manner as in Example 1 except that glycine was not added to the plating solution for resistor alloy plating. The alloy composition of the resistor of this board was investigated in the same manner as in Example 1, and the results were 68.9% by weight of tin, 28.4% by weight of nickel, and 2.7% by weight of copper.The sulfur content was determined by ESCA measurement. The relative strength ratio to nickel was 27.5%.

つき番こ上記基板から実施例1と同様にして回路板を作
製し、この回路板の抵抗値とメッキ時間との関係を調べ
た結果は第6図に示される通りであった。また、耐熱性
および劇湿性を前記同様にして調べた結果は一次の第3
表に示される通りであった。
A circuit board was prepared from the above substrate in the same manner as in Example 1, and the relationship between the resistance value of this circuit board and the plating time was investigated, and the results were as shown in FIG. In addition, the results of examining heat resistance and drastic humidity in the same manner as above were
It was as shown in the table.

第3表 実施例3〜6 抵抗体合金メッキ用のメッキ液として次の第4表に示さ
れる組成のものを用いた以外は、実施例1と同様にして
抵抗体付き回路基板を得た。この基板の合金組成を調べ
た結果およびこの基板から回路板を作製し、その抵抗値
が約900Ω/口のものについて特性試験を行なった結
果は第4表に併記した通りであった。
Table 3 Examples 3 to 6 A circuit board with a resistor was obtained in the same manner as in Example 1, except that the plating solution shown in Table 4 below was used as the plating solution for resistor alloy plating. The results of investigating the alloy composition of this substrate and the characteristics tests performed on a circuit board made from this substrate and having a resistance value of about 900 Ω/hole are shown in Table 4.

参考例 抵抗体合金メッキ用のメッキ液として一前記の実施例6
のメッキ液組成にさらにピロリン酸銅を3.5y/I!
追加添加した以外は、実施例1と同様にして抵抗体付き
回路基板を作製した。この基板の合金組成は第4表に併
記した。
Reference Example Example 6 as a plating solution for resistor alloy plating
In addition to the plating solution composition, 3.5y/I of copper pyrophosphate is added!
A circuit board with a resistor was produced in the same manner as in Example 1 except that additional addition was made. The alloy composition of this substrate is also listed in Table 4.

またこの基板から前記同様にして回路板を得、メッキ時
間(10〜250秒)と得られた回路板の抵抗値との関
係を求めた結果は第7図に示される通りであった。抵抗
値としてはせいぜい150Ω/口が限度であることが判
った。参考までに抵−抗値が約100Ω/口のものにつ
いての特性試験を調べた結果は第4表に併記した。
Further, a circuit board was obtained from this substrate in the same manner as described above, and the relationship between the plating time (10 to 250 seconds) and the resistance value of the obtained circuit board was determined, and the results were as shown in FIG. It was found that the resistance value was at most 150Ω/mouth. For reference, the results of a characteristic test conducted on products with a resistance value of about 100 Ω/mouth are also listed in Table 4.

実施例7〜12 抵抗体合金メッキ用のメッキ液として、次の第5表に示
される組成のものを用いた以外は、実施例1と同様にし
て抵抗体付き回路基板を得た。この基板の合金組成を調
べた結果およびこの基板から回路板を作製し、その抵抗
値が約6000/口のものについて特性試験を行った結
果は第5表(こ併記した通りであった。
Examples 7 to 12 Circuit boards with resistors were obtained in the same manner as in Example 1, except that the composition shown in Table 5 below was used as the plating solution for resistor alloy plating. The results of investigating the alloy composition of this substrate and the characteristics tests performed on a circuit board made from this substrate and having a resistance value of about 6000/unit are shown in Table 5.

実施例13〜16 抵抗体合金メッキ用のメッキ液としてグリシンの添加量
を10y/iに変更し−シスチンの添加量をQ、5〜1
0 y/1!添加してなるものを用い、かつメッキ時間
を100秒の一定時間とした以外は、実施例1と全く同
様にして抵抗体付き回路基板を作製した。この基板の合
金組成を調べた結果およびこの基板から作製した回路板
の耐熱性、耐湿性を調べた結果は次の第6表に示される
通りであった。また、第8図は上記シスチンの添加量と
面積抵抗値との関係を図示したものである。
Examples 13 to 16 As a plating solution for resistor alloy plating, the amount of glycine added was changed to 10y/i - the amount of cystine added was changed to Q, 5 to 1
0y/1! A circuit board with a resistor was produced in exactly the same manner as in Example 1, except that the additive was used and the plating time was fixed at 100 seconds. The results of examining the alloy composition of this substrate and the heat resistance and moisture resistance of a circuit board made from this substrate are as shown in Table 6 below. Further, FIG. 8 illustrates the relationship between the amount of cystine added and the sheet resistance value.

第6表 実施例17へ22 メッキ条件を次の第7表に示される如<0.1〜2.5
A/dm2.35〜55°Cにした以外は実施例5と全
く同様にして抵抗体付き回路基板を作製した。この基板
の合金組成を調べた結果およびこの基板から回路板を作
製し、その抵抗値が約1200Ω/口のもの番ごつき耐
熱性および耐湿性を調べた結果は、第7表に併記した通
りであった。
To Table 6 Example 17 22 The plating conditions were <0.1 to 2.5 as shown in Table 7.
A circuit board with a resistor was produced in the same manner as in Example 5 except that the A/dm was 2.35 to 55°C. The results of investigating the alloy composition of this board and the resistance of a circuit board produced from this board with a resistance value of approximately 1200 Ω/mouth, heat resistance and moisture resistance are listed in Table 7. Met.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の抵抗体付き回路基板ζこおける抵抗
体の層を形成するための好適なメッキ条件の範囲を示す
説明図、第2図体)〜(1」はこの発明の抵抗体付き回
路基板から所定の回路板を形成するための工程図、第3
図、第6図および第8図はこの発明の抵抗体付き回路基
板の性能を示す特性図、第4図および第5図は比較用と
して示した抵抗体付き回路基板の性能を示す特性図、第
7図は参考用として示した抵抗体付き回路基板の性能を
示す特性図である。 1・・高導電体、2 抵抗体の層、3・・電気絶縁層。 第1図 メッキ電琥索良(を 第2図 第3図 第4図 メ、yA曲門 (壮) メジへ 暗部 (會) 第6図 メツへ印jp、、Q  (#) 第7図 メッキ 略陥 (發) 第8図 ’41JU’g (LfI/l) 手続補正書 昭和58年7月8日 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭57−212948号 2、発明の名称 抵抗体付き回路基板とその製清法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 6、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」、「発明の詳細e、7、補
正の内容 A、明沼口書二 (1)特許請求の範囲を別紙のとおりに訂正いたします
。 (2)第9頁第13〜15行目; [スズ30〜80重■%、・・・・・・好適には25〜
65重用96」とあるを「スズ30〜79.9重量%、
好適には35〜74,5重冊%、ニッケル20〜69.
9重■%、好適には25〜64.5重量%」と訂正いた
します。 (3)第10頁下から第5行目; 一実測したものである。」とあるを「実測したうである
。また、この実測に際し、回路基板の4電体をエツチン
グにより除去して抵抗体の層τ出させ、この露出面側か
ら上記光電子スペク・を1iJl定したものである。」
と訂正いたします。 )第12頁下から第1行目; 望ましく、」とあるを[望ましい。また、そげ子機とし
ては、一般に45〜550の範囲、好適には65〜45
0の範囲であるのがよく、イオウ含有量としては通常5
〜80重量%、好適には8〜70重川%で用る。このよ
うな有機イオウ化合物の具体例としては、」と訂正いた
します。 (5)第17頁下から第3行目; 「ことにある。」とあるを1ことにある。特にこの出願
人が先に提案したスズ−ニッケル合金からなる抵抗体の
層では得ることが困難であった400Ω/口以」二、好
適には500〜3,000Ω/口の面積抵抗値を有する
とともにその抵抗安定性にすぐれる回路基板を品質安定
に製造できるという利点がある。」と訂正いたします。 別紙 補正後の特許請求の範囲 r(g電気絶縁層の少なくとも片面に抵抗体の層を介し
て高導電体を接合した構造の回路基板において、上記抵
抗体がスズ−ニッケルー銅−イオウの四元合金からなる
ことを特徴とする抵抗体付き回路基板。 (2)四元合金がスズ、ニッケルおよび銅の合計量中ス
ズ30〜79.9重重%、ニッケル20〜69.9重量
%および銅0.1〜30重量%を含有し、かつこの含有
ニッケルに対しESCA測定による相対強度比で3〜8
0%のイオウを含むものからなる特許請求の範囲第(1
)項記載の抵抗体付き回路基板。 (3)電気絶縁層の少なくとも片面に抵抗体の層を介し
て高導電体を接合した構造の回路基板を製造するにあた
り、金属換算で2〜45 ?/Lのスズ塩、2〜25y
/′Lのニッケル塩および0.1〜3.5fl/lの銅
塩とともに100〜450 ’j/lの 、ポリリン酸のアルカリ金属塩、0.05fl/l以」
ニ飽和濃度までの水溶性の有機イオウ化合物またはその
塩および0〜50fi’/4のび一アミノ酸またはその
塩を含有するメッキ液を使用し、このメッキ液から電気
メッキにより高導電体」二に抵抗体の層を形成すること
を特徴とする抵抗体付き回路基板の製造法。」 特許出願人  日東電気工業株式会社
Figure 1 is an explanatory diagram showing the range of suitable plating conditions for forming the resistor layer on the circuit board with resistor of the present invention. Process diagram for forming a predetermined circuit board from a circuit board, 3rd
6 and 8 are characteristic diagrams showing the performance of the circuit board with a resistor of the present invention, and FIGS. 4 and 5 are characteristic diagrams showing the performance of the circuit board with a resistor shown for comparison, FIG. 7 is a characteristic diagram showing the performance of a circuit board with a resistor shown for reference. 1. High conductor, 2. Resistor layer, 3. Electrical insulation layer. Figure 1: Plating electric cable (Fig. 2, Figure 3, Figure 4), yA curve gate (so), dark area (kai), figure 6, mark jp,, Q (#), Figure 7, plating. Summary (edited) Figure 8 '41JU'g (LfI/l) Procedural amendment dated July 8, 1980 To the Commissioner of the Japan Patent Office 1, Indication of the case Patent application No. 1982-212948 2, Title of the invention: Resistor element Relationship between the circuit board and its manufacturing method 3, and the case of the person making the amendment. Shoji Numaguchi (1) The scope of the patent claims is corrected as shown in the attached sheet. (2) Page 9, lines 13 to 15; 25~
65 Heavy Duty 96” is replaced with “30 to 79.9% by weight of tin,
Preferably 35-74.5% double volume, 20-69% nickel.
9 weight%, preferably 25 to 64.5% by weight.'' (3) 5th line from the bottom of page 10; This is an actual measurement. '' was actually measured.In addition, during this actual measurement, the four electric elements of the circuit board were removed by etching to expose the resistor layer τ, and the above photoelectron spectra were determined from this exposed surface side by 1iJl. It is something.”
I would like to correct this. ) Page 12, line 1 from the bottom; In addition, as a sub-machine, it is generally in the range of 45 to 550, preferably 65 to 45.
The sulfur content is preferably in the range of 0, and the sulfur content is usually 5.
~80% by weight, preferably 8-70% by weight. A specific example of such an organic sulfur compound is,'' I am correcting. (5) Page 17, 3rd line from the bottom; ``It is in particular'' is in 1. In particular, it has a sheet resistance value of 400 Ω/hole, which was difficult to obtain with the resistor layer made of a tin-nickel alloy previously proposed by the present applicant, and preferably 500 to 3,000 Ω/hole. It also has the advantage that circuit boards with excellent resistance stability can be manufactured with stable quality. ” I will correct it. Attachment Amended Claim r A circuit board with a resistor, characterized in that it is made of an alloy.(2) The quaternary alloy is 30 to 79.9% by weight of tin, 20 to 69.9% by weight of nickel, and 0 copper in the total amount of tin, nickel, and copper. .1 to 30% by weight, and the relative strength ratio to this contained nickel is 3 to 8 according to ESCA measurement.
Claim No. 1 comprising 0% sulfur
) A circuit board with a resistor as described in item 2. (3) When manufacturing a circuit board having a structure in which a highly conductive material is bonded to at least one side of an electrically insulating layer via a resistor layer, the metal equivalent is 2 to 45? /L tin salt, 2-25y
Alkali metal salt of polyphosphoric acid of 100 to 450 'j/l with nickel salt of /'L and copper salt of 0.1 to 3.5 fl/l, not less than 0.05 fl/l'
A plating solution containing a water-soluble organic sulfur compound or its salt up to a saturation concentration and an amino acid or its salt ranging from 0 to 50 fi'/4 is used, and a highly conductive material "2" is produced by electroplating from this plating solution. A method for manufacturing a circuit board with a resistor, characterized by forming a body layer. ” Patent applicant: Nitto Electric Industry Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電気絶縁層の少なくとも片面に抵抗体の層を介し
て高導電体を接合した構造の回路基板において、上記抵
抗体がスズ−ニッケルー銅−イオウの四元合金からなる
ことを特徴とする抵抗体付き回路基板。
(1) A circuit board having a structure in which a highly conductive material is bonded to at least one side of an electrically insulating layer via a resistor layer, wherein the resistor is made of a quaternary alloy of tin-nickel-copper-sulfur. Circuit board with resistor.
(2)四元合金がスズ、ニッケルおよび銅の合計量中ス
ズ30〜80重量%、ニッケル20〜70重量%および
銅01〜30重量%を含有し−かっこの含有ニッケルに
対しESCA測定による相対強度比で3〜80%のイオ
ウを含むものからなる特許請求の範囲第(1)項記載の
抵抗体付き回路基板。
(2) The quaternary alloy contains 30-80% by weight of tin, 20-70% by weight of nickel and 01-30% by weight of copper in the total amount of tin, nickel and copper - relative to the nickel content in parentheses by ESCA measurement A circuit board with a resistor according to claim 1, which contains sulfur in an intensity ratio of 3 to 80%.
(3)電気絶縁層の少なくとも片面に抵抗体の層を介し
て高導電体を接合した構造の回路基板を製造するにあた
り、金属換算で2〜45り/1!のスズ塩、2〜25y
/pのニッケル塩および0,1〜3.577/の銅塩と
ともに100〜450 !/eのポリリン酸のアルカリ
金属塩−0,05y/1!以上飽和濃度までの水溶性の
有機イオウ化合物またはその塩およびO〜50 y/e
のα−アミノ酸またはその塩を含有するメッキ液を使用
し、このメッキ液から電気メッキ番こより高導電体上に
抵抗体の層を形成することを特徴とする抵抗体付き回路
基板の製造法。
(3) When manufacturing a circuit board having a structure in which a highly conductive material is bonded to at least one side of an electrically insulating layer via a resistor layer, the ratio is 2 to 45 R/1 in terms of metal! of tin salt, 2-25y
100-450 with a nickel salt of /p and a copper salt of 0,1-3.577/! /e alkali metal salt of polyphosphoric acid -0,05y/1! Water-soluble organic sulfur compound or its salt up to saturation concentration and O~50 y/e
A method for manufacturing a circuit board with a resistor, which comprises using a plating solution containing an α-amino acid or a salt thereof, and forming a resistor layer on a highly conductive material by electroplating the plating solution.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07226309A (en) * 1993-12-16 1995-08-22 Kiyokawa Mekki Kogyo Kk Manufacture of metal film resistor

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