JPS588897U - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS588897U JPS588897U JP10370281U JP10370281U JPS588897U JP S588897 U JPS588897 U JP S588897U JP 10370281 U JP10370281 U JP 10370281U JP 10370281 U JP10370281 U JP 10370281U JP S588897 U JPS588897 U JP S588897U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- heating device
- frequency heating
- high frequency
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来例を示す回転円板の平面図、第2図は第1
図の■−■線断面図、第3図は本考案の一実施例を示す
断面図、第4図は第3図の平面図、第5図は回転円板の
平面図、第6図は温度分布率の測定方法を示す説明図、
第7図は本考案の他の実施例を示す回転円板の平面図で
ある。 1・・・加熱室、2・・・マグネトロン、5・・・天井
面、6・・・励振部、8,18・・・回転円板、10・
・・負荷、 。 12・・・低誘導電体物質、13・・・金属、14・・
・縦方向スリット、15.25・・・横方向スリット。
図の■−■線断面図、第3図は本考案の一実施例を示す
断面図、第4図は第3図の平面図、第5図は回転円板の
平面図、第6図は温度分布率の測定方法を示す説明図、
第7図は本考案の他の実施例を示す回転円板の平面図で
ある。 1・・・加熱室、2・・・マグネトロン、5・・・天井
面、6・・・励振部、8,18・・・回転円板、10・
・・負荷、 。 12・・・低誘導電体物質、13・・・金属、14・・
・縦方向スリット、15.25・・・横方向スリット。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 加熱室の天井部に、縦方向スリットとこれにほぼ十
字状に直交する横方向スリットとが設けられた回転円板
を設け、前記スリットにより電波を加熱室内に放射する
高周波加熱装置においてζ前記面スリットの寸法形状を
相互に異ならしめたことを特徴とする高周波加熱装置。 2一方のスリットの長さを%波長の奇数倍とし、かつ他
方のスリットの長さを%波長の偶数倍としたことを特徴
とする実用新案登録請求の範囲第1項記載の高周波加熱
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10370281U JPS588897U (ja) | 1981-07-13 | 1981-07-13 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10370281U JPS588897U (ja) | 1981-07-13 | 1981-07-13 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS588897U true JPS588897U (ja) | 1983-01-20 |
JPS6131513Y2 JPS6131513Y2 (ja) | 1986-09-12 |
Family
ID=29898314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10370281U Granted JPS588897U (ja) | 1981-07-13 | 1981-07-13 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS588897U (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4952884A (ja) * | 1973-07-03 | 1974-05-22 | ||
JPS5032089A (ja) * | 1973-06-09 | 1975-03-28 | ||
JPS5233893A (en) * | 1975-09-11 | 1977-03-15 | Seiwa Kasei Kk | Method of producing adsorbent |
JPS5437087A (en) * | 1977-08-30 | 1979-03-19 | Keigo Kusano | Manufacture of odor erasing substance |
-
1981
- 1981-07-13 JP JP10370281U patent/JPS588897U/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5032089A (ja) * | 1973-06-09 | 1975-03-28 | ||
JPS4952884A (ja) * | 1973-07-03 | 1974-05-22 | ||
JPS5233893A (en) * | 1975-09-11 | 1977-03-15 | Seiwa Kasei Kk | Method of producing adsorbent |
JPS5437087A (en) * | 1977-08-30 | 1979-03-19 | Keigo Kusano | Manufacture of odor erasing substance |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6131513Y2 (ja) | 1986-09-12 |
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