JPS5888355A - Manufacture of prostaglandin e - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、l型42.3グpスタグランジンおよび1烟
ノ3,4グロスタグランジンの製造方法に関する。更に
詳しくは、本発明は図式ムに示す一般式11■および■
のll1m11mプロスタグランジンGI11、PGM
、およびPGM5)の2,3位または5.4位に二重結
合を導入する新規な方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing l-type 42.3g p-staglandin and 1-smoke 3,4-glostaglandin. More specifically, the present invention is based on the general formulas 11 (11) and (11) shown in the diagram.
ll1m11m prostaglandin GI11, PGM
, and PGM5).
図 式 ム
0HPG!l
υh
PG罵舅
特別の化合物については、例えばジエイ・ニス・ペンド
ラ(J、B、Ben1ra ) およびアール−ペン
ドラ(R,Ben1ra ) による「ゾロスタブラ
ンジン・シンセシス(Prosta51anlin 5
ynth@sis ) Jアカヂセック・ゾレス(19
77)を参照されたい。Figure formula Mu0HPG! For specific compounds, see, for example, "Zorostablandin Synthesis" by J.B. Ben1ra and R. Ben1ra.
ynth@sis) J Akajisek Zores (19
77).
特に、この新規な方法は本明細書にそのすべてが参照さ
れている米国特許出願第06/247.455号明細書
に記載された型の有用な化合物の製造に使用することが
できる。この方法は、工程数を減少し、しかも有用なl
型d2,5およびノ5,4ノロスタグランジンの以前の
製造方法よ゛℃収率を増大させる点で有効である。E系
列のfrスタグランジン化合物は、種々の治療用途をプ
することが知られている。例えばイー・ダブリュー・ホ
ートン(m、W、 Horton )による「ケミスト
リー・バイオケミストリー・アンド・7アーマコロジカ
ル・アクティビティ−・オデ・プロスタノイで(Oh@
mi@try、 Bioahemistry ana
Pharmaeologl−−1ムotiマity o
f Prostanoias ) J 、ペルガモン°
ダレス(1979)を参照されたい。In particular, this new process can be used to prepare useful compounds of the type described in US patent application Ser. No. 06/247.455, which is incorporated herein by reference in its entirety. This method reduces the number of steps and provides useful l
It is effective in increasing the yield over previous methods of producing d2,5 and 5,4 norostaglandins. E-series fr staglandin compounds are known to have a variety of therapeutic uses. For example, ``Chemistry, Biochemistry and 7 Armacological Activities'' by E. W. Horton (Oh@
mi@try, Bioahemistry ana
Pharmaeologl--1Muti Mighty o
f Prostanoias) J, Pergamon°
See Dulles (1979).
本発明は、特に1型12.3プロスタグランジンの製造
方法において、
a)O−9ケトンの高級トリアルキルシリルエノールエ
ーテルを製造し、
b) この高級トリアルキルシリルエノールエーテル
を、リチウムジアルキルアミドをもって処理し、次いで
セレン試srたは硫、黄試薬をもって処理し、
a) b)の生成物を酸化し、次いで+1) o)
の生成物を弱酸をもって加水分解してiすれるΔ2,3
fロスタグランジンな製造することを特徴とする、
IIl型Δ2.5f*スタグランジンの製造方法を提供
する。In particular, the present invention provides a method for producing type 1 12.3 prostaglandin, in which a) a higher trialkylsilyl enol ether of O-9 ketone is produced, and b) this higher trialkylsilyl enol ether is treated with a lithium dialkylamide. and then treated with selenium reagent sr or sulfur, yellow reagent to oxidize the product of a) b) and then +1) o)
Δ2,3 obtained by hydrolyzing the product of i with a weak acid.
Provided is a method for producing type IIl Δ2.5f* staglandin, which is characterized in that it produces f-rostaglandin.
本発明は、また特に圓型Δ3.4fロスタグテンジンの
製造方法において、
t)G−9ケ)ンの高級シリアルキルシリルエノールエ
ーテルを製造し、
b) この高級トリアルキルシリルエノールエーテル
をリチウムジアルキルアミドをもって処理し、次いでセ
レン試薬または硫黄試薬をもって処理し、
c) b)の生成物を陵化し、
d) a)の生成物をリチウムジアルキルアtrをも
って処理し、次いで
・) (1)の生成物を陽子源をもって処理し、次し
\で
f)・)の生成物を弱酸をもって加水分解して望まれる
Δ5,4ft2スタグランジンを製造することを特徴と
する、IC型Δ5.4fロスタグランジンの製造方法を
も提供する。In particular, the present invention provides a method for producing round-type Δ3.4f rostagtendin, t) producing a higher serialkylsilyl enol ether of G-9, b) converting the higher trialkylsilyl enol ether into a lithium dialkyl enol ether. c) treating the product of b) with amide and then treating with a selenium reagent or a sulfur reagent; d) treating the product of a) with lithium dialkylatr; and then... forming (1). IC type Δ5.4f rostaglandin, characterized by treating the product with a proton source and then hydrolyzing the product of f)·) with a weak acid to produce the desired Δ5,4ft2 staglandin. A manufacturing method is also provided.
高級トリアルキルシリエノールエーテルは製造される化
合物によって変わる。一般に、本方法は多数の部位から
陽子が引き抜かれる可能性との競争反応であり、従って
その結果広範囲の可能な最終生成物が存在する。使用す
るトリアルキルシリルエノールエーテルは、他のH位t
e:脱f a ) ンカら保霞するようなものでなけれ
ばならない。一般に、任意の一定の要因に基づいた相対
的な大きさを決定する式はないが、しかしながら例えば
(±)メチル11 G 、 16CRB”)−ジヒドロ
オキシ−16−メチル−9−オキソfaスター5111
Z 、 5 Z。Higher trialkylsilienol ethers vary depending on the compound being produced. Generally, the process is a competitive reaction with the possibility of proton abstraction from multiple sites, so that there is a wide range of possible end products. The trialkylsilyl enol ether used is
e: It must be something that will protect you from the damage. Generally, there is no formula to determine the relative size based on any fixed factors, however, for example (±)methyl 11 G, 16CRB")-dihydroxy-16-methyl-9-oxofa star 5111
Z, 5 Z.
15m−)リエノエーFの製造において、ジメチルt@
rt−ブチルシリルエノールエーテルはこの化金物の製
造にうまく作用する。しかしながら、相対的に一層小さ
いかまたは枝分れの少ないトリアルキルシリルエノール
エーテルは作用しない。この例に対する無効な化合物の
例は、トリメチルシ、!t@rt−ブチル と同じ分子
量を有する)または直鎖異性体であるジメチルブチルで
ある。従って、望まれる結果を達成するには若干の程度
の枝分れ側鎖が必要であり、この正確な程度は化合物に
基づいて化合物について決定できる。15m-) In the production of Rienoe F, dimethyl t@
rt-Butylsilyl enol ether works well in the preparation of this metal compound. However, relatively smaller or less branched trialkylsilyl enol ethers do not work. An example of an invalid compound for this example is trimethylcy,! t@rt-butyl) or the linear isomer dimethylbutyl. Therefore, some degree of side chain branching is necessary to achieve the desired result, and the exact degree can be determined from compound to compound.
米国特許出願第067247.455号明細書の化合物
に適用された本発明の一般的機構は図式1および図式0
に略述されている。The general mechanism of the invention as applied to the compounds of U.S. Patent Application No. 067247.455 is shown in Scheme 1 and Scheme 0.
is outlined in.
図 弐 B 81(アルキル)。Figure 2 B 81 (alkyl).
入 f:、。Enter f:,.
Sl(゛ひキル)3
エーテル化合物(式XI )
(式中、R4は一〇−テトラヒドロtラニルまたは一〇
−シリルトリアルキル、RsbよびR3は水素またはア
ルキル)
は適当なII (II) i!!塩と反応され、次いで
HMPT の存在下に高級トリーアルキルクルルシラ
ンと反応される。得られた化合物(式XiI ’)は、
次いでリチウムジイソゾロぎルアミドまたはリチウムイ
ソf a tルシクロへキシルアミドのようなリチウム
ジアルキルアミドをもって処理され、次にジフェニルジ
セレニド′、フェニルセレエウムクロリトマたはジフェ
ニルジスルフィド、好ましくはジフェニルジセレニドの
ようなセレン試薬または硫黄試薬をもって急冷されて、
式XIII の・化合物を得る。The Sl(゛hyl)3 ether compound (formula XI) (wherein R4 is 10-tetrahydrotranyl or 10-silyltrialkyl, Rsb and R3 are hydrogen or alkyl) is a suitable II (II) i! ! salt and then with higher trialkylcurlsilanes in the presence of HMPT. The obtained compound (formula XiI') is
It is then treated with a lithium dialkylamide, such as lithium diisozologylamide or lithium isofa t-cyclohexylamide, followed by treatment with diphenyldiselenide', phenylselenium chloritomer or diphenyldisulfide, preferably diphenyldiselenide. quenched with a selenium or sulfur reagent such as
A compound of formula XIII is obtained.
式XIII の化合物は、次いで例えば過酸化水素ま
たは過ヨウ素酸ナトリウムをもって酸化されて式XIV
または式XXIの化合物を与える。式XXIの化合物は
酢酸のような弱酬をもって加水分解されて本発明の式X
XII の化合物を与えることができる。The compound of formula XIII is then oxidized with, for example, hydrogen peroxide or sodium periodate to give formula XIV
or giving a compound of formula XXI. Compounds of formula XXI can be hydrolyzed with a weak solvent such as acetic acid to form formula X of the present invention.
The compound XII can be provided.
あるいは、式XXII の化合物をリチウムジアルキ
ルアtyをもって処理し、次いで弱酸またはアルコール
、好ましくは酢酸のような陽子源をもって急冷して本発
明の弐や皿の化合物を与えることができる。弐で皿の化
合物は酢酸のような弱酸をもって加水分解されて弐℃■
の化合物を与えることができる。本発明は下記の例から
一層十分に分かる。これらの例は単なる例示のために示
されたものであって、材料および方法の両者における多
くの修正がこの開示から業者に明らかであるように、精
神または範囲において本発明を制限するとは解釈される
べきではない。Alternatively, a compound of formula XXII can be treated with a lithium dialkyl aryte and then quenched with a proton source such as a weak acid or alcohol, preferably acetic acid, to provide the compounds of the present invention. Compounds in the plate are hydrolyzed with a weak acid such as acetic acid and heated to 2℃■
can give compounds of The invention will be more fully understood from the following examples. These examples are presented for illustrative purposes only and are not to be construed as limiting the invention in spirit or scope, as many modifications, both in material and method, will be apparent to those skilled in the art from this disclosure. Shouldn't.
例1 メ+ルアー(3(、X1g)−?)う1:PW−
ラン−2−イルオキシ−5−オキソ−シクロベント−1
−エン)ヘプト−5z−エノエートi+に7− (3(
Rs) −ヒトaオキシ−5−オキソシクロベント−1
−エン)ヘプト−52−エノエー) 2.88 &およ
びエーテル55mの溶液にp−)ルエンスルホン酸50
WgおよびジヒPWビラン1.1gを加える。この反応
混合物を室温において約24時間放置し、次いでエーテ
ルをもって希釈し、順次5%%2削カリウム水溶液およ
び水をもって洗浄し、無水硫酸す) リウム上で乾燥し
、次いで減圧下に溶媒をス) IJツぎングするO残留
物を、希釈剤としてのヘキサン中25%酢学エチルを用
いてシリカゾル上でクロマトグラフを行って標記の化合
物を製造する。Example 1 Me+Lure (3(,X1g)-?)U1:PW-
Ran-2-yloxy-5-oxo-cyclobent-1
-ene) hepto-5z-enoate i+ to 7- (3(
Rs) -human aoxy-5-oxocyclobent-1
-en)hept-52-enoe) 2.88 & p-)luenesulfonic acid 50 in a solution of 55 m of ether
Add Wg and 1.1 g of Jihi PW biran. The reaction mixture was allowed to stand at room temperature for about 24 hours, then diluted with ether, washed successively with a 5% aqueous potassium solution and water, dried over anhydrous sulfuric acid, and then stripped of the solvent under reduced pressure. The IJ cutting O residue is chromatographed on silica sol using 25% ethyl acetate in hexane as diluent to produce the title compound.
例2 1l−1−()ソーn−ブチルスタンニル)−4
−メチル−4−トリメチルシリルオキシ−1−オクチン
4(R8) −)リフチルシロキシ−4−メチル−1−
オクチン2.121!および水素化トリーn−ブチルス
ズ6.0Iを混合し、次いで0℃において2時間次いで
55℃において2時間太陽燈をもってアルイン下に照射
する。得られた標記化合物を直ちに例3において用いる
。Example 2 1l-1-()-n-butylstannyl)-4
-Methyl-4-trimethylsilyloxy-1-octyne 4(R8) -)rifthylsiloxy-4-methyl-1-
Octin 2.121! and 6.0 I of tri-n-butyltin hydride are mixed and then irradiated under alyne with a sun lamp for 2 hours at 0 DEG C. and 2 hours at 55 DEG C. The title compound obtained is used immediately in Example 3.
例6 ラセミ体のメチル7−C3(X−テトラヒr讐ピ
ラニルオキシ−2β(4(R8) −4−)ジメチルシ
リルオキシ−4−メチル−1E−オクテニル) −5−
tart−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロベント
−1(5)−エン〕−1tx−へブト−5z−エノエー
ト
式■の標記化合物11.5Nを乾燥テHア(!l0−)
に溶解し、次いでアルイン下に一60℃に冷却スるon
−ブチルリチウム(1,55m$液14.−を加える。Example 6 Racemic methyl 7-C3(X-tetrapyranyloxy-2β(4(R8)-4-)dimethylsilyloxy-4-methyl-1E-octenyl)-5-
tart-butyldimethylsilyloxy-cyclobent-1(5)-ene]-1tx-hebut-5z-enoate 11.5N of the title compound of the formula
and then cooled to -60°C under alin.
- Add butyl lithium (1.55 m$ liquid 14.-).
この溶液を約45分攪拌する・別のフラスコにおいて、
@1−ペンチニリy s、o ttおよびヘキサメチル
リン酸トリアミy 7.4 yを攪拌下にエーテル30
−に溶解する。この溶液を、次いで反応混合物に加える
。得られた混合物を一60℃において10分攪拌し、次
いでエーテル5011j中の例1からの生成物(5,7
1’)の溶液を加える。Stir this solution for about 45 minutes.In another flask,
@1-Pentinyl y s, ott and hexamethyl phosphoric acid triamy y 7.4 y were dissolved in ether 30 with stirring.
- dissolves in This solution is then added to the reaction mixture. The resulting mixture was stirred at -60° C. for 10 minutes and then the product from Example 1 (5,7
Add the solution of 1').
この反応混合物を一60℃において約1時間攪拌し、次
いでヘキサメチルリン酸トリアミド408jおよびエー
テル10dに溶解されたt@rt−ブチルジメチルクロ
ルシラン5IIをもって順次処mする。反応混合物の温
度を一20℃に上昇させ、次いで約1時間この温度に保
つ。この反応混合物を1MHOII とエーテルの混
合物上に注ぐ。このエーテル層を分離し、次いで2回水
洗し、ろ過して硫酸ナトリウム上で乾燥−し次いでスト
リッピングする。この残留物を2%酢酸エチルおよびヘ
キサン溶媒系中でクロマトグラフを行って、純粋な標記
生成物を得る。The reaction mixture is stirred at -60 DEG C. for about 1 hour and then treated sequentially with hexamethylphosphoric triamide 408j and t@rt-butyldimethylchlorosilane 5II dissolved in ether 10d. The temperature of the reaction mixture is raised to -20°C and then kept at this temperature for about 1 hour. Pour the reaction mixture onto a mixture of 1M HOII and ether. The ether layer is separated, then washed twice with water, filtered, dried over sodium sulfate and stripped. This residue is chromatographed in a 2% ethyl acetate and hexane solvent system to give the pure title product.
例4 ラセミ体°のメチル7−〔3α−テトラヒrロビ
ラニルオキシ−2β−(4(R8) −4−)ジメチル
シリルオキシ−4−メチル−1m−オクテニル) −5
−t@rt−ブチルジメチルシリルオキシシクロベント
−1(5)−エン〕−1α−へ7’)−2−フェニルセ
レニル−5z−エノエーF
乾燥THF 15 m中のシクロヘキシルイソゾロfル
アミン550111Fの溶液をアルイン下に約−30℃
に冷却して1.55 Mのn−ブチルリチウム溶液2.
31 dをもって処理する。−60℃ないし一20℃に
おいて約1.5時間攪拌後、この溶液を一60℃に冷却
し、次いで?i!? 2 Q−中の例3からのエノール
エーテル生成物2.1gの溶液をもって滴加処理する。Example 4 Racemic °methyl 7-[3α-tetrahyrroviranyloxy-2β-(4(R8)-4-)dimethylsilyloxy-4-methyl-1m-octenyl)-5
-t@rt-Butyldimethylsilyloxycyclobent-1(5)-ene]-1α-to7')-2-phenylselenyl-5z-enoe F of cyclohexyl isozolof amine 550111F in 15 m of dry THF. The solution was heated to about -30℃ under alin.
Cool to 1.55 M n-butyllithium solution 2.
31 d. After stirring at -60°C to -20°C for about 1.5 hours, the solution was cooled to -60°C and then ? i! ? 2. A solution of 2.1 g of the enol ether product from Example 3 in Q-2 is added dropwise.
添加が完了シタ後、7HylQm中のジフェニルジセレ
ニr11Iの溶液を滴加する。この反応混合物をエーテ
ルをもって希釈し、次いで2回水洗、乾燥し次いでスト
リツぎングする0残留物を2%の酢酸エチルおよびヘキ
サン溶媒系中においてクロマトグラフな行い、望まれる
生成物を得る。After the addition is complete, a solution of diphenyldiselenyl r11I in 7HylQm is added dropwise. The reaction mixture is diluted with ether, washed twice with water, dried and strung. The residue is chromatographed in a 2% ethyl acetate and hexane solvent system to yield the desired product.
例5 ラセミ体のメチル7−C3eA−テトラヒドロぎ
ラニルオキシ−2β−(4(us) −4−)ジメチル
シリルオキシ−4−メチル−1m−オクテニル) −5
−t@rt−ブチルジメチルシリルオキシ−シクロベン
ト−1(5)−エン〕−jg−ヘゾトー2111 t
5z−ジェノエートぎりジン5ooW9を含む塩化メ゛
チレン5011j中の例4からの生成物11iの溶液を
水5d中の50%過醗化水素5Iの溶液をもって処理し
、次いでこの2相系を室温において約4時間激しく攪拌
する。この溶液をエーテル中に注ぎ、次いで1M塩醗を
もって1回洗浄し次に2回水洗し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、次いで溶媒をストリツfンダする。残留物を2
%酢酸エチルおよびヘキサン溶媒系をもってクリマドグ
ラフィーを行い、標記生成物を得る。Example 5 Racemic methyl 7-C3eA-tetrahydrogyranyloxy-2β-(4(us)-4-)dimethylsilyloxy-4-methyl-1m-octenyl)-5
-t@rt-butyldimethylsilyloxy-cyclobent-1(5)-ene]-jg-hezotoh2111 t
A solution of the product 11i from Example 4 in methylene chloride 5011j containing 5z-genoate gin 5ooW9 is treated with a solution of 50% hydrogen peroxide 5I in water 5d, and the two-phase system is then allowed to cool at room temperature. Stir vigorously for about 4 hours. The solution is poured into ether, washed once with 1M salt solution and twice with water, dried over sodium sulfate, and the solvent is stripped. 2 residues
Climadography with % ethyl acetate and hexane solvent system affords the title product.
例6 ラセミ体のメチル7− (5”−−テトラヒト胃
ぎラニルオキシ−2β−(4(Rs) −4−トリメチ
ルシリルオキシ−4−メチル−1m−オクテニ/I/)
−5−t@rt−ジチルジメチルシリルオキシ−シク
ロベント−1(5)−エンツー1α−ヘグトー3KZ
、 5 Z−ジェノエートシクロヘキシルイソfoビル
アミン165〜および乾燥TH? 4 txtの溶液を
アルイン下に一50℃に冷却し、次いで1.55 Mの
n−ブチルリチウム溶液Q、75mをもって処理する。Example 6 Racemic methyl 7-(5''--tetrahuman-giranyloxy-2β-(4(Rs)-4-trimethylsilyloxy-4-methyl-1m-octeny/I/)
-5-t@rt-dityldimethylsilyloxy-cyclobent-1(5)-entoo 1α-hegtor 3KZ
, 5 Z-genoate cyclohexyl isofoviramine 165 ~ and dry TH? The solution of 4 txt is cooled to -50° C. under alyne and then treated with 75 m of 1.55 M n-butyllithium solution Q.
この溶液を約−30℃ないし一20℃において1時間攪
拌し、次いで一60℃に冷却する。THIP j l1
lJ中のへキサメチルリン酸トリア之ド250■の溶液
を加える。The solution is stirred for 1 hour at about -30°C to -20°C and then cooled to -60°C. THIP j l1
A solution of 250 μl of hexamethylphosphoric acid trioxide in 1J is added.
乾燥丁H]F61117中の例5からの生成物6301
1gの溶液を1時間にわたって滴加する。添加が完了し
た後、酢酸901agの′!′HF溶液(117)を加
える。この反応混合物をエーテルおよび水中に注ぐ。有
機層を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し次いでストリ
ツぜングする。この残留物を直ちに例7において使用す
る。Product 6301 from Example 5 in Dry Bone H] F61117
1 g of solution is added dropwise over the course of 1 hour. After the addition is complete, 901ag of acetic acid'! 'Add HF solution (117). The reaction mixture is poured into ether and water. The organic layer is washed with water, dried over sodium sulfate and strung. This residue is used immediately in Example 7.
例7 (±)メチル11α、 16CRB)−・−ジヒ
ドロオキシ−16−メチA/−9−オキソ7’wスター
3KZ 、 5 Z 、 13 ]!X−)リエノエー
ト例6からの生成物(630■)を酢酸、水およびTH
Fの3:1:1U合物1〇−中に攪拌することによって
溶解する。混合物が均質となるまで攪拌を続ける。次い
でこの溶液を室温において24時間ないし48時間放置
する。この溶液をエーテルをもって希釈し、4回水洗し
、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで溶媒をス)リツリ
ングする。Example 7 (±)Methyl 11α, 16CRB)-·-dihydroxy-16-methyA/-9-oxo7'w star 3KZ, 5Z, 13]! X-)Lienoate The product from Example 6 (630) was treated with acetic acid, water and TH
Dissolve in a 3:1:1U compound of F by stirring. Continue stirring until the mixture is homogeneous. The solution is then left at room temperature for 24 to 48 hours. The solution is diluted with ether, washed four times with water, dried over sodium sulfate and then slitted to remove the solvent.
この残留物を70%酢喉エチルおよび50%へキサン中
でり党!トゲラフを行い、標記化合物を得る。Dissolve this residue in 70% vinegar ethyl and 50% hexane. The title compound is obtained by performing a togelaf treatment.
例8
例6において、一層高分子量のFリアルキルシリルクロ
リドを代用することができ、その生成物は例4ないし例
7を経て例7の標記生成物を与える。Example 8 In Example 6, a higher molecular weight F-alkylsilyl chloride can be substituted and the product is passed through Examples 4 through 7 to give the title product of Example 7.
例9
0−11位のトリエチルシリル基をテトラヒドロぎラエ
ル基の代わりに用いる以外は、例2ない1例7の方法を
用いて例7の標記化合物を与える。Example 9 The method of Example 2 but 1 Example 7 is used to provide the title compound of Example 7, except that triethylsilyl groups in positions 0-11 are used in place of the tetrahydrogyrael group.
オキシ−16−メチル−9−オキソグロスター 2’
m −5Z t 15 ” −トリエノ′エート例
5の標記生成物を例7の方法に代用して、標記化合物を
与える。Oxy-16-methyl-9-oxogloster 2'
m -5Z t 15 ''-trieno'ate The title product of Example 5 is substituted in the method of Example 7 to provide the title compound.
代理人 浅 村 皓 外4名Agent Asamura Hao 4 other people
Claims (1)
ールエーテルを製造し、 b) この高級トリアルキルシリルエノールエーテル
をリチウムジアルキルアミドをもって処理し、次いでセ
レン試薬または硫黄試薬をもって処理し、 c) b)の生成物を拳化し、次いでa) a)の
生成物を弱酸をもって加水分解して、望まれるΔ2,5
f*スタグランジンを製造することを特徴とする、Il
lΔ2.5f曹スタダランジンの製造方法。 (21a) O−9’r )ンノ高級トリアルキルシ
リルエノールエーテルを製造し、 b) この高M)リアルキルシリルエノールエーテル
をリチウムジアルキルアミドをもって処理し、次いでセ
レン試m會た+y硫黄試薬をもって処理し、 a) b)の生成物を醗化し、 a) O)の生成物をリチウムジアルキルアミドをも
って処理し、 e) a)の生成物を陽子源をもって処理し、次いで f)・)の生成物を弱酸をもって加水分解して、所望の
Δ5.4f田スタグランジンを生成させることを特徴と
する、I型Δ3,4fロスタグランジンの製造方法。 (3)(±)メチル11 a 、 16(Re)−ジヒ
ドロオキシ−16−メチル−9−オキソゾロスター5N
Z 。 5z、13m−トリエノニー)を特徴する特許請求の笥
囲第2項に記載の方法。[Claims] (lla) producing a higher trialkylsilyl enol ether of O-9 ketone; b) treating the higher trialkylsilyl enol ether with a lithium dialkylamide and then with a selenium reagent or a sulfur reagent; , c) forming the product of b) and then a) hydrolyzing the product of a) with a weak acid to give the desired Δ2,5
Il, characterized in that it produces f*staglandin.
Method for producing lΔ2.5f Sodium Stadalandin. (21a) Preparing a high M) trialkylsilyl enol ether and b) treating the high M) realkylsilyl enol ether with a lithium dialkylamide followed by a selenium reagent and a sulfur reagent. a) melting the product of b), a) treating the product of O) with a lithium dialkylamide, e) treating the product of a) with a proton source, and then f) the product of A method for producing type I Δ3,4f rostaglandin, which comprises hydrolyzing it with a weak acid to produce a desired Δ5.4f rostaglandin. (3) (±) Methyl 11a, 16(Re)-dihydroxy-16-methyl-9-oxozoroster 5N
Z. 5z, 13m-trienony).
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---|---|---|---|
US31765481A | 1981-11-02 | 1981-11-02 | |
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JPS5888355A true JPS5888355A (en) | 1983-05-26 |
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GB (1) | GB2108501B (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0272673A (en) * | 1988-06-21 | 1990-03-12 | American Teleph & Telegr Co <Att> | Memory device, memory circuit and photo detector |
JP2007211011A (en) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | R Tec Ueno:Kk | Method for producing 15-ketoprostaglandin e derivative |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6036422B2 (en) * | 1979-01-29 | 1985-08-20 | 小野薬品工業株式会社 | Prostaglandin-like compounds and their production methods |
US4312994A (en) * | 1981-03-25 | 1982-01-26 | G. D. Searle & Co. | α Chain dienic prostanoic acid derivatives |
-
1982
- 1982-11-01 CA CA000414633A patent/CA1215975A/en not_active Expired
- 1982-11-01 GB GB08231152A patent/GB2108501B/en not_active Expired
- 1982-11-02 JP JP57193291A patent/JPS5888355A/en active Pending
- 1982-11-02 FR FR8218350A patent/FR2515643B1/en not_active Expired
- 1982-11-02 DE DE19823240488 patent/DE3240488A1/en not_active Withdrawn
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JP4648340B2 (en) * | 2006-02-07 | 2011-03-09 | 株式会社アールテック・ウエノ | Method for producing 15-keto prostaglandin E derivative |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2108501A (en) | 1983-05-18 |
CA1215975A (en) | 1986-12-30 |
FR2515643B1 (en) | 1986-02-21 |
FR2515643A1 (en) | 1983-05-06 |
DE3240488A1 (en) | 1983-05-11 |
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