JPS5879855A - セメント原料仮焼装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、キルン尻に設置るセメント原料仮焼装置の改
良に胸する。

近年１重油価格の高騰からセメント焼成用燃料が１重油
から石炭へと急速に転換しつつある◎しかし従来のセメ
ント原料仮焼装置ては、微粉炭の燃焼速度が重油に較べ
ておそいため、仮焼炉の燃焼効率が低下するという問題
があったＣ例えば、第１図に示すセメント原料仮焼装置
では、キルン尻から供給される燃焼排ガスａ（実線矢印
で示す）は導入口すを通過することによって上向きの噴
流となり仮焼かＣに導入される。一方、仮焼炉ＣＫＦｉ
シュートｄより、予熱された原料ｅ（破線矢印で示す）
が供給され、該原料は上記の噴流によって噴流層を形成
し、仮焼される。他方、バーナｆより燃料が供給され、
導入口ｇよシ供給される２次空気によって燃焼する。仮
焼炉Ｃの上部には絞りｓｈを介して拡大空間ｉが形成さ
れておシ、該空間内で燃料の未燃分の燃焼とセメント原
料の仮焼が完了し、仮焼されたセメント原料は排出口ｊ
より排出される。

上記方式のセメント原料仮焼炉においては、燃料の燃焼
とセメント原料の仮焼反応とを四時に行なわせるので、
燃料の燃焼によシ発生した熱量は直ちにセメント原料に
吸熱され、そのため、炉内の各部の温度は最高１０００
ｔｌ”、平均９００ＣＫｔ１％：均一に保たれ、高温域
社存在しなかった。このように、従来方式のものでは、
所謂火種の役割をするものがないため、燃焼速度のおそ
い微粉炭を誉１するにあえって、大巾に燃焼効率が低下
してい友。

本発Ｗｉ４社、燃焼速度のおそい微粉炭などの各機燃料
を用いても、良好な燃焼効率を維持することかで専るセ
メント原料仮焼装置を提供するに連通ずる導入口金備え
、該導入口上にはソ逆円錐状に第１噴流層部を形成し、
該噴流層部の上部に燃焼用空気導入口とバーナを設ける
とともに、上部中央に反転用空間を設け、該空間の上部
を絞シ部を介して第２噴流層部に連結し、皺第２噴流層
部の上８８に＃出口を設けたことにある。

第２図〜第５図に示すものは１本発明の実施例であって
、これは、底部にロータリキルン尻１に連通ずる導入口
２を備え、該導入口２上にはｙ逆円錐状の＃！ｌ噴流層
部３を形成し、鉄部の上部に燃焼用空気導入口４とバー
ナ５を設け、該上部中央に反転用空間６を設り、皺空間
６を絞シ部７を介して第２噴流層部８に連結し、鞍部８
の上部に排出口９を設けたものである。

なお、この実施例においては、反転用空間６は、第１噴
流績部３の土壁に連結された短円筒５１１１０とそれに
連なる截膚円錨部】】から形成されておシ、、短円筒部
１０の内径りは第１噴流層部３の最大内極Ｄ′の８０％
以下である。

このセメント原料仮焼装置の作用祉次のとおシである。

導入口２よシ導入されたキルン排ガス（実線矢印で示す
）は第１ｓｔＩｔ層部３内において、シュート１２よシ
供給される予熱された原料（破線矢印で示す）とともに
、噴流層を形成し、導入口４よシ導入される燃焼用空気
によって燃焼するバーナ５からの燃料の燃焼熱によって
、上記セメント原料は、その相当部分が仮焼される〇 そのさい、セメント原料は反転用空間６においてその一
部が反転下降するので、第１噴流層部３内に社、諭メン
ト原料の循環流が形成される。この循環流状、バーナフ
レームの着火域Ｅとは直接接触しない。そのため、／（
−す７レームの温度ｉｆ　１２００　Ｃ以上となシ、こ
の高温によって燃料の一次燃焼が促進される。

こうして、はｙ燃焼を終了したガスが、セメント原料を
加熱し、その仮焼反応を行なわせる。

次いで一部の未燃ガスと未燃石責と燃焼用空気は絞ヤ部
７を上昇するか、その間にこれらはよく混合してアフタ
バーニングが促進され、絞シ部７を通過することによっ
て、＃！２噴流噴流層内８内メント原料と噴流とによっ
て第２噴流層が形成され、皺部によってセメント原料の
仮焼反応をさらに進行させる。

かくして、仮焼された原料と燃焼排ガスの混合物線排出
口９から排出される。

なお、第５図において１３は本発明装置、１４はサスペ
ンションブレヒータ、　１５Ｆｉｍ風機％　１６ｔｊ最
下段サイクロン、　１７はキルン、１８はクーラである
。

本発明のセメン［１料仮焼装置は、第１噴流層部の上部
に反転用空間を設け、該空間の作用によってセメント原
料を反転させ、第１噴流層部内にセメント原料の一つの
流れを形成させて、セメント原料が直接にバーナ７レー
ムに＊展することがないようにし友。そのため、バーナ
フレームの着火域に高温域が形成され、それによ゛って
燃料の一次燃焼を著るしく促進させることができる。−
示の実施例では第１噴流層部として逆円錐形状を用いた
が、同一の作用と効果を奏するものであれば、別の形状
のものでもよい。

本発ｉｊ１懐置において、バーナフレームの高温域の温
度を１２００　Ｃに維持し九ところ、微粉炭の燃焼完了
時間は、１０００　ｃの場合の約１／２０となつ九＠

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のセメント原料仮焼装置の概念的縦断面図
、第２図は本発明のセメント原料仮焼装置の概念的縦断
面図、９３図は第２図Ａ−ム線による断面図、第４図は
第２図Ｂ−Ｂ−によゐ断面図、・第５１図はセメント製
造グランドを示す。 ２・・・・・・導入口、　　　　　３・・・・・・ＩＩ
ＩＥＩ噴流層部。 ４・・・・・・燃焼用空気導入口、 ５・・・・・・バーナ、　　　　　６・・・・・・反転
用空間。 ７・・・・・・絞シ部、　　　　　８・・・・・・ｊｌ
１２唄流層部。 ９・・・・・・排出口。 ３３９− 第５図 １へ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｔ　底１１ＫＥ）−タリキルン尻に連通する導入口を備
   え、該導入口上に＃１ｙ逆円錐状に第１噴流層部を形成
   し、該噴流層部の上部に燃焼用空気導入口とバーナを設
   けるとともに、上部中央に反転用空間を設け、該空間の
   上部を絞り部を介して第２噴流層部に連結し、該第２噴
   流層部の上部に排出口を設けたことを特徴とするセメン
   ト原料仮焼装置。 ２　上記反転用空間が、第１噴流層部の土壁に連結され
   九短円筒部とそれに連らなる截験円錐部から形成されて
   いることを特徴とする特許請求の範５ＩＩ４１項記載の
   セメント原料仮焼装置。 五　上記反転用空間の髄内筒部の直径が、上記逆円錐状
   部の鍛下径の８０％以下であることを特徴とする特許請
   求の範囲第１１１１ＩＩＩＩ記載のｔメント鳳科仮焼Ｉ
   ７に１１ｍ。