JPS5875614A - 焼却炉の排ガス浄化装置 - Google Patents
焼却炉の排ガス浄化装置Info
- Publication number
- JPS5875614A JPS5875614A JP56173498A JP17349881A JPS5875614A JP S5875614 A JPS5875614 A JP S5875614A JP 56173498 A JP56173498 A JP 56173498A JP 17349881 A JP17349881 A JP 17349881A JP S5875614 A JPS5875614 A JP S5875614A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- gas
- exhaust gas
- catalyst
- incinerator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
- F23G7/07—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases in which combustion takes place in the presence of catalytic material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ワックスなどの有機物や各種無機物を高温で
分解する焼却炉の排ガス浄化装置の改良に関する。
分解する焼却炉の排ガス浄化装置の改良に関する。
この種の焼却炉では、−酸化炭素、炭化水素。
アンモニア等の有害ガスを排出するので、これらあ有害
ガスを浄化するために、酸化触媒を有する杉ｉガス浄化
装置が用いられる０この場合、炉の排ガスをガス浄化装
置へ導入する方法としては、炉内の自然対流を利用する
方法、炉内のファン風圧を利用する方法及びガス浄化装
置側に設けたガス吸引手段による方法がある。本発明は
、歯科ワックス焼却炉のように、比較的小形の焼却炉に
対して、ガス浄化装置側に設けたガス吸引手段により、
強制的に排ガスを吸引して排ガスを浄化する装置に関す
るものである。
ガスを浄化するために、酸化触媒を有する杉ｉガス浄化
装置が用いられる０この場合、炉の排ガスをガス浄化装
置へ導入する方法としては、炉内の自然対流を利用する
方法、炉内のファン風圧を利用する方法及びガス浄化装
置側に設けたガス吸引手段による方法がある。本発明は
、歯科ワックス焼却炉のように、比較的小形の焼却炉に
対して、ガス浄化装置側に設けたガス吸引手段により、
強制的に排ガスを吸引して排ガスを浄化する装置に関す
るものである。
この種の強制方式により排ガスを処理する場合、ガス吸
引量が少ないと、炉内での発生ガス量が増加したとき、
排ガス中の酸素濃度が低下する。これは発生ガス圧のた
め、炉内への空気供給量が減少することによるものであ
る。一方、ガス吸引量を増すと、炉内に導入される空気
が増し、酸素濃度は高ぐなるが、導入空気により炉内が
冷され、熱効率が低下する不都合がある。また、酸素濃
度は炉内で発生するガスに依存し、炉内のガス発生が爆
発的に増したとき、または設計量より多量の焼成物を入
れられたとき、酸素濃度は零に近くなり、排ガスの酸化
に必要な酸素が不足するため、排ガスの浄化特性が低下
し、所期の性能を発揮で゛きない欠点が生じる。
引量が少ないと、炉内での発生ガス量が増加したとき、
排ガス中の酸素濃度が低下する。これは発生ガス圧のた
め、炉内への空気供給量が減少することによるものであ
る。一方、ガス吸引量を増すと、炉内に導入される空気
が増し、酸素濃度は高ぐなるが、導入空気により炉内が
冷され、熱効率が低下する不都合がある。また、酸素濃
度は炉内で発生するガスに依存し、炉内のガス発生が爆
発的に増したとき、または設計量より多量の焼成物を入
れられたとき、酸素濃度は零に近くなり、排ガスの酸化
に必要な酸素が不足するため、排ガスの浄化特性が低下
し、所期の性能を発揮で゛きない欠点が生じる。
本発明は、このような欠点を改良し、いかなるガス発生
濃度においても触媒に至った時点で常に一定値以上の酸
素濃度を維持し、炉内の熱効率にも何んらの影響をも及
ぼさない排ガス浄化装置を提供するものである。
濃度においても触媒に至った時点で常に一定値以上の酸
素濃度を維持し、炉内の熱効率にも何んらの影響をも及
ぼさない排ガス浄化装置を提供するものである。
すなわち、本発明は、酸化触媒を有する触媒槽の下流に
ガス吸引手段を設け、炉の排気口から触媒槽へ排ガスを
吸引するガス通路に、二次空気導入口を設けたことを特
徴とする。
ガス吸引手段を設け、炉の排気口から触媒槽へ排ガスを
吸引するガス通路に、二次空気導入口を設けたことを特
徴とする。
本発明によれば、前記ガス通路は負圧であるから、二次
空気を導入するための特別のけ帯設ｆｉ］を要さず、し
かも炉内へ直接導入される一次空気量を増大させずに排
ガス中の酸素濃度を増大できるので、炉内の熱効率に無
関係に任意の酸素濃度を選択できる。また、排ガス吸引
量と二次空気量の比率を二次空気口の大きさ等により一
定値にできる。このことにより、−酸素濃度９必要最低
値が確保できることとなり、たとえば排ガス量を１９部
（体積比）、二次空気を１部の比率にすると、炉内酸素
が零となる爆発的なガス発生時においても、酸素濃度１
チは確保できる。
空気を導入するための特別のけ帯設ｆｉ］を要さず、し
かも炉内へ直接導入される一次空気量を増大させずに排
ガス中の酸素濃度を増大できるので、炉内の熱効率に無
関係に任意の酸素濃度を選択できる。また、排ガス吸引
量と二次空気量の比率を二次空気口の大きさ等により一
定値にできる。このことにより、−酸素濃度９必要最低
値が確保できることとなり、たとえば排ガス量を１９部
（体積比）、二次空気を１部の比率にすると、炉内酸素
が零となる爆発的なガス発生時においても、酸素濃度１
チは確保できる。
このように排ガスと二次空気を炉内温度を変化させるこ
となく混合することにより、任意の酸素濃度を作り出す
ことが可能となる。
となく混合することにより、任意の酸素濃度を作り出す
ことが可能となる。
また、排ガス浄化装置において、炭化水素、−酸化炭素
の酸化のみならず、アンモニアガスの酸化浄化が必要な
場合がある。炭化水素等では酸素濃度が高いほど好まし
いが、アンモニアガスでは酸素ａ妾が高いと副反応１て
窒素酸化物ＮＯｘの発生量が増大する。そこで、可能な
かぎり酸素濃度を低くシ、副反応を押える必要があるが
、本発明によればこのような副反応を抑制するのも容易
である。
の酸化のみならず、アンモニアガスの酸化浄化が必要な
場合がある。炭化水素等では酸素濃度が高いほど好まし
いが、アンモニアガスでは酸素ａ妾が高いと副反応１て
窒素酸化物ＮＯｘの発生量が増大する。そこで、可能な
かぎり酸素濃度を低くシ、副反応を押える必要があるが
、本発明によればこのような副反応を抑制するのも容易
である。
以下、本発明を実施例により説明する。
図において、１は歯科用ワックス焼却炉を示し、２は外
装、３はｍｌ熱材、４は罪、５はコントローラ部で、加
熱源には断熱材３中に設置した嘔気ヒータ６を用いてい
る。７は排気口であり、炉内には扉３の隙間より矢印Ｘ
のように、わずかながら−次空気が導入されるようにな
っている。８は焼却物をのせる棚である。
装、３はｍｌ熱材、４は罪、５はコントローラ部で、加
熱源には断熱材３中に設置した嘔気ヒータ６を用いてい
る。７は排気口であり、炉内には扉３の隙間より矢印Ｘ
のように、わずかながら−次空気が導入されるようにな
っている。８は焼却物をのせる棚である。
９は排ガス浄化装置を示し、１ｏは外装、１１は断熱材
、１２は触媒槽であり、槽内にはノ・ニカム構造の触媒
体１３及びその被浄化ガス導入側に嘔気ヒータ１４を設
けている。触媒体としては、例えば二酸化マンガンをア
ルミ／酸石灰で結ばしたもΩを用いる。ペレット状の触
媒体を用いることもできる。
、１２は触媒槽であり、槽内にはノ・ニカム構造の触媒
体１３及びその被浄化ガス導入側に嘔気ヒータ１４を設
けている。触媒体としては、例えば二酸化マンガンをア
ルミ／酸石灰で結ばしたもΩを用いる。ペレット状の触
媒体を用いることもできる。
１６は炉１の排気ロアと触媒槽１２のガス導入口とを連
結するパイプで、その途中には二次辛気導入口１６が設
けである。この導入口１６の部分は、その開口度合いを
調節できるようにするのが。
結するパイプで、その途中には二次辛気導入口１６が設
けである。この導入口１６の部分は、その開口度合いを
調節できるようにするのが。
好ましい。１７は触媒槽１２の排気口に接続したパイプ
で、途中にはガス吸引用の７７ノ１８を有する。
で、途中にはガス吸引用の７７ノ１８を有する。
炉内で焼却物より発生するガスは、ファン１８の吸引力
によりパイプ１６を通じて触媒槽１２内に導入され、ピ
ータ１４により加熱された後、触６１＼−ジ 媒体１３を１市遇する際に酸化浄化される。この場合、
扉の隙間より外気が導入されるが、焼却物より分解ガス
が多酸に発生し、炉内圧が外気より大 、きくなると、
外気は炉内へ導入されにくくなり、排ガス中の酸素濃度
が低下する。このため、酸化触媒１３は十分な酸化能を
発揮することができないＯ 本発明では、７７ン１８の吸引力により炉内の排ガスを
触媒槽１２に導くガス通路に二次空気導入口１６を設け
ているので、炉内へ一次空気を多量に導入する場合のよ
うに、炉内温度に影響を与えることなく、排ガス中へ酸
素をとり入れ、触媒の酸化能を十分に発揮させることが
できる。
によりパイプ１６を通じて触媒槽１２内に導入され、ピ
ータ１４により加熱された後、触６１＼−ジ 媒体１３を１市遇する際に酸化浄化される。この場合、
扉の隙間より外気が導入されるが、焼却物より分解ガス
が多酸に発生し、炉内圧が外気より大 、きくなると、
外気は炉内へ導入されにくくなり、排ガス中の酸素濃度
が低下する。このため、酸化触媒１３は十分な酸化能を
発揮することができないＯ 本発明では、７７ン１８の吸引力により炉内の排ガスを
触媒槽１２に導くガス通路に二次空気導入口１６を設け
ているので、炉内へ一次空気を多量に導入する場合のよ
うに、炉内温度に影響を与えることなく、排ガス中へ酸
素をとり入れ、触媒の酸化能を十分に発揮させることが
できる。
例えばリン酸アンモニウム系型材を用いたワックスを焼
却する場合、炉温度がｓｏｏ℃に至る間にまず型材に含
まれている水分の蒸発による水蒸気と、型材より分離す
るアンモニアガス及びワックスの熱分解による炭化水素
、−酸化炭素が発生、シ、炉内より、アンモニア、炭化
原素ガス等が噴°出し、周辺に強烈な悪臭が庭だよう。
却する場合、炉温度がｓｏｏ℃に至る間にまず型材に含
まれている水分の蒸発による水蒸気と、型材より分離す
るアンモニアガス及びワックスの熱分解による炭化水素
、−酸化炭素が発生、シ、炉内より、アンモニア、炭化
原素ガス等が噴°出し、周辺に強烈な悪臭が庭だよう。
このとき、アンモニアガス濃度は１％にも達し、炭化水
素濃度は０．５％となり、このときの酸素濃度は０．５
％であった。これは、アンモニアと炭化水素を完全に酸
化するには足りない。ここで不足酸素量約１％以上を補
給する必要があり、酸素濃度１．５％に達して、初めて
、アンモニアおよび炭化水素が酸化される。
素濃度は０．５％となり、このときの酸素濃度は０．５
％であった。これは、アンモニアと炭化水素を完全に酸
化するには足りない。ここで不足酸素量約１％以上を補
給する必要があり、酸素濃度１．５％に達して、初めて
、アンモニアおよび炭化水素が酸化される。
ここで、第１図の構成で、ファン１８により炉よりガス
がもれ出ない程度に吸引すると、排ガス濃度は変わるこ
となく、触媒槽に至る。゛ファンの吸引量は２ｔ／分で
、触媒槽前に設けた二次空気口１６を開き、二次空気を
約２００ａａ／分入れ、全吸引量を２．２ｔ／分にする
ことにより、酸素濃度は１．６チとなり、計算どうりの
結果となり、触媒通過後のアンモ王ア濃度は１ ｐｐｍ
以下、炭化水素は約２ ｐｐｍ、−酸化炭素は４ ｐｐ
ｍとなり、ＮＯｘは検出されなかった。
がもれ出ない程度に吸引すると、排ガス濃度は変わるこ
となく、触媒槽に至る。゛ファンの吸引量は２ｔ／分で
、触媒槽前に設けた二次空気口１６を開き、二次空気を
約２００ａａ／分入れ、全吸引量を２．２ｔ／分にする
ことにより、酸素濃度は１．６チとなり、計算どうりの
結果となり、触媒通過後のアンモ王ア濃度は１ ｐｐｍ
以下、炭化水素は約２ ｐｐｍ、−酸化炭素は４ ｐｐ
ｍとなり、ＮＯｘは検出されなかった。
一方、二次空気量を２１７分とし、全吸引量をａｔ１分
とすると、アンモニア、炭化水素、−酸化炭素の触媒通
過後の濃度は前記数値と変わらなかったが、ＮＯｘが１
０ｐｐｍ検出された。これは過剰空気によりアンモニア
が酸化されたものである１つまた、酸素濃度が１％を切
ると、触媒通、過後の炭化水素濃度は０．３％、アンモ
ニアは１００ ｐｐｍと完全に酸化されずに排出され、
アンモニア臭がただよう。
とすると、アンモニア、炭化水素、−酸化炭素の触媒通
過後の濃度は前記数値と変わらなかったが、ＮＯｘが１
０ｐｐｍ検出された。これは過剰空気によりアンモニア
が酸化されたものである１つまた、酸素濃度が１％を切
ると、触媒通、過後の炭化水素濃度は０．３％、アンモ
ニアは１００ ｐｐｍと完全に酸化されずに排出され、
アンモニア臭がただよう。
以上のように、本発明によれば、炉内温ＩＫを下げるこ
となく、排ガス中の酸素濃度を上げ、有害ガスを効率的
に浄化することができる。
となく、排ガス中の酸素濃度を上げ、有害ガスを効率的
に浄化することができる。
図面は本発明のガス浄化装置の実施例を示す縦断面図で
ある。 １・・・・・・焼却炉、９・・・・・・浄化装置、１２
・・・・触媒槽、１３・・・・・・酸化触媒、１６・・
・・・・バイブ、１６・・・・・・二次空気導入口、１
８・・・・・・ファ／。
ある。 １・・・・・・焼却炉、９・・・・・・浄化装置、１２
・・・・触媒槽、１３・・・・・・酸化触媒、１６・・
・・・・バイブ、１６・・・・・・二次空気導入口、１
８・・・・・・ファ／。
Claims (2)
- （１）酸化触媒を有し焼却炉のガス排出口とガス通路に
より連結された触媒槽と、触媒槽の下流に設けたガス吸
引手段とを備え、前記ガス通路に二次空気導入口を設け
た焼゛却炉の排ガス浄化装置。 - （２）前記二次空気孔より導入される空気量が焼却炉よ
り排出される排ガス量の４ｏ−−の風量比率である特許
請求の範囲第１項記載の焼却炉の排ガス浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56173498A JPS5875614A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | 焼却炉の排ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56173498A JPS5875614A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | 焼却炉の排ガス浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5875614A true JPS5875614A (ja) | 1983-05-07 |
Family
ID=15961624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56173498A Pending JPS5875614A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | 焼却炉の排ガス浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5875614A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6349146U (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-02 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4948542B1 (ja) * | 1969-12-19 | 1974-12-21 |
-
1981
- 1981-10-28 JP JP56173498A patent/JPS5875614A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4948542B1 (ja) * | 1969-12-19 | 1974-12-21 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6349146U (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-02 |
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