JPS585638A - Ｘ線透視装置 - Google Patents
Ｘ線透視装置Info
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- JPS585638A JPS585638A JP56102804A JP10280481A JPS585638A JP S585638 A JPS585638 A JP S585638A JP 56102804 A JP56102804 A JP 56102804A JP 10280481 A JP10280481 A JP 10280481A JP S585638 A JPS585638 A JP S585638A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 abstract 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 abstract 1
- 238000002594 fluoroscopy Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
- G01N23/043—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using fluoroscopic examination, with visual observation or video transmission of fluoroscopic images
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明に、高エネルギＸｉＩによるＸＩＩ透視儂を得
るためのＸ＊透視装置に関し、特に、従来の同種装置に
比べて低線量において高い解像力を有丁４）工うにした
ものである。
るためのＸ＊透視装置に関し、特に、従来の同種装置に
比べて低線量において高い解像力を有丁４）工うにした
ものである。
５３１図に従来０ＸＩｉｌ！透視装置の構成を示す図で
ある。こｔ）第１図において％ ｌａＸ線発生源、２に
螢光スクリーンｓ ８ｔ’Ｘ、反射鏡、４に結像レンズ
、５に高感度撮像管であり、６α被透視試料である。
ある。こｔ）第１図において％ ｌａＸ線発生源、２に
螢光スクリーンｓ ８ｔ’Ｘ、反射鏡、４に結像レンズ
、５に高感度撮像管であり、６α被透視試料である。
次に動作について説明丁ゐ。ＸＩＩ源ｌσＸ５ｔ−発生
して、被透視試料６ｔ−透過したＸ線が螢光スクリーン
２に照射される。螢光スクリーン２に照射されたＸ１１
０強度に比例した螢光音発生し、被透視試料６ＱＸＩｉ
Ｋ！る透視偉を形成する。
して、被透視試料６ｔ−透過したＸ線が螢光スクリーン
２に照射される。螢光スクリーン２に照射されたＸ１１
０強度に比例した螢光音発生し、被透視試料６ＱＸＩｉ
Ｋ！る透視偉を形成する。
また、反射鏡ｓｒｔ光の万同ｔ−Ｘ＊υ通路から遠ざけ
、結像レンズ４お工び高感度撮像管ｓ ｔ−ｘｓの照射
から保護する。結像レンズ４に螢光スクリーン２の透視
像を高感度撮像管５の入射面に結像させ、テレビジョン
モニタ（図示しない）にぶるディスプレイを可能にして
いる。
、結像レンズ４お工び高感度撮像管ｓ ｔ−ｘｓの照射
から保護する。結像レンズ４に螢光スクリーン２の透視
像を高感度撮像管５の入射面に結像させ、テレビジョン
モニタ（図示しない）にぶるディスプレイを可能にして
いる。
上述のＬ５な従来υＸＩＩ透視装置の欠点に螢光スクリ
ーン２が薄いため、透視像を作るＸＩ！がほとんど螢光
スクリーン２ｔ−通り抜けてしまい、像の形成に役立つ
Ｘ＠の量が少ないことである。この友め、螢光強度が弱
く、螢光量子数Ｏ不足にＬもシ面のちらつきが大きい０
したがって、透視画１１ニ暗く、識別能力も不十分であ
る。
ーン２が薄いため、透視像を作るＸＩ！がほとんど螢光
スクリーン２ｔ−通り抜けてしまい、像の形成に役立つ
Ｘ＠の量が少ないことである。この友め、螢光強度が弱
く、螢光量子数Ｏ不足にＬもシ面のちらつきが大きい０
したがって、透視画１１ニ暗く、識別能力も不十分であ
る。
この傾向ｒｚｘ＊ｏエネルギが高くなるほど強くなりｂ
１ＭｅＶ以上のエネルギでに、螢光スクリーン２に照射
されＸＸ＊のうち、画の形成に使われる割合がｌｔｓυ
オーダしか得られない。
１ＭｅＶ以上のエネルギでに、螢光スクリーン２に照射
されＸＸ＊のうち、画の形成に使われる割合がｌｔｓυ
オーダしか得られない。
螢光スクリーン２１ｒ厚くすることに光学的分解能の低
下につなが４むで、限界があり、また、螢光材料の改良
も試みられているが、十分な改良に“行われていない。
下につなが４むで、限界があり、また、螢光材料の改良
も試みられているが、十分な改良に“行われていない。
この発明に、上記従来の欠点を除去するためになされ友
もので、儂の形成に寄与するＸ線量を増加させて５ｘｉ
ａの線量率に対する感［を改善しかつ光学的分解能を劣
化させない新規なＸ！Ｉ透視襞置装提供することを目的
とする〇 以下、この発明＋２）Ｘ線透視装置の＊ｍ例について図
面に基づき説明する。ｌ！２図にその一！Ｉ！總例の構
成を示す図である。こむＷ４２図において、第１図と同
一部分には同−符号１付して述べることにする０ １ ＨＸｉｌ源でＴｏ９％２＆ｅ’Ｘシンチレータ、２
ｂに凹面反射鏡である。シンチレータ２ａｉＸＩＩ源ｌ
に対向し、シンチレータ２１０反対側にに凹面鏡２ｂが
接合されている。シンチレータ２ａとＸ線源１間には平
面反射鏡８が配設されており、また、凹面反射鏡２ｂｓ
ｂらむ反射光に結像レンズ４を経て高感度撮像管５にて
受光される工うになっている。
もので、儂の形成に寄与するＸ線量を増加させて５ｘｉ
ａの線量率に対する感［を改善しかつ光学的分解能を劣
化させない新規なＸ！Ｉ透視襞置装提供することを目的
とする〇 以下、この発明＋２）Ｘ線透視装置の＊ｍ例について図
面に基づき説明する。ｌ！２図にその一！Ｉ！總例の構
成を示す図である。こむＷ４２図において、第１図と同
一部分には同−符号１付して述べることにする０ １ ＨＸｉｌ源でＴｏ９％２＆ｅ’Ｘシンチレータ、２
ｂに凹面反射鏡である。シンチレータ２ａｉＸＩＩ源ｌ
に対向し、シンチレータ２１０反対側にに凹面鏡２ｂが
接合されている。シンチレータ２ａとＸ線源１間には平
面反射鏡８が配設されており、また、凹面反射鏡２ｂｓ
ｂらむ反射光に結像レンズ４を経て高感度撮像管５にて
受光される工うになっている。
次に、こむ発明のＸ線透視装置の動作について説明する
ｏＸＨ源ｌη為らのＸ＠に被透視試料（図示せず）ｔ−
透過して、シンチレータ２１に照射されて、螢光に変換
され、透視像を形成する。こむときｂ ｘｌｓａシンチ
レータ２ａに入射する前に平面反射鏡８１１ｔ通過する
が、ここでむＸ＠Ｏ減衰に無視できる。
ｏＸＨ源ｌη為らのＸ＠に被透視試料（図示せず）ｔ−
透過して、シンチレータ２１に照射されて、螢光に変換
され、透視像を形成する。こむときｂ ｘｌｓａシンチ
レータ２ａに入射する前に平面反射鏡８１１ｔ通過する
が、ここでむＸ＠Ｏ減衰に無視できる。
シンチレータ２ｂわ厚さに従来の装置の螢光スクリーン
に比べてはるかに厚（ｓ ｔ〜５ｃＩＩＬ＠度に選定さ
れており１ したがって、シンチレータ２ａ円で螢光に
変換されるｘｉＩの量σ従来Ｏ装置１りにｄｂかに大き
く、明るい透視像が形成できる。
に比べてはるかに厚（ｓ ｔ〜５ｃＩＩＬ＠度に選定さ
れており１ したがって、シンチレータ２ａ円で螢光に
変換されるｘｉＩの量σ従来Ｏ装置１りにｄｂかに大き
く、明るい透視像が形成できる。
シンチレータ２１で得られた螢光俸ハ凹面反射鏡２ｂで
反射され、さらに平面反射鏡３で反射され、結像レンズ
４に入射する・こ０結像レンズ４框シンチレ一タ！！ａ
円に形成された螢光ｇＩｔ高感度撮曹管５の入射面に結
像させる。
反射され、さらに平面反射鏡３で反射され、結像レンズ
４に入射する・こ０結像レンズ４框シンチレ一タ！！ａ
円に形成された螢光ｇＩｔ高感度撮曹管５の入射面に結
像させる。
ただし、こむ場合、Ｘ線の一つの経路に対応丁ゐ螢光の
発生位置にシンチレータ２１円において、Ｘ＠ｔ）経路
に沿った線状の領域であり、結像レンズ４にこの線状の
領域を点に見る方向から見る必要がある。
発生位置にシンチレータ２１円において、Ｘ＠ｔ）経路
に沿った線状の領域であり、結像レンズ４にこの線状の
領域を点に見る方向から見る必要がある。
これが厚いシンチレータ２ａ内の螢光儂が尖鋭に見る条
件であり、シンチレータ２ａの全面にわたってこの条件
が満友されなければならない０シンチレータ２１の屈折
率が１である場合ａ１この条件は結像レンズ４’ｋＸ＠
発生源ｌと同一の位置Ａに置くことに１って満たされる
が、シンチレータ、たとえば、ＮａＩの屈折率ｎｉ約１
．８５で６４１ηλら、こむ条件を満た丁結偉レンズ４
む位置にシンチレータ２１までの距離がＡ点ｚｖシンチ
シータ儒にｌ ／ ｎ 、丁なわち、１／１．８５に近
づいた位置Ｂとなる。
件であり、シンチレータ２ａの全面にわたってこの条件
が満友されなければならない０シンチレータ２１の屈折
率が１である場合ａ１この条件は結像レンズ４’ｋＸ＠
発生源ｌと同一の位置Ａに置くことに１って満たされる
が、シンチレータ、たとえば、ＮａＩの屈折率ｎｉ約１
．８５で６４１ηλら、こむ条件を満た丁結偉レンズ４
む位置にシンチレータ２１までの距離がＡ点ｚｖシンチ
シータ儒にｌ ／ ｎ 、丁なわち、１／１．８５に近
づいた位置Ｂとなる。
ただし、結像レンズ４でに、シンチレータ２ａｏｘ＠発
生源ｌ＠σ平面としている。シンチレータ２ａにガラス
などの窓が設けてあっても、この条件は変わらない。
生源ｌ＠σ平面としている。シンチレータ２ａにガラス
などの窓が設けてあっても、この条件は変わらない。
平面反射鏡８に結像レンズ４の位置ＶＸＳの経路ρλら
移動して、結像レンズ４ＱＸ＠照射から保護するための
ものである。結像レンズ４の位置はシンチレータ２龜η
為らの光学的距離がＢ点と等しい０点となる０この結像
レンズ４む移動に被透視試料管配置するスペースを作り
出す点でも役立っている。
移動して、結像レンズ４ＱＸ＠照射から保護するための
ものである。結像レンズ４の位置はシンチレータ２龜η
為らの光学的距離がＢ点と等しい０点となる０この結像
レンズ４む移動に被透視試料管配置するスペースを作り
出す点でも役立っている。
シンチレータ２ａＩｔ）片面に凸面となっており、これ
と同一０曲率を有丁ゐ凹面鏡２ｂと接してい心が１両者
む境界ｒｃに油などを充填し、光学的に損失の少ない接
触を行っている。
と同一０曲率を有丁ゐ凹面鏡２ｂと接してい心が１両者
む境界ｒｃに油などを充填し、光学的に損失の少ない接
触を行っている。
凹面反射鏡２ｂにシンチレータ２ａ内で発生する螢光の
うち、光学系と反対む方向に向う光をも透視像υ形成に
役立てるためにあ心が、尖鋭な螢光像を得、６ためＫに
、前述υ発光部位む虚像が実際む発光部位と一つむ直線
上になければならない。
うち、光学系と反対む方向に向う光をも透視像υ形成に
役立てるためにあ心が、尖鋭な螢光像を得、６ためＫに
、前述υ発光部位む虚像が実際む発光部位と一つむ直線
上になければならない。
したがって、凹面反射鏡２ｂｆＪ曲率中心にＡ点に一致
させである◎ ここで、凹面反射鏡２ｂにガラスなどυ基材に金属膜ｒ
設けたものである０罠だし、グラスチックシンチレータ
Ｑ工うに、シンチレータｔ）材質次第でに、そむ凸面に
直接に金属膜の蒸着オたにめつきｔ−１ＩＩＡｔ、、凹
面反射＊’を不要とする設計も可能でＴｏ ４０ 次に、こむ発明わ利点に列挙する。
させである◎ ここで、凹面反射鏡２ｂにガラスなどυ基材に金属膜ｒ
設けたものである０罠だし、グラスチックシンチレータ
Ｑ工うに、シンチレータｔ）材質次第でに、そむ凸面に
直接に金属膜の蒸着オたにめつきｔ−１ＩＩＡｔ、、凹
面反射＊’を不要とする設計も可能でＴｏ ４０ 次に、こむ発明わ利点に列挙する。
（１）厚いシンチレータ中にできる螢光像を歪やボケを
伴わずに観測できるりで、螢光光量が多く、η１つ光学
的分解能が１い。
伴わずに観測できるりで、螢光光量が多く、η１つ光学
的分解能が１い。
（２）光学的境界面の数が少ないので、像むコントラス
トむ低下が少な一０通常は上記（１）項Ｏ条件を満たす
ためには、シンチレータの前面にコンデンサレンズを必
要とする。
トむ低下が少な一０通常は上記（１）項Ｏ条件を満たす
ためには、シンチレータの前面にコンデンサレンズを必
要とする。
（３）シンチレータの前号お１び後方に向う螢光を両刃
とも像形成に利用できるので、利用可能光量が多く、そ
の分だけ結儂レンズの口径を小さくできる７０１魯また
にシンチレータの厚さｔ減ら丁ことがで！−１光学的分
解能を高くできる。
とも像形成に利用できるので、利用可能光量が多く、そ
の分だけ結儂レンズの口径を小さくできる７０１魯また
にシンチレータの厚さｔ減ら丁ことがで！−１光学的分
解能を高くできる。
以上の工うに、ＣＩり発明ＯＸ＠透視装置に１れば、Ｘ
ｓ源からυχ線を被透視試料を通して一万を平面とし他
方を凸面にして反射可能なシンチレータに入射して螢光
像を発生させ、この螢光像を結偉レンズで高感度撮像管
に結偉させるようにしたので、低線量時にも、螢光光量
が多く、高エネルギＸＳに適し几解偉力の高いＸＩＩ透
視装置が得られる◎
ｓ源からυχ線を被透視試料を通して一万を平面とし他
方を凸面にして反射可能なシンチレータに入射して螢光
像を発生させ、この螢光像を結偉レンズで高感度撮像管
に結偉させるようにしたので、低線量時にも、螢光光量
が多く、高エネルギＸＳに適し几解偉力の高いＸＩＩ透
視装置が得られる◎
第１！！ｌに従来のＸ線透視装置の構成を示す図、９２
図にこＯ発明０ＸｌｌｌＮ透視装置の一冥施例の構成を
示す図である。 ｌ・・・ＸＩＩ源、２１・・・シンチレータ、２ｂ°°
°凸面反射鍵、８・・・平面反射釧、４・・・結偉レン
ズ、５・・・高感度撮像管。 なお、図中同一符号に同一１九に相当部分を示す０ 代理人 葛 野 信 − ？１１１ 矛 ２ｍ！１
図にこＯ発明０ＸｌｌｌＮ透視装置の一冥施例の構成を
示す図である。 ｌ・・・ＸＩＩ源、２１・・・シンチレータ、２ｂ°°
°凸面反射鍵、８・・・平面反射釧、４・・・結偉レン
ズ、５・・・高感度撮像管。 なお、図中同一符号に同一１九に相当部分を示す０ 代理人 葛 野 信 − ？１１１ 矛 ２ｍ！１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）Ｘｉｌ源、こｒｌ）ｘＩｌｉ源から被透視試料に
照射して透過しｙｅＸＩｍ透視像にＬり螢光＊１−発生
するとともに一面が平面で他面が凸面となって上記螢光
像を反射するシンチレータ、上記螢光像を高感度撮像管
に結像させる結像レンズを備えてなり、上記シンチレー
タと結像レンズとの光学的距離をシンチレータの曲率半
径ｋｌ、屈折率ＩＨｎとして１７ｎとした仁とを特徴と
するｘＩＩ透視襞置装（２）シンチレータは凸面に直接
金属膜を蒸着して凸面反射鏡となっていることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載ｅＪｘ＠透視装置。 （３）シンチレータの凸面にめっきを織して凸面反射鏡
となっていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載むｘ＊透視装置０ （４）シンチレータの凸面には油など管充填して反射凸
面鏡を光学的に接着したことｔ−特徴と丁４特許請求の
範囲第１項記載のＸＩＩ透視装置。 （５）シンチシー・夕とＸＩＩ発生源と０間に平面反射
鏡を備えかつシンチレータＬり結像レンズに向つ螢光像
の経路を移動したことｔ−特徴と丁、６特許請求の範囲
Ｗ４１項記載のｘＩＩ透視装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56102804A JPS585638A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Ｘ線透視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56102804A JPS585638A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Ｘ線透視装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS585638A true JPS585638A (ja) | 1983-01-13 |
| JPS6352698B2 JPS6352698B2 (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=14337245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56102804A Granted JPS585638A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Ｘ線透視装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS585638A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2572366A (en) * | 2018-03-27 | 2019-10-02 | Elekta ltd | Imager |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP56102804A patent/JPS585638A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2572366A (en) * | 2018-03-27 | 2019-10-02 | Elekta ltd | Imager |
| GB2572366B (en) * | 2018-03-27 | 2021-08-18 | Elekta ltd | Imager |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6352698B2 (ja) | 1988-10-19 |
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