JPS58500253A - High speed chrome alloy plating - Google Patents

High speed chrome alloy plating

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JPS58500253A
JPS58500253A JP50075682A JP50075682A JPS58500253A JP S58500253 A JPS58500253 A JP S58500253A JP 50075682 A JP50075682 A JP 50075682A JP 50075682 A JP50075682 A JP 50075682A JP S58500253 A JPS58500253 A JP S58500253A
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JP
Japan
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chromium
ions
acid
iron
nickel
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JP50075682A
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シヤ−・グレン・ア−ル
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バツテル・デイベロプメント・コ−ポレ−シヨン
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 高速度クロム合金めっき 比較的まれな材料、たとえば、ニッケルおよびクロム、の広範な使用は、安価な 支持体、たとえば鋼または黄銅、上に、たとえば25μmのクロム合金、の耐食 性被膜を形成できる許容しうるめつき法により、縮小されることがある。クロム 合金の輝いた装飾的被膜も、ある用途において価値がある。[Detailed description of the invention] High speed chromium alloy plating The widespread use of relatively rare materials, e.g. nickel and chromium, makes it possible to Corrosion resistance of the support, for example steel or brass, for example 25 μm chromium alloy It may be reduced by a permissive lubrication method that can form a transparent film. chromium Shiny decorative coatings of alloys are also valuable in certain applications.

過去において、輝いたクロムの最も商業的めっきは、6価のクロム、たとえばク ロム酸の溶液から実施された。In the past, most commercial plating of bright chrome was based on hexavalent chromium, e.g. It was carried out from a solution of romic acid.

不都合なことには、これらの浴は、クロムが陰イオンとして錯化されている場合 、合金をめっきするためには歴史的に無効であった。2価のクロムおよび/また は6価のクロムの溶液からめっきを実施しようとするとき、多少の合金めっきを 生じうるが、析出速度は低く、そして電流密度は約1 A/1n2(15A/d m2)より典型的には低く、しばしば非常に低い。Disadvantageously, these baths are complexed when chromium is anionic , has historically been ineffective for plating alloys. Divalent chromium and/or When attempting to perform plating from a solution of hexavalent chromium, some alloy plating may occur. However, the deposition rate is low and the current density is about 1 A/1n2 (15 A/d m2) typically lower, often very low.

その上、金属イオンを含有する溶液から合金を電着するとき、より活性な金属よ りもより活性に劣る金属が優先的に析出するであろうことがよく知られている。Moreover, when electrodepositing alloys from solutions containing metal ions, more active metals It is well known that less active metals will preferentially precipitate.

鉄および/またはニッケルを含有するクロム合金を考慮すると、ニッケル、鉄お よびクロムの相対的酸化還元電位は、ニッケルと鉄に富んだ析出物が生ずること が期待されるであろう。クロムは明らかにより活性であり、Or か2 符表昭 58500253 (2) らCr への還元についての電位は約−0,74ボルトである。Considering chromium alloys containing iron and/or nickel, nickel, iron and The relative redox potential of nickel and chromium is such that nickel- and iron-rich precipitates form. would be expected. Chromium is clearly more active and 58500253 (2) The potential for the reduction of Cr to Cr is approximately -0.74 volts.

本・発明の目的は、鉄と、必要に応じてニッケルおよび/またはコバルトとの、 クロム合金をめっきする方法を提供することである。The object of the present invention is to combine iron and, if necessary, nickel and/or cobalt. An object of the present invention is to provide a method for plating chromium alloy.

また、本発明の目的は、金属の活動度が異なるにもかかわらず、電解液中の金属 比に実質的に近世し5る、このような合金組成物をめっきすることである。Furthermore, the object of the present invention is to improve The plating of such alloy compositions is substantially modern in comparison.

また、本発明の目的は、クロム合金を高速度でめっきする方法を提供する方法で ある。It is also an object of the present invention to provide a method for plating chromium alloys at high speed. be.

さらに、本発明の目的は、2価のクロムと3価のクロムからなる溶液からクロム 合金を生成する、このような電着法を提供することである。Furthermore, the object of the present invention is to extract chromium from a solution consisting of divalent chromium and trivalent chromium. It is an object of the present invention to provide such an electrodeposition method for producing an alloy.

最後に、本発明の目的は、厚く、密なりロム合金析出物を生ずるようにコントロ ール可能な、このような方法を提供することである。Finally, it is an object of the present invention to control the formation of thick, dense ROM alloy precipitates. The objective is to provide such a method that can be used to

これらの目的に従い、本発明は、2価のクロムおよびろ価のクロムのイオン、鉄 のイオンおよび、必要に応じて、追加の合金成分として、ニッケルおよび/また はコバルトのイオン、を含有する電解溶液から、クロム合金を高速度でめっきす る方法である。高速度のめっきは、少な(とも約75A/dm(好ましくは少な くとも約15OA/dm)の電流密度、約05〜2oのpHにおいて、陰極とめ つき溶液とを少なくとも約1m/秒(好ましくは1〜8m/秒)で相対的に動か しながら、実施する。In accordance with these objectives, the present invention provides ions of divalent chromium and divalent chromium, iron ions and optionally additional alloying constituents such as nickel and/or plating chromium alloys at high speed from an electrolytic solution containing cobalt ions. This is a method to High speed plating requires less than 75 A/d (preferably less than At a current density of at least about 15 OA/dm), at a pH of about 0.5 - 2 o, the cathode moving the solution at a rate of at least about 1 m/sec (preferably 1-8 m/sec). Implement while doing so.

5〜80(重量)%のクロム、20〜95%の鉄および0〜50%のニッケルの 組成の析出物は、好ましくは2097eないし飽和の2価/3価のクロム、1〜 50971の鉄および0〜509/lのニッケルの金属イオン濃度を有する電解 溶液を電解することによって形成される。価酸、スルファミン酸、塩酸、リン酸 およびホウ酸の錯化陰イオンが電解液中に存在することが好ましい。5-80% (by weight) chromium, 20-95% iron and 0-50% nickel. The composition of the precipitate is preferably 2097e or saturated divalent/trivalent chromium, mono- to Electrolysis with metal ion concentrations of iron of 50971 and nickel of 0 to 509/l Formed by electrolyzing a solution. acid, sulfamic acid, hydrochloric acid, phosphoric acid It is preferred that complex anions of and boric acid are present in the electrolyte.

不溶性陽極を使用するとき、典型的にはバリヤーを陰極のまわりに配置して、そ うでなければ陽極が2価/6価のクロムを6価の状態に酸化する場合、陽極酸化 反応生成物の陰極への移動を防止する。When using an insoluble anode, a barrier is typically placed around the cathode to protect it. If the anode oxidizes otherwise divalent/hexavalent chromium to the hexavalent state, anodization Prevents migration of reaction products to the cathode.

前述の一般的条件の範囲内で、クロム合金の最良の析出は、電解液の遊離酸を約 1.7〜1.8のpHに相当する狭い範囲内に厳格に維持することによって、得 ることができることも発見された。非常に精確な計量をpHO監視に使用しな( てはならず、あるいは浴中の遊離の量の確立に滴定を必要とすることがあるであ ろう。Within the general conditions described above, the best deposition of chromium alloys is achieved when the free acid in the electrolyte is approximately By strictly maintaining the pH within a narrow range corresponding to a pH of 1.7-1.8, It was also discovered that it is possible to Do not use very accurate weighing for pHO monitoring ( or titration may be required to establish the free amount in the bath. Dew.

また、本発明は、2097eないし飽和の2価/6価のクロムイオン、1〜50 9/eの鉄イオンおよび0〜5097eの合計のニッケルイオンからなり、pH が約1.7〜1.8に調整されている、新規な電気めっき用溶液からなる無機酸 の錯化陰イオンを、電解液中に使用できる。The present invention also provides 2097e or saturated divalent/hexavalent chromium ions, 1 to 50 Consisting of iron ions of 9/e and nickel ions of 0 to 5097e in total, pH An inorganic acid consisting of a novel electroplating solution in which the complexing anions can be used in the electrolyte.

発明の説明 本発明は、鉄および、必要に応じて、ニッケルおよび/またはコバルト、を含有 するクロム合金を電気めっきする方法である。合金の組成は好ましくは5〜80 %のクロム、20〜95%の鉄および0〜50%の合計のニッケルおよび/また はコバルトの範囲(重量)内に入る。Description of the invention The present invention contains iron and, if necessary, nickel and/or cobalt. This is a method of electroplating chromium alloy. The composition of the alloy is preferably 5-80 % chromium, 20-95% iron and 0-50% total nickel and/or falls within the range (weight) of cobalt.

この範囲外の合金は本発明に従ってめっきできるが、所望の耐食性の被膜を得る ためには、少なくとも約5〜10%のクロムを必要とする。好ましい範囲より多 いクロムおよびニッケルの含量は、合金のコストを不都合に上昇させ、それゆえ 、好ましくはない。クロム−ニッケルー鉄合金は好ましい被覆組成物であり、そ してとくに、600および400クラスのステンレス鋼は好ましい。Alloys outside this range can be plated according to the present invention to obtain the desired corrosion resistant coating. This requires at least about 5-10% chromium. more than the preferred range The high chromium and nickel content unfavorably increases the cost of the alloy and therefore , not preferred. Chromium-nickel-iron alloy is a preferred coating composition; In particular, 600 and 400 class stainless steels are preferred.

604型ステンレス鋼(18%Cr−8%N1−2%Mn−残部F。)は、1つ の望ましい組成物である。しかしながら、クロム−鉄−ニッケル合金の例および 考察は、コバルトを、この分野にお〜・て知られているように、ニッケルのすべ てまたは一部分の代わりに使用できる合金を包含することを意図する。たとえば 、陽極から析出物の中に入りうる他の不純物は、害なく析出させることもできる 。マンガン、ケイ素および銅は例である。604 type stainless steel (18%Cr-8%N1-2%Mn-balance F) is one is a desirable composition. However, examples of chromium-iron-nickel alloys and Consideration will be given to cobalt, as it is known in this field, to all of nickel. It is intended to include alloys that can be used in place of or as a part of the alloy. for example , other impurities that can enter the precipitate from the anode can also be precipitated out without harm. . Manganese, silicon and copper are examples.

合金被膜は、たとえば、鋼、鉄、アルミニウム、黄銅または銅の普通の陰極表面 上に形成される。不溶性陽極、たとえば鉛から作ったものを使用できるが、鉄お よびクロムの可溶性合金の陽極は本発明の方法において最も有5 用であった。Alloy coatings can be applied to common cathode surfaces of steel, iron, aluminium, brass or copper, for example. formed on top. Insoluble anodes, such as those made from lead, can be used, but iron or Anodes of soluble alloys of It was for business.

めっき溶液 電解液は、好ましくは209/eないし飽和のクロムイオン、1〜509/eの 鉄イオンおよび合計O〜50y/eのニッケルおよび/またはコバルトのイオン を含有する、2価/ろ価のクロム塩溶液である。6価のクロムは2価の形に転化 することができ、また逆も可能であるので、それらの正確な比は明りように同定 しなかった。plating solution The electrolyte preferably contains 209/e to saturated chromium ions, 1 to 509/e Iron ions and nickel and/or cobalt ions totaling O~50y/e It is a divalent/diavalent chromium salt solution containing. Hexavalent chromium is converted to divalent form and vice versa, their exact ratio is clearly identified. I didn't.

したがって、2つの種は両方とも存在しかつ必要であると信じられ、そして6価 のクロムについての言及は浴中に同時に存在するより低い原子価の種を包含する ことをまた意図する。過剰の2価の形はニッケルイオンを金属に還元し、槽の壁 などの上に沈殿やめっきを生ずる傾向があるので、ニッケルの析出に悪影響を及 ぼしうる。Therefore, the two species are both believed to exist and are necessary, and the hexavalent References to chromium encompass lower valence species simultaneously present in the bath. I also intend to do that. The excess divalent form reduces the nickel ions to metal and It has a negative effect on nickel precipitation as it tends to form precipitates and plating on surfaces such as nickel. I can beat it.

ある電解液は、よりすぐれた製品を得る前に、安定化期間を必要とする。これは 浴中にある特定の最小量の2価のクロムを生成するために必要であろう。Some electrolytes require a stabilization period before obtaining a better product. this is It may be necessary to produce a certain minimum amount of divalent chromium in the bath.

クロムめっきに常用の鉛化陰イオンも、本発明の方法において必要である。とく に、これらには鉱酸:硫酸、電解液のpHは、厚く、輝やいたおよび半光沢の被 膜を析出する上で臨界的因子であることがわかった。0.5〜20のpH範囲内 で、つや消しのきめであるが、耐食および耐摩耗性のある用途においてなお有用 である、すぐれたクロム合金の被膜を析出できる。これらの被膜は一般に厚さが 約12〜25μmに制限される。より厚い被膜は、内部応力が増加する結果、割 れたり剥離したりする傾向がある。Plead anions, commonly used in chromium plating, are also required in the method of the present invention. virtue These include mineral acids: sulfuric acid, electrolyte pH, thick, shiny and semi-glossy coatings. It was found to be a critical factor in depositing the film. Within the pH range of 0.5-20 and has a matte texture, but is still useful in corrosion and wear resistant applications. It is possible to deposit an excellent chromium alloy film. These coatings generally have a thickness of It is limited to about 12-25 μm. Thicker coatings result in increased internal stresses It has a tendency to peel and peel.

しかしながら、電解液の酸度が約1,7〜1,8のpHに相当するとき、輝いた 被膜および半光沢の被膜を得ることができ、この被膜は、125μmを超える厚 さにおいてさえ、密着性、密でありかつ割れを含まないことが、発見された。こ の現象の理由はこの時点で理解されないが、この範囲にわたる結果は劇的である 。However, when the acidity of the electrolyte corresponds to a pH of about 1,7-1,8, the shine Coatings and semi-gloss coatings can be obtained, which coatings have a thickness of more than 125 μm. It has been found that even at low temperatures, the adhesion is dense and free of cracks. child The reasons for this phenomenon are not understood at this point, but the results over this range are dramatic. .

この酸度の範囲は非常に狭いので、それを測定しかつ溶液全体を通じて維持する ことは困難であることがある。This acidity range is very narrow, so measure it and maintain it throughout the solution. Things can be difficult.

確かに、pHを測定する感度のよい器具が存在し、そして実際に、pHメーター を好適に使用できる。しかしながら、たとえば、標準の基本溶液に対して滴定に より7遊離酸“の量を測定することによって、酸度を決定することが、精度のた めに、好ましい。”遊離酸1の含量は、電解液の1.0 mlのアリコートをp H3,5にするために要する、0.INのNaOH溶液の量として、われわれは 定義する。この滴定法に用いる遊離酸の好ましい範囲は、約0.5 m 〜1. 5 miのNaOHであり、これはそれぞれ約1.8〜1.7のpHに相当する 。Indeed, sensitive instruments exist to measure pH, and in fact, pH meters can be suitably used. However, for titration against standard base solutions, e.g. Determining acidity by measuring the amount of “7 free acids” is recommended for accuracy. preferred for this purpose. "The content of free acid 1 is determined by p 0.0 required to make H3.5. As the amount of NaOH solution in IN, we Define. The preferred range of free acid used in this titration method is about 0.5 m to 1.5 m. 5 mi of NaOH, which corresponds to a pH of approximately 1.8-1.7, respectively. .

めっき溶液の温度は、好ましくは25〜75rの範囲である。The temperature of the plating solution is preferably in the range of 25-75r.

実施条件 酸度とともに、割れを含まない密着した被膜を得るための最も重要な実施のパラ メーターは、電流密度と攪拌もしくは溶液の流れである。酸度と溶液の流れは、 被膜の析出速度と密度にとくに影響を及ぼすが、酸度はニッケルと鉄のめつき反 応が効率を低下する非常に低いpHである場合を除いて、析出物の組成に有意に 影響を及ぼさない。組成は、電流密度と電解液の組成によって、よりとくに影響 を受ける。Implementation conditions Along with acidity, the most important implementation parameters to obtain a crack-free, adherent coating. The meters are current density and agitation or solution flow. Acidity and solution flow are Acidity has a particular effect on the deposition rate and density of the coating, but acidity has a negative effect on the plating reaction between nickel and iron. does not significantly affect the composition of the precipitate, except at very low pH where the reaction reduces efficiency. No effect. The composition is influenced more by the current density and the composition of the electrolyte. receive.

最も活性に劣る金属がより活性な金属よりも優先的に析出することは、・よく理 解されている。しかし、本発明の方法においては、高い電流密度と溶液の流れを 用いるので、析出物の組成を、ことにスルファミン酸塩溶液からの鉄−クロムの 二成分系合金について、高いクロムの析出物についてさえ、先行技術のめつき法 におけるよりも、電解液の組成に近似させることができる。It is well-reasoned that the least active metals precipitate preferentially over the more active metals. It is understood. However, the method of the present invention requires high current density and solution flow. The composition of the precipitate can be determined, especially of iron-chromium from the sulfamate solution. For binary alloys, even for high chromium precipitates, prior art plating methods The composition of the electrolyte can be approximated more closely than that of the electrolytic solution.

本発明の方法のための電流密度は、少なくとも75A/ d m であるが、好 ましくは約150〜400 A/dm2の範囲内である。より高い電流密度は、 鉄または他の金属よりもクロムの析出に好都合であり、6価のクロム溶液から高 いクロム含量の合金を得るために必要である。The current density for the method of the invention is at least 75 A/dm, but preferably Preferably, it is within the range of about 150 to 400 A/dm2. The higher current density is It is more favorable for the precipitation of chromium than iron or other metals, and is highly soluble from hexavalent chromium solutions. This is necessary to obtain alloys with high chromium content.

このように高い電流において、クロム、鉄およびとくにニッケルまたはコバルト は、それに関連して高い攪拌もしくは溶液流速についてでない場合、密な密着性 の析出物でめっきすることは困難であろう。陰極もしおは溶液の流れから生ずる 、陰極付近の乱流は、陽イオンに富んだ溶液と消耗した電解液を置換するための 輸送機構をつ(る。陰極表面とめっき溶液との間の少なくとも1m/秒の相対渾 動は、すぐれた析出物のために必要な乱流条件をつくるために一般に十分である 。典型的には、1〜80m/秒の速度を使用できるが、1〜8m/秒は好ましい 。At such high currents, chromium, iron and especially nickel or cobalt close adhesion unless associated with high agitation or solution flow rates. It would be difficult to plate with such deposits. The cathode also arises from the flow of the solution. , the turbulent flow near the cathode allows the cation-rich solution to replace the depleted electrolyte. A relative velocity of at least 1 m/s between the cathode surface and the plating solution. motion is generally sufficient to create the necessary turbulent conditions for good precipitation. . Typically, speeds of 1 to 80 m/s can be used, with 1 to 8 m/s being preferred. .

攪拌および陽極生成物を陰極の領域へ移動させる他の手段を用いるとき、不溶性 陽極と陰極との間に)=リヤーを選択して、陽極生成物が陰極付近において2価 および3価のクロムを酸化しないようにすることが、必要であろう。普通の多孔 質膜(セラミックのカップ)をこの目的に陰極のまわりに使用できる。When using agitation and other means of moving the anodic product to the area of the cathode, the insoluble between the anode and the cathode), so that the anode product is divalent near the cathode. It may also be necessary to avoid oxidizing trivalent chromium. normal porous A membrane (ceramic cup) can be used around the cathode for this purpose.

実施例1−鉄−クロム合金浴の組成に匹敵する組成本発明に従い、クロムおよび 鉄のめっき反応の酸化還元電位が異なるにもかかわらず、電解液中の金属比と実 質的に同じ組成比を有する合金を析出することができる。Example 1 - Composition Comparable to the Composition of an Iron-Chromium Alloy Bath According to the invention, chromium and Although the redox potential of the iron plating reaction is different, the metal ratio in the electrolyte and the actual Alloys having qualitatively the same composition ratio can be deposited.

43Fおよび52Aと表示する試料において、スルファミン酸鉄およびクロムの 電解液を、スルファミン酸の酸溶液中に金属を溶解することによって、調本°シ た。濃度は025モルのクロム(1’:、9/eのcr) および0.75モ/ l/の鉄(42!/eの”e)であった。電流密度は160A/dm であり、 そして棒状銅陰極を25m/秒の表面速度で回転させた。鉛の陽極を利用し、多 孔質アルミナのダイヤスラムで陰極から隔離した。温度は約9 37Cおよび49rであった。In samples labeled 43F and 52A, iron and chromium sulfamate The electrolyte is prepared by dissolving the metal in an acid solution of sulfamic acid. Ta. Concentrations are 0.25 molar chromium (1':, 9/e cr) and 0.75 molar l/ of iron (42!/e of "e").The current density was 160 A/dm, The rod-shaped copper cathode was then rotated at a surface speed of 25 m/sec. Using a lead anode, It was isolated from the cathode by a porous alumina diaslum. The temperature is about 9 They were 37C and 49r.

試料43FはpH1,6において10分の析出を用い、−実試料52はp)(i 、7において5分間めっきした。両者の場合において、合金の組成の重量比は実 質的に電解液と同一であり、それぞれ72 Fe−28Or および75Fe  −25Cr(±3%)であった。陰極効率は約26−27%であった。Sample 43F used 10 minutes of precipitation at pH 1,6; - Actual sample 52 used p)(i , 7 for 5 minutes. In both cases, the weight ratio of the alloy composition is Qualitatively the same as the electrolyte, 72Fe-28Or and 75Fe, respectively. -25Cr (±3%). Cathode efficiency was about 26-27%.

析出の終りにおいて、鉛の陽極はスルファミノ酸塩中に溶解する徴候を示した。At the end of the precipitation, the lead anode showed signs of dissolving into the sulfaminate.

より長い析出においてこれを避けるために、白金またはグラファイトの陽極ある いは、好ましくは、可溶性陽極を使用できる。To avoid this in longer precipitations, platinum or graphite anodes are used. Alternatively, preferably a soluble anode can be used.

実施例2−pHの効果 硫酸クロム(09モル)、価酸鉄(0,4モル)および硫酸1遊離酸”(1,3 m/)を含有する浴中で、いくつかの直径47朋のリング(陰極として)を連続 的にめっきするとき、pHの重要性が認識された。pI(は1.75と測定され た。数個のつや消しのスポットをもつ光沢のある析出物が、16OA/dm お よび3m/秒の表面速度において、めっきされた。pHが約1.8 (0,5m l )の遊離酸)に増加するにつれて、連続の炭素鋼リング上の析出物はほとん ど完全な輝やいためつきに改良され、次いでよりつや消しの組織になり始めた。Example 2 - Effect of pH Chromium sulfate (09 mol), iron oxide (0,4 mol) and sulfuric acid 1 free acid (1,3 Several 47 mm diameter rings (as cathodes) are successively placed in a bath containing m/). The importance of pH has been recognized when plating commercially. pI (measured as 1.75) Ta. A shiny precipitate with a few matte spots was observed at 16OA/dm. and at a surface speed of 3 m/s. pH is approximately 1.8 (0.5 m As the free acid of l) increases, the precipitates on continuous carbon steel rings become almost It improved to a full shine and then began to take on a more matte texture.

硫酸を加えて遊離酸を約1.1 mlにし、そして密着性の輝いためっきが再び 析出した。Add sulfuric acid to bring the free acid to about 1.1 ml, and the adhesive bright plating is restored. It precipitated.

輝いためっきを試験し、それはきわめて密着性であり、1o符表!;u5850 0253(4)硝酸に対して耐食性でありかつ高温の酸化に対して抵抗性である ことがわかった。硬度は1009の荷重で410(ヌープ)程度であり、ビッカ ースDPH=360またはロックウェルC−39に等しかった。Tested the bright plating and found it to be extremely adhesive, 1o rating! ;u5850 0253(4) Corrosion resistant to nitric acid and resistant to high temperature oxidation I understand. The hardness is about 410 (Knoop) under a load of 1009, The base DPH was equal to 360 or Rockwell C-39.

実施例6−塩化物および硫酸塩の浴中の好ましい合金の組成 ある数の被膜を、直径125酊の鋼の棒、長さ25朋に、次の組成を有する硫酸 塩および混合価酸塩/塩化物の溶液から、適用した。Example 6 - Preferred alloy composition in chloride and sulfate baths A certain number of coatings were applied to 125 mm diameter steel rods, 25 mm long, with sulfuric acid having the following composition: Applications were made from solutions of salts and mixed acid salts/chlorides.

化学物質 添加物 濃度 C9/l))クロム 塩化クロム 394900 クロム 価際クロム OO2639 鉄 儲酸第−鉄 3 1 6.6 1 ニツケル 価醒第−ニッケル 45 11 11 5.6ホウ酸 ホウ酸 35  35 23 35アンモニア 儒醒アンモニウム 14 14 8.5 13 マンガン 硫酸第一マンガン 0 0 2.2 3.3ろ04型ステンレス鋼の 合金を使用した。実施の、6ラメーターを、表1に記載する。合金の試料中のマ ンガン含量は1%より小であり、それゆえ、報告しない。Chemicals Additives Concentration C9/l)) Chromium Chromium Chloride 394900 Chrome Value Chrome OO2639 Iron Ferrous acid 3 1 6.6 1 Nickel 45 11 11 5.6 Boric acid Boric acid 35 35 23 35 Ammonia Confucian Ammonium 14 14 8.5 13 Manganese manganese sulfate 0 0 2.2 3.3 type 04 stainless steel Alloy was used. The six parameters of the implementation are listed in Table 1. Ma in alloy sample The cancer content is less than 1% and therefore not reported.

1 203/4−13A0.45 160 62 2 1 53.7 1,6 44 .7−14C1,4310622226,51,971,6−19E1.8 1 60 62 2 3 21 2.2 57−18D1.5 160 62 2  3 4 41 55−18F1.65220 62 2 3 16 36 48 −19L1.8 160 65 2 3 8 48 44−20G1.8 16 0 50 2 4 31 7 62合金析出物中のクロム含量は、いくつかの実 施条件、たとえば、電流密度、攪拌、pH1溶液中の金属イオンの比および金属 イオンを錯化するために使用するイオンの型に依存する。試料13Aおよび試料 14Gを比較すると、pHは主変数であり、そしてクロム含量はpHが低くなる (酸含量が高くなる)とき高くなる。これは、鉄およびニッケルをめっきするた めのクーロン(陰極)効率がより低いpH値において劣ることが知られているの で、合理的である。1 203/4-13A0.45 160 62 2 1 53.7 1,6 44 .. 7-14C1, 4310622226, 51,971, 6-19E1.8 1 60 62 2 3 21 2.2 57-18D1.5 160 62 2 3 4 41 55-18F1.65220 62 2 3 16 36 48 -19L1.8 160 65 2 3 8 48 44-20G1.8 16 0 50 2 4 31 7 62 The chromium content in alloy precipitates is Application conditions, e.g. current density, agitation, ratio of metal ions in pH 1 solution and metal It depends on the type of ion used to complex the ion. Sample 13A and sample When comparing 14G, pH is the main variable, and the chromium content is lower in pH It becomes high when (the acid content becomes high). This is for plating iron and nickel. It is known that the coulombic (cathode) efficiency of the membrane decreases at lower pH values. And it's reasonable.

試料18Dおよび試料18Fは、電流密度以外、同様な条件下でめっきした。結 果が示すよ5に、試料18Fのために使用したより高い電流密度はより高いクロ ム含量を生じた。Sample 18D and Sample 18F were plated under similar conditions except for current density. Conclusion The results show that the higher current density used for sample 18F results in higher chromatography. This resulted in a rum content.

温度も析出物中のクロムの百分率に影響を及ぼす、試料19Eおよび試料19L を比較すると、温度を62Cから65Cに増加し、そして析出物中のクロム含量 は21%から8%に減少した。一般に、温度は非常に重要であると思われないが 、より高い温度はクロムの析出に好都合ではない。Temperature also affects the percentage of chromium in the precipitate, Sample 19E and Sample 19L When comparing, increasing the temperature from 62C to 65C, and the chromium content in the precipitate decreased from 21% to 8%. Although temperature generally does not seem to be very important , higher temperatures are not favorable for chromium precipitation.

めっきのパラメーターのいくつかを変化することにより、たとえば、温度を低( し、pHを高く、クロムの濃度を高くし、そしてニッケルおよび鉄の両者の濃度 を低くすることにより、合金析出物のクロム含量を高くしかつニッケル含量を低 くすることができることが、明らかである。By varying some of the plating parameters, e.g. high pH, high chromium concentration, and both nickel and iron concentrations. By lowering the It is clear that it can be improved.

一般に、すぐれた輝いた被膜と半光沢の被膜は約pH1,7〜1.8においてめ っきした析出物において得られ、−実地のものはつや消しの組織であり、より厚 い被膜において割れを生ずる。Generally, good bright and semi-gloss coatings are achieved at a pH of about 1.7 to 1.8. Obtained in clear precipitates - the actual ones have a matte texture and are thicker. Cracks occur in the thin coating.

実施例4−混合塩化物7価酸浴におけるCr−Fe−Ni合金 可溶性ろ04型ステンレス鋼の陽極と次の成分から成る溶液を用いて、普通の槽 中で、試料202/98−14Eをめっきした。Example 4 - Cr-Fe-Ni alloy in mixed chloride heptahydric acid bath Using a soluble filter type 04 stainless steel anode and a solution consisting of the following ingredients, Sample 202/98-14E was plated therein.

クロム(塩化物の塩) 48.897e鉄(硫酸塩) 1.09/e ニツケル(硫酸塩) 1129/e ホウ醸 35.097e I 硫酸アンモニウム 5s、(Nl#13 温度は62rであり、そしてpHは14であった。Chromium (chloride salt) 48.897e Iron (sulfate) 1.09/e Nickel (sulfate) 1129/e Houjo 35.097e I ammonium sulfate 5s, (Nl#13 The temperature was 62r and the pH was 14.

2m/秒の陰極表面速度と155A/cm の電流密度を用いると、125μm の被膜が30分で適用された。比較的密な被膜は表面がつや消しの組織であった が、それ以外一般に割れを含まず、そして160r−21Ni−63Feの組成 を有した。Using a cathode surface velocity of 2 m/s and a current density of 155 A/cm, 125 μm A coating was applied in 30 minutes. The relatively dense film had a matte texture on the surface. However, it generally does not contain any cracks and has a composition of 160r-21Ni-63Fe. It had

実施例5−塩化物の浴からのFe−Cr合金被膜クロム(5651/e)および 鉄(529/6りの塩化物の電解溶液から約30Cにおいて、鉄−クロム合金被 膜を析出した。実施例1の装置を使用しく可溶性60/70クロム−鉄陽極を除 ()で、表2に示す合金被膜をめっきした。陰極の効率は、クロム合金を析出す るために使用する印加電流の百分率として、常法で定義する。Example 5 - Fe-Cr alloy coating chromium (5651/e) and from chloride bath Iron (iron-chromium alloy coated at about 30C from a 529/6 chloride electrolyte solution) A film was deposited. Using the apparatus of Example 1 and removing the soluble 60/70 chromium-iron anode. The alloy coating shown in Table 2 was plated using (). Efficiency of cathode deposits chromium alloy It is conventionally defined as the percentage of applied current used to

析出の条件 合金の組成 電流 97A 50.8 3 .0 2 9896G 22 0.6 40 2.4  6 9496B 36 0.6 80 2.4 8 9296D 40 0.7  160 2.4 18 82これらの試料はわれわれがpHの重要性を認識す る前に作りかつ本発明の広い範囲内に入るが、本発明の好ましいpHの範囲外で ある。それ罠もかかわらず、電流密度および攪拌の効率および最終合金組成に対 する効果は14 特表昭58500253(5) 明りように示されており、ここで析出物のクロム含量および効率は電流密度に比 例する。電流密度が低(かつ攪拌が低いために効率と析出物中のクロム百分率の 両者が低い試料97Aを観察することにより、高い電流密度および高い攪拌を用 いることの重要性を理解できる。密着力に劣りかつより厚い析出物では割れが生 ずるため、析出物はまた非常に薄い断面に制限される。被膜は薄くかつクロム含 量が低いので、耐食性に劣る。Precipitation conditions Alloy composition current 97A 50.8 3. 0 2 9896G 22 0.6 40 2.4 6 9496B 36 0.6 80 2.4 8 9296D 40 0.7 160 2.4 18 82 These samples help us recognize the importance of pH. and within the broad scope of the invention, but outside the preferred pH range of the invention. be. However, the current density and efficiency of stirring and final alloy composition are The effect is 14 special table Showa 58500253 (5) It is clearly shown that the chromium content and efficiency of the deposit are proportional to the current density. Give an example. Low current density (and low agitation reduces efficiency and chromium percentage in the precipitate) By observing sample 97A where both are low, it is possible to use high current density and high agitation. Understand the importance of being present. Poor adhesion and thicker precipitates may cause cracking. Because of the shear, the precipitates are also restricted to very thin cross-sections. The coating is thin and contains chromium. Since the amount is low, corrosion resistance is poor.

試料96B、96Gおよび96Dは周辺で割れたが、それ以外は触媒添加クロム 酸溶液中で析出した従来のかたいクロムめっきと同様に適当な被膜であった。析 出物中のこれらの割れは、被膜に望まれる主な性質が耐摩耗性であるとき、悪影 響を及ぼさないであろう。Samples 96B, 96G, and 96D cracked at the periphery, but the rest were catalyzed chromium. The coating was suitable, similar to conventional hard chromium plating deposited in acid solution. analysis These cracks in the coating can be a negative influence when the main desired property of the coating is abrasion resistance. It will have no effect.

実施例6−硫酸塩浴からのFe−0r合金析出物ろ0/70クロム−鉄陽極を再 び硫酸塩溶液中で使用して、銅被覆した鋼リングの陰極上に合金被膜をめっきし た。めっき溶液の組成は、次のとおりであった。Example 6 - Fe-0r alloy precipitate filter 0/70 chromium-iron anode from sulfate bath and a sulfate solution to plate an alloy coating on the cathode of a copper-coated steel ring. Ta. The composition of the plating solution was as follows.

鉄金属イオン 28 14 21 クロム金属イオン 26 39 47 合金被膜は、表6に示すように5DCにおいて析出した。Iron metal ion 28 14 21 Chromium metal ion 26 39 47 The alloy coating was deposited at 5DC as shown in Table 6.

5 61F 1.5 160 2 1 20 8062P 2.0 160 2 1 .26 7480D 1.9 230 3 2 24 7680E 1.9 3 10 3 2 48 5280F 1.8 390 3 2 42 5867C 1,7160326535 11B 1.8 160 3 3 29 7111A 161 160 3 3  26 7412A 1.745 160 3 3 32 68120 1.7 45 390 3 3 62 28い(つかの初期の結果(試料61〜80)を 、pHの重要性を確認する前に、取った。それゆえ、極端な精度をもたないpH メーターを使用した。後に、このメーターの代わりに、より精確な器具を使用し た。それにもかかわらず、2価/ろ価のクロムの電解液を用いて、好ましいpH 範囲外で、薄いつや消しの被膜が得られた。これらの被膜は高いクロム含量で、 高い電流密度および高い攪拌の使用により、作ることができる。5 61F 1.5 160 2 1 20 8062P 2.0 160 2 1 .. 26 7480D 1.9 230 3 2 24 7680E 1.9 3 10 3 2 48 5280F 1.8 390 3 2 42 5867C 1,7160326535 11B 1.8 160 3 3 29 7111A 161 160 3 3 26 7412A 1.745 160 3 3 32 68120 1.7 45 390 3 3 62 28 (some initial results (samples 61-80) , before confirming the importance of pH. Therefore, pH without extreme precision used a meter. Later, a more accurate instrument was used in place of this meter. Ta. Nevertheless, using divalent/diavalent chromium electrolytes, the preferred pH Outside the range, a thin matte coating was obtained. These coatings have a high chromium content, can be made by using high current density and high agitation.

表6において理解できるように精確さに劣るpHメーターを使用するとき、結果 は常に合致するというわけではないが、これはpHを測定しかつ浴全体を通じて そのpHを維持するときの十分な精度に欠けるということに帰因する。精度がよ り高いメーターを使用するとき、そして好ましいpH範囲内にあるとき、この方 法のすぐれたコントロールが達成できることがわかるであろう。たとえば、試料 12Aおよび120において、pHは好ましい範囲内にあり、そして析出物のク ロム含量は電流密度の増加とともに太き(増加し、たとえば、電流密度が16O A/dm2 から39OA/dm2Vc増加するとき、クロム含量は62%から 62%のOrに増加した。As can be seen in Table 6, when using a less accurate pH meter, the results does not always match, but this allows you to measure the pH throughout the entire bath. This is attributed to the lack of sufficient precision in maintaining the pH. Accuracy is good This option is recommended when using a higher meter and when within the preferred pH range. It will be seen that superior control of the law can be achieved. For example, sample At 12A and 120, the pH is within the preferred range and the precipitate crystals are The ROM content thickens (increases) with increasing current density, for example, when the current density is 16O When increasing from A/dm2 to 39OA/dm2Vc, the chromium content increases from 62% It increased to 62% Or.

国際調査報告 m1lJsB 2 / OOO70international search report m1lJsB 2 / OOO70

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、 鉄イオン、2価のクロムイオンおよび6価のクロムイオンからなるめっき 水溶液を、少なくとも約75A/dm の電流密度、約05〜2.0のpHにお いて、陰極とめつき 溶液とを陰極表面において少な(とも約1m/秒で相対的 に動かしながら、電解することからなる、陰極上にクロム合金の被膜を高速度で 電着する方法。 2 ニッケルおよび/またはコバルトから選択された追加の合金金属のイオンを さらに含むめっき水溶液を電解することからなる、請求の範囲1に記載の電着法 。 6、約209/(lないし飽和の2価のクロムイオンおよび6価のクロムイオン 、約1〜50971の鉄イオンおよび約0〜50’l/eのニッケルイオンから なるめっき水溶液を電解することからなる、5〜80重量%のクロム、20〜9 5重量%の鉄および0〜50重量%のニッケルから本質的に成るクロム合金被膜 を特徴する請求の範囲2に記載の電着法。 4、硫酸、スルファミノ酸、塩酸、リン酸およびホウ酸から選択された鉱酸の錯 化陰イオンをさらに含む、めっき水溶液を電解することからなる、請求の範囲1 またぽ2に記載の電着法。 5、めっき水溶液のpHを約1.7〜1.8に維持することからなる、請求の範 囲1または2に記載の電着法。 6、陽極は不溶性であり、酸化剤の陰極への移動を抑制御8 することにより、陰極付近における2価のクロムおよび6価のクロムの酸化を防 ぐことをさらに含む、請求の範囲5に記載の電着法。 囲1に記載の電着法。 8、 20’!/eないし飽和の2価のクロムイオンおよび3価のクロムイオン 、1〜509/(lの鉄イオンおよび0〜509/lのニッケルイオンからなり 、そして溶液のpHが1.7〜1゜8の範囲内である、クロム合金電気めっき用 水溶液。 9 硫酸、スルファミン酸、塩酸、リン酸およびホウ酸から選ばれた鉱酸の鉛化 性陰イオンをさらに含む、請求の範囲8に記載のクロム合金電気めっき用水溶液 。 1[Claims] 1. Plating consisting of iron ions, divalent chromium ions, and hexavalent chromium ions The aqueous solution is brought to a current density of at least about 75 A/dm and a pH of about 0.05 to 2.0. the cathode and the plating solution at a relative velocity of about 1 m/sec on the cathode surface. The chromium alloy film is deposited on the cathode at high speed by electrolysis while moving the How to electrodeposit. 2 Ions of additional alloying metals selected from nickel and/or cobalt The electrodeposition method according to claim 1, further comprising electrolyzing an aqueous plating solution containing . 6, about 209/(l or saturated divalent chromium ions and hexavalent chromium ions , from about 1 to 50971 iron ions and about 0 to 50'l/e nickel ions. 5 to 80% by weight of chromium, 20 to 9 Chromium alloy coating consisting essentially of 5% iron and 0-50% nickel by weight The electrodeposition method according to claim 2, characterized in that: 4. Complexes of mineral acids selected from sulfuric acid, sulfamino acid, hydrochloric acid, phosphoric acid and boric acid. Claim 1 comprising electrolyzing an aqueous plating solution further containing anion. Also, the electrodeposition method described in Po2. 5. The claim comprises maintaining the pH of the plating aqueous solution at about 1.7 to 1.8. Electrodeposition method according to box 1 or 2. 6. The anode is insoluble and inhibits the movement of oxidant to the cathode.8 This prevents the oxidation of divalent chromium and hexavalent chromium near the cathode. 6. The electrodeposition method according to claim 5, further comprising: Electrodeposition method as described in Box 1. 8, 20’! /e or saturated divalent chromium ion and trivalent chromium ion , consisting of 1 to 509/(l iron ions and 0 to 509/l nickel ions) , and the pH of the solution is within the range of 1.7 to 1°8, for chromium alloy electroplating. Aqueous solution. 9 Leadification of mineral acids selected from sulfuric acid, sulfamic acid, hydrochloric acid, phosphoric acid and boric acid The aqueous solution for chromium alloy electroplating according to claim 8, further comprising a negative ion. . 1
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002206189A (en) * 2000-12-28 2002-07-26 Nippon Platec Co Ltd Method of chromium plating for ferrous base metal

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8409073D0 (en) * 1984-04-07 1984-05-16 Inter Metals & Minerals Sa Electrodeposition of chromium &c
JPS6156294A (en) * 1984-08-27 1986-03-20 Nippon Kokan Kk <Nkk> Chromium alloy plating bath
ES2669050T3 (en) 2006-03-31 2018-05-23 Atotech Deutschland Gmbh Crystalline Chrome Deposit
FR2901496A1 (en) * 2006-05-24 2007-11-30 Fivalec Electronic Sarl Alloy for covering a part e.g. protection surface of welded tin, comprises iron for assuring wettability at the welded tin, and chromium for assuring wear resistance of the welded part
BRPI0817924B1 (en) 2007-10-02 2019-02-12 Atotech Deutschland Gmbh ELECTROPOSED CRYSTALLINE FUNCTIONAL CHROME ALLOY DEPOSIT, ELECTROPOSITION BATH TO DEPOSIT A CRYSTALLINONANOGRAULAR FUNCTIONAL CHROME ALLOY DEPOSIT, AND PROCESS TO ELECTROPOSIT A CRYSTAL CRYSTAL CHRONOUS ALLOY DEPOSIT
US7780840B2 (en) * 2008-10-30 2010-08-24 Trevor Pearson Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath
FI129420B (en) * 2020-04-23 2022-02-15 Savroc Ltd An aqueous electroplating bath
CN111910226A (en) * 2020-07-15 2020-11-10 南昌航空大学 Crack-free Fe-Cr alloy coating and preparation method and application thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2822326A (en) * 1955-03-22 1958-02-04 Rockwell Spring & Axle Co Bright chromium alloy plating
US2990343A (en) * 1955-02-11 1961-06-27 William H Safranek Chromium alloy plating
US4196063A (en) * 1978-06-02 1980-04-01 International Lead Zinc Research Organization, Inc. Electrodeposition of black chromium

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2766196A (en) * 1953-11-09 1956-10-09 Yoshida Tadashi Process for the electrodeposition of iron-chromium alloys
US2927066A (en) * 1955-12-30 1960-03-01 Glenn R Schaer Chromium alloy plating
US2938842A (en) * 1959-03-16 1960-05-31 Yawata Iron & Steel Co Electrodeposition of fe-cr alloy
GB1482747A (en) * 1973-10-10 1977-08-10 Bnf Metals Tech Centre Chromium plating baths
GB1455580A (en) * 1973-12-13 1976-11-17 Albright & Wilson Electrodeposition of chromium
JPS539236A (en) * 1976-07-13 1978-01-27 Nippon Piston Ring Co Ltd High speed chromium plating method
JPS53106348A (en) * 1977-02-28 1978-09-16 Toyo Soda Mfg Co Ltd Electrolytic bath for chromium plating

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2990343A (en) * 1955-02-11 1961-06-27 William H Safranek Chromium alloy plating
US2822326A (en) * 1955-03-22 1958-02-04 Rockwell Spring & Axle Co Bright chromium alloy plating
US4196063A (en) * 1978-06-02 1980-04-01 International Lead Zinc Research Organization, Inc. Electrodeposition of black chromium

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002206189A (en) * 2000-12-28 2002-07-26 Nippon Platec Co Ltd Method of chromium plating for ferrous base metal

Also Published As

Publication number Publication date
EP0073221A4 (en) 1983-01-14
CA1195645A (en) 1985-10-22
WO1982003095A1 (en) 1982-09-16
DE3268722D1 (en) 1986-03-13
EP0073221A1 (en) 1983-03-09
EP0073221B1 (en) 1986-01-29

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