JPS5844408B2 - リユウドウシヨウノタメノガスブンプソウチ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、接触的クラッキングの如き炭化水素転化処理
において炭素質物質の付着によって一時的に不活性化さ
れた流動化粒状触媒の再生のために有用なガス分布装置
に関する。

さらに特には本発明は、触媒粒子摩耗を望ましい最小の
程度まで減少させることのできる、炭素汚染触媒のため
の改良された流動床ガス分布装置に関する。

多くの高温接触的炭化水素処理例えばクラッキング、ハ
イドロホーミング等において、微粉化したまたは粉末状
の形にて使用される触媒は、転化帯域において炭化水素
反応体と接触する間に炭素質付着物で汚染される。

転化処理を通じて触媒粒子表面上に蓄積するこれらの炭
素質付着物によって、触媒の活性は実質的に減少せしめ
られまたは不活性化せしめられる。

特に重質炭化水素の接触的クランキングのための連続処
理においては、消耗した触媒の粒度によって可能である
場合に、消耗した触媒を接触転化帯域から再生帯域に連
続的に通して、該再生帯域において充分量の酸素含有ガ
スを制御された条件下にて導入して触媒粒子を流動化さ
せそして触媒粒子上に付着した炭素質物質の実質的部分
を焼却することによって、触媒を再生する方法は通常実
施されている方法である。

代表的には、斯くの如き処理において炭素汚染触媒は、
再生のために所要とされる酸素含有ガスまたは流動化媒
体としての不活性ガス例えば窒素の部分と共に、流動化
された大量物（ｍａｓｓ）としてまたは重力供給または
他の適切な機械的輸送手段によって固体相として、再生
帯域または室に導入される。

いずれの場合においても、触媒粒子は再生室に入って室
の低部末端部において密な帯域または相を形成し、該低
部末端部において触媒粒子おヨびガスは液体に似た単−
大量物として相互作用し、また上部のより密でない相を
形成し該相においては触媒は単にガスまたは蒸気中に懸
濁した状態となる。

慣用的には、低部の密な相の流動化状態は、種々の形の
１つまたはそれ以上のマニホールド部材からなる酸素含
有ガス分布系によって維持され、該マニホールド部材は
通常室の低部に実質的に水平に配置せしめられそして外
側の加圧酸素含有ガス源に接続せしめられ、各々のマニ
ホールド部材は複数のガス吐出ノズルを有し、酸素含有
ガスは該ノズルを通して、密な触媒相の流動化状態を維
持するに充分な流速にて導入される。

触媒粒子上の炭素質付着物を焼却するに充分な温度およ
び帯留時間にて触媒が酸素含有ガスと接触した後に、触
媒は、代表的には密な相の上部またはその近くに位置せ
しめられる１つまたはそれ以上の導管によって再生室か
ら引出されて転化帯域に戻される。

ガス状燃焼生成物および希薄な触媒相から運ばれてきた
触媒粒子を含む消費された再生ガスは、慣用的固体ガス
分離機構例えば１つまたはそれ以上のサイクロン分離器
に通過せしめられて触媒粒子が除かれ、該触媒粒子は密
な相に戻されそして残りのガスは廃ガス煙突を通して大
気に吐出される。

前記に一般的に述べられた流動床再生方法またはその種
々の態様は長年の間工業的に広範に用いられてきたが、
斯くの如き方法が問題を有しないものではない。

斯くの如き方法の１つの困難性は、接触的クラッキング
操作における再生処理を通じて起こると思われる触媒粒
子の有意的摩耗である。

接触的クランキングにおいて用いられる触媒の粒度（直
径）は代表的には、約５〜約１２５μ（ミクロン）であ
り粒子の大部分は４５〜７４μの範囲にある。

該粒度範囲の触媒粒子は微細粒子として系内に実質的に
閉ふ込められ（ｂｅ ｃｏｎｆｉｎｅｄ）、即ち５〜
４０μ範囲の触媒粒子は、再生室のガス相中に捕えられ
たままになっているが、既知のガス−固体分離技法例え
ば再生室の上部または下流に位置せしめられた１つまた
はそれ以上のサイクロン（遠心）分離器によって、有効
に回収される。

問題点は、流動化再生帯域に充填された触媒の有意的量
が、慣用的再生処理における条件下にて５μより小の範
囲の粒子に摩滅せしめられることである。

これらの５μより小の摩耗生成物は、あまりに微細すぎ
て、慣用的ガス−固体サイクロン分離系によって有効に
回収されることができず、従って系における触媒損失源
となり、そして高価なスクラビングまたは沈殿系を用い
ない限り接触的クラッキングユニットに関連する炉の煙
突における大気汚染問題を惹起する。

従って、該触媒摩耗がその源にて即ち再生帯域自体にお
いて実質的に排除されることが、経済的および環境的観
点から望ましい。

例えば米国特許第３２９８７９３号明細書に記載される
如（、流動床操作における触媒または固体粒子の摩耗の
主要な源は、流動化ガス分布ノズルにおける高速のガス
供給により生ずるということが認識されている。

該先行刊行物は、流動床における触媒摩耗減少方法にお
いて、流動化帯域の低部末端に水平に配置されたグリッ
ドまたはガススパージャ（ｓｐａｒｇｅｒ ）マニホー
ルド上に均一に間隔を置いて位置せしめられる等しい大
きさのガスオリフィスを通してかなり慣用的な方法にて
流動化ガスが導入される方法に関するものである。

該場合においては触媒摩耗の原因は、グリッドまたはス
パージャ出口から噴出する高速ガスによって取上げられ
る急速移動する触媒粒子と、ガス出口を囲む流動化大量
物中における比較的緩慢に移動する触媒粒子との衝突に
帰せしめられる。

斯くの如き系においては、高いガス噴流速度は、ガス分
布を均一にするためにガス出口において等しいそして高
い圧力降下を維持する必要があることに関連するもので
ある。

前記の特許明細書によると斯くの如き触媒摩耗の解決策
として、高速にておよび高い圧力降下にてグリッドまた
はスパージャのオリフィスを通過する流動化ガスが床内
の触媒粒子と接触する前に、該流動化ガスが膨張せしめ
られそして減速せしめられ、そして該流動化ガスが膨張
しそして減速する時にガス流が流動化触媒から遮蔽され
隔離される方法が提案されている。

グリッドまたはスパージャのパーホレーションに入るガ
ス流を遮蔽しそして隔離し前記の如くしてその流速を減
少せしめることによって、グリッドまたはスパージャの
オリフィスに触媒が逆流することを防ぎながら、触媒摩
耗を通常見られる触媒摩耗の数分の１に減少せしめ得る
ことが前記特許明細書に教示されている。

該特許明細書のさらに特定的教示内容によると、流動床
における所望の触媒摩耗減少は、触媒床に入るガス噴流
を防いで（遮蔽して）その流速が、４２ｍ／秒またはそ
れ以上のノズル入口流速から約１５ｍ／秒より低い望ま
しくは３〜９ｍ／秒程度にまで減少させることによって
達成され得る。

かように該前記の特許明細書に記載される触媒摩耗減少
手段は或流動床処理において適用することはできるであ
ろうが、充分な床流動化および炭素焼却速度のためにも
つと高い例えば２２．５ｍ／秒またはそれ以上のガス吐
出速度が望まれる、炭素汚染クランキング触媒の再生の
如き多くの流動床操作のためには前記の方法は外観上望
ましくない。

今や、流動床再生帯域の低部末端に配置せしめられる１
つまたはそれ以上のマニホールド部材に取付けられた複
数の等しい大きさのガス吐出ノズルによって、流動化お
よび炭素付着物焼却のために必要とされる酸素含有ガス
の少なくとも１部を、高い吐出速度にて流動化触媒の密
な相に直接導入する場合に、炭素汚染触媒の慣用的流動
床再生に関連する触媒摩耗を実質的に減少し得ることが
判明した。

さらに、再生帯域への均一なガス分布を供給しそしてマ
ニホールド部材への触媒粒子の逆流を防止しそしてノズ
ルの浸食を防止するに充分なノズルにおける圧力降下を
維持しなから、該触媒摩耗減少を達成し得ることが判明
した。

これらの有益な結果は、臨界的な寸法を有するガス吐出
ノズルを使用することによってもたらされ、該ガス吐出
ノズルはマニホールド部材に接続するその上流部分にお
ける内側横断面積が狭くなっており、流動触媒粒子に流
動的に連通ずるその下流部分における内側横断面積が広
くなっており、該ノズル方法は、（ａ）下流部分の内径
と上流部分の内径との差を、ガス流動力向における下流
部分の長さで割った数字比率Ｃζ、□つが ２ ０．１８を越えず、そ して（ｂ）ガス流動方向における上流部分の長さに対す
る上流部分の内径の比率（→ン）が１．６７を越えない
、ように設定される。

従って本発明によって、再生室中に含まれる炭素汚染炭
化水素転化触媒の流動床の炭素付着物の焼却および流動
化のために必要とされる酸素含有ガスの少な（とも１部
を導入するための改良された酸素含有ガス分布装置であ
り、該ガス分布系が、該再生室の低部末端に配置せしめ
られそして力汀圧酸素含有ガス源に連通ずる１つまたは
それ以上のマニホールド部材でつくられ、そして該マニ
ホールド部材に複数の等しい大きさのガス吐出ノズルが
接続せしめられ、酸素含有ガスが該ガス吐出ノズルを通
して通過せしめられて密な触媒相と接触する前記装置に
おいて、各々のガス吐出ノズルは、マニホールド部材に
接続する該ノズルの上流部分において内側横断面積が狭
くなっており、該ノズルの下流部分の内側横断面積が広
がっており、そして（ａ）該下流部分の直径と該上流部
分の直径との差を、ガス流動方向におけ・る該下流部分
の長さで割った数字比率（Ｐ−二忰ツが０．１８を越え
ず、一 ２ そして（ｂ）ガス流動方向における該上流部分の長さに
対する該上流部分の内径の比率（Ｄ、）が１．６７を越
えない如くである、ことを特徴とする装置が提供される
。

さらに、該臨界的な寸法を有するガス吐出ノズルが炭素
汚染クラッキング触媒の流動床再生のための処理に前記
の如き王台に用いられるならば、ノズル出口におけるガ
ス流速が、４５ｍ／秒を越えるノズル入口速度から２２
．５〜３７．５ｍ／秒の範囲の速度に減少せしめられる
時に、２μより小の範囲の粒子への触媒摩耗が最も望ま
しく減少せしめられることが判明した。

本発明のガス吐出ノズルを用いて得られる該触媒摩耗の
減少は、前記の先行技術において認容され得る触媒摩耗
のために開示される１５ｍ／秒より小という速度限界よ
りも実質的に高いノズル出口速度にて達成され、従って
、認容され得る流動化および炭素付着物の焼却のために
２２．５ｍ／秒より犬のノズル出口速度が望まれる炭素
汚染クラッキング触媒の再生において使用される如き流
動床操作において、今や触媒摩耗が減少せしめられる。

本発明の装置は、粒子を流動状態に維持するために固体
粒子の密な相または液体に似た相中にガスが導入される
ような流動床のいずれにも適用でき、例えばハイドロホ
ーミング、クラッキング、重合、水素添加等において適
用できる。

しかし主には、炭素付着に起因する炭化水素クラッキン
グ触媒の不活性化速度が速くそしてその程度がひど（、
そして流動化クラッキング触媒を用いる連続的クラッキ
ング処理が広範に使用されている故に、本発明の装置は
、斯くの如き流動化クラッキング触媒の再生に特に適し
ている。

クラッキング触媒の流動床再生において、本発明による
長所は、消耗触媒が密なまたは液体に似た相として導入
されまたは導入されて密なまたは液体に似た相を形成す
るような慣用的再生室のいずれにおいても達成され得る
。

再生室構造の選択は全く慣用的であってよく、即ち該室
は、その底部にて減少せしめられた直径を有するまたは
その低部にて円錐形を有する垂直円筒、または単に円錐
形の基底が再生室の上部を形成する垂直円錐の如くに、
垂直に配置せしめられてもよい。

好適には再生室は、その低部末端にて減少せしめられた
直径を有するまたは円錐の形を有する垂直シリンダーの
形である。

消耗触媒は、ガス堅管（ｒｉｓｅｒ）またはリフトパイ
プ（１ｉｆｔ ｐｉｐｅ）を通して再生室の底または
低部に導入される。

消耗触媒が酸素含有ガス流動化媒体中の流動化された大
量物として再生室に導入される場合も含めて、いずれの
場合においても、流動化および炭素付着物焼却のために
必要とされる酸素含有ガスの大部分または全てを、本発
明に従うガス吐出出入口またはノズルの使用によって流
動化触媒の密な相に導入することが好適である。

本発明に従って流動化触媒粒子の密な相に酸素含有ガス
を導入するために用いられるガス吐出ノズルは、再生室
内にて１つまたはそれ以上の酸素含有ガス運送マニホー
ルド上に流体的に連通して配置せしめられる。

該マニホールド部材は、流動化される密な触媒相の大部
分がマニホールド部材上に位置せしめられる如き王台に
、再生室の低部末端中に配置せしめられる。

マニホールド部材は、種々の慣用的形のいずれを有して
もよい。

例えばマニホールド部材は円形であってもよく、同一ま
たは異なった水平レベルにある種々の円周の複数の同中
心環または曲りくねった配置構成のまたは平らな真直ぐ
な管であってよい。

本発明に従うガス吐出ノズルのマニホールド部材上にお
ける位置および配置は臨界的ではない。

即ち、吐出ノズルは再生室中に上方に向かっていてもよ
く下方に、側方にまたはそれらを組合わせた方向に向か
っていてもよい。

ガス流動チャンネル形成を避けそして流動床内へのガス
分布を確実に均一にするために、ガス吐出ノズルを等間
隔をおいて位置させそして該ノズルが等しい直径を有す
ることが望ましい。

ノズル出口は触媒床の密な相と直接的に流体的に連通し
、即ちノズルから吐出せしめられる流動化ガスは、前記
の先行技術における如くに触媒粒子から隔離および遮蔽
されはしない。

本発明に２−Ｄｌ おいて、□比を約０，０９〜約０．１２の好適２ な範囲に選択することによって、非常に長いノズル長さ
は回避され、通常の長さは７．５〜１２．５Ｇｍである
。

ガス流が一層広い横断面面積の下流部分内に出現するた
めに充分な移行帯域（ｊｒａｎｓｉｔｉｏｎｚｏｎｅ
）が存在しそして前記の臨界的比率の寸法制限条件が満
たされるものとして、ノズルの上流部分の狭くなった横
断面面積と下流部分の広がった横断面面積との間の移行
は、徐々にであっても急激であってもよい。

好適には下流横断面面積は上流横断面面積の１．３〜５
倍であり、そして移行帯域は急激な面積変化せしめられ
る。

ノズルの上流部分のガス流動方向における長さは、ノズ
ルにおける所望の圧力降下度合によって決定されるであ
ろうが、しかし、圧力降下が長さに対して極度に敏感で
あることを避けるために、ガス流動方向における上流部
分の長さに対する上流部分の内径の比率は、慣用的大き
さのノズルについて約１．６７を越えるべきではない。

１．６７より犬の比率にては、その長さに対するノズル
の上流部分の長さがわずかに変化（減少）することによ
って、最適な流動床効率のために望ましくない程に高い
値にまでノズルにおける圧力降下が顕著に増加せしめら
れることが判明した。

上流ノズル部分の長さに対する上流ノズル部分の内径の
比率を前記の程度に制御し、そして下流部分と上流部分
との内径の差を下流部分の長さで割った前記の臨界的数
字比率を維持することによって、ノズルを横切っての圧
力降下を例えば０．０２〜約０．１４ ｋｇ／ｃ４に維
持しなから触触摩耗を有意的に減少せしめることか可能
である。

該圧力降下値は、従来において高いガス速度が均一なガ
ス分布のために必要とされる場合に均一なガス分布のた
めに所要とされる値に類似するものである。

本発明の好適な態様は、慣用的な大きさの反応器におい
て満足できる炭素焼却および流動化が得られる如き充分
な流動化ガス速度をノズル出口に維持しながら、２μよ
り小の大きさの粒子への触媒粒子摩耗を実質的に減少せ
しめることのできる、炭素汚染クラッキング触媒の流動
床再生のための改良された方法に特に関する。

該改良された方法においては、臨界的な寸法を有するガ
ス吐出ノズルを含む本発明の酸素含有ガス分布系が用い
られ、これは、前記される系内の２μより小の粒子への
触媒摩耗が、ノズル出口速度自体または河らかの他の関
連要因よりはむしろノズル出口における運動エネルギー
人力に正比例するという測定に基づく。

かように摩耗はノズル出口速度の二乗に直接的に依存す
るようになり、従ってクラッキング触媒再生の場合にお
いて、触媒摩耗を実質的に減少せしめそして同時に容認
され得る触媒流動化を達成するに充分高いノズル出口速
度の範囲が存在する。

第１図は、運動エネルギー人力と触媒摩耗との関係を示
す図である。

流動化ガスノズル速度に対して２μより小の粒子への触
媒摩耗が、６０ｍ／秒の速度に対する１、００の出発点
摩耗値から、プロットされる。

触媒摩耗における最大の相対的増加は、ノズル出口速度
が３７．５ｍ／秒から６０ｍ／秒へ増加する場合にみら
れる。

６０ ｍ７秒の速度から約２２．５〜３７．５７７１／
秒の範囲の速度に減少させることによって、噴流により
惹起される摩耗が８６〜６０％だけ減少し、−万さらに
２２．５７７１／秒の速度から従来使用されてきた速度
（１５ｍ／秒より小）に速度減少させても、付加的に１
０％の摩耗減少が得られるのみである。

換言するとこのことは、ノズルにおける速度を前記の程
度にそして前記の方法にて減少させることによって、ク
ラッキング触媒再生室の通気口から排出される摩耗触媒
粒子の量を大幅に最大に減少できることを意味する。

本発明を図に関連してさらに説明する。

第２図において、クラッキングユニット（図示されず）
からの、炭素付着物で汚染された消耗した流動床クラン
キング触媒は流動化された状態にて、触媒分布ノズル１
２を具備した消耗触媒堅管１１を通して、円錐形再生室
１３の低部に含まれる密な流動化触媒相中に導入される
。

流動化媒体および竪管内にて消耗触媒を輸送するための
駆動力は、再生のために必要とされる酸素含有ガスの１
部（通常は再生のために必要とされる酸素含有ガスの２
０〜５０％）または窒素の如き不活性ガスであってもよ
い。

該輸送ガスは、再生室１３とクラッキングユニットとの
間の或地点（図示されず）にて竪管内に導入される。

酸素含有ガスはまた、加圧酸素含有ガス源（図示されず
）から管路１５．１６，１７を通して水平に配置せしめ
られた同中心環の形の複数のガス運送マニホールド１８
．１９および２０内に送られて、再生室１３内に含まれ
る流動化触媒の密な相（図において密な相の上部は数字
２２にて示される）中に別個の流れとして導入される。

該ガス運送マニホールドには本発明に従う複数の等しい
大きさのガス吐出ノズル２１が具備せしめられ、該ガス
吐出ノズルは、その上流末端にてマニホールドと流体的
に連通しており、そしてその下流末端にて酸素含有ガス
流を流動化触媒床の密な相内に直接的に放出する。

均一な大きさのガス吐出ノズルは、マニホールド部材上
に均一に離隔して位置せしめられ、そして酸素含有ガス
流を流動床の密な相中に上方に向けて吐出しおよび同様
に密な触媒相の１部を含む円錐形再生室の狭くなった端
に向かって下方に吐出する。

斯くの如き王台にして、密な相内に含まれる触媒粒子を
均一に流動化しおよび炭素焼却することが可能となる。

再生室内に含まれる流動化触媒の密な相は、オーバーフ
ロー井筒２３より高い一定レベル２２に維持され、該オ
ーバーフロー井筒２３は、再生された触媒をクラッキン
グユニットに密な相として再循環せしめる戻り管路２４
に接続せしめられる。

第３図において、実質的に円筒状の形のガス吐出ノズル
２１の拡大図が示される。

読図において、ガス運送マニホールド部材（図示されず
）からの酸素含有ガス流は、矢印にて示される如くに通
って、横断面内径Ｄ１ およびガス流動方向における長
さＬｌの狭くなった内側横断面面積を有するガス吐出ノ
ズルの上流部分３２に入る。

ガスは次に、移行帯域３３を通過して、直径Ｄ２および
ガス流動方向における長さＬ２の広くなった内側横断面
面積を有する吐出ノズルの下流部分３４に入る。

例 一定量のエア流にてクラッキング触媒摩耗に対するガス
吐出ノズル寸法の効果を調べるために、慣用的平衡接触
的クラッキング触媒を用い実験室規模の摩耗装置を用い
て一連の試験を行なった。

該装置は、逆円錐底を有する円筒状流動化室を含み、該
室の逆円錐部の最上部に一致する設定されたレベルまで
該室に平衡クラッキング触媒を充填した。

室の底部に取付けられた取はずし可能の試験ノズルを通
して該室の底部にて流動化エアを導入し、試験ノズルの
吐出末端は触媒に直接的に連通ずる方向に向けた。

エアは、一定の測定された速度にて加圧エア源から試験
ノズルに供給すれた。

試験ノズルから噴出する噴流は、測定可能な触媒摩耗を
惹起するに充分なものとした。

摩耗度合は、２μより小の摩耗生成物が触媒床から、吐
出管路上にて流動化室上に位置せしめられるサイクロン
フィルター収集装置内にエラトリエートされる（ ｅｌ
ｕｔｒｉａｔｅｄ）速度を測定することによって決定し
た。

上流部分にて内径を狭くされそして下流部分にて内径を
広げられた数種の異なるプラスチック試験ノズルを、次
の手順に従って触媒摩耗のために試験した。

最初に、造られたノズルを試験装置内で摩耗速度のため
に試験した。

次にノズルを取出してその下流長さくＬ２）を減少させ
、そして該変形ノズルを試験した。

下流ノズル長さをさらに減少させることによって触媒摩
耗に悪影響が及ぼさＤ２−Ｄ。

れる地点まで該手順を続げた。

比 （ＤＩ２ は上流ノズル内径でありＤ２は下流内径である）のため
の数字的値を変えることによる、２μより小の粒子への
触媒摩耗に対する効果は、種々の試験ノズルについて表
に示す如くであった。

各々の試験条件は表の小見出しに掲げた。

Ｄ２−Ｄ。

上記の表に示される如く、 の臨界的比２ 率に到達するまでは、２μより小の粒子への触媒摩耗は
実質的に一定のままであった。

該臨界的比率即ち０，１８に到達した時には、その後に
はノズルによって生せしめられる触媒摩耗量は、該比率
がさらにわずかに変化（増加）することによって顕著に
増加した。

このことは、ガス吐出ノズルが流動化再生ガスを触媒床
内に直接的に噴出せしめるために使用される時の該寸法
比率の臨界性を示すものであった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、運動エネルギー人力と触媒摩耗との関係を示
す図である。 第２図は、本発明において使用するために適切な再生室
の低部の部分的横断面を図式的に示す図である。 第３図は、本発明に従うガス吐出ノズルの具体例の拡大
横断面図である。 １１・・・・・・消耗触媒堅管、１２・・・・・・触媒
分布ノズル、１３・・・・・・再生室、１８，１９，２
０・・・・・・ガス運送マニホールド、２１・・・・・
・ガス吐出ノズル、３２・・・・・・・上流部分、３３
・・・・・・移行帯域、３４・・・・°゛下流部分。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 再生室中に含まれる炭素汚染炭化水素転化触媒の流
   動床の炭素付着物の焼却および流動化のために必要とさ
   れる酸素含有ガスの少な（とも１部。 を導入するためのガス分布装置であり、該ガス分布装置
   が、該再生室の低部末端に配置せしめられ加圧酸素含有
   ガス源に連通ずる１つまたはそれ以上のマニホールド部
   材を有し、該マニホールド部材に複数の等しい大きさの
   ガス吐出ノズルが接続せしめられ、酸素含有ガスが該ガ
   ス吐出ノズルを通じて密な触媒相内に通過せしめられ、
   各々のガス吐出ノズルは、マニホールド部材に接続する
   該ノズルの上流部分において内側横断面面積が狭くなっ
   ており、該ノズルの下流部分の内側横断面面積が広がっ
   ている前記ガス分布装置において、（ａ）該下流部分の
   直径と該上流部分の直径との差を、ガス流動方向におけ
   る該下流部分の長さで割った数字比率（Ｄ、、−Ｄ、
   が０．１８を越えず、そして２ （ｂ）ガス流動方向における該上流部分の長さに対する
   該上流部分の内径の比率（＋−が１．６７を越えないこ
   とを特徴とするガス分布装置。