JPS5841504B2 - X線吸収液体 - Google Patents
X線吸収液体Info
- Publication number
- JPS5841504B2 JPS5841504B2 JP51127879A JP12787976A JPS5841504B2 JP S5841504 B2 JPS5841504 B2 JP S5841504B2 JP 51127879 A JP51127879 A JP 51127879A JP 12787976 A JP12787976 A JP 12787976A JP S5841504 B2 JPS5841504 B2 JP S5841504B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- absorbing liquid
- ray absorbing
- carbon
- carbon tetrachloride
- Prior art date
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はX線吸収液体、特に電子放射線画像形成に用い
るX線吸収液体に関するも、のである。
るX線吸収液体に関するも、のである。
従来、X線などの放射線(以下単にX線という)を吸収
する絶縁性液体を使用した放射線画像(以下同様にX線
画像という)作成方法は、特開昭50−87793号、
特開昭50−125694号、特開昭50−13717
6号(米国特許3,873,833号)等に開示されて
いる。
する絶縁性液体を使用した放射線画像(以下同様にX線
画像という)作成方法は、特開昭50−87793号、
特開昭50−125694号、特開昭50−13717
6号(米国特許3,873,833号)等に開示されて
いる。
すなわち第1図に示すように互いに隙間を持たせたほぼ
平行に配置した一対の電極1,2間へX線を吸収するこ
とにより電子と正極性イオンまたは正負極性のイオンを
発生する高絶縁性のX線吸収液体3を充満すると共に、
このX線吸収液体3中に一方の電極に接して絶縁性の受
像シート4を配置し、上記電極1,2間に電圧を印加し
ながらX線源5によりX線照射し、被検体6を透過した
X線をX線吸収液体3に曝射する方法であり、この方法
によれば、X線の曝射量に応じて絶縁性のX線吸収液体
3が電離さイを生成された電子と正極性イオン、または
正負極性イオンはそれぞれ対応1−る電極1,2側に移
動し、上記受像シート4上に静電潜像が形成される。
平行に配置した一対の電極1,2間へX線を吸収するこ
とにより電子と正極性イオンまたは正負極性のイオンを
発生する高絶縁性のX線吸収液体3を充満すると共に、
このX線吸収液体3中に一方の電極に接して絶縁性の受
像シート4を配置し、上記電極1,2間に電圧を印加し
ながらX線源5によりX線照射し、被検体6を透過した
X線をX線吸収液体3に曝射する方法であり、この方法
によれば、X線の曝射量に応じて絶縁性のX線吸収液体
3が電離さイを生成された電子と正極性イオン、または
正負極性イオンはそれぞれ対応1−る電極1,2側に移
動し、上記受像シート4上に静電潜像が形成される。
得られた静電潜像は公知の電子写真法によって現像する
ことにより可視像化される。
ことにより可視像化される。
ここで、X線吸収液体3としては高いX線吸収能を有し
、高抵抗であると共に、広い温度範囲に豆って安定であ
ることが要求され、これらの要件を満足するX線吸収液
体3でなければ良好な画像を形成することができない。
、高抵抗であると共に、広い温度範囲に豆って安定であ
ることが要求され、これらの要件を満足するX線吸収液
体3でなければ良好な画像を形成することができない。
しかしながら、上記の要件を全て満足するX線吸収液体
が提案されていない。
が提案されていない。
上記X線吸収液体として、例えば特開昭5012569
4号公報にはハ・−コゲン化炭化水素を用いることが開
示されているが、ハロゲン炭化水素を用いてもその性能
は一様ではない。
4号公報にはハ・−コゲン化炭化水素を用いることが開
示されているが、ハロゲン炭化水素を用いてもその性能
は一様ではない。
例えば、四塩化炭素は化学的に安定であるが、X線吸収
能が高くない。
能が高くない。
本発明は上記の事情に鑑みなされたものであり、その目
的は、高いX線吸収能を有し、高抵抗であると共に、広
い温度範囲に亘って安定である電子放射線画像形成に用
いるX線吸収液体を提供することである。
的は、高いX線吸収能を有し、高抵抗であると共に、広
い温度範囲に亘って安定である電子放射線画像形成に用
いるX線吸収液体を提供することである。
前記したように、四塩化炭素は化学的に安定であるがX
線吸収能が高くない。
線吸収能が高くない。
一方、四臭化炭素は化学的に活性であり、これ(固体)
を溶媒に溶かしてX線吸収液体として使用した場合、初
期吸収能は高いが、繰り返し使用するとX線吸収能が低
下する。
を溶媒に溶かしてX線吸収液体として使用した場合、初
期吸収能は高いが、繰り返し使用するとX線吸収能が低
下する。
すなわち、四臭化炭素を用いた場合には、X線吸収によ
るイオン化は良好であるが、再結合が悪く元の状態に戻
ることが困難となる。
るイオン化は良好であるが、再結合が悪く元の状態に戻
ることが困難となる。
ところが、本発明者らの研究によると、四塩化炭素二四
臭化炭素−1=1〜1.7(重量部)の割合で、四塩化
炭素に四臭化炭素を溶解した液体をX線吸収液体として
用いた場合、このX線吸収液体は、常温を含む広い温度
範囲に亘って安定で、高いX線吸収能を有し、高抵抗で
あって、このX線吸収液体を用いて繰り返しX線両像を
形成しても、極めて良好な画像を得ることができること
を見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
臭化炭素−1=1〜1.7(重量部)の割合で、四塩化
炭素に四臭化炭素を溶解した液体をX線吸収液体として
用いた場合、このX線吸収液体は、常温を含む広い温度
範囲に亘って安定で、高いX線吸収能を有し、高抵抗で
あって、このX線吸収液体を用いて繰り返しX線両像を
形成しても、極めて良好な画像を得ることができること
を見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
すなわち、本発明のX線吸収液体は、四塩化炭素と四臭
化炭素を特定の配合割合で用いることにより、四塩化炭
素及び四臭化炭素のそれぞれの欠点を改善できただけで
なく、X線吸収液体として顕著な効果を発揮するもので
ある。
化炭素を特定の配合割合で用いることにより、四塩化炭
素及び四臭化炭素のそれぞれの欠点を改善できただけで
なく、X線吸収液体として顕著な効果を発揮するもので
ある。
四臭化炭素の割合が四塩化炭素に対して等量以下である
と、X線吸収能を高い値に維持できず、他方、1.7重
量部割合を越えると不安定となり、繰り返し使用が困難
となり実用的でない。
と、X線吸収能を高い値に維持できず、他方、1.7重
量部割合を越えると不安定となり、繰り返し使用が困難
となり実用的でない。
次に具体的実施例を説明する。
実施例
四塩化炭素100重量部に対して四臭化炭素】00重量
部を溶解した溶液を作り、この溶液に硝酸銀水溶液を使
用して遊離塩素及び遊離臭素を除去しだる後に、硝酸銅
を使用して水分を除去しX線吸収液体としだ。
部を溶解した溶液を作り、この溶液に硝酸銀水溶液を使
用して遊離塩素及び遊離臭素を除去しだる後に、硝酸銅
を使用して水分を除去しX線吸収液体としだ。
このX線吸収液体を田いて、第2図に示すようなX線画
像形成装置、すなわち一対の電極10゜11をスペーサ
12を介して]−mmに接続してチャンバーAとし、こ
のチャンバーA内に高絶縁性フィルム13を電極11に
密層するように設けると共に、チャンバーA−内に本発
明に係るX線吸収液体14を割入した構造のX線画像形
成装置により、次の条件で被検体15のX線画像を形成
しtも16は電源、17はスイッチである。
像形成装置、すなわち一対の電極10゜11をスペーサ
12を介して]−mmに接続してチャンバーAとし、こ
のチャンバーA内に高絶縁性フィルム13を電極11に
密層するように設けると共に、チャンバーA−内に本発
明に係るX線吸収液体14を割入した構造のX線画像形
成装置により、次の条件で被検体15のX線画像を形成
しtも16は電源、17はスイッチである。
電極10の印加電圧は+1oooo■、印加時間は、0
.2秒、X線源は75に、VPの管電圧−100mA−
の管電流で被検体15より1m離れた位置から0.1秒
間電圧印加時間内に照射する。
.2秒、X線源は75に、VPの管電圧−100mA−
の管電流で被検体15より1m離れた位置から0.1秒
間電圧印加時間内に照射する。
そして、X線照則と電圧印加が終了した後に電極11と
高絶縁性フィルム13とを一体として取出し、四塩化炭
素に依り洗浄し、た後に乾燥して現像して可視像を得た
。
高絶縁性フィルム13とを一体として取出し、四塩化炭
素に依り洗浄し、た後に乾燥して現像して可視像を得た
。
X線が最大に照射された部位における高絶縁性フィルム
13表向の電位は190Vであり、これは適当な現像剤
を使用することにより濃度3.0以上に現像され得た。
13表向の電位は190Vであり、これは適当な現像剤
を使用することにより濃度3.0以上に現像され得た。
ここで推奨される現像方法としては高抵抗の液体現像剤
を使用する方法や、所謂パウダ・−クラウド法である。
を使用する方法や、所謂パウダ・−クラウド法である。
被検体15として所謂アルミ階差を使用し、10階調以
−Eの階調再現性を示し、解像力も1間当り10線」災
トを確実に解像することができた。
−Eの階調再現性を示し、解像力も1間当り10線」災
トを確実に解像することができた。
本発明に係るX線吸収液体は、萌述のように構成し六−
ので、高抵抗であると共に、高いX線吸収能を有し、広
い温度範囲σこ亘って安定である。
ので、高抵抗であると共に、高いX線吸収能を有し、広
い温度範囲σこ亘って安定である。
すなイつち、四塩化炭素−四臭化炭素系の液体は体積固
有抵抗が10”Qcx以上であり、暗所に保存する限り
常槁内保存に耐え、又40°C=8℃の範囲内で安定で
あると共に、強い光線に曝す事を避ければ此の材料は極
めて安定である。
有抵抗が10”Qcx以上であり、暗所に保存する限り
常槁内保存に耐え、又40°C=8℃の範囲内で安定で
あると共に、強い光線に曝す事を避ければ此の材料は極
めて安定である。
したがって、高抵抗であると共に、広い温度範囲に亘っ
て安定である。
て安定である。
また、四臭化炭素と四塩化炭素の比が1対1であるとX
線吸収能は四塩化炭素のみX線吸収能に比して3.6倍
となる。
線吸収能は四塩化炭素のみX線吸収能に比して3.6倍
となる。
但し、潜像形成時は2.3倍程度となるが、X線の管電
圧が高くなると四臭化炭素を含む系は更に効率が向上す
る。
圧が高くなると四臭化炭素を含む系は更に効率が向上す
る。
したがって、X線吸収能が高くなる。
まだ、四塩化炭素、四臭化炭素とも炭素のハロゲン化合
物であるのでその化学的精製方法が単純化され実用的に
製作できる。
物であるのでその化学的精製方法が単純化され実用的に
製作できる。
第1図は従来知られているX線画像形成方法の説明図、
第2図は本発明に係るX線吸収液体を用いてX線画像を
形成する装置の説明図である。
第2図は本発明に係るX線吸収液体を用いてX線画像を
形成する装置の説明図である。
Claims (1)
- 1 四塩化炭素に四臭化炭素を、四塩化炭素二四臭化炭
素−1:1〜1.7(重量部)の割合で溶解したことを
特徴とする電子放射線画像形成に用いるX線吸収液体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51127879A JPS5841504B2 (ja) | 1976-10-26 | 1976-10-26 | X線吸収液体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51127879A JPS5841504B2 (ja) | 1976-10-26 | 1976-10-26 | X線吸収液体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5353326A JPS5353326A (en) | 1978-05-15 |
JPS5841504B2 true JPS5841504B2 (ja) | 1983-09-12 |
Family
ID=14970889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51127879A Expired JPS5841504B2 (ja) | 1976-10-26 | 1976-10-26 | X線吸収液体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5841504B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0234724Y2 (ja) * | 1986-11-14 | 1990-09-19 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50125694A (ja) * | 1974-03-19 | 1975-10-02 |
-
1976
- 1976-10-26 JP JP51127879A patent/JPS5841504B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50125694A (ja) * | 1974-03-19 | 1975-10-02 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0234724Y2 (ja) * | 1986-11-14 | 1990-09-19 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5353326A (en) | 1978-05-15 |
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