JPS5841504B2 - X線吸収液体 - Google Patents

X線吸収液体

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Publication number
JPS5841504B2
JPS5841504B2 JP51127879A JP12787976A JPS5841504B2 JP S5841504 B2 JPS5841504 B2 JP S5841504B2 JP 51127879 A JP51127879 A JP 51127879A JP 12787976 A JP12787976 A JP 12787976A JP S5841504 B2 JPS5841504 B2 JP S5841504B2
Authority
JP
Japan
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ray
absorbing liquid
ray absorbing
carbon
carbon tetrachloride
Prior art date
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Expired
Application number
JP51127879A
Other languages
English (en)
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JPS5353326A (en
Inventor
長穂 細野
崇明 小沼
康一 木下
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP51127879A priority Critical patent/JPS5841504B2/ja
Publication of JPS5353326A publication Critical patent/JPS5353326A/ja
Publication of JPS5841504B2 publication Critical patent/JPS5841504B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はX線吸収液体、特に電子放射線画像形成に用い
るX線吸収液体に関するも、のである。
従来、X線などの放射線(以下単にX線という)を吸収
する絶縁性液体を使用した放射線画像(以下同様にX線
画像という)作成方法は、特開昭50−87793号、
特開昭50−125694号、特開昭50−13717
6号(米国特許3,873,833号)等に開示されて
いる。
すなわち第1図に示すように互いに隙間を持たせたほぼ
平行に配置した一対の電極1,2間へX線を吸収するこ
とにより電子と正極性イオンまたは正負極性のイオンを
発生する高絶縁性のX線吸収液体3を充満すると共に、
このX線吸収液体3中に一方の電極に接して絶縁性の受
像シート4を配置し、上記電極1,2間に電圧を印加し
ながらX線源5によりX線照射し、被検体6を透過した
X線をX線吸収液体3に曝射する方法であり、この方法
によれば、X線の曝射量に応じて絶縁性のX線吸収液体
3が電離さイを生成された電子と正極性イオン、または
正負極性イオンはそれぞれ対応1−る電極1,2側に移
動し、上記受像シート4上に静電潜像が形成される。
得られた静電潜像は公知の電子写真法によって現像する
ことにより可視像化される。
ここで、X線吸収液体3としては高いX線吸収能を有し
、高抵抗であると共に、広い温度範囲に豆って安定であ
ることが要求され、これらの要件を満足するX線吸収液
体3でなければ良好な画像を形成することができない。
しかしながら、上記の要件を全て満足するX線吸収液体
が提案されていない。
上記X線吸収液体として、例えば特開昭5012569
4号公報にはハ・−コゲン化炭化水素を用いることが開
示されているが、ハロゲン炭化水素を用いてもその性能
は一様ではない。
例えば、四塩化炭素は化学的に安定であるが、X線吸収
能が高くない。
本発明は上記の事情に鑑みなされたものであり、その目
的は、高いX線吸収能を有し、高抵抗であると共に、広
い温度範囲に亘って安定である電子放射線画像形成に用
いるX線吸収液体を提供することである。
前記したように、四塩化炭素は化学的に安定であるがX
線吸収能が高くない。
一方、四臭化炭素は化学的に活性であり、これ(固体)
を溶媒に溶かしてX線吸収液体として使用した場合、初
期吸収能は高いが、繰り返し使用するとX線吸収能が低
下する。
すなわち、四臭化炭素を用いた場合には、X線吸収によ
るイオン化は良好であるが、再結合が悪く元の状態に戻
ることが困難となる。
ところが、本発明者らの研究によると、四塩化炭素二四
臭化炭素−1=1〜1.7(重量部)の割合で、四塩化
炭素に四臭化炭素を溶解した液体をX線吸収液体として
用いた場合、このX線吸収液体は、常温を含む広い温度
範囲に亘って安定で、高いX線吸収能を有し、高抵抗で
あって、このX線吸収液体を用いて繰り返しX線両像を
形成しても、極めて良好な画像を得ることができること
を見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
すなわち、本発明のX線吸収液体は、四塩化炭素と四臭
化炭素を特定の配合割合で用いることにより、四塩化炭
素及び四臭化炭素のそれぞれの欠点を改善できただけで
なく、X線吸収液体として顕著な効果を発揮するもので
ある。
四臭化炭素の割合が四塩化炭素に対して等量以下である
と、X線吸収能を高い値に維持できず、他方、1.7重
量部割合を越えると不安定となり、繰り返し使用が困難
となり実用的でない。
次に具体的実施例を説明する。
実施例 四塩化炭素100重量部に対して四臭化炭素】00重量
部を溶解した溶液を作り、この溶液に硝酸銀水溶液を使
用して遊離塩素及び遊離臭素を除去しだる後に、硝酸銅
を使用して水分を除去しX線吸収液体としだ。
このX線吸収液体を田いて、第2図に示すようなX線画
像形成装置、すなわち一対の電極10゜11をスペーサ
12を介して]−mmに接続してチャンバーAとし、こ
のチャンバーA内に高絶縁性フィルム13を電極11に
密層するように設けると共に、チャンバーA−内に本発
明に係るX線吸収液体14を割入した構造のX線画像形
成装置により、次の条件で被検体15のX線画像を形成
しtも16は電源、17はスイッチである。
電極10の印加電圧は+1oooo■、印加時間は、0
.2秒、X線源は75に、VPの管電圧−100mA−
の管電流で被検体15より1m離れた位置から0.1秒
間電圧印加時間内に照射する。
そして、X線照則と電圧印加が終了した後に電極11と
高絶縁性フィルム13とを一体として取出し、四塩化炭
素に依り洗浄し、た後に乾燥して現像して可視像を得た
X線が最大に照射された部位における高絶縁性フィルム
13表向の電位は190Vであり、これは適当な現像剤
を使用することにより濃度3.0以上に現像され得た。
ここで推奨される現像方法としては高抵抗の液体現像剤
を使用する方法や、所謂パウダ・−クラウド法である。
被検体15として所謂アルミ階差を使用し、10階調以
−Eの階調再現性を示し、解像力も1間当り10線」災
トを確実に解像することができた。
本発明に係るX線吸収液体は、萌述のように構成し六−
ので、高抵抗であると共に、高いX線吸収能を有し、広
い温度範囲σこ亘って安定である。
すなイつち、四塩化炭素−四臭化炭素系の液体は体積固
有抵抗が10”Qcx以上であり、暗所に保存する限り
常槁内保存に耐え、又40°C=8℃の範囲内で安定で
あると共に、強い光線に曝す事を避ければ此の材料は極
めて安定である。
したがって、高抵抗であると共に、広い温度範囲に亘っ
て安定である。
また、四臭化炭素と四塩化炭素の比が1対1であるとX
線吸収能は四塩化炭素のみX線吸収能に比して3.6倍
となる。
但し、潜像形成時は2.3倍程度となるが、X線の管電
圧が高くなると四臭化炭素を含む系は更に効率が向上す
る。
したがって、X線吸収能が高くなる。
まだ、四塩化炭素、四臭化炭素とも炭素のハロゲン化合
物であるのでその化学的精製方法が単純化され実用的に
製作できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来知られているX線画像形成方法の説明図、
第2図は本発明に係るX線吸収液体を用いてX線画像を
形成する装置の説明図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 四塩化炭素に四臭化炭素を、四塩化炭素二四臭化炭
    素−1:1〜1.7(重量部)の割合で溶解したことを
    特徴とする電子放射線画像形成に用いるX線吸収液体。
JP51127879A 1976-10-26 1976-10-26 X線吸収液体 Expired JPS5841504B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP51127879A JPS5841504B2 (ja) 1976-10-26 1976-10-26 X線吸収液体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP51127879A JPS5841504B2 (ja) 1976-10-26 1976-10-26 X線吸収液体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5353326A JPS5353326A (en) 1978-05-15
JPS5841504B2 true JPS5841504B2 (ja) 1983-09-12

Family

ID=14970889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51127879A Expired JPS5841504B2 (ja) 1976-10-26 1976-10-26 X線吸収液体

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0234724Y2 (ja) * 1986-11-14 1990-09-19

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50125694A (ja) * 1974-03-19 1975-10-02

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50125694A (ja) * 1974-03-19 1975-10-02

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JPH0234724Y2 (ja) * 1986-11-14 1990-09-19

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JPS5353326A (en) 1978-05-15

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