JPS5837615B2 - magnetic recording medium - Google Patents

magnetic recording medium

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Publication number
JPS5837615B2
JPS5837615B2 JP4403776A JP4403776A JPS5837615B2 JP S5837615 B2 JPS5837615 B2 JP S5837615B2 JP 4403776 A JP4403776 A JP 4403776A JP 4403776 A JP4403776 A JP 4403776A JP S5837615 B2 JPS5837615 B2 JP S5837615B2
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JP
Japan
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layer
magnetic recording
silicon
recording medium
thin film
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JP4403776A
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JPS52127204A (en
Inventor
龍司 白幡
達治 北本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関するもので、具体的にはクロムおよびシリコン
ーシリコン酸化物より成る保護層を表面に設けてなる磁
気記録媒体に関するものである。
Detailed Description of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium having a ferromagnetic metal thin film layer as a magnetic recording layer, and specifically relates to a magnetic recording medium having a protective layer made of chromium and silicon-silicon oxide on the surface. It is related to recording media.

従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上に1−
Fe203、Coをドープした1−Fe203、Fe3
04、CoをドープしたF30,、r−F203とFe
304のベルトライド化合物、C r02等の磁性粉末
あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性材料を塩化ヒニル
ー酢酸ビニル共重合体、スチレンーブタジエン共重合体
、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー
中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型のもの
が広く使用されてきている。
Conventionally, as a magnetic recording medium, 1-
1-Fe203, Fe3 doped with Fe203, Co
04, Co-doped F30,, r-F203 and Fe
Powder magnetic materials such as 304 Bertolide compound, magnetic powder such as Cr02, or ferromagnetic alloy powder are dispersed in an organic binder such as hinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, epoxy resin, polyurethane resin, etc. Coating type products have been widely used, in which a predetermined amount is applied and dried.

近年高密度記録への要求の高まりと共に真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンプレーティング等のペーパーデポジ
ション法あるいは電気メッキ、無電解メッキ等のメッキ
法により形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする
、バインダーを使用しない、いわゆる非バインダー型磁
気記録媒体が注目を浴びており実用化への努力が種々行
なわれている。
In recent years, with the increasing demand for high-density recording, magnetic recording layers are made of ferromagnetic metal thin films formed by paper deposition methods such as vacuum evaporation, sputtering, and ion plating, or plating methods such as electroplating and electroless plating. So-called binder-free magnetic recording media that do not use a binder are attracting attention, and various efforts are being made to put them into practical use.

従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。
Conventional coating-type magnetic recording media mainly use metal oxides, which have lower saturation magnetization than ferromagnetic metals, as magnetic materials, so the thinning required for high-density recording leads to a reduction in signal output, which has reached its limit. Moreover, the manufacturing process is complicated, and it has the drawback of requiring large auxiliary equipment for solvent recovery and pollution prevention.

非バインダー型の磁気記録媒体では上記酸化物より大き
な飽和磁化を有する強磁性金属をバインダーの如き非磁
性物質を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため
、高密度記録化のために超薄形にできるという利点を有
し、しかもその製造工程は簡単である。
In non-binder type magnetic recording media, a ferromagnetic metal with a saturation magnetization higher than that of the above-mentioned oxides is formed as a thin film without containing a non-magnetic substance such as a binder, so it can be made ultra-thin for high-density recording. Moreover, the manufacturing process is simple.

高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
型化が容易で、飽和磁束密度も大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
As one of the requirements for magnetic recording media for high-density recording, high coercive force and thinness have been proposed both theoretically and experimentally. There are great expectations for non-binder type magnetic recording media that can be easily made small and thin and have a high saturation magnetic flux density.

強磁性金属薄膜から戒る磁気記録媒体にかかわる大きな
問題として腐蝕及び摩耗に刻する強度、走行安定性があ
る。
The major problems associated with magnetic recording media made from ferromagnetic metal thin films include corrosion and abrasion, strength, and running stability.

磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消去の過程に
おいて磁気ヘッドと高速相対運動のもとにおかれるが、
その際走行がスムーズにしかも安定に行なわれねばなら
ぬし、同時にヘッドとの接触による摩耗もしくは破壊が
起ってはならない。
A magnetic recording medium is subjected to high-speed relative motion with a magnetic head during the process of recording, reproducing, and erasing magnetic signals.
In this case, the running must be smooth and stable, and at the same time, wear or damage due to contact with the head must not occur.

又磁気記録媒体の保存中に腐蝕等による経時変化によっ
て記録された信号の減少あるいは消失があってはならな
いことも要求される。
It is also required that recorded signals should not be reduced or lost due to changes over time due to corrosion or the like during storage of the magnetic recording medium.

単なる強磁性体金属層のみで磁気記録、再生過程での苛
酷な条件に堪え得るものは少なく、種々の保護層の表面
に形成せしめることが行なわれる。
There are few ferromagnetic metal layers that can withstand the harsh conditions of magnetic recording and reproducing processes by themselves, and they are formed on the surfaces of various protective layers.

保護層として選択される物質は、硬くまたそれが形戒さ
れる表面に対して薄く、一様でしかも強固に付着する性
質のものでなげればならない。
The material selected for the protective layer must be hard and must adhere thinly, uniformly, and firmly to the surface on which it is applied.

苛酷な環境下で簡単にはがれたり、落ちたりする保護被
膜は磁気記録層に対する保護にならぬばかりでなく、更
に破片の発生等により新しい問題を生じさせることにな
る。
A protective film that easily peels off or falls off under harsh environments not only does not protect the magnetic recording layer, but also creates new problems such as the generation of fragments.

更にこれらの物質は高速度の磁気記録システムにおける
静電気の問題を減少させるために導電性であるのが望ま
しい。
Additionally, it is desirable that these materials be electrically conductive to reduce static electricity problems in high speed magnetic recording systems.

さらに保護層を形成せしめる手段が容易であることが望
まれる。
Furthermore, it is desired that the means for forming the protective layer be easy.

これらの保護層としてロジウムの電気メッキによる保護
層形成は一部実用化されており、さらに潤滑剤を塗布す
る方法、さらには磁性体としてコバルトを含む強磁性金
属薄膜の場合には適当な温度・湿度のもとに置いて、そ
の表面を酸化させる方法(特公昭42−20025号公
報、米国特許3353166号);合金磁性薄膜を硝酸
と接触せしめた後、熱処理して表面に酸化層を形成させ
、しかる後潤滑剤をしみこませる方法(英特許1265
175号):Crを適度な真空中にて強磁性金属薄膜表
面上に蒸着せしめ、CrとCr の酸化物の混合物層
を形威せしめる方法(特公昭45−4393号)等が知
られている。
Formation of a protective layer by rhodium electroplating has been partially put into practical use as a protective layer, and there is also a method of applying a lubricant, and in the case of a ferromagnetic metal thin film containing cobalt as a magnetic material, a method of applying a suitable temperature and temperature. Method of oxidizing the surface by placing it under humidity (Japanese Patent Publication No. 42-20025, U.S. Pat. No. 3,353,166): After bringing the alloy magnetic thin film into contact with nitric acid, it is heat-treated to form an oxidized layer on the surface. , and then soaking the lubricant (British Patent No. 1265)
175): A method is known in which Cr is vapor-deposited on the surface of a ferromagnetic metal thin film in a moderate vacuum to form a layer of a mixture of Cr and Cr oxide (Japanese Patent Publication No. 4393/1983). .

さらに保護層として一酸化シリコン蒸着膜を用いること
が米国特許3109746号、同3353166号、特
開昭50−80102号等により知られている。
Further, it is known from US Pat. No. 3,109,746, US Pat. No. 3,353,166, and Japanese Patent Application Laid-open No. 80102/1983 to use a silicon monoxide vapor deposited film as a protective layer.

しかしながら一酸化シリコン膜あるいは二酸化シリコン
膜の保護層では耐摩耗性、耐久性である程度の改善はみ
られるもののまだ充分ではなく、走行性の点ではまだ問
題がある。
However, although a protective layer of a silicon monoxide film or a silicon dioxide film shows some improvement in wear resistance and durability, it is still not sufficient and there are still problems in terms of runnability.

さらに上記シリコン酸化膜は非導電性であるため高速度
の磁気記録システムにおける静電気の放散が充分でない
という欠点を有している。
Furthermore, since the silicon oxide film is non-conductive, it has the disadvantage that static electricity cannot be sufficiently dissipated in high-speed magnetic recording systems.

本発明の目的は、従来の硬質金属層あるいは酸化物層よ
りもすぐれた耐摩耗性、耐久性、走行性を有する保護層
の形成された磁気記録媒体を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium on which a protective layer is formed that has superior wear resistance, durability, and runnability than conventional hard metal layers or oxide layers.

すなわち本発明は電気メッキ、無電解メッキ、気相メッ
キ、スパッタリング、蒸着、イオンプレーテイング等の
方法によって形或された強磁性金属薄膜表面上にクロム
およびシリコンーシリコン酸化物より成る保護層を形威
せしめてなる耐摩耗性、耐腐蝕性にすぐれ、且つ走行性
の良好な強磁性金属薄膜より成る磁気記録媒体に関する
ものである。
That is, the present invention forms a protective layer made of chromium and silicon-silicon oxide on the surface of a ferromagnetic metal thin film formed by methods such as electroplating, electroless plating, vapor phase plating, sputtering, vapor deposition, and ion plating. The present invention relates to a magnetic recording medium made of a ferromagnetic metal thin film that has excellent wear resistance, corrosion resistance, and good running properties.

本発明者等は、強磁性金属薄膜を有する磁気記録媒体の
保護層に関して鉛意研究の結果本発明に達したもので、
保護層としてクロム層のみ設けた場合には、耐摩耗性、
耐腐蝕性共に改善はされるが、耐摩耗性についてはやや
不充分であり、保護層としてシリコンーシリコン酸化物
層を設けた場合には、磁気記録媒体としての走行性、耐
摩耗性、耐腐蝕性共に改善されるが、耐腐蝕性がやや不
充分である事を発見し、保護層としてクロム層、続いて
シリコンーシリコン酸化物層を設けると極めて良好な磁
気記録媒体となる事を見出したものである。
The present inventors have arrived at the present invention as a result of preliminary research regarding the protective layer of a magnetic recording medium having a ferromagnetic metal thin film.
When only a chromium layer is provided as a protective layer, wear resistance,
Although the corrosion resistance is improved, the wear resistance is somewhat insufficient, and when a silicon-silicon oxide layer is provided as a protective layer, the runnability, abrasion resistance, and durability of the magnetic recording medium are improved. Although both corrosion resistance was improved, it was discovered that the corrosion resistance was somewhat insufficient, and it was discovered that an extremely good magnetic recording medium could be obtained by providing a chromium layer as a protective layer followed by a silicon-silicon oxide layer. It is something that

さらに可撓性支持体上に蒸着、スパッタリング、イオン
プレーテイング等によって強磁性金属薄膜を形威せしめ
た場合、あるいはある種のメッキ浴、メッキ条件にて強
磁性金属薄膜を形威せしめた楊合に金属薄膜の内部応力
のため、強磁性金属薄膜側を凹面とするようにカールが
発生し、磁気記録媒体として使用するうえで好ましくな
い。
Furthermore, when a ferromagnetic metal thin film is formed on a flexible support by vapor deposition, sputtering, ion plating, etc., or when a ferromagnetic metal thin film is formed using certain plating baths and plating conditions, Due to the internal stress of the metal thin film, curling occurs so that the ferromagnetic metal thin film side becomes a concave surface, which is undesirable for use as a magnetic recording medium.

あるいは堅固な支持体上に強磁性薄膜を形成せしめた場
合には、金属薄膜の内部応力のため磁性薄膜の密着が悪
くなるという問題がある。
Alternatively, when a ferromagnetic thin film is formed on a rigid support, there is a problem that the adhesion of the magnetic thin film becomes poor due to the internal stress of the metal thin film.

クロムの保護層を設けても上に述べた問題は解決されな
いばかりか、往々にして問題が悪化するのであるが、さ
らにシリコンーシリコン酸化物による保護膜を形成せし
めると、可撓性支持体の場合にはカールが除※※去され
て磁気ヘッドとの接触状態が改良され、堅固な支持体の
場合にはシリコンーシリコン酸化物の保護膜の内部応力
と強磁性金属薄膜の内部応力とがバランスするため密着
は極めて良くなるものである。
Providing a protective layer of chromium does not solve the above-mentioned problems, and often makes them worse; however, forming a protective layer of silicon-silicon oxide damages the flexibility of the flexible support. In the case of a solid support, the curl is removed* and the contact condition with the magnetic head is improved, and in the case of a solid support, the internal stress of the silicon-silicon oxide protective film and the internal stress of the ferromagnetic metal thin film are reduced. Due to the balance, adhesion is extremely good.

本発明においてクロム層は蒸着、イオンプレーテイング
、スパッタリング等によって形成させるのが良く、各方
法によるクロム層形成のための本発明における条件は下
記の第1表に示す範囲が望ましい。
In the present invention, the chromium layer is preferably formed by vapor deposition, ion plating, sputtering, etc., and the conditions in the present invention for forming the chromium layer by each method are preferably within the ranges shown in Table 1 below.

上記の方法でクロム層は強磁性金属薄膜上に設けられる
が、硬度を上げるためにTi,V,Zr、Mo,Rh,
Wなどの他の金属をクロム層中に220wt,% まで
含ませても良い。
In the above method, the chromium layer is provided on the ferromagnetic metal thin film, but in order to increase the hardness, Ti, V, Zr, Mo, Rh,
Other metals such as W may be included in the chromium layer up to 220 wt.%.

本発明においてクロム層の上に設けられるシリコンーシ
リコン酸化物より成る保護層は10−3〜5X 1 0
’Torrの圧力の空気中で占める酸化性気体雰囲
気中にてシリコンを融点まで加熱し蒸発させて、析出さ
せることにより得るのが好ましい。
In the present invention, the protective layer made of silicon-silicon oxide provided on the chromium layer has a thickness of 10-3 to 5X 10
Preferably, silicon is obtained by heating silicon to its melting point in an oxidizing gas atmosphere in air at a pressure of 1000 Torr, vaporizing it, and precipitating it.

析出速度は500久/sec.以下が良い。1 0−3
〜5X 1 0 ”Torrの真空圧においては蒸発
中のシリコン原子の一部と反応する充分な酸素が存在し
、強磁性金属薄膜上にはシリコンーシリコン酸化物とし
て形成され、これが良い耐摩耗性、耐腐蝕性、走行性を
与えるものである。
The precipitation rate was 500 kyu/sec. The following is good. 1 0-3
At a vacuum pressure of ~5X 10" Torr, there is enough oxygen to react with some of the silicon atoms during evaporation, forming silicon-silicon oxide on the ferromagnetic metal thin film, which has good wear resistance. , corrosion resistance, and running properties.

もし空気ではなしに純粋な酸素を用いる時には、上記圧
力は約1/5だげ低下させることにより所望の保護層が
得られる。
If pure oxygen is used instead of air, the pressure can be reduced by about 1/5 to obtain the desired protective layer.

本発明のシリコンーシリコン酸化物層は Si −SiOx( 1≦X〈2)の組成を有するもの
であると考えられる。
The silicon-silicon oxide layer of the present invention is considered to have a composition of Si--SiOx (1≦X<2).

保護層として設けるクロム層およびシリコンーシリコン
酸化物層の厚さは、充分な保護作用の得られる事、磁気
記録層面と磁気ヘッドとの間隙によるスペーシングロス
によって出力の低下しない事、等の条件によって合わせ
て約0.005〜0.3μm、好ましくは0.01〜0
.2μmの範囲が良く、クロム層およびシリコンーシリ
コン酸化物層の厚さの比率は1/5〜5/1の範囲が良
い。
The thickness of the chromium layer and silicon-silicon oxide layer provided as a protective layer must be determined based on conditions such as ensuring sufficient protection and ensuring that the output does not decrease due to spacing loss due to the gap between the magnetic recording layer surface and the magnetic head. about 0.005 to 0.3 μm, preferably 0.01 to 0
.. The thickness is preferably in the range of 2 μm, and the ratio of the thickness of the chromium layer and the silicon-silicon oxide layer is preferably in the range of 1/5 to 5/1.

本発明に係る強磁性金属層としては鉄、コバルト、ニッ
ケルその他の強磁性金属あるいはFeCo, Fe −
Ni , Co −Ni , Fe−Si1Fe −R
h,Fe−V,Co−P,Co−B,Co−Si,Co
−V,Co−Y,Co−La,Co−Ce,CoPr,
Co−Sm,Co−Mn,Fe−Co−Ni1Co −
Ni −P, Co −Ni − B, Co −Ni
Ag, Co −Ni −Nd , Co −Ni −
C e 1CoNi−Zn,Co−Ni−Cu,Co−
Ni−Hg,Co −Ni −W, Co −Ni −
Re , Co −Mn −P,Co−Zn−P,Co
−Pb−P,Co−SmCu,Co−Ni−Zn−P,
Co −Ni −Mn−P等の強磁性合金をペーパーデ
ポジション法アるいはメッキ法によって薄膜状に形成せ
しめたものである。
The ferromagnetic metal layer according to the present invention includes iron, cobalt, nickel and other ferromagnetic metals, or FeCo, Fe-
Ni, Co-Ni, Fe-Si1Fe-R
h, Fe-V, Co-P, Co-B, Co-Si, Co
-V, Co-Y, Co-La, Co-Ce, CoPr,
Co-Sm, Co-Mn, Fe-Co-Ni1Co -
Ni-P, Co-Ni-B, Co-Ni
Ag, Co-Ni-Nd, Co-Ni-
C e 1CoNi-Zn, Co-Ni-Cu, Co-
Ni-Hg, Co-Ni-W, Co-Ni-
Re, Co-Mn-P, Co-Zn-P, Co
-Pb-P, Co-SmCu, Co-Ni-Zn-P,
A ferromagnetic alloy such as Co-Ni-Mn-P is formed into a thin film by a paper deposition method or a plating method.

ペーパーデポジション法とは気体あるいは真空空間中に
おいて析出させようという物質またはその化合物を蒸気
あるいはイオン化した蒸気として基体上に析出させる方
法で真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーテイ
ング法、化学気相メッキ( Chemical Vap
or Depositon )法等がこれに相当する。
Paper deposition method is a method in which the substance or compound to be deposited is deposited on a substrate as vapor or ionized vapor in a gas or vacuum space, and includes vacuum evaporation, sputtering, ion plating, and chemical vapor plating. (Chemical Vap
This method corresponds to the method such as ``or Deposition'' method.

メッキ法とは電気メッキ法あるいは無電解メッキ法等の
液相より基体上に物質を析出させる方法をいう。
The plating method refers to a method of depositing a substance onto a substrate from a liquid phase, such as electroplating or electroless plating.

ペーパーデポジション法による形成法については例えば
L , H ol land著” VacuumDep
ositionof Thin Films ( Ch
aman &Hall Ltd,1 9 5 6 )
: L.I .Maissel &R.Glang共編
” Handbook of Thin Film T
echnology ”(McGraw−Hill C
o.、1 9 7 0 ) :米国特許2671034
号;同3329601号;同3342632号゛同33
42633号;同3516860号:同3615911
号;同3625849号゜同3700500号;同37
72174号;同3775179号;同3787237
号;同3856579号等の明細書に述べられている。
Regarding the formation method using the paper deposition method, for example, see "VacuumDep" by L. Holland.
position of Thin Films (Ch
aman & Hall Ltd, 1956)
:L. I. Maissel &R. Co-edited by Glang” Handbook of Thin Film T
technology” (McGraw-Hill C.
o. , 1970): US Patent 2671034
No. 3329601; No. 3342632゛33
No. 42633; No. 3516860: No. 3615911
No. 3625849゜No. 3700500; 37
No. 72174; No. 3775179; No. 3787237
No. 3856579 and other specifications.

さらにメッキ法による形或法については例えばW. G
oldie著” Metal li cCoating
of P lastics”( Electro −
Chem i cal P ublications
L td .、1968);米国特許3116159号
;同3138479号;同3219471号;同322
7635号;同3238061号゛同3267017号
;同3353986号;同3360397号゜同336
2893号゛同3416932号;同3446657号
;同3549417号;同3578571号:同363
7471号;同3672968号等の明細書に記述され
ている。
Furthermore, regarding the shape by plating method, for example, W. G
“Metal licCoating” written by oldie
of plastics” (Electro-
Chem i cal publications
Ltd. , 1968); US Pat. No. 3,116,159; US Pat. No. 3,138,479; US Pat. No. 3,219,471; US Pat.
No. 7635; No. 3238061; No. 3267017; No. 3353986; No. 3360397; No. 336
No. 2893゛No. 3416932; No. 3446657; No. 3549417; No. 3578571: No. 363
It is described in specifications such as No. 7471; No. 3672968.

非磁性支持体の厚さは可撓性支持体の場合は約4〜50
μ椛で、強磁性金属層の膜厚は約0.02〜5μm、好
ましくは0.05〜2μ風が良い。
The thickness of the non-magnetic support is approximately 4 to 50 mm in the case of a flexible support.
The thickness of the ferromagnetic metal layer is approximately 0.02 to 5 μm, preferably 0.05 to 2 μm.

本発明に係る支持体としては酢酸セルローズ;ニトロセ
ルローズ;ポリアミド;ポリメチルメタクリレート;ポ
リテトラフルオルエチレン:ポリトリフルオルエチレン
;エチレン、フロピレンのようなα−オレフインの重合
体あるいは共重合体;塩化ビニルの重合体あるいは共重
合体;ポリ塩化ビニリデン;ポリカーボネート;ポリイ
ミド;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレートのようなポリエステル類といったプラスチック
ベース、さらにはアルミニウム、黄銅、ステンレスのよ
うな金属類あるいはガラス、セラミック等が用いられる
Supports according to the present invention include cellulose acetate; nitrocellulose; polyamide; polymethyl methacrylate; polytetrafluoroethylene: polytrifluoroethylene; polymers or copolymers of α-olefins such as ethylene and flopylene; vinyl chloride Polymers or copolymers; polyvinylidene chloride; polycarbonate; polyimide; plastic bases such as polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, as well as metals such as aluminum, brass, and stainless steel, or glass and ceramics. It will be done.

支持体の形状についてもテープ、シート、カード、デス
ク、ドラムいずれでも良い。
The shape of the support may be tape, sheet, card, desk, or drum.

メッキ、蒸着等の方法によって形成された強磁性金属薄
膜はそのままでは磁気ヘッドとの摩擦によって走行不安
定となったり、けずれて傷がついたり、又げずれ屑がヘ
ッドに付着・蓄積して磁気記録の出力が著し《低下する
ことが多々ある。
Ferromagnetic metal thin films formed by methods such as plating or vapor deposition may become unstable due to friction with the magnetic head, may become scratched, or debris may adhere to or accumulate on the head. The output of magnetic recording often drops significantly.

さらに高温、多湿の環境下に長時間曝しておくと、金属
膜の分解、水酸化物の形成および腐蝕等の作用により表
面性の劣化、飽和磁束密度の減少が著しく磁気記録媒体
として使用不可能となる。
Furthermore, if exposed to a high temperature and high humidity environment for a long time, the metal film will decompose, hydroxides will form, and corrosion will occur, resulting in a significant deterioration of the surface quality and a decrease in the saturation magnetic flux density, making it unusable as a magnetic recording medium. becomes.

本発明による保護層を有する磁気記録媒体は上記の現象
が著しく改良され良好な磁気記録媒体である。
The magnetic recording medium having the protective layer according to the present invention is a good magnetic recording medium in which the above phenomenon is significantly improved.

次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例 1 連続メッキ装置により1/2インチ幅、25μm厚のテ
ープ状ポリエチレンテレフタレートフイ/L/ ム(
Mylarフイルム、E.I, du Pont de
Nemours & Co .製)上に下記のようなメ
ッキ液、メッキ条件にてCo −P ( Co: 9
8%、P:2%)磁性膜を0.20μm厚となるように
無電解メッキした。
Example 1 A 1/2 inch wide, 25 μm thick tape-shaped polyethylene terephthalate film (L/L/
Mylar film, E. I, du Pont de
Nemours & Co. Co-P (Co: 9) using the following plating solution and plating conditions:
8%, P: 2%) A magnetic film was electrolessly plated to a thickness of 0.20 μm.

無電解メッキの活性化前処理液としては米国Shipl
ey社( 2 3 0 0 Washington S
t .、Newton , Massachuset
ts )のCatalyst 6 F液およびAcce
lerator 1 9液を使用した。
US Shipl is used as an activation pretreatment solution for electroless plating.
ey company (2300 Washington S
t. , Newton, Massachusetts
ts) Catalyst 6 F solution and Acce
lerator 19 solution was used.

塩化コバルI− 9.51’/
l(CoC12・6H20) 次亜リン酸ソーダ 5.3P/l(Na
H2PO2・H20) 塩化アンモニウム 1o.7’i?/1ク
エン酸 2 6. 5 ?/1ホ
ウ酸 3 0.9 ?/lpH
;7.3、液温;80℃ 次にテープは真空室中に入れられ1 0 −5Torr
の真空にて0.02μmのクロム層を形或した後8X1
0’Torrの圧力の空気中でシリコンが蒸発せしめら
れ、0.05μmのシリコンーシリコン酸化物層が形或
された。
Kobal chloride I-9.51'/
l (CoC12・6H20) Sodium hypophosphite 5.3P/l (Na
H2PO2・H20) Ammonium chloride 1o. 7'i? /1 citric acid 2 6. 5? /1 boric acid 3 0.9? /lpH
7.3, Liquid temperature: 80℃ Next, the tape is placed in a vacuum chamber at 10-5 Torr.
After forming a 0.02 μm chromium layer in a vacuum of 8×1
The silicon was evaporated in air at a pressure of 0'Torr to form a 0.05 μm silicon-silicon oxide layer.

こうして得られた磁気テープ(試料Aとする)を統一■
形VTR(SONY Corp,製、AV−8700
型)にかげたところ走行は滑らかで安定した出力が得ら
れた。
The magnetic tape thus obtained (referred to as sample A) was unified.■
Model VTR (manufactured by SONY Corp., AV-8700)
When I turned it on (type), the running was smooth and stable output was obtained.

さらに磁気テープの同一個所を磁気ヘッドと摺接させ磁
性層に傷が生じる迄の時間を測定したところ下記の第2
表のようであった。
Furthermore, the same point on the magnetic tape was brought into sliding contact with a magnetic head, and the time until scratches appeared on the magnetic layer was measured.
It looked like a table.

比較のために保護層を形成させなかった磁気テープ(試
料B)および保護層として10−5T orrの真空中
でクロムを蒸発させ磁性メッキ層上に0.07μ汎のク
ロム膜のみを形或させた磁気テープ(試料C)も同時に
測定した。
For comparison, we used a magnetic tape (sample B) on which no protective layer was formed, and as a protective layer, chromium was evaporated in a vacuum of 10-5 Torr to form only a 0.07μ chromium film on the magnetic plating layer. A magnetic tape (sample C) was also measured at the same time.

このようにクロム層とシリコンーシリコン酸化物層の保
護層を設けた試料は耐摩耗性にすぐれていることが判明
した。
It was found that the sample provided with the protective layer of chromium layer and silicon-silicon oxide layer has excellent wear resistance.

実施例 2 真空蒸着装置中に22μm厚のポリエチレンテレフタレ
ートフイルムを設置し、Co95重量%V5重量%の合
金を蒸発源より5.OX10−6Torrの真空中該フ
イルム上に蒸着せしめ、0.3μ班の強磁性金属薄膜を
形成せしめた。
Example 2 A 22 μm thick polyethylene terephthalate film was placed in a vacuum evaporation apparatus, and an alloy containing 95% Co by weight and 5% by weight V was evaporated from an evaporation source. A ferromagnetic metal thin film with a thickness of 0.3 μm was formed by vapor deposition on the film in a vacuum of OX 10-6 Torr.

こうしてできた試料(試料D)は磁性薄膜側を凹面とす
るようにカールしており、統一■形VTR(実施例1参
照)にかげたところ走行性が悪く、ビデオトラックのエ
ッジに相当する部分の磁性薄膜が剥離してしまった。
The sample thus produced (Sample D) was curled so that the magnetic thin film side was concave, and had poor running properties when exposed to a unified ■-type VTR (see Example 1), and the portions corresponding to the edges of the video track The magnetic thin film has peeled off.

さらに5.0X 1 0−6Torrの真空中で保護層
としてクロム層を0.03μmの厚さだけ形成させた場
合はさらにカールが大きくなっていた。
Furthermore, when a chromium layer with a thickness of 0.03 μm was formed as a protective layer in a vacuum of 5.0×10−6 Torr, the curling became even larger.

クロム層を有する強磁性金属薄膜を上記のように形成後
、真空室中にニードルバンプを通じて空気を2X10
’Torrとなる迄入れ、実施例1と同様にしてシリ
コンーシリコン酸化物の保護層を0.07μ瓶厚となる
よう形成せしめた試料(試料E)はカールは全然無く前
記のVTRでの走行性も良好であった。
After forming the ferromagnetic metal thin film with the chromium layer as described above, air was introduced into the vacuum chamber through a needle bump at 2×10
The sample (Sample E), which was placed until the temperature reached 1000 Torr and a protective layer of silicon-silicon oxide was formed to a thickness of 0.07 μm in the same manner as in Example 1, showed no curl at all and ran on the VTR described above. The properties were also good.

同一個所を磁気ヘッドと摺接させたところ450秒以上
経過しても傷が生じなかった。
When the same location was brought into sliding contact with a magnetic head, no scratches were observed even after 450 seconds or more had elapsed.

これに対し試料Dは12秒足らずで磁性薄膜の離脱が生
じた。
On the other hand, in sample D, the magnetic thin film detached in less than 12 seconds.

さらに試料D,Eおよび比較例として0.1μ扉厚のシ
リコンーシリコン酸化物層のみを保護層として設けた試
料Fについて、耐腐蝕性を調べたところ第1図に示すよ
うな結果であった。
Furthermore, we investigated the corrosion resistance of Samples D and E, and Sample F as a comparative example, in which only a silicon-silicon oxide layer with a thickness of 0.1μ was provided as a protective layer, and the results were shown in Figure 1. .

第1図は試料を60℃、90%相幻湿度の環境中に保持
した時の飽和磁束密度(Bm)の時間変化を示すもので
縦軸は飽和磁束密度(Bm)の当初の飽和磁束密度(B
mo)に対する比を百分率で、横軸は60゜C、90%
相対湿度中の保持経過日数である。
Figure 1 shows the change in saturation magnetic flux density (Bm) over time when the sample is kept in an environment of 60°C and 90% relative humidity. The vertical axis is the initial saturation magnetic flux density (Bm). (B
mo) as a percentage, the horizontal axis is 60°C, 90%
It is the number of days of retention in relative humidity.

これから明らかのように本発明に従ってクロムおよびシ
リコンーシリコン酸化物の保護層を設けたもの(試料E
)は耐腐蝕性が改善されていることが判明した。
As is clear from this, a protective layer of chromium and silicon-silicon oxide was provided according to the present invention (sample E).
) was found to have improved corrosion resistance.

しかも試料表面の変色、ピンホールの増加についても試
料Eは少ないことも確認された。
Moreover, it was also confirmed that sample E had less discoloration on the sample surface and less increase in pinholes.

実施例 3 円板状の銅基板にあらかじめ脱脂・水洗処理を充分行な
った後下記の電気メッキ浴にて、磁性メッキを行なった
Example 3 A disk-shaped copper substrate was thoroughly degreased and washed with water beforehand, and then magnetically plated in the following electroplating bath.

硫酸ニッケル 30 ?/73(N
iSO4・7H20) 塩化ニッケル 5 グ/l(Ni
Cl2・6H20) 硫酸コバルト 30 ’ff/l
(CoSO4・7H20) 塩化コバルト (CoCl2・6H20) 硫酸銅( CuSO4 5 H20 ) ホウ酸 ホルマリン 1・5−ナフタレン・ジ・ス ルホ/酸ナトリウム pH;5.0, A/di 液温: 40℃、 5 ′?/l 0.25グ/l 7.5 グ/l O. I CC/l! 0.25!ii’/.e 電流密度; 0.6 Co −Ni −Cu ( Co 6 7%,Ni32
%、Cu 1%)の強磁性薄膜が0.3μm形成された
Nickel sulfate 30? /73(N
iSO4・7H20) Nickel chloride 5 g/l (Ni
Cl2・6H20) Cobalt sulfate 30'ff/l
(CoSO4・7H20) Cobalt chloride (CoCl2・6H20) Copper sulfate (CuSO4 5 H20) Formalin borate 1,5-naphthalene di-sulfo/sodium acid pH: 5.0, A/di Liquid temperature: 40℃, 5 ′? /l 0.25g/l 7.5g/l O. I CC/l! 0.25! ii'/. e Current density; 0.6 Co-Ni-Cu (Co6 7%, Ni32
%, Cu 1%) was formed to a thickness of 0.3 μm.

次にこれに実施例1と同様にして、クロム層を0.04
μm1シコンーシリコン酸化物層ヲ0.06μm形成さ
せ全保護層を0.1μm厚となるよう形成せしめた。
Next, in the same manner as in Example 1, a chromium layer of 0.04
A silicon oxide layer having a thickness of 0.06 μm was formed so that the entire protective layer had a thickness of 0.1 μm.

セロテープによる剥離テストで密着性を調べたところク
ロムおよびシリコンーシリコン酸化物の保護層を設けた
もの(試料G)は密着性は極めて良好であったが、保護
層を設けなかったもの(試料H)の密着性は悪かった。
When we examined the adhesion using a peel test using cellophane tape, we found that the product with a protective layer of chromium and silicon-silicon oxide (sample G) had extremely good adhesion, but the product with no protective layer (sample H) ) had poor adhesion.

直径1/4インチのタングステンカーバイドの球を用い
たT abor式摩耗試験機にて試料の耐摩耗性を測定
した。
The abrasion resistance of the sample was measured using a Tabor abrasion tester using a 1/4 inch diameter tungsten carbide ball.

比較のために保護層として10 −5Torrの真空中
でクロムを蒸発させ磁性メッキ上に0.1μmのクロム
膜を形或させた試料(試料I)についても測定した。
For comparison, measurements were also taken on a sample (sample I) in which a 0.1 μm chromium film was formed on the magnetic plating by evaporating chromium in a vacuum of 10 −5 Torr as a protective layer.

タングステンカーバイドの球を試料に接触移動させ試料
に傷が生じる迄のパス回数を調べたところ下記の第3表
のようであった。
When the tungsten carbide ball was brought into contact with the sample and the number of passes until the sample was scratched was investigated, the results were as shown in Table 3 below.

これから明らかのように本発明のクロムおよびシリコン
ーシリコン酸化物の保護層を設けたもの(試料G)は耐
摩耗性が改善されていることが判明した。
As is clear from this, it was found that the wear resistance of the sample provided with the protective layer of chromium and silicon-silicon oxide of the present invention (Sample G) was improved.

実施例 4 25μm厚のポリイミドベース( Kaptonフィル
ム、E, I .du Pont de Nemour
s & C o ,製)上にCo−Si ( Co 9
0%、Silo%)の磁性膜をイオンプレーテイング
法により0.15μ汎の膜厚となるよう形成させた。
Example 4 25 μm thick polyimide base (Kapton film, E, I. du Pont de Nemour)
Co-Si (Co 9
0%, Silo%) magnetic film was formed to a film thickness of about 0.15μ by ion plating method.

イオンプレーテイングはアルゴンガス圧0.OITor
r,加速電圧2KV、基板温度80℃にて実施した。
Ion plating is performed at argon gas pressure of 0. OITor
The experiment was carried out at an accelerating voltage of 2 KV and a substrate temperature of 80°C.

次に真空室内を10−7Torr迄真空排気した後、ク
ロム層を0.02μm蒸着し、さらに二一ドルバルプよ
り空気を導入して8X10 ”Torrとし、実施例
1と同様にしてシリコンーシリコン酸化物の保護層を0
.03μmの厚さとなるよう形或させた(試料J)。
Next, after evacuating the vacuum chamber to 10-7 Torr, a chromium layer of 0.02 μm was deposited, and air was further introduced through a 21 dollar valve to achieve a pressure of 8×10” Torr, and silicon-silicon oxide was formed in the same manner as in Example 1. protective layer of 0
.. The sample was shaped to have a thickness of 0.3 μm (Sample J).

保護層を形成させないもの(試料K)は金属薄膜側を凹
面とするようにカールが生じているが、保護層を形或さ
せるとカールは無くなった。
In the case where a protective layer was not formed (sample K), curling occurred so that the metal thin film side had a concave surface, but when the protective layer was formed, the curling disappeared.

試料J,Kについて磁気ヘッドと摺接させ磁性層に傷が
生じる迄の時間を測定したところ下記の第4表のようで
あった。
Samples J and K were brought into sliding contact with a magnetic head and the time taken until scratches appeared on the magnetic layer was measured, and the results were as shown in Table 4 below.

このように本発明のクロムおよびシリコンーシリコン酸
化物の保護層を設けた磁気記録媒体は耐摩耗性にすぐれ
ていることが判明した。
As described above, it has been found that the magnetic recording medium provided with the protective layer of chromium and silicon-silicon oxide of the present invention has excellent wear resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による磁気記録媒体の耐腐蝕性の効果を
示すためのグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the corrosion resistance effect of the magnetic recording medium according to the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体
において、該強磁性金属薄膜上に保護層としてクロム層
さらにその上にシリコンーシリコン酸化物層を設けた事
を特徴とする磁気記録媒体。 2 %許請求の範囲1においてシリコンーシリコン酸化
物層が10−3〜5×10−5Torrの圧力の空気中
で占める酸酸分圧に相当する酸化性気体雰囲気中にてシ
リコンを蒸発せしめることにより形或された保護層であ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 3 特許請求の範囲1においてクロム層が蒸着、イオン
プレーテイングまたはスパッタリングにより形成された
保護層であることを特徴とする磁気記録媒体。 4 特許請求の範囲1、2および3においてクロム層と
シリコンーシリコン酸化物層からなる保護層の厚さが合
わせて約0.005〜0.3μmの範囲であることを特
徴とする磁気記録媒体。 5 特許請求の範囲4においてクロム層およびシリコン
ーシリコン酸化物層の厚さの比率が1/5〜5/1の範
囲であることを特徴とする磁気記録媒体。 6 特許請求の範囲1において強磁性金属薄膜層が約0
.02〜5μmの厚さを有し、ペーパーデポジション法
またはメッキ法によって形成された強磁性金属層である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 7 特許請求の範囲1および6において強磁性金属薄膜
層が非磁性支持体上に設けられたことを特徴とする磁気
記録媒体。
[Claims] 1. In a magnetic recording medium having a ferromagnetic metal thin film layer as a magnetic recording layer, a chromium layer is provided as a protective layer on the ferromagnetic metal thin film, and a silicon-silicon oxide layer is provided on the chromium layer. Features of magnetic recording media. 2% In claim 1, the silicon-silicon oxide layer is evaporated in an oxidizing gas atmosphere corresponding to the acid partial pressure that the silicon-silicon oxide layer occupies in air at a pressure of 10-3 to 5 x 10-5 Torr. A magnetic recording medium characterized by having a protective layer formed by. 3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the chromium layer is a protective layer formed by vapor deposition, ion plating, or sputtering. 4. A magnetic recording medium according to claims 1, 2, and 3, characterized in that the total thickness of the protective layer consisting of the chromium layer and the silicon-silicon oxide layer is in the range of about 0.005 to 0.3 μm. . 5. A magnetic recording medium according to claim 4, characterized in that the thickness ratio of the chromium layer and the silicon-silicon oxide layer is in the range of 1/5 to 5/1. 6 In claim 1, the ferromagnetic metal thin film layer is about 0
.. 1. A magnetic recording medium comprising a ferromagnetic metal layer having a thickness of 0.02 to 5 μm and formed by a paper deposition method or a plating method. 7. A magnetic recording medium according to claims 1 and 6, characterized in that a ferromagnetic metal thin film layer is provided on a nonmagnetic support.
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