JPS5833314B2 - チタン生成用電解槽 - Google Patents
チタン生成用電解槽Info
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- JPS5833314B2 JPS5833314B2 JP56189035A JP18903581A JPS5833314B2 JP S5833314 B2 JPS5833314 B2 JP S5833314B2 JP 56189035 A JP56189035 A JP 56189035A JP 18903581 A JP18903581 A JP 18903581A JP S5833314 B2 JPS5833314 B2 JP S5833314B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
- C25C7/06—Operating or servicing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C3/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
- C25C3/26—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of titanium, zirconium, hafnium, tantalum or vanadium
- C25C3/28—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of titanium, zirconium, hafnium, tantalum or vanadium of titanium
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は溶融ハロゲン化物浴を用いて電解によりチタン
を生成するための電解槽に係り、より詳しくは、T t
C20の形で導入されるチタンから金属チタンを生成
する電解槽に係る。
を生成するための電解槽に係り、より詳しくは、T t
C20の形で導入されるチタンから金属チタンを生成
する電解槽に係る。
TiCl2を連続的に供給する装置を有しているチタン
生成用電解槽についてすでに多数の文献が公表されてい
る。
生成用電解槽についてすでに多数の文献が公表されてい
る。
公知の電解槽の特徴並びに本発明の電解槽の特徴をより
良く理解し得るように以下添付図面に基づいて説明する
。
良く理解し得るように以下添付図面に基づいて説明する
。
フランス特許第2,423,555号には、多価金属生
成用、より特定的にはチタン生成用電解槽が開示されて
いる。
成用、より特定的にはチタン生成用電解槽が開示されて
いる。
この電解槽は、電解の進行に応じてアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の溶融ハロゲン化物浴内に四塩化チタン
を連続的に導入するための供給装置を有している。
ルカリ土類金属の溶融ハロゲン化物浴内に四塩化チタン
を連続的に導入するための供給装置を有している。
第1図はフランス特許第2,423,555号に開示さ
れているタイプの電解槽の説明図であり、この電解槽は
溶融電解質2が収納されている金属性容器1を有してい
る。
れているタイプの電解槽の説明図であり、この電解槽は
溶融電解質2が収納されている金属性容器1を有してい
る。
陽極3は陽極室4内部に配置されており、隔膜5が陽極
室4を電解槽の残部即ち析出陰極6及び供給陰極7が配
置されている部分4aから画成している。
室4を電解槽の残部即ち析出陰極6及び供給陰極7が配
置されている部分4aから画成している。
図面から明らかなように供給陰極7は管状であって、例
えば金網で形成されており電源の負極に接続されている
。
えば金網で形成されており電源の負極に接続されている
。
金網7は例えば炭素鋼、又はニッケルもしくはステンレ
ス鋼などの炭素鋼とは異なる金属からなっており、所望
ならばコバルトで被覆されていてもよい。
ス鋼などの炭素鋼とは異なる金属からなっており、所望
ならばコバルトで被覆されていてもよい。
T 1Ct4は供給陰極7の中心軸線の近傍に配設され
た管8を介して供給陰極7内に供給される。
た管8を介して供給陰極7内に供給される。
管8は供給陰極7に対して絶縁されている。
このような状況下で管8の開口9から放出されるTiC
l4は少くとも一部分が原塩化チタンに還元されて浴内
に溶解することが確認されている。
l4は少くとも一部分が原塩化チタンに還元されて浴内
に溶解することが確認されている。
Tict+の還元のメカニズムについて確かなことは知
られていないが一般に受は入れられている説によれば気
体状態のTiC74と浴内に溶解しているTiCl2と
の間に次の第一の反応が生ずる。
られていないが一般に受は入れられている説によれば気
体状態のTiC74と浴内に溶解しているTiCl2と
の間に次の第一の反応が生ずる。
これを式で示すと
T iC4+T iC12→2T tcts (
1)となる。
1)となる。
次いで第二の反応過程において、反応(1)により生じ
たTi3+イオンが電解液内に拡散し次式で示される反
応に従って供給陰極7でTi2+に還元される。
たTi3+イオンが電解液内に拡散し次式で示される反
応に従って供給陰極7でTi2+に還元される。
’l’i” +Ie−>Ti”+(2)
T iCt+を全てT iCt2に変換したい場合、電
流効率を100%と仮定すると供給陰極7に流れる電流
■1は、理論上 11=%□、7□7(3) に等しくなければならない。
流効率を100%と仮定すると供給陰極7に流れる電流
■1は、理論上 11=%□、7□7(3) に等しくなければならない。
式(3)中qは電解液に導入されるT 1Ct4の質量
(単位二g/h)、■1は電流の大きさく単位:アンペ
ア)である。
(単位二g/h)、■1は電流の大きさく単位:アンペ
ア)である。
可溶化されたチタンの量に対応する量のチタンを絶えず
捕集すべく析出陰極6に電流■2=■1を流す必要があ
る故、陽極3に流れる総電流■は■=■1+■2 で示される。
捕集すべく析出陰極6に電流■2=■1を流す必要があ
る故、陽極3に流れる総電流■は■=■1+■2 で示される。
このような条件下では、チタンは供給陰極7上に一切析
出しないはずである。
出しないはずである。
ところが、実際にはチタンが析出していることが判明し
た。
た。
実際金属チタンは極めて細い粉末状になって供給陰極7
近傍に析出するのである。
近傍に析出するのである。
この析出したチタンは電解質と共に一種のスラッジを形
成し供給陰極7の機能乃至動作を妨害する。
成し供給陰極7の機能乃至動作を妨害する。
このスラッジを電解槽から取り出すことは極めて困難で
あり、従って電解槽の効率が著しく失われることになる
。
あり、従って電解槽の効率が著しく失われることになる
。
事実上等価な二つの仮説によりこの異常な現象を説明す
ることが可能である。
ることが可能である。
第一仮説
作動状況下でT x C12を安定に保つためには所定
量のT iCL 3が必要であり、この条件が満たされ
ないと次式で示される平衡反応の右方向への移行により
TiCl2が不均化する。
量のT iCL 3が必要であり、この条件が満たされ
ないと次式で示される平衡反応の右方向への移行により
TiCl2が不均化する。
3TiC720T i +2TiCt3 (4)
(溶解) (金属)(溶解) 第二仮説 T i3+は供給陰極7において反応(2)に従い直接
T i2+に還元されるのではなく次の反応を介して還
元される。
(溶解) (金属)(溶解) 第二仮説 T i3+は供給陰極7において反応(2)に従い直接
T i2+に還元されるのではなく次の反応を介して還
元される。
T* +2e −+Tt (5)金属
Ti十溶解2 ’l’1Ct34溶解3TtCt2(5
1)換言すれば、Ti3+は反応(4)の左方向へ移行
によって還元される。
Ti十溶解2 ’l’1Ct34溶解3TtCt2(5
1)換言すれば、Ti3+は反応(4)の左方向へ移行
によって還元される。
いずれの仮説の場合も最終結果は同じである。
即ち大きさ■に%・1.7□2 アンペアの電流が流れ
ると、得られたT t Ct 2の一部が不均化するこ
とにより、又は(4)式の平衡に一致する反応(5−1
)のために、供給陰極T上に析出した金属チタンによる
T iCJa 3の不完全な還元が生じることにより、
チタンが析出する。
ると、得られたT t Ct 2の一部が不均化するこ
とにより、又は(4)式の平衡に一致する反応(5−1
)のために、供給陰極T上に析出した金属チタンによる
T iCJa 3の不完全な還元が生じることにより、
チタンが析出する。
本発明は前記諸点に鑑みなされたものであり、その目的
とするところは、供給陰極を囲繞する隔膜中に浸潤して
いる電解液中での電圧降下の大きさに応じて陽極と供給
陰極との間に流す電流を制御することにより、電解効率
乃至電流効率を高く維持し得るようにしたチタン生成用
電解槽を提供することにある。
とするところは、供給陰極を囲繞する隔膜中に浸潤して
いる電解液中での電圧降下の大きさに応じて陽極と供給
陰極との間に流す電流を制御することにより、電解効率
乃至電流効率を高く維持し得るようにしたチタン生成用
電解槽を提供することにある。
この目的は、本発明によれば、アルカリ金属及びアルカ
リ土類金属のうちの少なくとも一つの金属の溶融ハロゲ
ン化物中に溶解された3未満の平均原子価を有するチタ
ンのハロゲン化物を電解して金属チタンを生成するため
の電解槽であって、四塩化物の形で導入されるチタンを
3未満の平均原子価を有するチタンのハロゲン化物に還
元するための供給陰極と、チタンが生成される析出陰極
と、供給陰極のまわりの電解液を析出陰極のまわりの電
解液から画成すべく供給陰極を囲繞しており、電解液外
において供給陰極から電気的に絶縁された隔膜と、隔膜
に浸潤している電解液中での電圧降下に対応する電位差
を検出する検出手段と、検出された電位差を基準電圧と
比較する比較手段と、比較手段での比較結果に基づいて
、前記電圧降下が零に近い所与の範囲内に維持されるよ
うに陽極と供給陰極との間に流す電流を調整する調整手
段とを有してなるチタン生成用電解槽によって達成され
る。
リ土類金属のうちの少なくとも一つの金属の溶融ハロゲ
ン化物中に溶解された3未満の平均原子価を有するチタ
ンのハロゲン化物を電解して金属チタンを生成するため
の電解槽であって、四塩化物の形で導入されるチタンを
3未満の平均原子価を有するチタンのハロゲン化物に還
元するための供給陰極と、チタンが生成される析出陰極
と、供給陰極のまわりの電解液を析出陰極のまわりの電
解液から画成すべく供給陰極を囲繞しており、電解液外
において供給陰極から電気的に絶縁された隔膜と、隔膜
に浸潤している電解液中での電圧降下に対応する電位差
を検出する検出手段と、検出された電位差を基準電圧と
比較する比較手段と、比較手段での比較結果に基づいて
、前記電圧降下が零に近い所与の範囲内に維持されるよ
うに陽極と供給陰極との間に流す電流を調整する調整手
段とを有してなるチタン生成用電解槽によって達成され
る。
前記検出手段は、好ましくは、隔膜の両側に配設された
電極と、該電極間の電位差を検出する検出器とからなる
。
電極と、該電極間の電位差を検出する検出器とからなる
。
この電解槽において、供給陰極は少なくとも一つの保給
陰極からなり、析出陰極は少なくとも一つの析出陰極か
らなり、隔膜は金属隔膜からなる。
陰極からなり、析出陰極は少なくとも一つの析出陰極か
らなり、隔膜は金属隔膜からなる。
このような電解槽を使用すれば供給陰極のところで溶解
されるT iCl 3及びT i C12の濃度を平衡
状態(4)に応じた割合に調整することが可能になる。
されるT iCl 3及びT i C12の濃度を平衡
状態(4)に応じた割合に調整することが可能になる。
第2図は本発明によるチタン生成用電解槽の説明図であ
るが、これは単なる一具体例であり本発明の範囲を限定
するものではない。
るが、これは単なる一具体例であり本発明の範囲を限定
するものではない。
10は、電解により溶融電解質11から金属チタンを生
成するための電解槽であり、電解槽10は第1図の電解
槽と同様に、隔膜13で囲繞された陽極12と少くとも
一つの析出陰極14とを有している。
成するための電解槽であり、電解槽10は第1図の電解
槽と同様に、隔膜13で囲繞された陽極12と少くとも
一つの析出陰極14とを有している。
ここではチタンのハロゲン化物の供給装置を中心に詳細
に説明する。
に説明する。
電解槽10のハロゲン化チタン供給装置は、T 1Ct
4の導入管15を有しており、導入されたT i C2
0は開口16から電解液内に放出される。
4の導入管15を有しており、導入されたT i C2
0は開口16から電解液内に放出される。
供給陰極は導入管15の両側に配置された二つの鋼製の
棒状体17及び18からなる。
棒状体17及び18からなる。
棒状体17.18は絶縁ガスケットを介して電解槽10
の蓋19を貫通して伸延しており、電解用電流源(図示
せず)の負極に接続されている。
の蓋19を貫通して伸延しており、電解用電流源(図示
せず)の負極に接続されている。
20は供給陰極17,18のまわりの電解液を析出陰極
14のまわりの電解液から画成すべく供給陰極17,1
Bを囲繞している隔膜であり、隔膜20は、電解槽10
の運転に必要な温度条件下において電解液11に対して
十分な耐性を有する金属で形成されており、例えば非合
金ニッケル、ニッケルをベースとする合金、又は鋼好ま
しくはステンレス鋼からなる。
14のまわりの電解液から画成すべく供給陰極17,1
Bを囲繞している隔膜であり、隔膜20は、電解槽10
の運転に必要な温度条件下において電解液11に対して
十分な耐性を有する金属で形成されており、例えば非合
金ニッケル、ニッケルをベースとする合金、又は鋼好ま
しくはステンレス鋼からなる。
隔膜20は上部において気密性の環状金属壁21を介し
て電解槽10の蓋19に接続されている。
て電解槽10の蓋19に接続されている。
環状壁21は気密性で且つ電気絶縁性の環状ガスケット
22及び23を介して蓋19に固定されている。
22及び23を介して蓋19に固定されている。
環状壁21の下部は電解液11中に浸漬されており、隔
膜20の両側の電解液11の液面の上方に存在する気体
の循環を阻止する機能を有する。
膜20の両側の電解液11の液面の上方に存在する気体
の循環を阻止する機能を有する。
隔膜20の本質的な役割はT i C74がTiCl2
に作用して反応(1)が生じた結果生成されるTiCl
2が隔膜20によって規定されているスペースの外へ拡
散するのを阻止することである。
に作用して反応(1)が生じた結果生成されるTiCl
2が隔膜20によって規定されているスペースの外へ拡
散するのを阻止することである。
このようにすれば供給陰極を構成する棒状体17,18
の極く近傍にある電解液領域にTiCl3が豊富に存在
することになり、その結果二価のチタンイオンの放電に
より棒状体17.18上に析出したチタンを極めて迅速
に再溶解させ得る。
の極く近傍にある電解液領域にTiCl3が豊富に存在
することになり、その結果二価のチタンイオンの放電に
より棒状体17.18上に析出したチタンを極めて迅速
に再溶解させ得る。
隔膜20は例えばニッケル製金網の如く金属製金網状に
形成されているか、又は例えばステンレス鋼をベースと
する金属粉を十分な残留気孔率を有する金属シート状に
焼結してなる。
形成されているか、又は例えばステンレス鋼をベースと
する金属粉を十分な残留気孔率を有する金属シート状に
焼結してなる。
例えば、ニッケルの金網からなり、供給陰極17.18
から絶縁されている隔膜20は、酸化還元反応 ’r1+e 4TI (6)の指
示電極として機能することが実験により判明した。
から絶縁されている隔膜20は、酸化還元反応 ’r1+e 4TI (6)の指
示電極として機能することが実験により判明した。
電解液11中に浸漬されている隔膜20の電解液11に
対する電位は次の二つの式のうちのいずれか一方により
算出される。
対する電位は次の二つの式のうちのいずれか一方により
算出される。
ここで電解液11に対する隔膜20の電位とは、隔膜2
0の内側にある電解液24に対する隔膜20の内面の電
位、又は隔膜20の外側にある電解液25に対する隔膜
20の外面の電位のいずれかである。
0の内側にある電解液24に対する隔膜20の内面の電
位、又は隔膜20の外側にある電解液25に対する隔膜
20の外面の電位のいずれかである。
隔膜20の内面め電位は電気化学者によく知られている
式 により算出される。
式 により算出される。
式中e。
Ti”/Ti2+は反応(6)の標準電位を示し、T
i2 + a1Ti3+及びal は夫々、隔膜20で囲繞さ
れた領域内に収容された電解液24に含まれているイオ
ンTi3+及びTi2+の活量を表わしている。
i2 + a1Ti3+及びal は夫々、隔膜20で囲繞さ
れた領域内に収容された電解液24に含まれているイオ
ンTi3+及びTi2+の活量を表わしている。
電解液25に対する隔膜20の外面の電位も同様にして
式 から算出される。
式 から算出される。
T i3 + T i2 +
式中、a2 及びa2 は夫々、隔膜20の外
面と接触している電解液25中のイオンTi3+及びT
i2+の活量を表わしている。
面と接触している電解液25中のイオンTi3+及びT
i2+の活量を表わしている。
析出陰極14上に金属Tiが存在しているため電解液2
5は平衡反応(4)に従って金属チタンと平衡状態にあ
り、次の方程式が成り立つ。
5は平衡反応(4)に従って金属チタンと平衡状態にあ
り、次の方程式が成り立つ。
式中e。
Ti”/Ti0はイオンT i2+の金属状態への還元
に対する標準電位を表わし、他のパラメータは前述のと
おりである。
に対する標準電位を表わし、他のパラメータは前述のと
おりである。
この式から所与の量のチタンが電解液25に溶解してい
る場合の電位が決定されることが理解される。
る場合の電位が決定されることが理解される。
電解槽に電流■=■1+■2が流れており、供給陰極1
7,18の電流がI 1 、 T s C14の流量が
q=1.772I、析出陰極14の電流がT2である場
合、電流■1の大きさに応じて3つの状態が生じ得るこ
とが判明した。
7,18の電流がI 1 、 T s C14の流量が
q=1.772I、析出陰極14の電流がT2である場
合、電流■1の大きさに応じて3つの状態が生じ得るこ
とが判明した。
うに電流の大きさT1が決定されている場合、供給陰極
17,18ではTi3+イオンがT I 2 +状態に
還元されるのみで金属の析出は生じず、隔膜20の両側
の電位は不変且つ同一に保たれ、T1に等しい電子流が
隔膜20の金属部分に発生し、隔膜20の外面上ではT
i2+イオンが金属状態に還元され、隔膜20の内面
上ではTt 2 +イオンがTi3+に当量だけ酸化さ
れる。
17,18ではTi3+イオンがT I 2 +状態に
還元されるのみで金属の析出は生じず、隔膜20の両側
の電位は不変且つ同一に保たれ、T1に等しい電子流が
隔膜20の金属部分に発生し、隔膜20の外面上ではT
i2+イオンが金属状態に還元され、隔膜20の内面
上ではTt 2 +イオンがTi3+に当量だけ酸化さ
れる。
しかしながらこれと同時にT 1Ct4の供給に伴い電
解液24が隔膜20を通って隔膜20の外側に流出する
ため、前述の如く生成したT 1C1sが隔膜20の外
面側に移動し、隔膜20の外面側において析出Tiに作
用してこれを再度TiCt2に変換する。
解液24が隔膜20を通って隔膜20の外側に流出する
ため、前述の如く生成したT 1C1sが隔膜20の外
面側に移動し、隔膜20の外面側において析出Tiに作
用してこれを再度TiCt2に変換する。
b)電流の大きさT1として前記の値より大きい値が選
択されている場合、供給陰極17,18で過剰T 1C
12が生成され、過剰のTiCl2の一部は供給陰極1
7.18上で直接金属チタンに還元され、残部は平衡反
応(4)に従って電解液24内で不均化して極めて細い
Ti粒子を生成する。
択されている場合、供給陰極17,18で過剰T 1C
12が生成され、過剰のTiCl2の一部は供給陰極1
7.18上で直接金属チタンに還元され、残部は平衡反
応(4)に従って電解液24内で不均化して極めて細い
Ti粒子を生成する。
このTi粒子は電解質と共に一種のスラTl 3 +
ツジを形成する。
この場合比 l は隔膜T t 2+
20の両側の電位同様変化していない。
電流■1は依然として電子流によって流れるため隔膜2
0の外面上に金属チタンが析出し隔膜20の内面上で当
量のイオンTi3+が生成される。
0の外面上に金属チタンが析出し隔膜20の内面上で当
量のイオンTi3+が生成される。
しかしながらこのようにして生成された過剰T i C
73が電解液24中に懸濁液態で存在している金属チタ
ンスラッジによりたゾちにTiCl2に還元されるため
に、隔膜20の外側に流出する電解液24中には隔膜2
0の外面上の金属チタンを溶解させるに十分な量のTi
Cl2が含まれず、隔膜20の外面上にどんどんチタン
が析出する。
73が電解液24中に懸濁液態で存在している金属チタ
ンスラッジによりたゾちにTiCl2に還元されるため
に、隔膜20の外側に流出する電解液24中には隔膜2
0の外面上の金属チタンを溶解させるに十分な量のTi
Cl2が含まれず、隔膜20の外面上にどんどんチタン
が析出する。
C)電流の強さT1がa)の値より小さい場合、供給陰
極17.18において還元されない過剰TiC43は電
解液24中に溶解したままであり、項RT、・・・Tt
3 +F T12 + の絶対値が減少し、隔膜20に浸潤している電は、□T
13+ 消液中に I RT t na 2” ”
)なる、T t 2 + p a2T12 +
電圧降下が生じ、隔膜20に浸潤している電解液中にイ
オン電流が流れ、その結果隔膜20の金属部分を流れる
電子流が減少する。
極17.18において還元されない過剰TiC43は電
解液24中に溶解したままであり、項RT、・・・Tt
3 +F T12 + の絶対値が減少し、隔膜20に浸潤している電は、□T
13+ 消液中に I RT t na 2” ”
)なる、T t 2 + p a2T12 +
電圧降下が生じ、隔膜20に浸潤している電解液中にイ
オン電流が流れ、その結果隔膜20の金属部分を流れる
電子流が減少する。
従ってこの電子流に起因する隔膜20の外面上の析出金
属チタンが減少し、TiCl2の供給に伴い隔膜20の
外側に流出する電解液24により析出チタンが完全に溶
解する。
属チタンが減少し、TiCl2の供給に伴い隔膜20の
外側に流出する電解液24により析出チタンが完全に溶
解する。
過剰TiCt3は浴25中に拡散する。
しかしながら浴25の体積が浴24の体積より太きいた
め過剰T iCt 3が存在しても隔膜20の外面の電
位が変化することは殆んどない。
め過剰T iCt 3が存在しても隔膜20の外面の電
位が変化することは殆んどない。
しかしT iCt3が析出陰極14との接触により還元
されるため電解槽の電解効率が低下する。
されるため電解槽の電解効率が低下する。
結局電解槽10が最も良く機能するのは最初のa)の場
合であり、隔膜20に浸潤している電解液中に可能な限
り小さい値の、しかしゼロではない、電圧降下が生じる
ように電流■1を調整すれば問題が解決され、本発明の
目的が遠戚されることになる。
合であり、隔膜20に浸潤している電解液中に可能な限
り小さい値の、しかしゼロではない、電圧降下が生じる
ように電流■1を調整すれば問題が解決され、本発明の
目的が遠戚されることになる。
もちろん、この電圧降下を直接検出するかわりに電圧降
下の大きさに対応する量を検出してもよい。
下の大きさに対応する量を検出してもよい。
隔膜20の気孔率は決定的要因ではないが隔膜20を介
して電解液が流れるのを過度に抑制しない程度の大きさ
であり且つ隔膜20に浸潤している電解液中での電圧降
下を容易に検出できる程度に小さくなければならない。
して電解液が流れるのを過度に抑制しない程度の大きさ
であり且つ隔膜20に浸潤している電解液中での電圧降
下を容易に検出できる程度に小さくなければならない。
この電圧降下を正確に測定することは比較的困難である
。
。
しかしながら、隔膜20の両側に隔膜20と接触しない
ように参照電極26,27を配置することにより正確な
電位差に極めて近い値を測定することは可能である。
ように参照電極26,27を配置することにより正確な
電位差に極めて近い値を測定することは可能である。
これら参照電極26゜27は例えば電解液24,25中
に浸漬されるAg/Agct電極など塩素イオンに敏感
な電極で構成されている。
に浸漬されるAg/Agct電極など塩素イオンに敏感
な電極で構成されている。
この電極26,27の先端は絶縁ガスケットを介して槽
10の蓋19を貫通しており、電極26,27間の電位
差を測定する電位差測定器28に接続されている。
10の蓋19を貫通しており、電極26,27間の電位
差を測定する電位差測定器28に接続されている。
測定器28は電流■1又は、結局間じことだが、比I
2/I tを制御するのに使用される。
2/I tを制御するのに使用される。
29は隔膜20内に浸潤している電解液中での電圧降下
が零に近い所与の値である場合に電極26.27間に生
じるべき電圧Vrefを出力する基準電圧源であり、3
0は比較器、31は調整手段としての電流調整器である
。
が零に近い所与の値である場合に電極26.27間に生
じるべき電圧Vrefを出力する基準電圧源であり、3
0は比較器、31は調整手段としての電流調整器である
。
比較器30は、例えば電圧測定器28で検出された電極
26.27間の電圧Vde tを基準電圧Vrefと比
較して、検出電圧Vdetが基準電圧Vrefよりも大
きい場合信号Aを、検出電圧Vde tが基準電圧Vr
efよりも小さい場合信号Bを出力する。
26.27間の電圧Vde tを基準電圧Vrefと比
較して、検出電圧Vdetが基準電圧Vrefよりも大
きい場合信号Aを、検出電圧Vde tが基準電圧Vr
efよりも小さい場合信号Bを出力する。
電流調整器31は、例えば、比較器30から信号Aを受
は取った場合、陽極12と供給陰極17.18との間に
流れる電流■1が大きくなるように前記電解用電流源の
出力を調整する信号を出力し、比較器30から信号Bを
受は取った場合、電流■1が小さくなるように前記電解
用電流源の出力を調整する信号を発する。
は取った場合、陽極12と供給陰極17.18との間に
流れる電流■1が大きくなるように前記電解用電流源の
出力を調整する信号を出力し、比較器30から信号Bを
受は取った場合、電流■1が小さくなるように前記電解
用電流源の出力を調整する信号を発する。
本発明のチタン生成用電解槽では、前記構成の故に、隔
膜に浸潤している電解液中での電圧降下が零に近い所与
の範囲内に維持されるように陽極と供給陰極との間に流
れる電流■1が調整され得、隔膜上への金属チタンの析
出、堆積等に伴なう電解効率の低下(前記のケース(b
):電流■1が大きすぎる場合)の虞れ、及び析出陰極
で三価のチタンイオンの二価への還元が行なわれる割合
が増大すること等による電解効率の低下(前記のケース
(C):電流■1が小さすぎる場合)の虞れが極力回避
され得る。
膜に浸潤している電解液中での電圧降下が零に近い所与
の範囲内に維持されるように陽極と供給陰極との間に流
れる電流■1が調整され得、隔膜上への金属チタンの析
出、堆積等に伴なう電解効率の低下(前記のケース(b
):電流■1が大きすぎる場合)の虞れ、及び析出陰極
で三価のチタンイオンの二価への還元が行なわれる割合
が増大すること等による電解効率の低下(前記のケース
(C):電流■1が小さすぎる場合)の虞れが極力回避
され得る。
本発明による装置又は方法を実現するために本発明の範
囲を越えない限り他の電位差測定方法等を使用すること
も可能である。
囲を越えない限り他の電位差測定方法等を使用すること
も可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は公知のチタン生成用電解槽の説明図、第2図は
本発明による一具体例のチタン生成用電解槽の説明図で
ある。 10・・・・・・電解槽、11.24,25・・・・・
・電解液、12・・・・・・陽極、13,20・・・・
・・隔膜、14・・・・・・析出陰極、15・・・・・
・導入管、17,18・・・・・・供給陰極(棒状体)
、26,27・・・・・・参照電極、28・・・・・・
電圧測定器、29・・・・・・基準電圧源、30・・・
・・・比較器、31・・・・・・電流調整器。
本発明による一具体例のチタン生成用電解槽の説明図で
ある。 10・・・・・・電解槽、11.24,25・・・・・
・電解液、12・・・・・・陽極、13,20・・・・
・・隔膜、14・・・・・・析出陰極、15・・・・・
・導入管、17,18・・・・・・供給陰極(棒状体)
、26,27・・・・・・参照電極、28・・・・・・
電圧測定器、29・・・・・・基準電圧源、30・・・
・・・比較器、31・・・・・・電流調整器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アルカリ金属及びアルカリ土類金属のうちの少なく
とも一つの金属の溶融ハロゲン化物中に溶解された3未
満の平均原子価を有するチタンのハロゲン化物を電解し
て金属チタンを生成するための電解槽であって、 四塩化物の形で導入されるチタンを3未満の平均原子価
を有するチタンのハロゲン化物に還元するための供給陰
極と、 チタンが生成される析出陰極と、 供給陰極のまわりの電解液を析出陰極のまわりの電解液
から画成すべく供給陰極を囲繞しており、電解液外にお
いて供給陰極から電気的に絶縁された隔膜と、 隔膜に浸潤している電解液中での電圧降下に対応する電
位差を検出する検出手段と、 検出された電位差を基準電圧と比較する比較手段と、 比較手段での比較結果に基づいて、前記電圧降下が零に
近い所与の範囲内に維持されるように陽極と供給陰極と
の間に流す電流を調整する調整手段とを有してなる、 チタン生成用電解槽。 2 前記検出手段が隔膜の両側に配設された電極と、該
電極間の電位差を検出する検出器とからなる特許請求の
範囲第1項に記載の電解槽。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8025505A FR2494725A1 (fr) | 1980-11-27 | 1980-11-27 | Nouveau dispositif et procede pour l'alimentation en ticl4 des cellules d'electrolyse pour la preparation du titane |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57116790A JPS57116790A (en) | 1982-07-20 |
JPS5833314B2 true JPS5833314B2 (ja) | 1983-07-19 |
Family
ID=9248545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56189035A Expired JPS5833314B2 (ja) | 1980-11-27 | 1981-11-25 | チタン生成用電解槽 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4396472A (ja) |
EP (1) | EP0053565B1 (ja) |
JP (1) | JPS5833314B2 (ja) |
AT (1) | ATE15080T1 (ja) |
DE (1) | DE3171944D1 (ja) |
FR (1) | FR2494725A1 (ja) |
NO (1) | NO156171C (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4521281A (en) * | 1983-10-03 | 1985-06-04 | Olin Corporation | Process and apparatus for continuously producing multivalent metals |
FR2579629B1 (fr) * | 1985-03-28 | 1987-05-07 | Pechiney | Procede de controle en continu de la teneur en metal dissous dans un bain de sels fondus et son application a l'alimentation continue d'une cellule d'electrolyse en sels dudit metal |
US7504017B2 (en) * | 2001-11-22 | 2009-03-17 | Qit-Fer Et Titane Inc. | Method for electrowinning of titanium metal or alloy from titanium oxide containing compound in the liquid state |
WO2006084318A1 (en) * | 2005-02-08 | 2006-08-17 | Bhp Billiton Innovation Pty Ltd | Supplying solid electrolyte to an electrolytic cell |
US9816192B2 (en) | 2011-12-22 | 2017-11-14 | Universal Technical Resource Services, Inc. | System and method for extraction and refining of titanium |
BR112019005038B1 (pt) | 2016-09-14 | 2022-12-20 | Universal Achemetal Titanium, Llc | Um método para produzir liga de titânio-alumínio-vanádio |
JP7139337B2 (ja) | 2017-01-13 | 2022-09-20 | ユニバーサル アケメタル タイタニウム リミテッド ライアビリティ カンパニー | チタン-アルミニウム基合金のためのチタン母合金 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2712523A (en) * | 1951-06-12 | 1955-07-05 | Nat Lead Co | Purification of titanium tetrachloride |
US2760930A (en) * | 1952-01-31 | 1956-08-28 | Nat Lead Co | Electrolytic cell of the diaphragm type |
US4113584A (en) * | 1974-10-24 | 1978-09-12 | The Dow Chemical Company | Method to produce multivalent metals from fused bath and metal electrowinning feed cathode apparatus |
US4219401A (en) * | 1978-08-07 | 1980-08-26 | The D-H Titanium Company | Metal electrowinning feed cathode |
-
1980
- 1980-11-27 FR FR8025505A patent/FR2494725A1/fr active Granted
-
1981
- 1981-10-20 US US06/313,230 patent/US4396472A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-11-25 EP EP81420173A patent/EP0053565B1/fr not_active Expired
- 1981-11-25 JP JP56189035A patent/JPS5833314B2/ja not_active Expired
- 1981-11-25 AT AT81420173T patent/ATE15080T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-11-25 DE DE8181420173T patent/DE3171944D1/de not_active Expired
- 1981-11-26 NO NO814029A patent/NO156171C/no unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57116790A (en) | 1982-07-20 |
ATE15080T1 (de) | 1985-09-15 |
DE3171944D1 (en) | 1985-09-26 |
NO156171C (no) | 1987-08-12 |
NO156171B (no) | 1987-04-27 |
EP0053565B1 (fr) | 1985-08-21 |
NO814029L (no) | 1982-05-28 |
US4396472A (en) | 1983-08-02 |
FR2494725A1 (fr) | 1982-05-28 |
FR2494725B1 (ja) | 1982-12-10 |
EP0053565A1 (fr) | 1982-06-09 |
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