JPS5830698B2 - electron spectrometer - Google Patents

electron spectrometer

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JPS5830698B2
JPS5830698B2 JP52135364A JP13536477A JPS5830698B2 JP S5830698 B2 JPS5830698 B2 JP S5830698B2 JP 52135364 A JP52135364 A JP 52135364A JP 13536477 A JP13536477 A JP 13536477A JP S5830698 B2 JPS5830698 B2 JP S5830698B2
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JP
Japan
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sample
energy
bias voltage
electron
energy analyzer
Prior art date
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Expired
Application number
JP52135364A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5468694A (en
Inventor
明矩 最上
勇二 長沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
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Publication of JPS5830698B2 publication Critical patent/JPS5830698B2/en
Expired legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/227Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子分光装置の改良に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to improvements in electron spectroscopy devices.

一般にオージェ電子分光装置等においては試料に加速さ
れたイオンを照射せしめ、試料表層の原子をはじき飛し
てエツチングすることにより試料の内部構造を分析する
ことが頻繁に行なわれる。
In general, in Auger electron spectrometers and the like, the internal structure of a sample is frequently analyzed by irradiating the sample with accelerated ions to repel atoms on the surface of the sample and etching them.

このエツチングによりはじき飛ばされた原子はエネルギ
ーアナライザーの入射スリットやアナライザーを構成す
る静電電極内壁に付着する。
The atoms repelled by this etching adhere to the entrance slit of the energy analyzer and the inner wall of the electrostatic electrode that constitutes the analyzer.

このとき分析される試料が導電性物質である場合には伺
等の問題は生じないか、絶縁物である場合には次のよう
な不都合か生ずる。
If the sample to be analyzed at this time is a conductive material, problems such as leakage will not occur, but if the sample is an insulating material, the following problems will occur.

即ちエネルギーアナライザーの内部に付着した絶縁物に
、エツチング時における試料からの二次イオンが照射さ
れることになるため、チャージアップが生ずる。
That is, the insulator attached to the inside of the energy analyzer is irradiated with secondary ions from the sample during etching, resulting in charge-up.

このチャージアップによりエネルギーアナライザーの電
場が乱れたり或いは電界強度が変化するため、スペクト
ル強度の減少及び若しくはエネルギー位置のシフトの原
因となる。
This charge-up disturbs the electric field of the energy analyzer or changes the electric field intensity, causing a decrease in spectral intensity and/or a shift in energy position.

そこで斯様な不都合を防止するために、試料に数十V程
度の負のバイアス電圧を印加することにより試料からの
二次イオンのエネルギーアナライザーへの入射を阻止す
る装置が提案されている。
In order to prevent such inconveniences, an apparatus has been proposed in which a negative bias voltage of approximately several tens of volts is applied to the sample to prevent secondary ions from entering the energy analyzer from the sample.

しかし乍ら斯様な装置においては試料に加えた負のバイ
アス電圧により電子線照射による試料から発生するオー
ジェ電子が加速されるため、スペクトルのエネルギー位
置はその電位分だけシフトするため元素の同定に支障を
来たすという欠点が生ずる。
However, in such an apparatus, Auger electrons generated from the sample by electron beam irradiation are accelerated by a negative bias voltage applied to the sample, so the energy position of the spectrum is shifted by the potential, making it difficult to identify elements. The disadvantage is that it causes trouble.

本発明は斯様な不都合を解決することを目的とするもの
で、以下図面に基づき詳説する。
The present invention aims to solve such inconveniences, and will be explained in detail below with reference to the drawings.

添付図面は本発明の一実施例を示す構成略図であり、1
は電子銃である。
The attached drawings are schematic diagrams showing an embodiment of the present invention, and 1
is an electron gun.

該電子銃より発生した電子線2は集束レンズ3により細
く集束されて試料4上に照射される。
The electron beam 2 generated by the electron gun is narrowly focused by a focusing lens 3 and irradiated onto a sample 4.

該電子線照射により試料から発生するオージェ電子eは
同軸状に配置された外筒5aと内筒5bとから構成され
る円筒状エネルギーアナ2イザー6に導入され、掃引電
源7により外筒と内筒間に形成される電場によりエネル
ギー別に偏向集束されて検出器8に検出される。
Auger electrons e generated from the sample by the electron beam irradiation are introduced into a cylindrical energy analyzer 6 consisting of an outer cylinder 5a and an inner cylinder 5b arranged coaxially, and a sweep power supply 7 connects the outer cylinder and the inner cylinder. The electric field formed between the cylinders deflects and focuses the beam according to its energy and is detected by the detector 8.

従って、電源7の電圧を可変し、外筒5aと内筒5b間
の電位差を掃引することによりオージェ電子のスペクト
ルを得ることかできる。
Therefore, the spectrum of Auger electrons can be obtained by varying the voltage of the power source 7 and sweeping the potential difference between the outer cylinder 5a and the inner cylinder 5b.

9は前記試料4と対向するようにおかれたイオン発生源
で、該イオン発生源から発生したイオン■を加速して試
料4上に照射せしめることにより試料表面をエツチング
することができる。
Reference numeral 9 denotes an ion generation source placed to face the sample 4, and by accelerating ions (1) generated from the ion generation source and irradiating the sample 4 with the accelerated ions, the surface of the sample can be etched.

10は試料4上で反射する二次イオンのエネルギーアナ
ライザー6への入射を阻止するために試料4に例えば数
+Vの負のバイアス電圧を印加するための可変用パイア
スミ源である。
Reference numeral 10 denotes a variable pie-sumi source for applying a negative bias voltage of, for example, several +V to the sample 4 in order to prevent secondary ions reflected on the sample 4 from entering the energy analyzer 6.

今、測定するオージェ電子のエネルギー値をEi、その
ときのエネルギーアナライザー6の外fm5aと内筒5
b間の電位差を■1 とした場合、両者の間には次式
の関係が成り立つ。
Now, the energy value of the Auger electron to be measured is Ei, and the outer fm5a of the energy analyzer 6 and the inner cylinder 5 at that time are
When the potential difference between b and b is 1, the following relationship holds between the two.

Ei二AV ・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・(1)こSでAは使用するエネルギーア
ナライザーの型状によって定する定数である。
Ei2 AV・・・・・・・・・・・・・・・・・・
(1) In S, A is a constant determined by the shape of the energy analyzer used.

しかしてバイアス電源10により試料4にv2の負のバ
イアス電圧を印加すると、Eiのエネルギーをもつオー
ジェ電子eはこの負のバイアス電圧のためにエネルギー
アナライザー6に対してEi+v2という値のエネルギ
ーをもつオージェ電子となり、実際の測定値はV2eV
だげシフトしてし筐う。
Therefore, when a negative bias voltage of v2 is applied to the sample 4 by the bias power supply 10, the Auger electrons e having energy of Ei are transferred to the energy analyzer 6 due to this negative bias voltage. becomes an electron, and the actual measured value is V2eV
Just shift.

そこで試料4にバイアス電圧を加えると同時にエネルギ
ーアナライザ−6にも可変用バイアス電源11によりバ
イアス電圧■3を加えると、E i 十V2=A (V
1+V3 ) −”・(2)という関係が成立する。
Therefore, when applying a bias voltage to the sample 4 and at the same time applying a bias voltage ■3 to the energy analyzer 6 from the variable bias power supply 11, E i +V2=A (V
1+V3)−”·(2) holds true.

従ってこのときエネルギーアナライザーに加えるバイア
ス電圧v3を■3ニー■2と定めれば、オージェ電子ス
ペクトル個有のエネルギー値Eiとエネルギーアナライ
ザーの掃引電位との関係は常に(1)式を満足し、エネ
ルギー値がシフトすることはない。
Therefore, if the bias voltage v3 applied to the energy analyzer at this time is set as ■3 knee ■2, the relationship between the energy value Ei unique to the Auger electron spectrum and the sweep potential of the energy analyzer always satisfies equation (1), and the energy The value never shifts.

その結果従来装置に比べて正確な元素の同定を行うこと
ができる。
As a result, elements can be identified more accurately than conventional devices.

同前記バイアス電源10と11とは同図中点線で示すよ
うに連動せしめてもよい。
The bias power supplies 10 and 11 may be interlocked as shown by the dotted line in the figure.

又試料から負の2次イオンが発生する場合には試料及び
エネルギーアナライザーには正のバイアス電圧を印加す
ることは言う昔でもない。
Furthermore, when negative secondary ions are generated from a sample, it is no longer the case that a positive bias voltage is applied to the sample and the energy analyzer.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

添付図面は本発明の一実施例を示す構成略図である。 図において1は電子銃、2は電子線、3は集束レンズ、
4は試料、6は外筒5aと内筒5bとからなる円筒状エ
ネルギーアナ2イザー、γは電源、8は検出器、9はイ
オン発生源、10及び11はバイアス電源である。
The accompanying drawings are schematic diagrams showing an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is an electron gun, 2 is an electron beam, 3 is a focusing lens,
4 is a sample, 6 is a cylindrical energy analyzer consisting of an outer tube 5a and an inner tube 5b, γ is a power source, 8 is a detector, 9 is an ion source, and 10 and 11 are bias power sources.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 試料に放射線を照射して該試料から特有なエネルギ
ーを有した電子を発生させるための手段と該手段により
発生した電子をエネルギー分析するためのエネルギー分
析手段と、前記試料上にイオンを照射せしめるための手
段とを備えた装置において、前記エネルギー分析手段の
電子線入射部に対してバイアス電圧を前記試料に印加す
ると共に前記エネルギーアナライザーにもバイアス電圧
を印加することを特徴とする電子分光装置。
1. A means for irradiating a sample with radiation to generate electrons having a specific energy from the sample, an energy analysis means for energy analysis of the electrons generated by the means, and irradiating the sample with ions. An electron spectroscopy apparatus comprising means for applying a bias voltage to the sample and to the electron beam incidence section of the energy analysis means, and also applying a bias voltage to the energy analyzer.
JP52135364A 1977-11-11 1977-11-11 electron spectrometer Expired JPS5830698B2 (en)

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Publication Number Publication Date
JPS5468694A JPS5468694A (en) 1979-06-01
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