JPS5830101A - Method of producing humidity sensor element using aluminum anode oxide thin film - Google Patents

Method of producing humidity sensor element using aluminum anode oxide thin film

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JPS5830101A
JPS5830101A JP56128170A JP12817081A JPS5830101A JP S5830101 A JPS5830101 A JP S5830101A JP 56128170 A JP56128170 A JP 56128170A JP 12817081 A JP12817081 A JP 12817081A JP S5830101 A JPS5830101 A JP S5830101A
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sensor element
thin film
humidity sensor
manufacturing
humidity
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小原 陽三
野村 彰
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はAI!の酸化薄膜を利用した湿度センサー素子
の製造方法に関するものである。湿1センサーは従来湿
度観測用として一部に使用されていたのであるが、最近
に至って家電機器等に利用されるに至って用途は急激に
拡大された。
[Detailed Description of the Invention] The present invention is based on AI! The present invention relates to a method of manufacturing a humidity sensor element using a thin oxide film. Humidity 1 sensors have traditionally been used in some areas for humidity observation, but recently their use has rapidly expanded to include home appliances and the like.

Al皮膜を用いたセンサーは既に幾つか公知となってい
る。その代表的なものは次の通シである。
Some sensors using Al films are already known. A typical example is the following.

(イ)特願昭51−83507号(アルミニュウムの陽
極酸化皮膜を使用した含湿量検出素子)(ロ) 感湿素
子の試作(東京都立工業技術センター研究報告第6号;
 1976年、51頁〜56頁)eウ  陽極化成A/
の封孔処理効果(Sealing Effectsne
ar the fiarrier −Porous L
ayer 1nterface of AnodicA
luminas ; 5olidSate 5ienc
e、 sep、、 1970 )その製法を、第1図を
参照して極めて簡単に説明する。図はこの種のセンサー
素子の平面図である。図において1はセラミック゛基板
、2は真−空蒸着又はスパッタ法によって形成した櫛(
<シ)状薄膜電極である。即ちTiなどのバルブ金属を
用いて基板1の前面に亘って蒸着法又はスパッタ法によ
って薄膜を形成した後、フォトエツチングによって所要
のくし形電極を形成する。次にアルミニューム薄膜をマ
スク蒸着によシ、くシ状電極部分の全面に形成し、後硫
酸、蓚酸等の酸を用いて陽極酸化法により酸化AJの薄
膜6(疎斜線で示す)を形成する。次に、センサー素子
完成後に外部引出しリード線5を半田付するためにマス
ク蒸着法によりAuの端子部4を設ける。その後読素子
を純水を沸とうさせた熱湯中に30分くらい浸漬して、
いわゆる封孔処理(Sealing )を行い、最後に
リード線5をAll端子部4に半田づけする。
(a) Patent Application No. 51-83507 (Moisture content detection element using anodized aluminum film) (b) Prototype production of moisture sensing element (Tokyo Metropolitan Industrial Technology Center Research Report No. 6;
1976, pp. 51-56) eU Anodization A/
Sealing Effects
ar the fiarier - Porous L
ayer 1interface of AnodicA
luminas; 5solidSate 5ienc
E, Sep., 1970) The manufacturing method will be explained very simply with reference to FIG. The figure is a plan view of this type of sensor element. In the figure, 1 is a ceramic substrate, 2 is a comb formed by vacuum evaporation or sputtering.
It is a thin film electrode shaped like <C>. That is, a thin film is formed using a valve metal such as Ti over the front surface of the substrate 1 by vapor deposition or sputtering, and then a desired comb-shaped electrode is formed by photoetching. Next, a thin aluminum film is formed on the entire surface of the comb-shaped electrode part by mask vapor deposition, and then a thin film 6 of oxidized AJ (indicated by loosely hatched lines) is formed by anodizing using an acid such as sulfuric acid or oxalic acid. do. Next, after the sensor element is completed, an Au terminal portion 4 is provided by a mask vapor deposition method in order to solder the external lead wire 5. After that, immerse the reading element in boiling pure water for about 30 minutes.
A so-called sealing process is performed, and finally the lead wire 5 is soldered to the All terminal portion 4.

前述のようにして作られたセンサーは幾多の特徴がある
が、一方法のような欠点がある。
Although the sensor made as described above has many features, it also has some drawbacks.

(1)  湿度に対するヒステリシスが大きい。(1) Hysteresis with respect to humidity is large.

即ち第1図のリード線5,5間のコンダクタンスが湿度
の上昇と共に増加するのであるが、逆に湿度を減少する
と、コンダクタンス値が、上昇のときと異る径路(パス
)゛を通)、その差が大きい。
That is, the conductance between the lead wires 5 and 5 in FIG. 1 increases as the humidity increases, but when the humidity decreases, the conductance value changes through a different path than when the humidity increases. The difference is huge.

いわゆるヒステレシス現象を生ずる。A so-called hysteresis phenomenon occurs.

(2)低湿度の中では、時間と共に感度が除徐に下がる
(2) In low humidity, sensitivity gradually decreases over time.

即ち前記リード線5,5間の湿度に対するコンダクタン
ス値及びそのスロープが時間と共に減少する。
That is, the conductance value and its slope with respect to humidity between the lead wires 5 decrease with time.

(3)  高湿度の中では、感度が増加し、かつ不安定
となる。
(3) Sensitivity increases and becomes unstable in high humidity.

即ち相対湿度が80%R,H,以上の高湿度中では、感
度が次第に増加し、かつ不安定となる。
That is, in high humidity environments where the relative humidity is 80% R, H or higher, the sensitivity gradually increases and becomes unstable.

本発明の目的は前記の欠点を除去し、もしくは著しく改
善して実用、に供し得る、特性の優れた酸化Al薄膜セ
ンサー素子の製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an Al oxide thin film sensor element with excellent characteristics, which can be put to practical use by eliminating or significantly improving the above-mentioned drawbacks.

前記の目的を達成するため本発明に係るAJの陽極酸化
薄膜を用いた湿度センサー素子の製造方法は、絶縁基板
の上に形成された薄膜状パルプ金輌の電極上の全面に亘
って設けられたAl薄膜を陽極酸化して生じた酸化At
!の表面を、界面活性剤で被覆して成る温度センサー素
子において、該活性剤を被覆する直前に真空中で高温熱
処理することを特徴とするものである。。
In order to achieve the above object, the method for manufacturing a humidity sensor element using an anodic oxide thin film of AJ according to the present invention provides a method for manufacturing a humidity sensor element using an anodic oxide thin film of AJ according to the present invention. Oxidized At produced by anodizing the Al thin film
! A temperature sensor element whose surface is coated with a surfactant is characterized in that it is subjected to high-temperature heat treatment in a vacuum immediately before coating with the surfactant. .

次に本発明の構成について説明する。Next, the configuration of the present invention will be explained.

本発明は同一の出願人によってなされた出願、即ち特願
昭56−008601号c以下前出願と略称する)、即
ち湿度センサー素子の発明において、その製法の1実施
例として開示した該センサー素子の製造方法の改良に関
するものである。
The present invention relates to an application filed by the same applicant, that is, Japanese Patent Application No. 56-008601 (hereinafter referred to as "previous application"), that is, an invention of a humidity sensor element, and a method of manufacturing the sensor element disclosed as an embodiment of the manufacturing method. This invention relates to improvements in manufacturing methods.

それ故最初に前−出願について極めて簡単に述る。Therefore, we will first discuss the previous application very briefly.

前出願の湿一度センサー素子は、絶縁基板の上に形成さ
れた薄膜状パルプ金属の電極上の全面に亘って設けられ
たAl薄膜を陽極酸化して生じた酸化AA’の表面を、
界面活性剤で被覆して成ることを特徴としたものであ、
る。
The humidity level sensor element of the previous application uses the surface of oxidized AA' produced by anodizing an Al thin film provided over the entire surface of a thin pulp metal electrode formed on an insulating substrate.
It is characterized by being coated with a surfactant,
Ru.

なお前発明においては、前述した(1)〜(3)の欠点
の生ずる理由を詳細に究明し、よってその改善方法を明
らかにし、その結果として前出願発明に係るセンサー素
子を提供し、かつその製法の1実施例を述べ、併せて該
センサー素子の効果について述べた。
In your invention, you have investigated in detail the reasons for the above-mentioned drawbacks (1) to (3), and have therefore clarified a method for improving them.As a result, you have provided the sensor element according to the invention of the previous application, and An example of the manufacturing method was described, and the effects of the sensor element were also described.

前記した説明を重ねて反覆することは煩雑になるので省
略し、直ちに本発明に係る製造方法について詳述する。
Since it would be complicated to repeat the above explanation over and over again, it will be omitted, and the manufacturing method according to the present invention will be described in detail immediately.

本製造方法は前記したように前出願に係る湿度センサー
の製法の1例として詳述した製造方法の改善に属するも
のであるから、本質的に類似する点が多い。即ち前出願
の製法と重畳する点が多く、よって前出願センサーの構
成を間接的に示すことにもなっている。
As described above, this manufacturing method belongs to an improvement of the manufacturing method detailed as an example of the manufacturing method of the humidity sensor according to the previous application, so there are many points that are essentially similar. That is, there are many points that overlap with the manufacturing method of the previous application, and therefore it indirectly shows the structure of the sensor of the previous application.

次に本発明について、次の実施例を用いて説明する。Next, the present invention will be explained using the following examples.

第1図を参照して無セラミック基板1としては高純度の
アルミナ磁器を用い、寸法は101101111X15
×Q、61111である。これを充分に洗滌、乾燥する
Referring to FIG. 1, high-purity alumina porcelain is used as the ceramic-free substrate 1, and the dimensions are 101101111X15.
×Q, 61111. Wash and dry this thoroughly.

次に該基板を高周波スパッタ槽に収容し、表面にTa膜
をスパッタする。膜厚は2,0OOAである。次に化学
エツチングによシ櫛状電極2を形成す、る。
Next, the substrate is placed in a high frequency sputtering bath, and a Ta film is sputtered on the surface. The film thickness is 2.0OOA. Next, a comb-shaped electrode 2 is formed by chemical etching.

櫛状歯の幅は50′μm2間隔は50μmとした。The width of the comb teeth was 50'μm2 and the interval was 50μm.

次に高真空中でマスク蒸着法によシ細い斜線6稀硫酸又
は蓚酸の電解液中に懸垂して陽極とする。
Next, in a high vacuum, a thin diagonal line 6 is suspended in an electrolyte of dilute sulfuric acid or oxalic acid using a mask vapor deposition method to form an anode.

この場合、前記レジン層の中心線付近まで浸漬する。こ
のようにするのは陽極酸化時に表面近くに電流の集中す
るのを防止し、以後の酸化が全面に亘って均一に行われ
るようにするためである1次に純度の高いTa片を電解
液中に懸垂して陰極とする。前記陽陰両極間に、最初に
定電流を流して充分に化成、シ、次にやや高い電圧によ
る定電圧化成をして、陽極化成の工程を終る。
In this case, the resin layer is immersed up to the vicinity of the center line. This is done to prevent current concentration near the surface during anodic oxidation and to ensure that subsequent oxidation is performed uniformly over the entire surface. It is suspended inside and serves as a cathode. First, a constant current is passed between the positive and negative electrodes to sufficiently form the anode, and then constant voltage formation is performed using a slightly higher voltage to complete the anodic formation process.

この場合はパルプ金属としてTaを用いた。ノ(ルブ金
属というのは、今日定義は明確でないが、陽極化成によ
シ絶縁物を生ずる金属とされている。
In this case, Ta was used as the pulp metal. Although the definition of a metal is not clear today, it is said to be a metal that produces an insulator through anodization.

例えばSe、 Ti、 Ta、 Nb、 Hf等である
For example, Se, Ti, Ta, Nb, Hf, etc.

陽極化成工程でパルプ金属を用いる必要性を第2図を参
照して簡単に説明する。図は第1図の櫛状電極部分の拡
大断面図である。図において第1図と同一の部分には同
じ符号を付して説明を省略する。陽極酸化はA4層の表
面から初まり、次いでTaの櫛状歯に及び、その表面が
酸化’faの絶縁層となってこの部分の酸化が終シ、か
くして除徐にA1層の深部に反応は及ぶ。6は酸化され
たA1層、21は金属Taの部分22は酸化Taを示し
ている。それ散機状電極2がパルプ金属でなく例えばA
uとすると、酸化膜22が生じないため、化成電流は2
に流入し、そのためA4層の深部は容易に酸化されない
。従って第2図の2,2間は短絡状態になったままであ
る。
The necessity of using pulp metal in the anodizing process will be briefly explained with reference to FIG. 2. The figure is an enlarged sectional view of the comb-shaped electrode portion of FIG. 1. In the figure, the same parts as in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and their explanation will be omitted. The anodic oxidation starts from the surface of the A4 layer, then reaches the comb-like teeth of Ta, and the surface becomes an insulating layer of oxidized 'fa', and the oxidation of this part ends, thus gradually reacting to the deep part of the A1 layer. extends. Reference numeral 6 indicates an oxidized A1 layer, and reference numeral 21 indicates a metal Ta portion 22 indicating oxidized Ta. That is, the scattered electrode 2 is not made of pulp metal, but for example A.
When u, the oxide film 22 is not formed, so the chemical formation current is 2.
Therefore, the deep part of the A4 layer is not easily oxidized. Therefore, the circuit between 2 and 2 in FIG. 2 remains short-circuited.

次にパルプ金属としてTaを用いたのは、酸化膜22の
厚さが他のパルプ金属に比して極めて薄く、かつ緻密で
あること、及び完成品とした後に更に酸化が進むことが
ないという利点があることによる。従って後にセンサー
素子とした場合、安定性。
Next, the reason for using Ta as the pulp metal is that the thickness of the oxide film 22 is extremely thin and dense compared to other pulp metals, and that oxidation will not progress further after it is made into a finished product. Due to the benefits. Therefore, if it is later used as a sensor element, it will be stable.

感度等において優れた特性を示す。Shows excellent characteristics such as sensitivity.

化成終了後充分に洗滌し、3oo℃〜550 ℃の安定
化熱処理を2時間程度行う。
After completion of chemical formation, the product is thoroughly washed and subjected to stabilization heat treatment at 30°C to 550°C for about 2 hours.

次に純水の沸とう水中で充分に封孔処理する。Next, the pores are thoroughly sealed in boiling pure water.

最後に非イオン性界面活性剤ポリオキシェチレンアルキ
ルフェニルエーテk (Po1yoxyethylen
 AlkylPhenyl Ether ; R00(
CH2CH20)n H)のl1lL1〜1容積%液で
処理して乾燥し、厚さα5μm前後の活性層を作って工
程を終るわけであるが(前出願)、本出願発明において
は、最近の本出願発廚者^究によシ前記活性剤で処理す
る前に次の工程を加えると、センツー特性は著しく向上
することが明らかになった。
Finally, the nonionic surfactant polyoxyethylene alkyl phenylethe
AlkylPhenyl Ether; R00(
The process is completed by treating with 1 to 1 volume % liquid of CH2CH20)n H) and drying to form an active layer with a thickness of around α5 μm (previous application). The inventor's research has revealed that the following steps are added before treatment with the activator to significantly improve the Sentsu properties.

次にこの点に関し詳述する。Next, this point will be explained in detail.

従来、AJ酸化膜の熱処理条件としては、大気中で温度
100℃ないし200℃で数時間ないし〜20時間程度
が良いとされている。(下記文献1参照)O文献11誌
名: Humidity and Molsture誌
1965、1. p、572 筆者: A、C、Jason 発行所: Re1nhold Publishing 
Co、。
Conventionally, it has been said that the best heat treatment conditions for AJ oxide films are in the air at a temperature of 100 to 200 degrees Celsius for several hours to about 20 hours. (See Document 1 below) O Document 11 Magazine name: Humidity and Molture magazine 1965, 1. p, 572 Author: A, C, Jason Publisher: Re1nhold Publishing
Co.

U、S、A。U, S, A.

しかし、われわれの実験では、前出願発明に係るセンサ
ー素子(その製法は前述の通シ)では安定化の効果は殆
んど認められない。
However, in our experiments, almost no stabilizing effect was observed in the sensor element according to the previously filed invention (its manufacturing method is as described above).

次に処理条件を250℃〜350℃、1〜2時間とする
と、感度は幾分増加するが、時間の経過と共にもとに戻
る。更に温度を上げて400℃以上とすると、Ta電極
等が酸化して特性が著しく劣化する。
Next, when the processing conditions are set to 250° C. to 350° C. for 1 to 2 hours, the sensitivity increases somewhat, but returns to the original value with the passage of time. If the temperature is further increased to 400° C. or higher, the Ta electrode etc. will be oxidized and the characteristics will be significantly deteriorated.

然るに処理条件を真空度(101〜10 ’) )−ル
However, the processing conditions were set to a degree of vacuum (101 to 10').

処理温度(1gO〜300 ) ℃、処理時間(1−2
)−間とψ し、処理直後に前記表面活性剤に浸漬し処理すると、後
述するようにセンサー特性が著しく向上するという事実
を確かめた。特にセンサー素子に印加する電圧として(
5〜10 ) Herzの低周波を用いると優れた特性
が得られる。
Treatment temperature (1gO~300℃), treatment time (1-2
) - ψ, and it was confirmed that immediately after the treatment, the sensor characteristics were significantly improved by immersing the sensor in the surfactant. Especially as the voltage applied to the sensor element (
5-10) Excellent characteristics can be obtained by using Herz's low frequency.

次にその理由1を簡単に述る。Next, I will briefly explain reason 1.

真空蒸着によって得られたAl膜は一般に微結晶体の集
合であって、陽極酸化の工程中、一部は水と反応して酸
化物となる等、不純物を含むことになる。従って前出願
で詳述したよりな封孔処理を行っても、必ずしも表面は
緻密なアルマイト層を形成しているとはいい難い。
An Al film obtained by vacuum evaporation is generally a collection of microcrystals, and some of them react with water to form oxides during the anodic oxidation process, so they contain impurities. Therefore, even if the detailed pore sealing treatment described in the previous application is performed, it cannot be said that a dense alumite layer is necessarily formed on the surface.

このようにして表面に形成された膜は、軸枠なベーマイ
トがAltos 1モルに対してHzo 1モルの結晶
水を有するのに対し、(1,4〜2.0)モルの結晶水
を有するいわゆる擬ベーマイトである。
The film formed on the surface in this way has (1.4 to 2.0) moles of crystal water, whereas axial frame boehmite has crystal water of 1 mole of Hzo per 1 mole of Altos. This is so-called pseudo-boehmite.

更に陽極酸化時に多量の804−イオン又はC2O4−
イオンが残存する。これ等が水との吸着性、イオン電導
性に寄附していることにな夛、センサー等性を不安定に
する要因となる。
Furthermore, during anodic oxidation, a large amount of 804- ions or C2O4-
Ions remain. These factors contribute to adsorption with water and ionic conductivity, which becomes a factor that makes the sensor properties unstable.

それ故、いま高温における真空処理をすると、脱水反応
及び前記のイオン、ガス化した不純物が除去され、よっ
て処理後、表面が活性化しているため空気中の水分、ガ
スなどを吸着し易いので、直ちに表面活性剤中に浸漬し
処理すると、酸化膜表面、気孔部等に、ま、んべんなく
該活性剤が浸透する。
Therefore, if we perform vacuum treatment at high temperature, the dehydration reaction and the aforementioned ions and gasified impurities will be removed.Therefore, after the treatment, the surface will be activated and will easily adsorb moisture, gas, etc. in the air. Immediately immersing in a surfactant for treatment allows the surfactant to penetrate evenly into the oxide film surface, pores, etc.

このようにして酸化膜の表面の特性が著しく改善される
ため、特性が飛躍的に改善されることになったものと考
えられる。
It is thought that the characteristics of the oxide film surface were significantly improved in this manner, resulting in a dramatic improvement in the characteristics.

なお処理条件として温度が400℃以上、真空度10”
−’ )−ル以上になると、Al、 Ta等の薄膜の蒸
発及び塊状化(アグロマレーション、 Agglome
ration)が起って、甚だしく劣化する。まへ処理
時間は6時間以上でもよいが、らまル長くなると特性が
劣化する。実際上は処理時間は短いほど良いわけで、多
くの場合1時間ないし2時間で充分である。
The processing conditions are a temperature of 400℃ or higher and a vacuum level of 10".
-' ) - When the temperature exceeds 100 mm, evaporation and agglomeration of thin films such as Al and Ta occur (agglomeration).
ration), resulting in severe deterioration. The processing time may be 6 hours or more, but if the processing time is too long, the characteristics will deteriorate. In practice, the shorter the treatment time, the better; one to two hours is sufficient in most cases.

また界面活性剤として、非イオン性のものが望ましいこ
とは前出願で説明したので、簡単のため省略する。
Furthermore, as it was explained in the previous application that a nonionic surfactant is desirable, the description will be omitted for the sake of brevity.

次にその効果について簡単に述る。Next, the effect will be briefly described.

(リセンサー特性、即ち温度特性が大きく向上する。特
にlOH2以下の超低周波で励起した場合が著しく向上
する。
(The resensor characteristics, that is, the temperature characteristics, are greatly improved. Especially when excited at an extremely low frequency of 1OH2 or less, the improvements are remarkable.

第6図〜の直線(1)は本発明のセンサー素子の特性で
、曲線(II)及び゛(至)は前出願に係るセンサー素
子並びに従来のセンサー素子の特性である。測定回路は
第4図に示す通)である。図において1Dで示す抵抗R
8は標準抵抗、11で示すRx抵抗はセンサー抵抗、1
2は増幅器、  1!l、 14は負帰還抵抗である。
The straight line (1) in FIGS. 6 to 6 is the characteristic of the sensor element of the present invention, and the curves (II) and (to) are the characteristics of the sensor element according to the previous application and the conventional sensor element. The measuring circuit is as shown in FIG. Resistance R shown as 1D in the figure
8 is a standard resistance, Rx resistance 11 is a sensor resistance, 1
2 is an amplifier, 1! 1 and 14 are negative feedback resistors.

いま入力AB間に入力電圧Viなる交流電圧を印加した
とき、増幅器12の増幅度をAとすると、出力端子CD
間の出力電圧V、は明らかに次のようになる。
Now, when an AC voltage of input voltage Vi is applied between input AB, and if the amplification degree of amplifier 12 is A, output terminal CD
The output voltage V between is clearly as follows.

Rx Vo = (□ ) Vi−A        (1)
Rx 十Rs 前記測定においては Rs = 1.000MΩ。
Rx Vo = (□) Vi-A (1)
Rx 10Rs In the above measurement, Rs = 1.000MΩ.

A = 100 (抵抗15.14を適当に選定)Vi
=[L8V(周波数6H7) と選定した。
A = 100 (select resistance 15.14 appropriately) Vi
= [L8V (frequency 6H7) was selected.

即ち本出願製法によるセンサーの特性が優れていること
は明らかであろう。
In other words, it is clear that the sensor produced by the manufacturing method of the present application has excellent characteristics.

次に本出願は前出願発明の改良に係るものでおるから、
本出願製法によるセンサー素子は、従来の素子に比し次
の効果を併有する。即ち、(2)湿度に対するコンダク
タ7スの増加が大きく、相対湿度60%以上になると特
に太きい。
Next, since the present application relates to an improvement of the invention of the previous application,
The sensor element produced by the manufacturing method of the present application has the following effects compared to conventional elements. That is, (2) the increase in conductor 7 with respect to humidity is large, especially when the relative humidity is 60% or more.

(3)湿度とコンダクダンスとの関係を示す特性曲線に
おけるヒステレシス現象が小さい。
(3) The hysteresis phenomenon in the characteristic curve showing the relationship between humidity and conductance is small.

(4)界面活性剤の塗布した層の厚さが1μm以下であ
れば、応答速度は速い。
(4) If the thickness of the layer coated with surfactant is 1 μm or less, the response speed is fast.

(5)前記活性剤の層の厚さが1μm以下であれば、活
性剤の層は強く洗滌しても剥離せず、高温中でも容易に
溶出することはない。
(5) If the thickness of the activator layer is 1 μm or less, the activator layer will not peel off even after strong washing, and will not easily dissolve even at high temperatures.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は皮膜形(薄膜形を含む)センサー素子の平面図
、 第2図は第1図のくし状電極の断面の一部拡大図、 第6図は本発明に係るセンサー素子と前出願並びに従来
のセンサー素子との対湿特性を示すグラフ、 第4図は前記対湿特性の測定回路図である。 図において 1・・・セラミック基板 2・・・くし状薄膜電極 3・・・酸化AI薄膜 4・・・くし状電極の端子 5・・・リード線 である。 代理人 弁理士 岡 1)梧 部 第1図 相対1度(%)□ 手続補正書(it会) 昭和57年デ月〆日 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和56年 特許願第128170号 2、発明。名称AIの陽極酸化薄膜を用いた湿度センサ
ー素子の製造方法 3、 補正をする者 事件との関係  特許出願人 住 所    富山県上新用郡大沢野町下大久保615
8番地氏 名銘称)北陸電気工業株式会社 代i者中村正夫 4・ 代  理  人   r−4ss  (1)  
460−60726、 補正により増加する発明の数 
  なし7、補正の対象 補正の内容 BAm書の発明の詳細な説明中、下記の通り補正する。 (1)5頁 11100 「・・・温度センサー・・・・・・」とあるのを1・・
・湿度センサー・・・」と訂正する。 (2)  17頁下から1行目〜12頁1行目。 F・不純物が除去され、・・・」とあるのを「・・・不
純物が大部分除去され、・・・」と訂正する。 (3)  14頁 12行目。 「活性剤の層は強く洗滌しても剥離せず、」とあるのを
削除する。 (4)’15頁 8行目 「4・・・くし状電極の端子」とあるのを「4・・・A
sの電極端子」と訂正する。
Fig. 1 is a plan view of a film type (including thin film type) sensor element, Fig. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of the comb-shaped electrode in Fig. 1, and Fig. 6 is a sensor element according to the present invention and the previous application. 4 is a graph showing the humidity characteristics with respect to a conventional sensor element. FIG. 4 is a circuit diagram for measuring the humidity characteristics. In the figure, 1... ceramic substrate 2... comb-shaped thin film electrode 3... oxidized AI thin film 4... terminal 5 of the comb-shaped electrode... lead wire. Agent Patent Attorney Oka 1) Goki Part Figure 1 Relative 1 degree (%) □ Procedural amendment (IT-kai) Date of December 1987 Commissioner of the Japan Patent Office Kazuo Wakasugi 1, Indication of the case 1988 Patent Application No. 128170 No. 2, invention. Name: Method for manufacturing a humidity sensor element using anodized thin film with AI 3, Relationship with the amended person case Patent applicant address: 615 Shimo-Okubo, Osawano-machi, Kamishinyo-gun, Toyama Prefecture
No. 8 Name) Hokuriku Electric Industry Co., Ltd. representative Masao Nakamura 4 Agent r-4ss (1)
460-60726, Number of inventions increased by amendment
None 7. Subject of amendment Contents of amendment In the detailed description of the invention in Book BAm, the following amendments are made. (1) Page 5 11100 1. Where it says "...Temperature sensor..."
・Humidity sensor..." I corrected it. (2) 1st line from the bottom of page 17 to 1st line of page 12. F. The phrase "impurities are removed and..." is corrected to "...impurities are mostly removed and...". (3) Page 14, line 12. The statement "The activator layer does not peel off even after vigorous washing" is deleted. (4) On page 15, in the 8th line, "4...Terminal of comb-shaped electrode" is replaced with "4...A".
s electrode terminal”.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、′絶縁基板の上に形成された薄膜状ノ(ルプ金属の
電極上の全面に亘って設けられたAJ薄、膜を陽極酸化
して生じた酸化AJの表面を、界面活性剤で被覆して成
る湿度センサー素子す−素子の製造方法。 2、 第1項記載の界面活性剤として、非イオン性界面
活性剤を用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のAJの陽極酸化薄膜を用いた湿度センサー素子の
製造方法。 3、第2項記載の非イオン性界面活性剤として、ポリオ
キシ三チレ/アルキルフェニルエーテルを用いることを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載のAI!陽極酸化
薄膜を用いた湿度センサー素子の製造方法。 4、第1項記載の真空中における高温熱処理の条件とし
て、 真空度(10−2〜10’))−ル。 温   度 (100〜300  ) ℃。 処理時間 (1〜 3 )時間。 とすることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第
3項記載のAIC)陽極酸化薄膜を用いた湿度センサー
素子の製造方法。
[Scope of Claims] 1.' A thin film formed on an insulating substrate (an AJ thin film provided over the entire surface of a loop metal electrode); , a method for manufacturing a humidity sensor element coated with a surfactant. 2. Claim 1, characterized in that a nonionic surfactant is used as the surfactant described in claim 1. 3. A method for producing a humidity sensor element using the anodized thin film of AJ as described in Item 3. 3. A method of manufacturing a humidity sensor element using an anodized thin film of AJ as described in Item 3. A method for manufacturing a humidity sensor element using the AI! anodized thin film as described in Scope 2. 4. Conditions for the high temperature heat treatment in vacuum as described in Paragraph 1: degree of vacuum (10-2 to 10') . Temperature (100-300)℃. Processing time (1-3) hours. A method for manufacturing a humidity sensor element using an anodic oxide thin film (AIC) according to claims 1 to 3, characterized in that:
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