JPS5829510B2 - Seiden Fuchsia Insatsuban - Google Patents
Seiden Fuchsia InsatsubanInfo
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- JPS5829510B2 JPS5829510B2 JP48090483A JP9048373A JPS5829510B2 JP S5829510 B2 JPS5829510 B2 JP S5829510B2 JP 48090483 A JP48090483 A JP 48090483A JP 9048373 A JP9048373 A JP 9048373A JP S5829510 B2 JPS5829510 B2 JP S5829510B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アルミニウム膜を主として導電層として用い
、その上に、Seを主成分とする無定形状態において光
導電性を発揮する無機物質を真空蒸着してなる静電複写
印刷版において、該光導電層の結晶化や変質を防止し、
したがって、該光導電層の光導電性質を向上する方法に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention uses an aluminum film mainly as a conductive layer, and an inorganic substance containing Se as a main component and exhibiting photoconductivity in an amorphous state is vacuum-deposited thereon. In copy printing plates, it prevents crystallization and deterioration of the photoconductive layer,
Accordingly, it relates to a method for improving the photoconductive properties of said photoconductive layer.
また、他の目的は、該光導電層とアルミニウム膜との接
着力の改良にある。Another purpose is to improve the adhesive strength between the photoconductive layer and the aluminum film.
また、他の目的は、該光導電層と、導電層(リーク層)
との接触性つまり、電荷の移動性を改良するにある。In addition, another purpose is to form the photoconductive layer and the conductive layer (leak layer).
The purpose is to improve the contact with the metal, that is, the mobility of the charges.
いわゆる静電複写印刷版、つまり、適当な導電層上に、
光導電性物質層を設け、該光導電層が、光に感じて静電
荷を帯びた潜像をつくるので、その上に着色物粒子(ト
ナー)を静電物に吸引し、しかるσつち、該トナーを、
被印刷物へ転写(複写)していく複写印刷版において、
該光導電性物質としてはSeを主成分とする無機物質が
、現在のところもつとも優秀な光導電性能を発揮する物
質のひとつであることは周知である。So-called electrostatographic printing plates, i.e. on a suitable conductive layer,
A layer of photoconductive material is provided, and the photoconductive layer is sensitive to light and creates a latent image with an electrostatic charge, so that colored particles (toner) are attracted to the electrostatic material and a , the toner,
In the copy printing plate that transfers (copies) to the printing material,
As the photoconductive substance, it is well known that an inorganic substance containing Se as a main component is one of the substances that currently exhibits excellent photoconductive performance.
そして、このSe自身およびSeを主成分とする光導電
性無機物質は、無定形状態においてその優秀な光導電性
を発揮するものであることも周知である。It is also well known that Se itself and photoconductive inorganic substances containing Se as a main component exhibit excellent photoconductivity in an amorphous state.
しかし、該Seを主成分とする光導電性物質は、その下
地層に、電荷のリーク層として必要とする導電層の性質
によって、各種の性能が変化し、したがって、該導電層
の選択は静電複写印刷版の製造にあたっては重要な課題
である。However, the performance of the photoconductive material containing Se as the main component varies depending on the properties of the conductive layer required as the charge leak layer in the underlying layer, and therefore the selection of the conductive layer is This is an important issue in the production of electronic copy printing plates.
この下地導電層、あるいは少なくとも導電層としての役
割も同時に果すこともできる下地層として、アルミニウ
ム膜が有用である。An aluminum film is useful as this base conductive layer, or at least as a base layer that can simultaneously serve as a conductive layer.
該アルミニウムの膜の態様としては、アルミニウムの圧
延板および箔、あるいはメッキしたり真空蒸着したアル
ミニウム膜などである。Examples of the aluminum film include rolled aluminum plates and foils, or plated or vacuum-deposited aluminum films.
これらのアルミニウム膜はSeあるいはSeを主成分と
する即ち無定形状態において光導電性を発揮する無機物
質からの導電層への電荷の移動、即ち、電光時のリーク
においては良好で有用な下地導電金属層であるが、該S
e光導電層自身の変質、たとえば、特に、もつとも重要
な問題である結晶化、あるいは、酸化などの変性という
トラブルに対し、必ずしも良好な層でないことを見出し
た。These aluminum films have good and useful underlying conductivity for charge transfer from Se or an inorganic material containing Se as a main component, which exhibits photoconductivity in an amorphous state, to the conductive layer, that is, leakage during lightning. Although it is a metal layer, the S
e It has been found that the photoconductive layer itself is not necessarily a good layer with respect to troubles such as deterioration, such as crystallization or oxidation, which are particularly important problems.
本発明は、とくにこの、Seを主成分とする光導電層の
改良を研究し、新規で有用な方法を見出したものである
。The present invention is the result of research into improving this photoconductive layer containing Se as a main component and discovering a new and useful method.
即ち、本発明は、アルミニウム膜上に、seあるいはS
eを主成分とする無定形状態において光導電性を発揮す
る無機物質を真空蒸着してなる静電複写印刷版において
、該アルミニウム膜上に、まずTe(テルル)を、重量
平均厚みにて05A乃至300人の厚み、真空析出して
、該アルミニウム膜上に表面析出処理したのち、上記、
SeあるいはSeを主成分とする無定形状態において光
導電性を発揮する無機物質層を真空蒸着によって形成し
て、光導電による静電複写印刷版をつくることからなる
。That is, the present invention provides se or S on an aluminum film.
In an electrostatic copying printing plate formed by vacuum-depositing an inorganic substance which exhibits photoconductivity in an amorphous state and whose main component is e, Te (tellurium) is first deposited on the aluminum film at a weight average thickness of 05A. After vacuum deposition and surface deposition treatment on the aluminum film, the above-mentioned
A photoconductive electrostatic copying printing plate is produced by forming by vacuum deposition an inorganic material layer which exhibits photoconductivity in an amorphous state and mainly contains Se or Se.
本発明において、印刷版の基板は、種々のものが選択さ
れる。In the present invention, various substrates are selected for the printing plate.
たとえば、各種の合成樹脂シート、フィルム、あるいは
成型体でもよい。For example, various synthetic resin sheets, films, or molded bodies may be used.
代表的なものはポリエチレンテレフタレートを代表とす
るポリエステル、ナイロン、エポキシ樹脂、フェノール
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィンなど。Typical examples include polyester such as polyethylene terephthalate, nylon, epoxy resin, phenol resin, polyvinyl chloride, and polyolefin.
勿論これらの例に限定されないことは自明である。Of course, it is obvious that the invention is not limited to these examples.
また、各種の金属板乃至成型体でもよい。これらの形態
は板シートでもよく、あるいは、円筒状でもよい。Further, various metal plates or molded bodies may be used. These shapes may be plate sheets or cylindrical.
いずれにしても、それらの上に、前記の如くアルミニウ
ムが、真空蒸着、メッキなどで塗工されるか、或は、圧
延板・ホイルが貼合わされる。In any case, aluminum is coated thereon by vacuum evaporation, plating, etc., or a rolled plate or foil is laminated thereon.
勿論、基板自身が一体となったアルミニウムの板・ホイ
ル、あるいは成型体でもよい。Of course, the substrate itself may be an integrated aluminum plate or foil, or a molded body.
また、他の金属板あるいは円筒などの成型体でもよい。Alternatively, a molded body such as another metal plate or a cylinder may be used.
これらのアルミニウム層の上に、そのまま、Se単体あ
るいはSeを主成分とする無定形状態において光導電性
を発揮する無機物質を真空蒸着によって形成した場合の
、とくに重大な欠陥は、真空蒸着によって、当初は良好
な光導電性が発揮され、その構造も少くとも、X線回折
などでは無定形で好ましい形態になっていても、時間と
ともに、急速に該Se層が主として灰色化乃至黒色化し
、つまり結晶化し、その光導電性が急落することで、こ
の性能低下は、温度が嵩まるほと、また、湿度が上昇す
る雰囲下におけるほど、顕著である。A particularly serious defect occurs when an inorganic substance that exhibits photoconductivity in an amorphous state consisting mainly of Se or Se as a main component is formed on these aluminum layers by vacuum evaporation. Although good photoconductivity is initially exhibited and the structure is amorphous and desirable in X-ray diffraction, over time the Se layer rapidly turns mainly gray or black, i.e. Due to crystallization and a sudden drop in photoconductivity, this deterioration in performance becomes more pronounced as the temperature and humidity increase.
このようなトラブルは、静電複写印刷版においては、最
終的に、該印刷版は、前記したトナーによって現像し、
あと被写物へ転写後熱によって定着するので、このとき
の熱などによって少くとも、該印刷版が該複写機内にお
いて熱的影響を受けることは避けられず、それだけ印刷
版の耐刷寿命、あるいは経時寿命を大巾に低下させるこ
とになり、重大な製品価値の低落につながり商業上重要
な事柄である。Such troubles arise in the case of electrostatic copying printing plates, when the printing plate is finally developed with the above-mentioned toner,
Furthermore, since the image is fixed by heat after being transferred to the object, it is inevitable that the printing plate will be affected by the heat at least in the copying machine, and the printing life of the printing plate will be shortened accordingly. This is a matter of commercial importance as it significantly reduces the aging life and leads to a significant reduction in product value.
このSeあるいはSeを主成分とする光導電層の経時的
な性能の急低下(劣化)は、主としてこれらの物質が結
晶化を急速に始めるためであるが、同時に、酸化Seを
生ずる酸化も観測される。This rapid decline (deterioration) in the performance of photoconductive layers containing Se or Se as their main component over time is mainly due to the rapid onset of crystallization of these substances, but at the same time, oxidation that produces oxidized Se has also been observed. be done.
いずれにしてもこれらのSe層の変化劣化は、そのもつ
とも主要なる性質の光導電性を損うものであるから、こ
れを防止すべく該Se層の中に、同時に各種の抗老化剤
、結晶防止剤を添加する提案もなされており、勿論、そ
れなりの効果は付加されているが、本発明は、これらの
既知の小さな改良力を併用すれば尚よく、また併用しな
くても、それだけでも充分有用な効果を発揮する。In any case, these changes and deteriorations of the Se layer impair its main property of photoconductivity, so in order to prevent this, various anti-aging agents and crystals are added to the Se layer at the same time. There have been proposals to add inhibitors, and of course they have some effect, but the present invention is better if these known small improving powers are used in combination, and even if they are not used together, they can be used alone. Demonstrates a sufficiently useful effect.
具体的にこれらの処方の差についていえば、たとえば、
Seの蒸着時、Teを同時に添加して、即ち、11同時
蒸着1′することは、Seの性能をよくするひとつの処
方として公知であるが、本発明は、とくにTeのみを別
個単独に、しかもアルミニウム膜という限定されて特長
の発揮される導電層上に、前処理しておくことに特徴が
あり、また、該処理によって、Seと、該アルミニウム
層との接着性も良くなり、−且つ導電層へのSeを主体
とする光導電層からの電荷の移動性、リーク性も改良さ
れるという有用な効果も発見された。Specifically speaking about the differences between these prescriptions, for example,
Adding Te at the same time during Se vapor deposition, that is, 11 simultaneous vapor deposition 1', is known as one recipe for improving the performance of Se, but in the present invention, in particular, Te is added separately, Moreover, the feature is that the aluminum film, which is a conductive layer that has limited characteristics, is pretreated, and this treatment also improves the adhesion between Se and the aluminum layer. A useful effect was also discovered in that the mobility and leakage of charges from the photoconductive layer mainly composed of Se to the conductive layer were improved.
本発明におけるTeの形成は、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンブレーティングなどでおこなわれる。Formation of Te in the present invention is performed by vacuum evaporation, sputtering, ion blasting, etc.
真空蒸着においては、通常の抵抗加熱法、該導加熱法、
エレクトロンビーム加熱法、さらにはレーザー加熱法な
どもとりうる。In vacuum evaporation, ordinary resistance heating method, conduction heating method,
Electron beam heating method or even laser heating method may be used.
また、スパッタリングにおいては、陰極スパッタリング
、高周波スパッタリング、プラズマスパッタリングなど
各種の既知のスパッタリング法がとりつる。In addition, various known sputtering methods such as cathode sputtering, high frequency sputtering, and plasma sputtering are used for sputtering.
これらのTeの付着は上記の如く真空析出でなければな
らない。These Te deposits must be deposited in vacuum as described above.
真空析出における真空度は、Teは比較的、高蒸気圧を
有するものゆえ、とくに著しい高真空下でなくても蒸着
の場合付着されるので、スパッタリングの場合も含めて
I X 10−”Torr以下ならば良好であり、I
XI 0−2Torr以下ならさらによい。The degree of vacuum during vacuum deposition is less than I x 10-"Torr, including the case of sputtering, since Te has a relatively high vapor pressure and can be deposited during vapor deposition even if it is not under a particularly high vacuum. If so, it is good and I
It is even better if the XI is 0-2 Torr or less.
そして、その厚みはTe単体の密度(−6,25g/c
Ifl)をもとに重量平均の厚みから換算した厚みで、
05人から300人の厚みの範囲内にならなければなら
ない。The thickness is the density of Te alone (-6.25g/c
The thickness is calculated from the weight average thickness based on Ifl),
The depth must be between 0.5 and 300 people.
05λ以下ではあまりに付着層が薄すぎてつまり詳細に
いえばこの程度の厚みでは均一膜でなくアルミ層上に点
在するTeの11島1゛の存在頻度が少なすぎて、Se
の変性老化防止および付着性、電荷移動性を改良するこ
とには乏しすぎる。Below 05λ, the adhesion layer is too thin, and more specifically, at this thickness, it is not a uniform film, and the 11 islands of Te scattered on the aluminum layer exist too infrequently.
It is too poor to prevent modification and aging, and to improve adhesion and charge mobility.
一方300λ以上では漸くTe自身が本来布する性質が
発現されてくる厚い膜となってくるため却って効果が逆
になつてくる。On the other hand, if the thickness exceeds 300λ, the film becomes thick enough that Te itself finally exhibits its original property of spreading, so that the effect is rather reversed.
この点本発明の方法は前述の既知のTeをSeと同時に
蒸着する場合とは全く別の理由と機構によることがわか
る。In this respect, it can be seen that the method of the present invention has a completely different reason and mechanism from the previously known case where Te and Se are simultaneously deposited.
つまり、本発明においては、アルミニウム膜上に、該ア
ルミニウムの結晶や、構造、電位などの電気的性質等い
ずれにしてもアルミニウム膜自身の有する特徴ある性質
が、その上のTeの薄膜の真空析出というプロセスによ
って潜在的且つ相乗的に生かされていることを示すもの
であり、この下地のA1層の影響を有効に受けて生成す
る良好なTe薄膜の上限厚みは300人ということがわ
かったことである。In other words, in the present invention, the characteristic properties of the aluminum film itself, such as crystals of aluminum, structure, electrical properties such as potential, etc., are applied to the vacuum deposition of a thin Te film on the aluminum film. This shows that Te is utilized latently and synergistically by this process, and the upper limit thickness of a good Te thin film that can be effectively produced under the influence of the underlying A1 layer is 300. It is.
換言すれば完全なTe単独膜上では有利な効果を発揮し
ないことであり、この点において、上記の、既知の、T
eをSeと同時に蒸着し、光導電層を形成する例とは、
本質的に作用機構においても異なる。In other words, no advantageous effect is exhibited on a complete Te film alone, and in this respect, the above-mentioned known T
An example of forming a photoconductive layer by simultaneously depositing e with Se is
They also differ essentially in their mechanism of action.
Teのもつとも良好な厚みは、5人乃至100人である
。The best thickness for Te is 5 to 100.
尚、真空析出の方法においては、真空蒸着およびスパッ
タリング両方法とも有効に利用できるが、極薄膜の場合
には、スパッタリングは厚みが精密に制■できるので有
利である。In the vacuum deposition method, both vacuum evaporation and sputtering can be effectively used, but in the case of extremely thin films, sputtering is advantageous because the thickness can be precisely controlled.
それよりもとくに有効な方法は、アルミニウム層をとく
に真空蒸着法で形成する場合、いずれにしても、真空系
を破らずに、つまり、好ましくはアルミニウム蒸着直後
に連動しつつ、Teを蒸着することである。A particularly effective method is to evaporate Te without breaking the vacuum system, that is, preferably immediately after aluminum evaporation, when the aluminum layer is formed by vacuum evaporation. It is.
つまり、第1図の如く巻出されたベースシートなどの基
板1がまずアルミニウム蒸着ルツボ2によって蒸着され
たアルミニウム層を形成後、次のTe蒸着あるいはスパ
ッタリングターゲット4によってTeの薄膜層5が、該
アルミニウム層3の上に、連続的に析出付着される方法
である。That is, a substrate 1 such as a base sheet unwound as shown in FIG. This is a method in which the aluminum layer 3 is deposited continuously.
尚、本発明のTeをAI膜上にまず真空析出する方法は
本発明者らが先に提案した、合成樹脂基板上にまず各種
金楓をスパッタリング後アルミニウムを真空蒸着した導
電性基板に対して該Al上に適用することもでき、この
場合は、さらに良好な接着性、機械的耐久性およびSe
を主成分とする光導電層の結晶化防止、光導電性能の向
上、電荷の移動の円滑さ、画像形成のシャープさなどで
良好な結果をもたら−9−8
かくして、該Teの薄膜上にSeあるいはSeを主成分
とする光導電性物質が既知の各種の方法で真空蒸着によ
って形成される。The method of vacuum-depositing Te of the present invention on the AI film is based on the method previously proposed by the present inventors, in which various types of gold maple were first sputtered on a synthetic resin substrate, and then aluminum was vacuum-deposited on a conductive substrate. It can also be applied on the Al, in which case even better adhesion, mechanical durability and Se
This results in good results in terms of prevention of crystallization, improvement of photoconductive performance, smoothness of charge transfer, sharpness of image formation, etc. of the photoconductive layer containing Te as the main component. Se or a photoconductive material containing Se as a main component is formed by vacuum evaporation using various known methods.
ここにおいてSeあるいはSeを主成分とする無定形状
態において光導電性を発揮する光導電性無機物質とは、
光の照射によって生じた電子またはホール(正孔)の移
動によって光導電性を示すものを指し、とくにそのうち
効果のあるのは、正孔の移動度の方が大きいことによっ
て光導電に寄与するものである。Here, the photoconductive inorganic substance that exhibits photoconductivity in an amorphous state containing Se or Se as its main component is:
Refers to materials that exhibit photoconductivity due to the movement of electrons or holes generated by light irradiation, and those that are particularly effective are those that contribute to photoconductivity due to the greater mobility of holes. It is.
これらのうち代表的なものは無定形状態のSeであり、
またSeにAs 、Te等を添加したものであり、また
この外にはTeAsSe2 、As2Se3As2Te
3などもある。The representative one among these is Se in an amorphous state,
In addition, As, Te, etc. are added to Se, and in addition to this, TeAsSe2, As2Se3As2Te, etc.
There are also 3 etc.
これらSeの厚みは種々とりうるが、−搬に500人乃
至数量未満である。The thickness of these Se layers may vary, but the thickness is generally less than 500 or more.
このようにして第2図に示した如く、基板1(なくても
よい場合があることは既述のとおり)の上に、A1層3
が形成され、その上にTeの薄膜5が形成され、Seを
主成分とする光導電層6が形成されるが、該6の上にさ
らに、他の例えば、ポリビニルカルバゾールなどの有機
光導電層が形成されてもかまわないし、そればかりでな
くSe層の良好な性質によって、さらに有効に作用する
。In this way, as shown in FIG. 2, the A1 layer 3
A thin film 5 of Te is formed thereon, and a photoconductive layer 6 containing Se as a main component is formed. Not only that, but also the good properties of the Se layer make it more effective.
このような本発明方法による効果は、Seを主体とする
光導電層の性能改良を中心に非常に有用である。The effects achieved by the method of the present invention are extremely useful, especially in improving the performance of photoconductive layers containing Se as a main component.
只贋、一般にSeあるいはSeを主体とする光導電体は
87°C〜90°Cではいずれも短時間で結晶化し、光
導電性を失うが、45°C〜60’Cでは各種の条件に
よってその劣化寿命に大きな差が出てくる。In general, Se or Se-based photoconductors crystallize in a short period of time at 87°C to 90°C and lose photoconductivity, but at 45°C to 60'C they crystallize under various conditions. There is a big difference in the deterioration lifespan.
これは、実際の複写機においては丁度、該印刷版がトナ
ーの熱定着によって受ける温度に近いので重大な差とな
り、これの改良は非常に有用な利点となる。This is a significant difference because in an actual copying machine, this temperature is close to the temperature at which the printing plate is subjected to thermal fixing of toner, and an improvement in this would be a very useful advantage.
たとえば、45℃常湿において、従来のAl板あるいは
AI蒸着膜上に、単にSeを蒸着したときが、僅か1週
間以内にて結晶化して光導電性を失うのに対し、本発明
の方法を採用した場合、lケ月たっても実質的な変化を
生じない。For example, when Se is simply vapor-deposited on a conventional Al plate or an AI vapor-deposited film at 45°C and normal humidity, it crystallizes and loses photoconductivity within just one week, whereas the method of the present invention If adopted, no substantial change will occur even after one month.
とくに、高湿高温の場合において改良が著しいことがわ
かった。It was found that the improvement was particularly remarkable in the case of high humidity and high temperature.
また。該光導電層とA1膜間の接着性は必ずしもよくな
いが、本発明の方法をとることによって、全体の接着力
が改善され、複写時の印刷版が受ける機械作用に耐え、
耐刷力が向上することもわかった。Also. Although the adhesion between the photoconductive layer and the A1 film is not necessarily good, by adopting the method of the present invention, the overall adhesion is improved, and the printing plate can withstand the mechanical effects during copying.
It was also found that printing durability was improved.
さらに、A1層とSeなどの光導電層との電気的接触性
つまり露光時の電荷の移動性は本来良好であるが、さら
にそれが向上し、コントラストなどが改善されることが
わかった。Furthermore, it has been found that the electrical contact between the A1 layer and the photoconductive layer such as Se, that is, the mobility of charges during exposure, which is originally good, is further improved and the contrast is improved.
以下°に、補足を兼ねて実施例にて示した。Examples are shown below for supplementary purposes.
実施例 1(含む比較実施例)
2軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム(
厚み125ミクロン、幅100mm)の上に1O−5T
orrの真空下にてアルミニウム(純度99.99%)
を厚み1,0OOAボートによる抵抗加熱法によってフ
ィルム速度約20 m /minニテ真空蒸着した。Example 1 (including comparative examples) Biaxially stretched polyethylene terephthalate film (
1O-5T on top of (thickness 125 microns, width 100mm)
Aluminum (99.99% purity) under vacuum at orr
was vacuum deposited at a film speed of about 20 m/min using a resistance heating method using a boat with a thickness of 1.0 OOA.
なお、ボートの長さは100mm(フィルムの幅方向)
および幅20醒(フィルム進行方向)であった。The length of the boat is 100mm (in the width direction of the film)
and a width of 20 mm (in the direction of film travel).
このアルミニウム蒸着層上に、同じボートによする抵抗
加熱法によって別バッチによりTeを各種属み真空蒸着
した。Various types of Te were vacuum-deposited on this aluminum vapor-deposited layer in separate batches by resistance heating using the same boat.
尚極薄層みの蒸着は、ボートの温度を低下させ、且つ、
フィルムの速度を上昇させて真空度は、各々10−’
Torrでおこなった。Furthermore, the extremely thin layer of vapor deposition reduces the temperature of the boat and
The film speed is increased and the vacuum degree is 10-' respectively.
This was done with Torr.
そして、常法によりSeを、同じくボートによる抵抗加
熱によって、厚み2,000人真空蒸着した。Then, Se was vacuum-deposited to a thickness of 2,000 yen using a conventional method using resistance heating using a boat.
尚、Seは蒸着直後は、X線回析の結果いずれも無定形
で、光導電性は良好であった。Immediately after the deposition, Se was found to be amorphous by X-ray diffraction and had good photoconductivity.
これらの試験結果を第1表に示した。The results of these tests are shown in Table 1.
尚、Seの接着性は、Se蒸着膜の上にセロテープにチ
バン製)を貼着し、180°方向ヘビーリングしたとき
の剥離状態からみた。The adhesion of Se was determined from the peeling state when cellophane tape (manufactured by Chiban Co., Ltd.) was attached to the Se vapor-deposited film and subjected to heavy ringing in a 180° direction.
また、電荷移動性は、暗室内に、アルミニウム蒸着層は
アースして該Se蒸着フィルムをおき、これにコロナ帯
電させ、しかるのち、はぼ昼光色に近い光を露光し、そ
の帯電状態の減衰状態をブラウン管オシログラフでみる
ことによって判定した。In addition, the charge mobility was determined by placing the Se-deposited film in a dark room with the aluminum-deposited layer grounded, corona-charging it, and then exposing it to light close to daylight color to determine the attenuation of the charged state. This was determined by looking at a cathode ray tube oscillograph.
実施例 2
実施例1において、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに、アルミニウムを蒸着せずして、厚み50ミクロン
のアルミニウムホイルを接着剤にて貼合わせたシートを
用い同時に、Teの蒸着、およびSeの蒸着をおこなっ
た。Example 2 In Example 1, instead of depositing aluminum on a polyethylene terephthalate film, a sheet of aluminum foil with a thickness of 50 microns was laminated with an adhesive, and at the same time Te and Se were deposited. Ta.
その結果は、第1表とほとんど同じ傾向であった。The results showed almost the same tendency as in Table 1.
尚、ブランク(Te蒸着なし)は同じく良好ではなかっ
た。Note that the blank (without Te vapor deposition) was also not good.
実施例 3
実施例1において、第1図の装置により、AIを蒸着後
、約1001mおくれたところにてTeを蒸着した。Example 3 In Example 1, Te was vapor-deposited approximately 1001 m after AI was vapor-deposited using the apparatus shown in FIG.
真空度は10−’Torr (共通)で、Teの極薄膜
のときは、ボートの温度をTeの融点以下に下げ、且つ
Teの添加量(蒸着有効面積)を少くして、規定の厚み
になるようにした。The degree of vacuum is 10-'Torr (common), and when making an extremely thin film of Te, lower the boat temperature below the melting point of Te and reduce the amount of Te added (effective area for evaporation) to achieve the specified thickness. I made it so.
フィルムの速度は、同じ< 20 m / minにし
た。The film speed was the same <20 m/min.
蒸着したAI厚みは同じ<1,000人であるがTeは
各種おこなった。The thickness of the deposited AI was the same <1,000, but the thickness of Te was varied.
そして第1表と同じ厚みに近いところのサンプルを抽出
して比較した結果は第1表とほぼ同じ乃至、さらに良好
で、とくに良好となった点は、高湿中にて、Se層灰色
化乃至黒化などの変色が少なく、且つ、接着力、電荷の
移動性もより良好であった。The results of extracting samples with thicknesses close to those in Table 1 and comparing them were almost the same as those in Table 1, or even better, and the particularly good point was that the Se layer grayed out in high humidity. There was little discoloration such as blackening, and the adhesive strength and charge mobility were also better.
しかし、ブランクおよびTeの厚み500λなどは第1
表と同様の芳しくない結果を示した。However, the blank and the thickness of Te, such as 500λ, are the first
The results showed the same unfavorable results as shown in the table.
実施例 4
実施例1において、Teを真空蒸着の代わりに、別にペ
ルジャー型のスパッタリング装置の中にて高周波スパッ
タリングにより、厚み、05人、5人。Example 4 In Example 1, instead of vacuum deposition, Te was deposited by high frequency sputtering in a separate Pelger type sputtering device to a thickness of 0.5 mm and 5 mm.
50人について査定付着させたぎ、結果は、第1表とほ
ぼ同じであった。Fifty people were evaluated and the results were almost the same as in Table 1.
実施例 5
2軸延伸ポリエチレンフタレートフイルム(厚み125
μ)上にニッケル、スズおよびパラジウムをそれぞれ陰
極スパッタリングにより、厚み5穴付着させてのち、そ
れぞれAIを1,000人真空蒸着し、さらにTeを真
空蒸着にて厚み50人付着し前後に常法によりSeを1
,000人蒸着口た。Example 5 Biaxially stretched polyethylene phthalate film (thickness 125
After depositing nickel, tin, and palladium on the top of μ) by cathode sputtering to a thickness of 5 holes, each layer was vacuum-deposited with AI for 1,000 holes, and then Te was deposited to a thickness of 50 holes by vacuum evaporation before and after using the conventional method. Se is set to 1 by
,000 people.
その結果、高温多湿下における結晶化の妨止は良好で、
とくに、5000〜60℃における改良効果が著しかっ
た。As a result, the prevention of crystallization under high temperature and high humidity conditions was good.
In particular, the improvement effect at 5000 to 60°C was remarkable.
また、Seの接着力および全体の接着力が良好で機械的
に強靭であることがわかった。It was also found that the adhesive strength of Se and the overall adhesive strength were good and mechanically strong.
また、電荷の移動性も良好であった。実施例 6
実施例1において、Teを同じく本発明の趣旨に沿って
アルミニウム膜上に蒸着したのち、Se単独のかわりに
、Seに対し、Teを5%、10%。Furthermore, the charge mobility was also good. Example 6 In Example 1, Te was vapor-deposited on the aluminum film in accordance with the spirit of the present invention, and then, instead of Se alone, 5% and 10% of Te was added to Se.
20%、30%添加して同時に合計2,0OOAになる
よう蒸着した。20% and 30% were added at the same time to make a total of 2.0OOA.
結果は、ブランク、つまりTeを前蒸着処理しないでS
eとTeを同時蒸着したものは、各々2日〜5日間、結
晶防止性・変性防止性が発揮されたが実験//62〜6
に相当するものは、第1表とほぼ同じ乃至これよりやや
良好であった。The result is a blank, that is, S without Te pre-deposition treatment.
The products in which e and Te were simultaneously deposited exhibited anti-crystallization and anti-denaturation properties for 2 to 5 days, respectively, but experiments //62-6
The results corresponding to the results were approximately the same as those in Table 1 or slightly better than those shown in Table 1.
尚/167に相当する部分でも平均してそれぞれ2〜5
日間の変性の延命がなされた。In addition, even in the part corresponding to /167, the average is 2 to 5 respectively.
The lifespan of degeneration was extended for several days.
第1図は本発明の静電写真印刷板の連続生産装置の1例
を示す。
第2図は、本発明によって得られる静電複写印刷版の断
面構成図を示す。
1・・・・・・基板、2・・・・・・A1の蒸着源、3
・・・・・・蒸着されたA1層、4・・・・・・Teの
真空析出源、5・・・・・・真空析出したTe層、6・
・・・・・SeあるいはTeを主成分とする光導電性層
、7・・・・・・さらに被覆される他の光導電性層。FIG. 1 shows an example of a continuous production apparatus for electrostatographic printing plates according to the present invention. FIG. 2 shows a cross-sectional diagram of an electrostatographic printing plate obtained according to the present invention. 1...Substrate, 2...A1 vapor deposition source, 3
...... Vapor deposited A1 layer, 4... Vacuum deposition source of Te, 5... Vacuum deposited Te layer, 6.
. . . Photoconductive layer containing Se or Te as a main component, 7 . . . Other photoconductive layer to be coated.
Claims (1)
人真空析出処理したのちSeを主成分とする無定形状態
において光導電性を発揮する無機物質を真空蒸着してな
る静電複写印刷版。1 Te is deposited on the aluminum film to a thickness of 05A to 300
An electrostatic copying printing plate made by vacuum-depositing an inorganic substance that exhibits photoconductivity in an amorphous state and mainly consisting of Se after a vacuum deposition process.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP48090483A JPS5829510B2 (en) | 1973-08-14 | 1973-08-14 | Seiden Fuchsia Insatsuban |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP48090483A JPS5829510B2 (en) | 1973-08-14 | 1973-08-14 | Seiden Fuchsia Insatsuban |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5039949A JPS5039949A (en) | 1975-04-12 |
JPS5829510B2 true JPS5829510B2 (en) | 1983-06-23 |
Family
ID=13999797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP48090483A Expired JPS5829510B2 (en) | 1973-08-14 | 1973-08-14 | Seiden Fuchsia Insatsuban |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5829510B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2808757C2 (en) * | 1978-03-01 | 1980-04-17 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Method for producing an electrophotographic recording material |
DE3004041A1 (en) * | 1980-02-05 | 1983-07-07 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | RECORDING CARRIER FOR ELECTROPHOTOGRAPHY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
US4396857A (en) * | 1980-07-01 | 1983-08-02 | General Electric Company | Arc tube construction |
US5128091A (en) * | 1991-02-25 | 1992-07-07 | Xerox Corporation | Processes for forming polymeric seamless belts and imaging members |
-
1973
- 1973-08-14 JP JP48090483A patent/JPS5829510B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5039949A (en) | 1975-04-12 |
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